JPH03200121A - 薄膜トランジスタアレイのアナログ試験方法及び装置 - Google Patents
薄膜トランジスタアレイのアナログ試験方法及び装置Info
- Publication number
- JPH03200121A JPH03200121A JP2306940A JP30694090A JPH03200121A JP H03200121 A JPH03200121 A JP H03200121A JP 2306940 A JP2306940 A JP 2306940A JP 30694090 A JP30694090 A JP 30694090A JP H03200121 A JPH03200121 A JP H03200121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- switch
- gate
- circuit
- test
- inverting input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000010998 test method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 88
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 81
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 10
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 82
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 11
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 8
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- SXAAVRUIADQETA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-(2-methoxyethyl)-n-(2-methylphenyl)acetamide Chemical compound COCCN(C(=O)CCl)C1=CC=CC=C1C SXAAVRUIADQETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001808 coupling effect Effects 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
- G01R31/2607—Circuits therefor
- G01R31/2621—Circuits therefor for testing field effect transistors, i.e. FET's
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R27/00—Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
- G01R27/02—Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
- G01R27/26—Measuring inductance or capacitance; Measuring quality factor, e.g. by using the resonance method; Measuring loss factor; Measuring dielectric constants ; Measuring impedance or related variables
- G01R27/2605—Measuring capacitance
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、−船釣には、薄膜トランジスタおよび液晶表
示アレイを試験するための方法および装置に関し、より
詳細には、TFT/LCDセル・コンデンサに電荷を与
え、短時間経過後にそのコンデンサに保持された電荷を
測定するための方法および装置に関する。
示アレイを試験するための方法および装置に関し、より
詳細には、TFT/LCDセル・コンデンサに電荷を与
え、短時間経過後にそのコンデンサに保持された電荷を
測定するための方法および装置に関する。
(従来の技術および発明が解決しようとする課題)上記
のようなアレイを液晶表示パネル(LCD)に組立てる
に先立ち、L CD内の全セルを試験するのが望ましい
。この試験を行うことにより、不合格となるアレイに対
する位置合わせ、組立て(アッセンブリ)および充填の
費用を省ける。通常、1つのセルは1つの薄19トラン
ジスタ(TPT)と、1つのコンデンサの一方の電極と
して電気的に形成可能な1つのバッドとからなる。した
がって、電気的に、このセルは、ソースに直列セル容量
が付加された1つのTPTとして表現される。このアレ
イ内の各りのセルを試験したので費用が高くつき時間が
かかるため、アレイの境界上の試験領域に位置する個々
のセルを用いてプリアッセンブリ試験を行うのが通例と
なっている。このプリアッセンブリ試験ではハス連続性
、個々のトランジスタの機能性またはインジウム−すず
酸化物(ITo)に対する接触性に対する検査を行わな
いので、この種のプリアッセンブリ試験にバスしてもデ
イスプレィとしての許容水準には達しないアレイが出る
おそれがある。したがって、アレイが適正に動作するこ
とを保証するためにアレイ内の各セルを迅速かつ経済的
に試験できる方法および装置が提供されれば好都合であ
る。そして、そのような方法および装置によって個々の
セルの動作特性に関する情報が与えられれば、より好都
合である。通常、アッセンブリに先立って試験を行う時
、デイスプレィのバックプレートは適正な位置になく、
これがためにセルの容量が減少し、そこに蓄積されてい
る電荷の測定が一層難しくなる。
のようなアレイを液晶表示パネル(LCD)に組立てる
に先立ち、L CD内の全セルを試験するのが望ましい
。この試験を行うことにより、不合格となるアレイに対
する位置合わせ、組立て(アッセンブリ)および充填の
費用を省ける。通常、1つのセルは1つの薄19トラン
ジスタ(TPT)と、1つのコンデンサの一方の電極と
して電気的に形成可能な1つのバッドとからなる。した
がって、電気的に、このセルは、ソースに直列セル容量
が付加された1つのTPTとして表現される。このアレ
イ内の各りのセルを試験したので費用が高くつき時間が
かかるため、アレイの境界上の試験領域に位置する個々
のセルを用いてプリアッセンブリ試験を行うのが通例と
なっている。このプリアッセンブリ試験ではハス連続性
、個々のトランジスタの機能性またはインジウム−すず
酸化物(ITo)に対する接触性に対する検査を行わな
いので、この種のプリアッセンブリ試験にバスしてもデ
イスプレィとしての許容水準には達しないアレイが出る
おそれがある。したがって、アレイが適正に動作するこ
とを保証するためにアレイ内の各セルを迅速かつ経済的
に試験できる方法および装置が提供されれば好都合であ
る。そして、そのような方法および装置によって個々の
セルの動作特性に関する情報が与えられれば、より好都
合である。通常、アッセンブリに先立って試験を行う時
、デイスプレィのバックプレートは適正な位置になく、
これがためにセルの容量が減少し、そこに蓄積されてい
る電荷の測定が一層難しくなる。
アレイ内の個々の素子を試験する従来の方法はアレイを
機械的にプローブするステップを含むものである。例え
ば、機械式プローブを用いることでソースおよびドレイ
ンのパッドに゛?クセスするごとができる。ソースおよ
びドレインのバンドに一層アクセスすることによって、
個々のTPTの状態を決定することができる。しかしな
がら、残念なことに、この試験方法は、時間が非常にか
かり、またアレイを物理的に損傷することもある。
機械的にプローブするステップを含むものである。例え
ば、機械式プローブを用いることでソースおよびドレイ
ンのパッドに゛?クセスするごとができる。ソースおよ
びドレインのバンドに一層アクセスすることによって、
個々のTPTの状態を決定することができる。しかしな
がら、残念なことに、この試験方法は、時間が非常にか
かり、またアレイを物理的に損傷することもある。
このため、機械的に位置決めされたプローブを用い、実
験的な小領域アレイについてデイスプレィ・セル・トラ
ンジスタの試験を行っているのが現状である。したがっ
て、トッププレート(逆電穫)を適正位置番こ合わせな
くても大きなアレイ上の全トランジスタ、ITO接点、
ゲートラインおよびI・レインラインを試験することが
できれば好都合である。そして、試験を受けるセルの任
意の箇所に物理的な接触を及ぼすことなく、アレイ内の
個々の素子を試験し、有用なアナログ情報を得ることが
できれば、さらに好ましいことである。
験的な小領域アレイについてデイスプレィ・セル・トラ
ンジスタの試験を行っているのが現状である。したがっ
て、トッププレート(逆電穫)を適正位置番こ合わせな
くても大きなアレイ上の全トランジスタ、ITO接点、
ゲートラインおよびI・レインラインを試験することが
できれば好都合である。そして、試験を受けるセルの任
意の箇所に物理的な接触を及ぼすことなく、アレイ内の
個々の素子を試験し、有用なアナログ情報を得ることが
できれば、さらに好ましいことである。
(課題を解決するための手段)
本発明においては、TFT/LCDセル・コンデンサ上
の電荷を検出する検知回路は、データラインを介してT
PT/LCDセル・コンデンサに付加された第1の積分
回路を備え、該データラインは薄膜トランジスタを介し
て該セル・コンデンサに接続される。この薄膜トランジ
スタはゲート、ドレインおよびソースを有し、該ソース
はセル・コンデンサに接続され、該ドレインはデータラ
インに接続される。第1のゲート供給電圧は薄膜トラン
ジスタのゲートを駆動するようになされる。
の電荷を検出する検知回路は、データラインを介してT
PT/LCDセル・コンデンサに付加された第1の積分
回路を備え、該データラインは薄膜トランジスタを介し
て該セル・コンデンサに接続される。この薄膜トランジ
スタはゲート、ドレインおよびソースを有し、該ソース
はセル・コンデンサに接続され、該ドレインはデータラ
インに接続される。第1のゲート供給電圧は薄膜トラン
ジスタのゲートを駆動するようになされる。
また、リセット回路が積分回路をリセットするようにな
される。さらに、該電荷の測定に先立ち前記セル・コン
デンサを充電する手段、例えばデータラインにスイッチ
可能に付加される調整可能の電源電圧が設けられる。
される。さらに、該電荷の測定に先立ち前記セル・コン
デンサを充電する手段、例えばデータラインにスイッチ
可能に付加される調整可能の電源電圧が設けられる。
より詳細には、入力端子および出力端子を備えるととも
に、非反転入力端子、反転入力端子および出力端子を有
する演算増幅器を備えた薄膜トランジスタ試験回路装置
について説明する。この演算増幅器の出力端子は前記試
験回路の出力端子に接続され、前記非反転端子はアース
電位に接続される。前記反転端子と前記演算増幅器の出
力端子の間には積分回路が接続される。第1の電位と前
記試験回路入力端子の間には第1のスイッチが接続され
る。前記反転入力端子に前記試験回路が接続される。前
記反転入力端子と前記試験回路の出力端子との間ご前記
積分コンデンサにリセット回路が接続される。
に、非反転入力端子、反転入力端子および出力端子を有
する演算増幅器を備えた薄膜トランジスタ試験回路装置
について説明する。この演算増幅器の出力端子は前記試
験回路の出力端子に接続され、前記非反転端子はアース
電位に接続される。前記反転端子と前記演算増幅器の出
力端子の間には積分回路が接続される。第1の電位と前
記試験回路入力端子の間には第1のスイッチが接続され
る。前記反転入力端子に前記試験回路が接続される。前
記反転入力端子と前記試験回路の出力端子との間ご前記
積分コンデンサにリセット回路が接続される。
本発明はさらに、例えばハックプレートを取り付ける前
のL CDのセルのような部分的に構成された電子回路
を試験する方法を含む。この部分電子回路は、例えばセ
ルバンド電極のような接点電極のアレイと、例えばゲー
ト電極のようなアドレス電極のプレイとを備える。アド
レス電極は接点電極に電気的に接続される。この方法は
、該部分回路に、例えば少なくとも第1の接点電極に沿
って延在しかつそれから離間され°Cいる隣接データ電
極のような試験電極を設けるステ・ノブと、第1の接点
Ti、極と試験電極との間の容量を測定するステップと
を存する。
のL CDのセルのような部分的に構成された電子回路
を試験する方法を含む。この部分電子回路は、例えばセ
ルバンド電極のような接点電極のアレイと、例えばゲー
ト電極のようなアドレス電極のプレイとを備える。アド
レス電極は接点電極に電気的に接続される。この方法は
、該部分回路に、例えば少なくとも第1の接点電極に沿
って延在しかつそれから離間され°Cいる隣接データ電
極のような試験電極を設けるステ・ノブと、第1の接点
Ti、極と試験電極との間の容量を測定するステップと
を存する。
ゲートラインを介してゲート端子に接続されたゲートと
、ソース端子を介して液晶セル・コンデンサバンドに接
続されたソースと、データラインを介し′C試験回路に
接続されたトレインとを有する薄膜トランジスタを上記
の試験回路を用いて試験する方法は、次のような諸ステ
ップを有する。
、ソース端子を介して液晶セル・コンデンサバンドに接
続されたソースと、データラインを介し′C試験回路に
接続されたトレインとを有する薄膜トランジスタを上記
の試験回路を用いて試験する方法は、次のような諸ステ
ップを有する。
即ち、プロセスを開始するため積分器をリセットし、第
3のスイッチを閉成し、第1のスイッチを閉成する。次
に、少なくともデータラインの時定数に対応する第1の
所定の時間だけ待つ。次に、前記薄膜トランジスタをオ
ンにバイアスするのに十分な電圧を前記ゲート端子に付
与する。次に、前記薄膜トランジスタがセル容量を充電
するための少なくとも試験時間(即ち、前記のセルの充
電時間)に対応する第2の所定時間だけ待つ。次に、前
記薄膜トランジスタをオフにバイアスするのに十分な電
圧を前記ゲート端子に付与する。前記薄膜トランジスタ
はいったんオフにバイアスされると、通常動作の期間中
セルのホールド時間に対応する時間期間だけオフ状態に
保持される。この時間期間中に、前記試験回路は、前記
セルに蓄積された電荷の測定のために前記積分器を1!
備させるようリセットされる。この蓄積電荷は、前記薄
膜トランジスタをターンオンするのに十分な電圧を前記
ゲートに付与することにより測定される。次に、少なく
とも前記セル・コンデンサから電荷を積分する前記演算
増幅器へ備前を移すために十分な所定時間だけを待つ。
3のスイッチを閉成し、第1のスイッチを閉成する。次
に、少なくともデータラインの時定数に対応する第1の
所定の時間だけ待つ。次に、前記薄膜トランジスタをオ
ンにバイアスするのに十分な電圧を前記ゲート端子に付
与する。次に、前記薄膜トランジスタがセル容量を充電
するための少なくとも試験時間(即ち、前記のセルの充
電時間)に対応する第2の所定時間だけ待つ。次に、前
記薄膜トランジスタをオフにバイアスするのに十分な電
圧を前記ゲート端子に付与する。前記薄膜トランジスタ
はいったんオフにバイアスされると、通常動作の期間中
セルのホールド時間に対応する時間期間だけオフ状態に
保持される。この時間期間中に、前記試験回路は、前記
セルに蓄積された電荷の測定のために前記積分器を1!
備させるようリセットされる。この蓄積電荷は、前記薄
膜トランジスタをターンオンするのに十分な電圧を前記
ゲートに付与することにより測定される。次に、少なく
とも前記セル・コンデンサから電荷を積分する前記演算
増幅器へ備前を移すために十分な所定時間だけを待つ。
次いで、前記薄膜トランジスタをターンオンするのに十
分な電圧を前記ゲートに付与する。次いで、前記ゲート
ラインの80時定数に対応する所定時間だけ待つ。そし
て、前記出力ノードの電圧をサンプリングする。
分な電圧を前記ゲートに付与する。次いで、前記ゲート
ラインの80時定数に対応する所定時間だけ待つ。そし
て、前記出力ノードの電圧をサンプリングする。
本発明の新規な特許請求の範囲に記載されている。しか
し、本発明の他の目的および利点並びに構成および動作
力法に関する本発明自体の特徴が、添付図面と関連した
以下の説明に基づいて十分に理解されよう。
し、本発明の他の目的および利点並びに構成および動作
力法に関する本発明自体の特徴が、添付図面と関連した
以下の説明に基づいて十分に理解されよう。
(実施例)
本発明は、’1iiHJランジスタ/液晶デイスプレィ
(TFT/LCD)アレイ内の個々のセルを特徴付けす
る方法を含む。この方法においては、トランジスタのし
きい電圧および相互コンダクタンスに関する情報と一緒
に各トランジスタの状態が表示される。加えて、各セル
の漏れ電流およびCGffを測定するごとができる。こ
の方法は、故障分析試験、プロセス変化試験および生産
ライン試験に有用である。
(TFT/LCD)アレイ内の個々のセルを特徴付けす
る方法を含む。この方法においては、トランジスタのし
きい電圧および相互コンダクタンスに関する情報と一緒
に各トランジスタの状態が表示される。加えて、各セル
の漏れ電流およびCGffを測定するごとができる。こ
の方法は、故障分析試験、プロセス変化試験および生産
ライン試験に有用である。
第1図において、薄膜トランジスタ(TPT)110は
、ソース接点112、ドレイン接点114およびゲート
接点116を有する。ソース接点112は、例えばイン
ジウムずず酸化物(ITO)からなる液晶デイスプレィ
(LCD)バッド120に電圧を供給する。ドレイン接
点114はデータライン11Bに接続される。ゲート接
点116はゲートライン122に接続される。以上の構
成をセルと称する。TFT/LCDアレイはそのような
セルを多数有する。各セルは、独特のゲートライン/デ
ータライン結合によってアドレス可能である。こうして
、各セルは個別的にアクセス可能でかつ試験可能である
。ゲートライン123およびデータライン119は、第
1図に図示されていない特別のセル位置をアクセスする
ために用いられる。
、ソース接点112、ドレイン接点114およびゲート
接点116を有する。ソース接点112は、例えばイン
ジウムずず酸化物(ITO)からなる液晶デイスプレィ
(LCD)バッド120に電圧を供給する。ドレイン接
点114はデータライン11Bに接続される。ゲート接
点116はゲートライン122に接続される。以上の構
成をセルと称する。TFT/LCDアレイはそのような
セルを多数有する。各セルは、独特のゲートライン/デ
ータライン結合によってアドレス可能である。こうして
、各セルは個別的にアクセス可能でかつ試験可能である
。ゲートライン123およびデータライン119は、第
1図に図示されていない特別のセル位置をアクセスする
ために用いられる。
第2図は、典型的なTFT/LCDセルに本発明を適用
した一実施例の回路図である。このTFT/LCDセル
は、第1図に関して上述したセルと類似のもので、第2
図では概略的に示されている。第2図において、薄膜ト
ランジスタ(TPT)210は、ソース接点212、ド
レイン接点214およびゲート接点216を有する。ソ
ース接点212は、第2図におい”ζコンデンサ220
として示されている液晶デイスプレィ(LCD)パッド
に電圧を供給する。TFT/LCDセルのなかには該L
CDバ。
した一実施例の回路図である。このTFT/LCDセル
は、第1図に関して上述したセルと類似のもので、第2
図では概略的に示されている。第2図において、薄膜ト
ランジスタ(TPT)210は、ソース接点212、ド
レイン接点214およびゲート接点216を有する。ソ
ース接点212は、第2図におい”ζコンデンサ220
として示されている液晶デイスプレィ(LCD)パッド
に電圧を供給する。TFT/LCDセルのなかには該L
CDバ。
ドと並列に蓄積容量を有するものもある(第7図のコン
デンサ721を参照のごと)。したがっ“ζ、これらの
蓄積コンデンサはコンデンサ220の容¥に寄与するも
のごある。トレイン接点2+4はデータライン218に
接続される。ゲート接点216はゲートライン222に
接続される。第2図中のCODは、トランジスタ210
のゲート−ソース容量を表す。
デンサ721を参照のごと)。したがっ“ζ、これらの
蓄積コンデンサはコンデンサ220の容¥に寄与するも
のごある。トレイン接点2+4はデータライン218に
接続される。ゲート接点216はゲートライン222に
接続される。第2図中のCODは、トランジスタ210
のゲート−ソース容量を表す。
フロントプレート無しで個々のセルトランジスタを試験
するためには、L CDパッド120の寄生容品にM積
されている電荷の大きさを検出する必要がある。第1図
に示すような典型的大形デイスプレィの個々のセルにつ
い゛ζ詳細に検討づる。第1図に示されるセルにおいて
、LCDパッド120のみがトランジスタのソースに対
して接続されている。このパッドから隣のゲートライン
およびドレインラインへの寄生容量は、第2図に示され
るようにコンデンサ220に含まれζいる。
するためには、L CDパッド120の寄生容品にM積
されている電荷の大きさを検出する必要がある。第1図
に示すような典型的大形デイスプレィの個々のセルにつ
い゛ζ詳細に検討づる。第1図に示されるセルにおいて
、LCDパッド120のみがトランジスタのソースに対
して接続されている。このパッドから隣のゲートライン
およびドレインラインへの寄生容量は、第2図に示され
るようにコンデンサ220に含まれζいる。
第2図には、良好な解像度で小電荷量を測定できるよう
Gこした本発明ζこよる検知回路230が示され”でい
る。この実施例Gこおいて、演算増幅器234、コンデ
ンサ232およびスイッチS3は、リセット可能な積分
器を構成する。この演算増幅器234は、反転入力24
0と非反転入力242を有する。非反転入力242はア
ース電位に接続されている。反転入力240は、積分コ
ンデンサ232およびスイッチS3を介して演算増幅器
出力244に接続される。演算増幅器出力244は出力
端子238に接続される。スイッチS2は、反転入力2
40を入力端子236に接続−4る。
Gこした本発明ζこよる検知回路230が示され”でい
る。この実施例Gこおいて、演算増幅器234、コンデ
ンサ232およびスイッチS3は、リセット可能な積分
器を構成する。この演算増幅器234は、反転入力24
0と非反転入力242を有する。非反転入力242はア
ース電位に接続されている。反転入力240は、積分コ
ンデンサ232およびスイッチS3を介して演算増幅器
出力244に接続される。演算増幅器出力244は出力
端子238に接続される。スイッチS2は、反転入力2
40を入力端子236に接続−4る。
スイッチStは、出力端子236とスイッチS2を電源
電圧■。に接続する。入力端子236は検知回路230
をデータライン21Hに接続−3る。ゲートライン22
2は電′a電圧■。をトランジスタ210のゲート21
6に接続する。スイッチSt、S2はトルイン接点21
4に印加される電圧を制御するために用いられる。スイ
ッチS3は積分器280をリセットするために用いられ
る。Roはデータライン218の分布抵抗を表す。C8
はデータライン218の分布容量を表す。R,はゲート
ライン222の分布抵抗を表す。C0はゲート222の
分布容量を表す、C,、はトランジスタ210のゲート
−ドレイン容量である。なお、本発明で必要とされるコ
ンデンサ220の接地は、例えば第1図において該コン
デンサに隣接するデータライン123または同しく隣接
するゲートライン119あるいはこれら両方を接地する
ことによって行うことができる。このことは、第4図お
よび第6図に示す実施例にも同様にあてはまる。
電圧■。に接続する。入力端子236は検知回路230
をデータライン21Hに接続−3る。ゲートライン22
2は電′a電圧■。をトランジスタ210のゲート21
6に接続する。スイッチSt、S2はトルイン接点21
4に印加される電圧を制御するために用いられる。スイ
ッチS3は積分器280をリセットするために用いられ
る。Roはデータライン218の分布抵抗を表す。C8
はデータライン218の分布容量を表す。R,はゲート
ライン222の分布抵抗を表す。C0はゲート222の
分布容量を表す、C,、はトランジスタ210のゲート
−ドレイン容量である。なお、本発明で必要とされるコ
ンデンサ220の接地は、例えば第1図において該コン
デンサに隣接するデータライン123または同しく隣接
するゲートライン119あるいはこれら両方を接地する
ことによって行うことができる。このことは、第4図お
よび第6図に示す実施例にも同様にあてはまる。
本発明によるTFT/LCDセルの試験方法の一実施例
においては、1つのセルの機能品質、すなわち電荷を蓄
積するセル能力を決定するために第2図の回路を用いる
ことができる。第3図は、第2図に示す本発明の実施例
を用いて本発明によるTPT/LCDを試験する方法に
ついてのタイミング図である。
においては、1つのセルの機能品質、すなわち電荷を蓄
積するセル能力を決定するために第2図の回路を用いる
ことができる。第3図は、第2図に示す本発明の実施例
を用いて本発明によるTPT/LCDを試験する方法に
ついてのタイミング図である。
第3図は、本発明の一実施例による試験シーケンスの図
である。このタイミング図は、第2図のスイッチおよび
1i′g回路に供給される信号のシーケンスを示してい
る。第3図において時刻T1の前に、スイッチS1は開
き、スイッチS2も開き、スイッチS3もまた開き、V
Gはほぼアース電位にあり、■、もほぼアース電位にあ
る。時刻T1で、スイッチS3は閉して、検知回路23
0の出力を零にリセットする。また、時刻T1で、トラ
ンジスタ210がオンのとき、■。はコンデンサ220
を充電するのに十分な値(例えば、デイスプレィの正常
動作中にデータラインを駆動するために用いられる最大
データ電圧)に設定される。普通のデイスプレィにおい
て、このデータライン電圧は約10ボルトでありうる0
時刻T2で、スイッチS1が閉して、■。をデータライ
ン218に接続し、ドレイン214をバイアスする。時
刻T3で、■oはトランジスタ210をターンオンする
のに十分な値、例えばトランジスタ210のしきい電圧
(約15ボルト)の5倍の電圧値を越える値に設定され
、これによってゲートライン222を介してゲート接点
216がバイアスされ、トランジスタ210がターンオ
ンする。
である。このタイミング図は、第2図のスイッチおよび
1i′g回路に供給される信号のシーケンスを示してい
る。第3図において時刻T1の前に、スイッチS1は開
き、スイッチS2も開き、スイッチS3もまた開き、V
Gはほぼアース電位にあり、■、もほぼアース電位にあ
る。時刻T1で、スイッチS3は閉して、検知回路23
0の出力を零にリセットする。また、時刻T1で、トラ
ンジスタ210がオンのとき、■。はコンデンサ220
を充電するのに十分な値(例えば、デイスプレィの正常
動作中にデータラインを駆動するために用いられる最大
データ電圧)に設定される。普通のデイスプレィにおい
て、このデータライン電圧は約10ボルトでありうる0
時刻T2で、スイッチS1が閉して、■。をデータライ
ン218に接続し、ドレイン214をバイアスする。時
刻T3で、■oはトランジスタ210をターンオンする
のに十分な値、例えばトランジスタ210のしきい電圧
(約15ボルト)の5倍の電圧値を越える値に設定され
、これによってゲートライン222を介してゲート接点
216がバイアスされ、トランジスタ210がターンオ
ンする。
時刻T4で、■6はトランジスタ210をターンオンす
るのに必要な電圧以下に下がる。これにより、ゲートラ
イン222を介してゲート接点216に供給される電圧
が減少し、トランジスタ210がターンオフする。時刻
T5で、■oは例えばほぼアース電位近くまで下がり、
これによりデータラインの分布容1t(CD)上の電荷
を放電せしめる。時刻T6で、スイッチS1は開き、電
dI電圧V、をデータラインから切り離す。時刻T7で
、スイッチS2は閉し、トランジスタ210を演算増幅
器234に接続せしめ、検知動作のため検知増幅器23
0を立ち上げる。時刻T8で、スイッチS3が開き、こ
れによりデータライン218からの電流によってコンデ
ンサ232の充電が開始される。時刻T9で、■。
るのに必要な電圧以下に下がる。これにより、ゲートラ
イン222を介してゲート接点216に供給される電圧
が減少し、トランジスタ210がターンオフする。時刻
T5で、■oは例えばほぼアース電位近くまで下がり、
これによりデータラインの分布容1t(CD)上の電荷
を放電せしめる。時刻T6で、スイッチS1は開き、電
dI電圧V、をデータラインから切り離す。時刻T7で
、スイッチS2は閉し、トランジスタ210を演算増幅
器234に接続せしめ、検知動作のため検知増幅器23
0を立ち上げる。時刻T8で、スイッチS3が開き、こ
れによりデータライン218からの電流によってコンデ
ンサ232の充電が開始される。時刻T9で、■。
はトランジスタ210をターンオンするのに十分な電圧
まで増加する。時刻TIOで、■、はトランジスタ21
0をターンオフするのに十分な電圧まで低減する。
まで増加する。時刻TIOで、■、はトランジスタ21
0をターンオフするのに十分な電圧まで低減する。
第3圀に示す本発明の実施例において、時刻T9と時刻
T10間の期間を積分期間と称する。試験精度を保証す
るため、この積分期間の長さを少なくともセルの時定数
の4倍の値にするのが通例である。このセル時定数は、
例えば、試験セルのソース・ドレイン抵抗R11および
セル容量(第2図のコンデンサ220)を測定すること
により、概算される。この積分期間中、スイッチS2は
閉じ、スイッチS1は開き、これにより演算増幅器23
4は、演算増幅器234の反転入力240と非反転入力
242間の見掛けのアース接地によるアース電位にドレ
インラインを保持する。したがって、この期間中、コン
デンサ232に転送される電荷はコンデンサ220から
除去された電荷にほぼ等しい、演算増幅器234の反転
入力240は見掛けのアースであるから、ドレインライ
ンの分布容量CDに電荷は蓄積されていない、しかしな
がら、ドレインライン分布抵抗R0とこの容量とによっ
て、時定数(すなわちコンデンサ232を充電しコンデ
ンサ220を放電するのに必要な時間)が増大し、した
がって積分期間が増大するごとになる。
T10間の期間を積分期間と称する。試験精度を保証す
るため、この積分期間の長さを少なくともセルの時定数
の4倍の値にするのが通例である。このセル時定数は、
例えば、試験セルのソース・ドレイン抵抗R11および
セル容量(第2図のコンデンサ220)を測定すること
により、概算される。この積分期間中、スイッチS2は
閉じ、スイッチS1は開き、これにより演算増幅器23
4は、演算増幅器234の反転入力240と非反転入力
242間の見掛けのアース接地によるアース電位にドレ
インラインを保持する。したがって、この期間中、コン
デンサ232に転送される電荷はコンデンサ220から
除去された電荷にほぼ等しい、演算増幅器234の反転
入力240は見掛けのアースであるから、ドレインライ
ンの分布容量CDに電荷は蓄積されていない、しかしな
がら、ドレインライン分布抵抗R0とこの容量とによっ
て、時定数(すなわちコンデンサ232を充電しコンデ
ンサ220を放電するのに必要な時間)が増大し、した
がって積分期間が増大するごとになる。
積分期間中に、出力端子238の電圧は、時刻T9でゲ
ートがバイアスされた時にCGDの電圧上昇を補償する
のに必要な電荷と、容量C2のコンデンサ220から除
去された電荷とに応して変化する。しかしTIOで、電
圧V、を下げることにより、トランジスタ210がター
ンオフする。この電圧■。
ートがバイアスされた時にCGDの電圧上昇を補償する
のに必要な電荷と、容量C2のコンデンサ220から除
去された電荷とに応して変化する。しかしTIOで、電
圧V、を下げることにより、トランジスタ210がター
ンオフする。この電圧■。
は、CODより電荷を除去し、第3図に示す出力端子2
38の電圧を低減する。したがって、時刻TIO以後は
、出力端子238の電圧は、ホールド期間(T9)の終
端時にコンデンサ220に蓄積されている電荷にほぼ比
例することになる。この出力電圧をアナログ−ディジタ
ル変換器によってディジタルワードに変換するごとが可
能であり、またこの出力電圧を用いてセルの種々のパラ
メータを分析することもできる。この試験は、個々のセ
ルに対して多数回繰り返され、任意の過渡エラーの平均
がとられる。加えて、適切なゲートラインおよヒテータ
ラインを選択することで、デイスプレィの外部バッドを
アクセスしてアレイ内の任意のセルを試験するごとがで
きるつ 検知回路がアレイ上の全てのデータラインに接続されて
いる場合、与えられたゲートライン上の全てのトランジ
スタを同時に試験することができる。各トランジスタに
対する基本機能の検査は約1ミリ秒を要する。従って、
本発明の方法を用いると、1000 x 1000のア
レイを1秒で試験することができる。
38の電圧を低減する。したがって、時刻TIO以後は
、出力端子238の電圧は、ホールド期間(T9)の終
端時にコンデンサ220に蓄積されている電荷にほぼ比
例することになる。この出力電圧をアナログ−ディジタ
ル変換器によってディジタルワードに変換するごとが可
能であり、またこの出力電圧を用いてセルの種々のパラ
メータを分析することもできる。この試験は、個々のセ
ルに対して多数回繰り返され、任意の過渡エラーの平均
がとられる。加えて、適切なゲートラインおよヒテータ
ラインを選択することで、デイスプレィの外部バッドを
アクセスしてアレイ内の任意のセルを試験するごとがで
きるつ 検知回路がアレイ上の全てのデータラインに接続されて
いる場合、与えられたゲートライン上の全てのトランジ
スタを同時に試験することができる。各トランジスタに
対する基本機能の検査は約1ミリ秒を要する。従って、
本発明の方法を用いると、1000 x 1000のア
レイを1秒で試験することができる。
理解されるように、時刻TIO以後に出力端子238に
生ずる電圧の一部は、試験備品の寄生容量に起因してい
る。しかし、この寄生容量の効果は測定可能であり、こ
の効果分を出力端子238の電圧から減算することでコ
ンデンサ220の電荷について一層正確な近似値を得る
ことができる。この寄生容量の効果は、例えば、時刻T
3〜T4間の期間中にトランジスタ210をターンオン
するのに必要なステップを省き、第3図につき上述した
試験を繰り返すことによって、測定することが可能であ
る。従って、時刻TIOで、出力ノード238の電圧は
、試験備品における任意の寄生容量に蓄積されている電
荷を表す。
生ずる電圧の一部は、試験備品の寄生容量に起因してい
る。しかし、この寄生容量の効果は測定可能であり、こ
の効果分を出力端子238の電圧から減算することでコ
ンデンサ220の電荷について一層正確な近似値を得る
ことができる。この寄生容量の効果は、例えば、時刻T
3〜T4間の期間中にトランジスタ210をターンオン
するのに必要なステップを省き、第3図につき上述した
試験を繰り返すことによって、測定することが可能であ
る。従って、時刻TIOで、出力ノード238の電圧は
、試験備品における任意の寄生容量に蓄積されている電
荷を表す。
第3回につき上述した試験によれば、アドレス中のセル
の機能性が表示される。幾つかの時間期間および電圧を
変更することで、セルの他の重要なパラメータを多数定
義することができる9例えば、LCD漏れ抵抗は、出力
電圧の測定値をホールド期間の関数としてプロットする
ことにより導出される重要なパラメータである。期間T
4〜T9は、ホールド期間として定義されるもので、実
際のデイスプレィにおいて1フレームtJIflに一個
のセルに電荷が保持される時間期間を表す。なお、この
期間は、T4〜T9間の時間を延ばすご七によって変え
られる。T4〜T5、T4〜T6、T4〜T7、T4〜
T8はT9〜TIOと同様に一定に維持される。例えば
試験セルの容量を測定することムこよっでセルの容量を
決定することができるので、出力電圧をホールト時間の
関数とし゛ζ対数プロットすることにより、漏れ抵抗の
表示を行うことができるつ 同様にして、ゲート・オン時間(T3〜T4)の関数と
して出力電圧のプロントを得るため、時間T3〜T4間
の時間を変えてセル充電時間を決定してもよい。上述の
ようにしてセル容量を決定できるため、TIO以後時間
的にゲート・オン時間の関数として与えられる出力電圧
を対数プロットすることでセル充電時間の表示を行うこ
とができ、これにより、ひいてはセルトランジスタのド
レイン−ソース抵抗RD5を表示するごとができる。
の機能性が表示される。幾つかの時間期間および電圧を
変更することで、セルの他の重要なパラメータを多数定
義することができる9例えば、LCD漏れ抵抗は、出力
電圧の測定値をホールド期間の関数としてプロットする
ことにより導出される重要なパラメータである。期間T
4〜T9は、ホールド期間として定義されるもので、実
際のデイスプレィにおいて1フレームtJIflに一個
のセルに電荷が保持される時間期間を表す。なお、この
期間は、T4〜T9間の時間を延ばすご七によって変え
られる。T4〜T5、T4〜T6、T4〜T7、T4〜
T8はT9〜TIOと同様に一定に維持される。例えば
試験セルの容量を測定することムこよっでセルの容量を
決定することができるので、出力電圧をホールト時間の
関数とし゛ζ対数プロットすることにより、漏れ抵抗の
表示を行うことができるつ 同様にして、ゲート・オン時間(T3〜T4)の関数と
して出力電圧のプロントを得るため、時間T3〜T4間
の時間を変えてセル充電時間を決定してもよい。上述の
ようにしてセル容量を決定できるため、TIO以後時間
的にゲート・オン時間の関数として与えられる出力電圧
を対数プロットすることでセル充電時間の表示を行うこ
とができ、これにより、ひいてはセルトランジスタのド
レイン−ソース抵抗RD5を表示するごとができる。
同様に、データライン■。ヒの電圧を変え、かつ多数回
繰り返し行われる試験にわたって出力電圧を測定するこ
とにより、データライン電圧の関数としてプロットされ
た出力電圧からセル内のトランジスタのしきい電圧を導
出することが可能である。
繰り返し行われる試験にわたって出力電圧を測定するこ
とにより、データライン電圧の関数としてプロットされ
た出力電圧からセル内のトランジスタのしきい電圧を導
出することが可能である。
第2図の回路は、時刻T8でスイッチS3が開いた時存
在する過渡ii流に影響されやすい。この影響は、検知
動作の開始に先立って(すなわち時刻T9の前に)出力
端子238の電圧をサンプリングし、そのサンプリング
した電圧を(時刻T10後の)検知時間の終端時の電圧
から減算し、必要なアナログーディノタル(A/D)変
換の回数を2倍にするごと乙こよっ′ζ、解消すること
が可能である。加えて、第2回に示す回路の出力範囲は
、ある型式の商用A/D変換器(0〜+5V)と互換性
をもたないことがある。すなわち、この回路の出力がそ
のようなA/D変換器の入力範囲より低くなることがあ
る。スイッチS3の過渡性に起因する不確実性を取り除
き、出力端子238のDCバイアスを増大するため、第
4図に示すような本発明の別の実施例が開発された。
在する過渡ii流に影響されやすい。この影響は、検知
動作の開始に先立って(すなわち時刻T9の前に)出力
端子238の電圧をサンプリングし、そのサンプリング
した電圧を(時刻T10後の)検知時間の終端時の電圧
から減算し、必要なアナログーディノタル(A/D)変
換の回数を2倍にするごと乙こよっ′ζ、解消すること
が可能である。加えて、第2回に示す回路の出力範囲は
、ある型式の商用A/D変換器(0〜+5V)と互換性
をもたないことがある。すなわち、この回路の出力がそ
のようなA/D変換器の入力範囲より低くなることがあ
る。スイッチS3の過渡性に起因する不確実性を取り除
き、出力端子238のDCバイアスを増大するため、第
4図に示すような本発明の別の実施例が開発された。
第4図は、典型的なTFT/LCDセルに本発明を適用
した好適一実施例を示す回路図である。
した好適一実施例を示す回路図である。
このTFT/LCDセルは、第1図につき上述したセル
と同様のもので、第4図では概略図として示されている
。第4図において、薄膜トランジスタ(TPT)410
は、ソース接点412、ドレイン接点414およびゲー
ト接点416を有する。ソース接点412は、第4図に
おいてコンデンサ420により概略的に表されている液
晶デイスプレィ(LCD)に電圧を供給する。ドレイン
接点414はデータライン418に接続される。ゲート
接点416はゲートライン422に接続され′ζいる。
と同様のもので、第4図では概略図として示されている
。第4図において、薄膜トランジスタ(TPT)410
は、ソース接点412、ドレイン接点414およびゲー
ト接点416を有する。ソース接点412は、第4図に
おいてコンデンサ420により概略的に表されている液
晶デイスプレィ(LCD)に電圧を供給する。ドレイン
接点414はデータライン418に接続される。ゲート
接点416はゲートライン422に接続され′ζいる。
第4図においてCGDはトランジスタ410のゲート−
ソース容量を表している。
ソース容量を表している。
第4図に示す本発明の実施例において、リセット制御部
45(lはスイッチS3の代わりに用いられる。このリ
セット1ilJ1部450は、リセット基準電圧(V*
tr)と比較@路とを有し、アナログ積分器480に対
するリセットレベルを制御する。この実施例では、スイ
ッチS2が抵抗器460およびコンデンサ462に置き
換えられているeRDはドレインライン418の分布抵
抗を表し、一方Coはドレインライン418の分布容量
を表す。100万セルの行および+000セルの列から
なるデイスプレィにおいで、分布容量は約1ナノフアラ
ツドに近い値である。
45(lはスイッチS3の代わりに用いられる。このリ
セット1ilJ1部450は、リセット基準電圧(V*
tr)と比較@路とを有し、アナログ積分器480に対
するリセットレベルを制御する。この実施例では、スイ
ッチS2が抵抗器460およびコンデンサ462に置き
換えられているeRDはドレインライン418の分布抵
抗を表し、一方Coはドレインライン418の分布容量
を表す。100万セルの行および+000セルの列から
なるデイスプレィにおいで、分布容量は約1ナノフアラ
ツドに近い値である。
第4図の実施例において、演算増幅器434、コンデン
サ432およびリセット制御部450は、リセット可能
な積分器を形成する。演算増幅器434は、反転入力4
40および非反転入力442を有する。非反転入力44
2はアース電位に接続される。反転入力440は、コン
デンサ432およびリセット制御部450を介して7寅
算増幅器出力444に接続される。演算増幅器出力44
4は出力端子438に接続される。抵抗460は、非反
転入力440を入力端子436に接続する。
サ432およびリセット制御部450は、リセット可能
な積分器を形成する。演算増幅器434は、反転入力4
40および非反転入力442を有する。非反転入力44
2はアース電位に接続される。反転入力440は、コン
デンサ432およびリセット制御部450を介して7寅
算増幅器出力444に接続される。演算増幅器出力44
4は出力端子438に接続される。抵抗460は、非反
転入力440を入力端子436に接続する。
スイ、7チS1は入力端子436、抵抗460およびコ
ンデンサ462を電源電圧■、に接続する。入力端子4
36は検知回路430をデータライン418に接続する
。スイッチS1は、トレイン接点旧4に付与される電圧
を制御するために用いられる。
ンデンサ462を電源電圧■、に接続する。入力端子4
36は検知回路430をデータライン418に接続する
。スイッチS1は、トレイン接点旧4に付与される電圧
を制御するために用いられる。
第5回は、第4図に示す装置を用いた本発明のh法の一
実施例のタイミング図である。以下の説明ご参照される
全ての時刻は、第512Iに示す時刻に関連する。時刻
T1の前に、スイッチSlは開き、リセット信号は立ち
上げられ、VGはアース電位近くにあり、■、は−7−
ス電位近くにある。
実施例のタイミング図である。以下の説明ご参照される
全ての時刻は、第512Iに示す時刻に関連する。時刻
T1の前に、スイッチSlは開き、リセット信号は立ち
上げられ、VGはアース電位近くにあり、■、は−7−
ス電位近くにある。
ある単一の充電試験の第1ステツプは、データ電圧をそ
の試験に望ましい値に安定化することである。従っこ、
T1において、データ電圧■。はコンデンサ420を充
電するのに十分な値に設定される。データ電圧■。は、
好ましくは、デイスプレィ動作で使用される全範囲の値
にわたり調整可能ごなければならない。ねじれネマチッ
ク液晶を用いる典型的なTFT/LCDの場合、このデ
ータ電圧を約零ボルトから11ボルトまでの範囲にする
ことかできる。ある種のデイスプレィにおいては、この
データ電圧を約14ボルトまご高くすることが可能であ
る。時刻T1ご、トランジスタ410はゲート4]6
(Vc)の電圧によってオフに保持され、スイッチS
1が開いてデータ電圧V、からデータラインを切り離し
、スイッチS3に対応するリセット制御部450により
積分器480の出力444を予め選定されたレベルにリ
セットする。この予め選定されたレベルは、V l[F
により規定されるもので、A/D範囲(例えば4ポルト
)のほぼ中心である。
の試験に望ましい値に安定化することである。従っこ、
T1において、データ電圧■。はコンデンサ420を充
電するのに十分な値に設定される。データ電圧■。は、
好ましくは、デイスプレィ動作で使用される全範囲の値
にわたり調整可能ごなければならない。ねじれネマチッ
ク液晶を用いる典型的なTFT/LCDの場合、このデ
ータ電圧を約零ボルトから11ボルトまでの範囲にする
ことかできる。ある種のデイスプレィにおいては、この
データ電圧を約14ボルトまご高くすることが可能であ
る。時刻T1ご、トランジスタ410はゲート4]6
(Vc)の電圧によってオフに保持され、スイッチS
1が開いてデータ電圧V、からデータラインを切り離し
、スイッチS3に対応するリセット制御部450により
積分器480の出力444を予め選定されたレベルにリ
セットする。この予め選定されたレベルは、V l[F
により規定されるもので、A/D範囲(例えば4ポルト
)のほぼ中心である。
時刻T2で、スイッチSlが閉して、データ電圧(VO
)をデータライン418に接続する。この状態は、少な
くともデータライン418の時定数τDATALIII
!の時間保持される。このデータライン時定数は、τI
IATALINE (−RDCD)であって、RDはデ
ータライン抵抗、C9はデータライン容量である。
)をデータライン418に接続する。この状態は、少な
くともデータライン418の時定数τDATALIII
!の時間保持される。このデータライン時定数は、τI
IATALINE (−RDCD)であって、RDはデ
ータライン抵抗、C9はデータライン容量である。
時刻T3ごゲート電圧■、がターンオンする。
薄膜トランジスタのチャネルを確実にターンオンさせる
ためにはゲートオン電圧を該トランジスタのしきい電圧
よりも高くしなければならず、反対乙こ、そのトランジ
スタチャネルを確実にオフにバイアスするためにはゲー
トオフ電圧を1亥トランジスタのしきい電圧よりも低い
値に選ばなければならない。ゲートパルスの幅はゲート
ラインの時定数(τGAT□+5c=RGce)よりも
大きくなければならない。ゲートパルスの終端の時刻T
4で試験機はホールド時間(74〜T8)に入り、この
期間中、セルに転送された電荷がコンデンサ420に蓄
積される。この期間は、少なくとも1ライン時間の間セ
ル容量に電荷を蓄積する実際のデイスプレィをエミュレ
ートする。N木のゲートラインおよび毎秒M回のりフレ
ッンユサイクルを有するデイスプレィの場合、ゲートパ
ルス幅はt GAOFUい。
ためにはゲートオン電圧を該トランジスタのしきい電圧
よりも高くしなければならず、反対乙こ、そのトランジ
スタチャネルを確実にオフにバイアスするためにはゲー
トオフ電圧を1亥トランジスタのしきい電圧よりも低い
値に選ばなければならない。ゲートパルスの幅はゲート
ラインの時定数(τGAT□+5c=RGce)よりも
大きくなければならない。ゲートパルスの終端の時刻T
4で試験機はホールド時間(74〜T8)に入り、この
期間中、セルに転送された電荷がコンデンサ420に蓄
積される。この期間は、少なくとも1ライン時間の間セ
ル容量に電荷を蓄積する実際のデイスプレィをエミュレ
ートする。N木のゲートラインおよび毎秒M回のりフレ
ッンユサイクルを有するデイスプレィの場合、ゲートパ
ルス幅はt GAOFUい。
=]/(N*M)で、ホールド時間は約1/Mとなる。
+00Hzのリフレッシュご動作する典型的な+000
ゲートライン・デイスプレィの場合、ゲートパルス幅は
IOマイクロ秒乙ホールド時間は10ミリ秒である。こ
のホールド時間中に、データ電圧■。は時刻T5ご零ボ
ルト復帰する。時間T6で、開成するスイッチS1によ
ってデータラインはデータ電圧源から切り離される。適
正な動作を確保するため、時刻T6は少なくともゲート
ライン時定数(τGAOLINE)によってゲートパル
スの立ち下がりエツジよりも遅らされる。データライン
418が見掛けのアース電位にある演算増幅器480の
反転入力440に接続されているため、データライン上
の電圧はアース電位までゆるめられ、それに少なくとも
1デ一タライン時定数(rDATALINりを要する。
ゲートライン・デイスプレィの場合、ゲートパルス幅は
IOマイクロ秒乙ホールド時間は10ミリ秒である。こ
のホールド時間中に、データ電圧■。は時刻T5ご零ボ
ルト復帰する。時間T6で、開成するスイッチS1によ
ってデータラインはデータ電圧源から切り離される。適
正な動作を確保するため、時刻T6は少なくともゲート
ライン時定数(τGAOLINE)によってゲートパル
スの立ち下がりエツジよりも遅らされる。データライン
418が見掛けのアース電位にある演算増幅器480の
反転入力440に接続されているため、データライン上
の電圧はアース電位までゆるめられ、それに少なくとも
1デ一タライン時定数(rDATALINりを要する。
データライン電圧がアースまでゆるめられた後、時刻T
7において、コンデンサ432がリセット制御部450
により維持されるリセット電圧レベルから開放される。
7において、コンデンサ432がリセット制御部450
により維持されるリセット電圧レベルから開放される。
従って、時刻T7で、積分器434は演算増幅器の反転
入力に流れ込む電流の積分を開始する。ホールド時間の
終端の時刻T8ご、ゲート電圧はターンオンしこgi咬
1−ランジスタのしきい電圧よりも高いレベルになり、
こで1.4こよって確実に、トランジスタチセ不ルがセ
ル容¥をデータラインムこ抵抗接続Jる。時刻T7とT
Rの間ご出力43Bの電圧が、あるレベル(第51にお
いζA)まご下がる。これは、リセット信号の制御を受
けるスイッチを開くごとによっこ生ずる過渡現象に起因
する。ゲート電圧は、幾つかのセル放電時定数の時間保
持されることにより、確実に、セル容量の全ての電荷が
演算増幅器の見掛けのアース電位へ戻るご七が可能とな
り、コンデンサイ32による積分が可能となる。時刻T
9で、ゲート電圧■、は減少し、トランジスタ410を
ターンオフづる。ごの電圧は瞬間的に測定可能ごあるが
、普通は、少なくともゲートライン時定数(τっ^丁t
LINりの時間待つのがよい。゛?ナログディジタル変
換器において、時刻T8直前の出力と時刻T9後の出力
との電圧差は、セル容量420乙こ石積された電荷に実
質的に比例(Qcell =(VA/D V IIt
str ) CI ) シテL’ル。
入力に流れ込む電流の積分を開始する。ホールド時間の
終端の時刻T8ご、ゲート電圧はターンオンしこgi咬
1−ランジスタのしきい電圧よりも高いレベルになり、
こで1.4こよって確実に、トランジスタチセ不ルがセ
ル容¥をデータラインムこ抵抗接続Jる。時刻T7とT
Rの間ご出力43Bの電圧が、あるレベル(第51にお
いζA)まご下がる。これは、リセット信号の制御を受
けるスイッチを開くごとによっこ生ずる過渡現象に起因
する。ゲート電圧は、幾つかのセル放電時定数の時間保
持されることにより、確実に、セル容量の全ての電荷が
演算増幅器の見掛けのアース電位へ戻るご七が可能とな
り、コンデンサイ32による積分が可能となる。時刻T
9で、ゲート電圧■、は減少し、トランジスタ410を
ターンオフづる。ごの電圧は瞬間的に測定可能ごあるが
、普通は、少なくともゲートライン時定数(τっ^丁t
LINりの時間待つのがよい。゛?ナログディジタル変
換器において、時刻T8直前の出力と時刻T9後の出力
との電圧差は、セル容量420乙こ石積された電荷に実
質的に比例(Qcell =(VA/D V IIt
str ) CI ) シテL’ル。
セル転送される電荷量を決定するために、ゲートオン時
間CT3〜T4)を変更することがごきるっごのデータ
を用いて1りのセルに対する時定数を計算することがで
きるう リセット制御部450は、演算増幅器の出力をT1〜T
7の期間中一定電位(V*[5tt)に保持するように
設計されζいる。演算増幅器434の出力は、T7後に
反転入力に流れ込む積分電流によっご制御される。
間CT3〜T4)を変更することがごきるっごのデータ
を用いて1りのセルに対する時定数を計算することがで
きるう リセット制御部450は、演算増幅器の出力をT1〜T
7の期間中一定電位(V*[5tt)に保持するように
設計されζいる。演算増幅器434の出力は、T7後に
反転入力に流れ込む積分電流によっご制御される。
第6図は、本発明の別の好適な実施例の回路図ごある。
試験されるべきTFT/LCD’7レイのデータライン
はコネクタ690を介して試験回路に接続される。アナ
ログ・マルチプレックス・スイッチS4は、ライン69
2を介して試験回路に接続されるべき1つのデータライ
ンを選択するために使われる。アナログ・マルチプレッ
クス・スイ・ンチS4は、例えば、プリシジジン・七ノ
リシンク・インチグレーチット・サーキット社製のM
tJ X16アナログ・マルチプレックス・スイッチで
よい。
はコネクタ690を介して試験回路に接続される。アナ
ログ・マルチプレックス・スイッチS4は、ライン69
2を介して試験回路に接続されるべき1つのデータライ
ンを選択するために使われる。アナログ・マルチプレッ
クス・スイ・ンチS4は、例えば、プリシジジン・七ノ
リシンク・インチグレーチット・サーキット社製のM
tJ X16アナログ・マルチプレックス・スイッチで
よい。
データラインはコネクタ690を介してライン694に
も接続され、ごれらのライン694はそれぞれスイッチ
S5に接続されているウスイノ千S5は、例えば、プリ
シジダン・モノリシック・インチブレ子ノド・サーキッ
ト社製の5W202’/’ナログスイ/千こよい。第6
図の試験回路は一時に1つのチータラインにしか接続さ
れないのご、スイッチS5を用いご非選択スイッチを接
地事ることがごき、これによりバンクフル−トを除かな
いときでもセル容量に対して良好な”1−ス基準を確保
することがごきる。試験時間中スイ・ンチS5は開状態
乙こ保持されるため、スイッチS4によって選択された
データラインは接地されないやスイッチS4により選択
されたデータラインは、スイッチS1を介しこV、に接
続されるとともに、抵抗器660を介j7こ演算増幅器
634に接続される。抵抗660は、例えば10キロオ
ームごよい。演″X増幅器634は、例えばOP−17
こよい、演算増幅器634の非反転入力642は゛?−
ス電位に接続され、これにより反転入力6AOL二見掛
けの1のアースが形成される。
も接続され、ごれらのライン694はそれぞれスイッチ
S5に接続されているウスイノ千S5は、例えば、プリ
シジダン・モノリシック・インチブレ子ノド・サーキッ
ト社製の5W202’/’ナログスイ/千こよい。第6
図の試験回路は一時に1つのチータラインにしか接続さ
れないのご、スイッチS5を用いご非選択スイッチを接
地事ることがごき、これによりバンクフル−トを除かな
いときでもセル容量に対して良好な”1−ス基準を確保
することがごきる。試験時間中スイ・ンチS5は開状態
乙こ保持されるため、スイッチS4によって選択された
データラインは接地されないやスイッチS4により選択
されたデータラインは、スイッチS1を介しこV、に接
続されるとともに、抵抗器660を介j7こ演算増幅器
634に接続される。抵抗660は、例えば10キロオ
ームごよい。演″X増幅器634は、例えばOP−17
こよい、演算増幅器634の非反転入力642は゛?−
ス電位に接続され、これにより反転入力6AOL二見掛
けの1のアースが形成される。
反転入力640はコンデンサ632に接続されているウ
コンデンサ632は、fi算増幅器出力644にも接続
され積分コンデンサとして動作する。コンデンサ632
は、例えば、5ピコソアランF程度のものこよい。しか
し、そのサイズは、通常は積分器の出力電圧の所望の振
幅によっこ決定されよう。演算増幅器634はコンデン
サ632と組合わさって積分器6ROを構成する。コン
デンサ632の電圧は各試験後にリセットされなければ
ならないので、リセット回路650が備えられζいるや
リセット回路650は、2υの信号V IEFおよび
リセットとを有する。スイ・ンチS3はリセット信号で
制御されるので、リセット信号のレベルは、スイッチS
3を駆動するのに十分でなければならない。スイッチS
3は、例えば通常のTTLレベルを必要とするブリシジ
ョン・モノリシック・インチグレーテント・サーキット
社製のS W2O2でよい。■□、は演算増幅器652
の反転入力656に基準信号を供給する電圧レベルごあ
る。演算増幅器 652は例えば0P−16ごよいっ
V II!Fはコンデンサ659を介しこ一?−ス電位
に接続される。コンデンサ659はノイズフィルタとし
て動作するものご、基準電圧から交流ノイズを効果的に
取り除くためには、例えば0,1マイクロフアラツドの
容量を有するものこよい、演算増幅器652の非反転入
力658は、コンデンサ632の一方の電極と演算増幅
器634の出力644とに接続される7演算項幅器65
2の出力は抵抗器651に接続され、抵抗器651はス
イッチS3の−hの端子に接続されるう抵抗H651は
例えば4.99キロオームの抵抗値を有するものこよい
。スイッチS3の他力の端子は、抵抗器657を介し′
ζアース電位に接続されるとともに、抵抗器654とコ
ンデンサ655との並列回路を介してコンデンサ632
に接続される。抵抗器657は例えば4.02キロオー
ムの抵抗値を有壇るものごよい、抵抗器654の抵抗値
は例えば3.01キロオームごよいっコンデンサ655
の容量は例えば3ピコフアラドこよい。リセット回路6
50と積分器680との絵合せはリセット可能な積分器
を構成−4る。
コンデンサ632は、fi算増幅器出力644にも接続
され積分コンデンサとして動作する。コンデンサ632
は、例えば、5ピコソアランF程度のものこよい。しか
し、そのサイズは、通常は積分器の出力電圧の所望の振
幅によっこ決定されよう。演算増幅器634はコンデン
サ632と組合わさって積分器6ROを構成する。コン
デンサ632の電圧は各試験後にリセットされなければ
ならないので、リセット回路650が備えられζいるや
リセット回路650は、2υの信号V IEFおよび
リセットとを有する。スイ・ンチS3はリセット信号で
制御されるので、リセット信号のレベルは、スイッチS
3を駆動するのに十分でなければならない。スイッチS
3は、例えば通常のTTLレベルを必要とするブリシジ
ョン・モノリシック・インチグレーテント・サーキット
社製のS W2O2でよい。■□、は演算増幅器652
の反転入力656に基準信号を供給する電圧レベルごあ
る。演算増幅器 652は例えば0P−16ごよいっ
V II!Fはコンデンサ659を介しこ一?−ス電位
に接続される。コンデンサ659はノイズフィルタとし
て動作するものご、基準電圧から交流ノイズを効果的に
取り除くためには、例えば0,1マイクロフアラツドの
容量を有するものこよい、演算増幅器652の非反転入
力658は、コンデンサ632の一方の電極と演算増幅
器634の出力644とに接続される7演算項幅器65
2の出力は抵抗器651に接続され、抵抗器651はス
イッチS3の−hの端子に接続されるう抵抗H651は
例えば4.99キロオームの抵抗値を有するものこよい
。スイッチS3の他力の端子は、抵抗器657を介し′
ζアース電位に接続されるとともに、抵抗器654とコ
ンデンサ655との並列回路を介してコンデンサ632
に接続される。抵抗器657は例えば4.02キロオー
ムの抵抗値を有壇るものごよい、抵抗器654の抵抗値
は例えば3.01キロオームごよいっコンデンサ655
の容量は例えば3ピコフアラドこよい。リセット回路6
50と積分器680との絵合せはリセット可能な積分器
を構成−4る。
当業者には明らかなように、第4図の実施例を実施する
一手段として、第4回のリセット制御部450を第6図
につきト述したリセット回路650に取り替えることが
可能ごあるう 要するに、本発明の方法は、ある特定のTFT/LCD
セルの活性領域に電荷を蓄積するようになされる。この
セルの電気的特性は、ある時間1間の経過後にその活性
領域に蓄積されζいる電荷を涜み出1ごと乙こよっこ計
Xiるごとがごきる。
一手段として、第4回のリセット制御部450を第6図
につきト述したリセット回路650に取り替えることが
可能ごあるう 要するに、本発明の方法は、ある特定のTFT/LCD
セルの活性領域に電荷を蓄積するようになされる。この
セルの電気的特性は、ある時間1間の経過後にその活性
領域に蓄積されζいる電荷を涜み出1ごと乙こよっこ計
Xiるごとがごきる。
より詳細には、本発明の一実施例によるパックプレート
試験機においこは、一連のスイッチを介してセルに電荷
が蓄積される一方、そのセルにMMされた電荷を検出す
るために演算増幅器が反転、積分モードご使われる。こ
のような構成を本発明の方法にしたがって用いると、液
晶パッド容量ヒの電荷を確実にかつ正確に測定づる手段
が得られる。
試験機においこは、一連のスイッチを介してセルに電荷
が蓄積される一方、そのセルにMMされた電荷を検出す
るために演算増幅器が反転、積分モードご使われる。こ
のような構成を本発明の方法にしたがって用いると、液
晶パッド容量ヒの電荷を確実にかつ正確に測定づる手段
が得られる。
本発明の方法においては、C46の力、プリングを介し
ごゲート・ソースのカップリング効果を最小化するよう
試験ステ7プを順次実行するごとにより試験解像度を改
善することがごきる7 ごの解像度は、試験備品によっ
て誘起される寄生容量4滅する、二とご、より一層改善
するごとがごきる。
ごゲート・ソースのカップリング効果を最小化するよう
試験ステ7プを順次実行するごとにより試験解像度を改
善することがごきる7 ごの解像度は、試験備品によっ
て誘起される寄生容量4滅する、二とご、より一層改善
するごとがごきる。
この寄生容量は、充電サイクルの期間中トランジスタを
ターンオソにして出力電圧を測定することによって、測
定可能である。出力電圧は試験備品の寄生容量に比例す
るのご、この電圧を通常試験中に測定された電圧より減
することがごきる。本発明の、b法においCは、試験を
数回実行し、測定された出力電圧を平均化するごとによ
って測定値からランダムエラーを取り除くことにより、
解像度をさらに改善するごとがごきる。
ターンオソにして出力電圧を測定することによって、測
定可能である。出力電圧は試験備品の寄生容量に比例す
るのご、この電圧を通常試験中に測定された電圧より減
することがごきる。本発明の、b法においCは、試験を
数回実行し、測定された出力電圧を平均化するごとによ
って測定値からランダムエラーを取り除くことにより、
解像度をさらに改善するごとがごきる。
(第1図のような)蓄積容量を用いないLCDデイスプ
レィにおい゛孤本発明による方法によつこ測定される主
要な容量は、バンドとそれに隣接−4るゲートラインと
の間の容量である。通常のTP T / L CDデイ
スプレィを設計するにあたっては、充電時間を増大させ
るようこの容量を最小化するのが望失しいつそう−3る
と、不都合にも本発明による試験方法の精度が減少−3
る。測定される電荷を増大させるために、本発明の方法
を用いると、装置の列を1列おきに試験することこ、ビ
クセル容量を倍増することがごき、ごれにより、隣接す
るゲートうインに対する容量だけごなく隣接するドレイ
ンラインに対−3る容量も利用することがごきる。1イ
ンチあたり80個の画素ご、10ミクロンのギャップを
用いるデイスプレィの場合は、全寄生容量を約0.05
ピコソアラノドと見込んでよく、1インチあたり160
個の画素ご、10ミクロンのギャップを用いるデイスプ
レィの場合は、該容量を約0.025 ピコファラッド
と見込んごよい。
レィにおい゛孤本発明による方法によつこ測定される主
要な容量は、バンドとそれに隣接−4るゲートラインと
の間の容量である。通常のTP T / L CDデイ
スプレィを設計するにあたっては、充電時間を増大させ
るようこの容量を最小化するのが望失しいつそう−3る
と、不都合にも本発明による試験方法の精度が減少−3
る。測定される電荷を増大させるために、本発明の方法
を用いると、装置の列を1列おきに試験することこ、ビ
クセル容量を倍増することがごき、ごれにより、隣接す
るゲートうインに対する容量だけごなく隣接するドレイ
ンラインに対−3る容量も利用することがごきる。1イ
ンチあたり80個の画素ご、10ミクロンのギャップを
用いるデイスプレィの場合は、全寄生容量を約0.05
ピコソアラノドと見込んでよく、1インチあたり160
個の画素ご、10ミクロンのギャップを用いるデイスプ
レィの場合は、該容量を約0.025 ピコファラッド
と見込んごよい。
本発明の一実施例においては、16極゛?ナログマル千
プレクサを用いコ16本のデータラインのうちから1本
を試験に選ぶ。残りの15本のデータラインはアナログ
スイッチを用いて接地づる。こうしこ、出力電圧は、選
択されたデータラインLの1ワのセルに蓄積された電荷
に比例プることになる。
プレクサを用いコ16本のデータラインのうちから1本
を試験に選ぶ。残りの15本のデータラインはアナログ
スイッチを用いて接地づる。こうしこ、出力電圧は、選
択されたデータラインLの1ワのセルに蓄積された電荷
に比例プることになる。
このセルは、ゲートラインを選択することによっこ決定
される。
される。
第6図において、スイッチS3は“?ナログスイ・ノチ
(典型的にはプレクジ9ン・モノリシック・インコーボ
レ、ド+PM1社製の5W202)ごあつごよく、演算
増幅器(典型的にはPMT社製の0P16)の出力ノー
ドを積分演算増幅器(典型的にはPMT社製の0PI7
)に接続または切り離しを行い、0P16演算増幅器の
非反転出力は0PI7の出力に接続され、0P16の反
転入力は■74.に接続されるっスイッチS2が閉じる
と積分コンデンサC1の電位はV *tstrtこ固定
され、スイッチS2が閉しると積分コンデンサによるデ
イスプレィのデータラインからの電流の積分が可能とな
る。
(典型的にはプレクジ9ン・モノリシック・インコーボ
レ、ド+PM1社製の5W202)ごあつごよく、演算
増幅器(典型的にはPMT社製の0P16)の出力ノー
ドを積分演算増幅器(典型的にはPMT社製の0PI7
)に接続または切り離しを行い、0P16演算増幅器の
非反転出力は0PI7の出力に接続され、0P16の反
転入力は■74.に接続されるっスイッチS2が閉じる
と積分コンデンサC1の電位はV *tstrtこ固定
され、スイッチS2が閉しると積分コンデンサによるデ
イスプレィのデータラインからの電流の積分が可能とな
る。
以ト、LCDデイスプレィに使用されるTFT−?レイ
・セル容量の一7ナログ試験力法についこ述べた。この
h法は、従来のディジタル試験り法に比し2こ大きな利
点を与える。また、寄生効果お・よびノイズ誘導エラー
を最小化するための技術についこ述べた。最後に、ゴー
/ノーゴー、しきい電圧、相互コンダクタンス、漏れ電
流、およびCr、 5を試験するため、本発明Gこよる
方法を用いる試験手順についこ説明した。
・セル容量の一7ナログ試験力法についこ述べた。この
h法は、従来のディジタル試験り法に比し2こ大きな利
点を与える。また、寄生効果お・よびノイズ誘導エラー
を最小化するための技術についこ述べた。最後に、ゴー
/ノーゴー、しきい電圧、相互コンダクタンス、漏れ電
流、およびCr、 5を試験するため、本発明Gこよる
方法を用いる試験手順についこ説明した。
■、Cr)コンデンサを充電または成型するためにアモ
ルファス・シリコン抵抗器のような感光素子をLCDセ
ルに使うことが可能なことが知られ゛ごいる(米国特許
第4.1(19,O:18号参照)、本発明による回路
を用いてコンデンサの電荷の変化を検出することがごき
ることは明らかである。したかっこ、本発明は、入力装
置を構成するのに使用可能ごある。
ルファス・シリコン抵抗器のような感光素子をLCDセ
ルに使うことが可能なことが知られ゛ごいる(米国特許
第4.1(19,O:18号参照)、本発明による回路
を用いてコンデンサの電荷の変化を検出することがごき
ることは明らかである。したかっこ、本発明は、入力装
置を構成するのに使用可能ごある。
第1図は、典型的なT F T/L CDセルを示−3
図、 第2図は、典型的なTFT/LCDセルの回路図を含む
、本発明の一実施例の構成図、第3図は、本発明のh法
の一実施例におけるタイミング図、 第4図は、典型的なTFT/LCDセルの回路図を含む
本発明の実施例の構成図、 第5図は、本発明の実施例におけるタイミング図、 第6図は、本発明の別の実施例を示す図、第7図は、蓄
積コンデンサを含む典型的なTFT/L CDセルを示
1図である。 110・・・薄膜トランジスタ(TPT)、112・・
・ソース接点、 114・・・ドレイン接点、11.6
・・・ゲート接点、 118.119・・・データライ
ン、120・・・液晶デイスプレィ(LCD)パッド、
123・・・ゲートライン、210・・・薄膜トランジ
スタ、212・・・ソース接点、 214・・・ドレイ
ン接点、216・・・ゲート接点、 218・・・デー
タライン、220・・・コンデンサ、 222・・・ゲ
ートライン、230・・・検知回路、 232・・・
コンデンサ、234・・・演算増幅器、 236・・・
出力端子、240・・・反転入力、 242・・・非
反転入力、51.52.53・・・スイッチ、410・
・・薄膜トランジスタ、412・・・ソース接点、 4
14・・・ドレイン接点、4]6・・・ゲート接点、
418・・・ドレインライン、422・・・ケートライ
ン、432・・・コンデンサ、434・・・演算増幅器
、 436・・・入力端子、438・・・出力端子、
440・・・反転入力、442・・・非反転入力、
444・・・演算増幅器出力、450・・・リセット制
御部、 460・・・抵抗器、 462・・・コンデンサ、
480・・・アナログ積分器、 632・・・コンデン
サ、634・・・演算増幅器、 640・・・反転入力
、642・・・非反転入力、 644・・・演算増幅器
出力、650・・・リセット回路、651・・・抵抗器
、652・・・演算増幅器、 654・・・抵抗器、6
55・・・コンデンサ、 656・・・反転入力、65
7・・・抵抗器、 658・・・非反転入力、65
9・・・コンデンサ、 660・・・抵抗器、680・
・・積分器、 690・・・コふフタ、692、6
94・・・ライン、 S4.55・・・スイッチ。 復代理人 弁理士 湯 浅 恭 三(外1名) FIG。 4 FIG。 1 2 T3 T4 TST6T7 T8 9 ■10 FIG。 5 FIG、 6
図、 第2図は、典型的なTFT/LCDセルの回路図を含む
、本発明の一実施例の構成図、第3図は、本発明のh法
の一実施例におけるタイミング図、 第4図は、典型的なTFT/LCDセルの回路図を含む
本発明の実施例の構成図、 第5図は、本発明の実施例におけるタイミング図、 第6図は、本発明の別の実施例を示す図、第7図は、蓄
積コンデンサを含む典型的なTFT/L CDセルを示
1図である。 110・・・薄膜トランジスタ(TPT)、112・・
・ソース接点、 114・・・ドレイン接点、11.6
・・・ゲート接点、 118.119・・・データライ
ン、120・・・液晶デイスプレィ(LCD)パッド、
123・・・ゲートライン、210・・・薄膜トランジ
スタ、212・・・ソース接点、 214・・・ドレイ
ン接点、216・・・ゲート接点、 218・・・デー
タライン、220・・・コンデンサ、 222・・・ゲ
ートライン、230・・・検知回路、 232・・・
コンデンサ、234・・・演算増幅器、 236・・・
出力端子、240・・・反転入力、 242・・・非
反転入力、51.52.53・・・スイッチ、410・
・・薄膜トランジスタ、412・・・ソース接点、 4
14・・・ドレイン接点、4]6・・・ゲート接点、
418・・・ドレインライン、422・・・ケートライ
ン、432・・・コンデンサ、434・・・演算増幅器
、 436・・・入力端子、438・・・出力端子、
440・・・反転入力、442・・・非反転入力、
444・・・演算増幅器出力、450・・・リセット制
御部、 460・・・抵抗器、 462・・・コンデンサ、
480・・・アナログ積分器、 632・・・コンデン
サ、634・・・演算増幅器、 640・・・反転入力
、642・・・非反転入力、 644・・・演算増幅器
出力、650・・・リセット回路、651・・・抵抗器
、652・・・演算増幅器、 654・・・抵抗器、6
55・・・コンデンサ、 656・・・反転入力、65
7・・・抵抗器、 658・・・非反転入力、65
9・・・コンデンサ、 660・・・抵抗器、680・
・・積分器、 690・・・コふフタ、692、6
94・・・ライン、 S4.55・・・スイッチ。 復代理人 弁理士 湯 浅 恭 三(外1名) FIG。 4 FIG。 1 2 T3 T4 TST6T7 T8 9 ■10 FIG。 5 FIG、 6
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、TFT/LCDセル・コンデンサの電荷を検出する
ための検知回路において、 薄膜トランジスタを介して前記TFT/LCDセル・コ
ンデンサに接続されたデータラインを介して前記TFT
/LCDセル・コンデンサに付加された第1の積分回路
と、 ゲートと、前記データラインに接続されたドレインと、
前記TFT/LCDセル・コンデンサに接続されたソー
スとを有する前記薄膜トランジスタと、 前記薄膜トランジスタの前記ゲートを駆動するようにな
された第1のゲート電源電圧と、 前記積分回路をリセットするようになされたリセット回
路と、 を備える検知回路。 2、請求項1記載の検知回路において、 前記積分回路は、出力と、反転入力と、該反転入力と前
記出力間に接続されたコンデンサとを有する演算増幅器
を備え、 前記リセット回路は前記TFT/LCDセル・コンデン
サの両端子間に接続されている検知回路。 3、請求項2記載の検知回路において、前記リセット回
路はスイッチを備える検知回路。 4、請求項2記載の検知回路において、 前記リセット回路は、反転入力、非反転入力および出力
を有し、かつスイッチに接続された第2の演算増幅器を
備え、 前記スイッチの一方の端子は前記第1の演算増幅器の前
記反転入力に接続され、前記スイッチの他方の端子は前
記第2の演算増幅器の前記出力に接続され、 前記第2の演算増幅器の前記反転入力は基準電圧に接続
され、 前記第2の演算増幅器の前記非反転入力はアース電位に
接続され、 前記スイッチは、該スイッチを開成または閉成するイネ
ーブル入力を有し、 前記イネーブル入力がリセット信号に接続されている検
知回路。 5、請求項1記載の検知回路において、所定の時間で前
記のセルに電荷を付与する手段をさらに備える検知回路
。 6、請求項5記載の検知回路において、前記電荷を付与
する手段は可変電圧電源を前記データラインに接続する
リセット可能スイッチを備える検知回路。 7、入力端子と出力端子とを有する薄膜トランジスタ試
験回路において、 アース電位に接続された非反転入力端子と、反転入力端
子と、前記試験回路の出力端子に接続された出力端子と
を有する演算増幅器と、 前記反転入力端子と前記出力端子との間に接続されたコ
ンデンサと、 第1の電位と前記試験回路の入力端子との間に接続され
た第1のスイッチと、 前記反転入力端子と前記試験回路の入力端子との間に接
続された第2のスイッチと、 前記反転入力端子と前記試験回路の出力端子との間に接
続された第3のスイッチと、 を備える薄膜トランジスタ試験回路。 8、部分的に構成された部分電子回路であって、1つの
完全な回路を形成するために残りの回路と結合すること
が可能で、かつ前記残りの回路に電気的に接続可能な接
点電極のアレイと、前記接点電極に電気的に接続可能な
アドレス電極のアレイとを有する部分電子回路を試験す
る方法において、少なくとも第1の接点電極に沿って延
在しかつそれと離間している試験電極を前記部分電子回
路に設けるステップと、 前記第1の接点電極と前記試験電極との間の容量を測定
するステップと、 を備える試験方法。 9、請求項8記載の試験方法において、 前記アドレス電極は、前記接点電極に関連した特別の一
対のアドレス電極を付勢することによって前記接点電極
に電気的に接続され、かつアドレス可能となり、 前記測定するステップは、前記第1の接点電極と、前記
第1の接点電極に電気的に接続されないでそれと関連を
もたないアドレス電極との間の容量を測定するステップ
を有することを特徴とする試験方法。 10、請求項9記載の試験方法において、 各接点電極と、その接点電極に電気的に接続されないで
それと関連をもたないアドレス電極との間の容量を個別
に測定するステップをさらに有する試験方法。 11、請求項10記載の試験方法において、各接点電極
は、電極パッドと、第1の入力、第2の入力および出力
を有するスイッチとを備え、該スイッチの第1の入力は
前記接点電極と関連する一方のアドレス電極に電気的に
接続され、前記スイッチの第2の入力は前記接点電極と
関連する他方のアドレス電極に電気的に接続され、前記
スイッチの出力は前記電極パッド電気的に接続され、各
測定ステップは、 前記電極パッドに電荷を蓄積するように接点電極と関連
するアドレス電極を付勢するステップと、前記電極パッ
ドに蓄積された電荷を測定するステップと を有することを特徴とする試験方法。 12、セル・コンデンサと、ゲート、ソースおよび該セ
ル・コンデンサに接続されているドレインを有する薄膜
トランジスタとで構成されるセルを含むTFT/LCD
を、データラインを介して前記ドレインに選択的に結合
される積分手段とリセット手段とを有する検知回路を用
いて試験する方法において、 第1の所定のゲート電圧を前記ゲートに付与することに
より前記薄膜トランジスタをターンオフするステップと
、 前記リセット回路を用いて前記積分手段をリセットする
ステップと、 前記セル・コンデンサを充電するのに十分な値まで前記
ドレインの電圧を上昇させるステップと、前記薄膜トラ
ンジスタをターンオンするのに十分な第2の所定のゲー
ト電圧を前記ゲートに付与するステップと、 前記セル・コンデンサを所定の試験値まで充電するのに
十分な第1の所定時間だけ待つステップと、 前記トランジスタをターンオフするために前記ゲートに
第1のゲート電圧を付与するステップと、第2の所定時
間だけ待つステップと、 該第2の所定時間中前記ドレインの電圧をアース電位近
くまで低下させるステップと、 前記第2の所定時間中前記ドレインの電圧を遮断するス
テップと、 前記トランジスタをターンオンするため前記ゲートに前
記第2のゲート電圧を付与するステップと、 第3の所定時間だけ待つステップと、 前記トランジスタをターンオフするために前記ゲートに
前記第1のゲート電圧を付与するステップと、 前記積分手段の出力の電位を測定するステップとを有す
る試験方法。 13、請求項12記載の試験方法において、前記第1の
所定時間は前記ゲートラインの少なくとも1つの時定数
であり、 前記第2の所定時間は少なくともホールド時間に等しい
時間であり、 前記第3の所定時間は少なくとも2つのセルの放電定数
である試験方法。 14、ゲートラインを介してゲート端子に接続されたゲ
ートと、データラインを介してドレイン端子に接続され
たドレインと、ソース端子を介してセル容量に接続され
たソースとを有する薄膜トランジスタを、入力端子およ
び出力端子を有する試験回路を用いて試験する方法にで
あって、 該試験回路は、 アース電位に接続された非反転入力端子、反転入力端子
、および前記試験回路の出力端子に接続された出力端子
を有する演算増幅器と、 前記反転入力端子と前記出力端子との間に接続された積
分コンデンサと、 第1の電位と前記試験回路の入力端子との間に接続され
た制御可能な第1のスイッチと、 前記反転入力端子と前記試験回路の入力端子との間に接
続された制御可能な第2のスイッチと、前記反転入力端
子と前記試験回路の出力端子との間に接続された制御可
能な第3のスイッチとを備える試験方法において、 前記第2のスイッチを開成するステップと、前記第3の
スイッチを閉成するステップと、前記第1のスイッチを
閉成するステップと、前記データラインの時定数に対応
する第1の所定時間だけ待つステップと、 前記薄膜トランジスタをオンにバイアスするのに十分な
電圧を前記ゲート端子に付与するステップと、 前記薄膜トランジスタに対する前記の試験時間に対応す
る第2の所定時間だけ待つステップと、前記トランジス
タをオフにバイアスするのに十分な電圧を前記ゲート端
子に付与するステップと、試験ホールド時間に対応する
第3の所定時間だけ前記第2のスイッチを閉成するステ
ップと、第4の所定時間後に前記第3のスイッチを開成
するステップと、 前記薄膜トランジスタをターンオンするのに十分な電圧
を前記ゲートに付与するステップと、前記セル容量より
前記積分コンデンサに電荷を転送するのに十分な第5の
所定時間だけ待つステップと、 前記トランジスタをターンオンするのに十分な電圧を前
記ゲートに付与するステップと、 前記ゲートラインのRC時定数に対応する第6の所定時
間だけ待つステップと、 前記出力ノードをサンプルリングするステップと を有する試験方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/450,635 US5179345A (en) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | Method and apparatus for analog testing |
| US450635 | 1989-12-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03200121A true JPH03200121A (ja) | 1991-09-02 |
| JP2620405B2 JP2620405B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=23788896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30694090A Expired - Lifetime JP2620405B2 (ja) | 1989-12-13 | 1990-11-13 | Tft/lcdの試験方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5179345A (ja) |
| EP (1) | EP0436777B1 (ja) |
| JP (1) | JP2620405B2 (ja) |
| DE (1) | DE69025158T2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0590373A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜トランジスタの特性検査装置 |
| JPH0659283A (ja) * | 1992-04-27 | 1994-03-04 | Terenikusu:Kk | Tft−lcdの検査方法及びその装置 |
| JPH06230418A (ja) * | 1992-12-17 | 1994-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マトリクス表示装置の製造方法 |
| JPH08110365A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Furontetsuku:Kk | 薄膜トランジスタの検査装置および検査方法 |
| US5652632A (en) * | 1994-09-30 | 1997-07-29 | Nec Corporation | LCD apparatus having electrostatic breakdown preventing configuration capable of testing each pixel |
| US6259424B1 (en) | 1998-03-04 | 2001-07-10 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Display matrix substrate, production method of the same and display matrix circuit |
| US6262589B1 (en) | 1998-05-25 | 2001-07-17 | Asia Electronics, Inc. | TFT array inspection method and device |
| JP2002296556A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Toshiba Corp | Lcdアレイテスタの校正方法 |
| US6847223B2 (en) | 2003-02-14 | 2005-01-25 | Wintest Corporation | Method and device for inspection active matrix substrate |
| US7161817B2 (en) | 2003-11-14 | 2007-01-09 | Agilent Technologies, Inc. | Current/charge-voltage converter and reset method |
| JP2007322133A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Seiko Epson Corp | 駆動トランジスタの特性測定方法、電気光学装置、および電子機器 |
| JP2008096379A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Micronics Japan Co Ltd | 画素アレイ基板の検査装置及び方法 |
Families Citing this family (66)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2758103B2 (ja) * | 1992-04-08 | 1998-05-28 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板及びその製造方法 |
| US5546013A (en) * | 1993-03-05 | 1996-08-13 | International Business Machines Corporation | Array tester for determining contact quality and line integrity in a TFT/LCD |
| US5428300A (en) * | 1993-04-26 | 1995-06-27 | Telenix Co., Ltd. | Method and apparatus for testing TFT-LCD |
| JP2820233B2 (ja) * | 1993-06-11 | 1998-11-05 | シャープ株式会社 | 表示装置の検査装置および検査方法 |
| JP3312423B2 (ja) * | 1993-06-21 | 2002-08-05 | ソニー株式会社 | 平面表示装置、アクティブマトリクス基板および検査方法 |
| US5602487A (en) * | 1994-08-22 | 1997-02-11 | Mitel Corporation | Capacitance measuring device |
| KR0151876B1 (ko) * | 1994-11-30 | 1998-10-01 | 엄길용 | 액정표시장치용 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 |
| JP2667373B2 (ja) * | 1994-12-13 | 1997-10-27 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | アナログ・ビデオ信号補正装置及びtft液晶表示装置 |
| US5694053A (en) * | 1995-06-07 | 1997-12-02 | Xerox Corporation | Display matrix tester |
| US6005406A (en) * | 1995-12-07 | 1999-12-21 | International Business Machines Corporation | Test device and method facilitating aggressive circuit design |
| US6310599B1 (en) | 1995-12-22 | 2001-10-30 | Cirrus Logic, Inc. | Method and apparatus for providing LCD panel protection in an LCD display controller |
| US6067071A (en) * | 1996-06-27 | 2000-05-23 | Cirrus Logic, Inc. | Method and apparatus for expanding graphics images for LCD panels |
| US6115032A (en) * | 1997-08-11 | 2000-09-05 | Cirrus Logic, Inc. | CRT to FPD conversion/protection apparatus and method |
| KR100279260B1 (ko) * | 1998-06-18 | 2001-01-15 | 김영환 | 액정 셀의 액정 주입 및 액정 주입구 봉입검사 시스템 |
| US6940300B1 (en) * | 1998-09-23 | 2005-09-06 | International Business Machines Corporation | Integrated circuits for testing an active matrix display array |
| US6437596B1 (en) * | 1999-01-28 | 2002-08-20 | International Business Machines Corporation | Integrated circuits for testing a display array |
| US6539524B1 (en) * | 2000-05-10 | 2003-03-25 | Agere Systems Inc. | Method and apparatus for matching capacitance of filters having different circuit topologies |
| US6762735B2 (en) * | 2000-05-12 | 2004-07-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electro luminescence display device and method of testing the same |
| TW538246B (en) * | 2000-06-05 | 2003-06-21 | Semiconductor Energy Lab | Display panel, display panel inspection method, and display panel manufacturing method |
| JP4330059B2 (ja) * | 2000-11-10 | 2009-09-09 | カシオ計算機株式会社 | 液晶表示装置及びその駆動制御方法 |
| DE10316901A1 (de) * | 2003-04-12 | 2004-10-28 | Roche Diagnostics Gmbh | Kontrollsystem und Kontrollverfahren zum Überprüfen der Funktion von LCD-Anzeigen |
| JP3760411B2 (ja) * | 2003-05-21 | 2006-03-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | アクティブマトリックスパネルの検査装置、検査方法、およびアクティブマトリックスoledパネルの製造方法 |
| TWI223092B (en) * | 2003-07-29 | 2004-11-01 | Primtest System Technologies | Testing apparatus and method for thin film transistor display array |
| JP3858864B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2006-12-20 | セイコーエプソン株式会社 | 静電容量検出装置 |
| CN100387997C (zh) * | 2003-10-31 | 2008-05-14 | 华昀科技股份有限公司 | 薄膜晶体管显示器数组的测试电路及方法 |
| US7084970B2 (en) * | 2004-05-14 | 2006-08-01 | Photon Dynamics, Inc. | Inspection of TFT LCD panels using on-demand automated optical inspection sub-system |
| JP2006073712A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Agilent Technol Inc | Tftアレイ試験方法および試験装置 |
| US8576217B2 (en) | 2011-05-20 | 2013-11-05 | Ignis Innovation Inc. | System and methods for extraction of threshold and mobility parameters in AMOLED displays |
| US10013907B2 (en) | 2004-12-15 | 2018-07-03 | Ignis Innovation Inc. | Method and system for programming, calibrating and/or compensating, and driving an LED display |
| US9799246B2 (en) | 2011-05-20 | 2017-10-24 | Ignis Innovation Inc. | System and methods for extraction of threshold and mobility parameters in AMOLED displays |
| US7466161B2 (en) * | 2005-04-22 | 2008-12-16 | Photon Dynamics, Inc. | Direct detect sensor for flat panel displays |
| CN102663977B (zh) | 2005-06-08 | 2015-11-18 | 伊格尼斯创新有限公司 | 用于驱动发光器件显示器的方法和系统 |
| CN101501748B (zh) | 2006-04-19 | 2012-12-05 | 伊格尼斯创新有限公司 | 有源矩阵显示器的稳定驱动设计 |
| JP5380286B2 (ja) | 2006-07-17 | 2014-01-08 | スキャニメトリクス,インコーポレイテッド | 検査回路を有する薄膜トランジスタアレイ |
| CA2556961A1 (en) * | 2006-08-15 | 2008-02-15 | Ignis Innovation Inc. | Oled compensation technique based on oled capacitance |
| JP2011504613A (ja) * | 2007-11-23 | 2011-02-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | マルチモーダルスポットジェネレータとマルチモーダル・マルチスポット・スキャンマイクロスコープ |
| US8912990B2 (en) * | 2008-04-21 | 2014-12-16 | Apple Inc. | Display having a transistor-degradation circuit |
| WO2010123620A1 (en) * | 2009-04-24 | 2010-10-28 | Arizona Board of Regents, a body corporate acting for and on behalf of Arizona State University | Methods and system for electrostatic discharge protection of thin-film transistor backplane arrays |
| US9384698B2 (en) | 2009-11-30 | 2016-07-05 | Ignis Innovation Inc. | System and methods for aging compensation in AMOLED displays |
| US10319307B2 (en) | 2009-06-16 | 2019-06-11 | Ignis Innovation Inc. | Display system with compensation techniques and/or shared level resources |
| US9311859B2 (en) | 2009-11-30 | 2016-04-12 | Ignis Innovation Inc. | Resetting cycle for aging compensation in AMOLED displays |
| US9881532B2 (en) | 2010-02-04 | 2018-01-30 | Ignis Innovation Inc. | System and method for extracting correlation curves for an organic light emitting device |
| US20140313111A1 (en) | 2010-02-04 | 2014-10-23 | Ignis Innovation Inc. | System and methods for extracting correlation curves for an organic light emitting device |
| US10089921B2 (en) | 2010-02-04 | 2018-10-02 | Ignis Innovation Inc. | System and methods for extracting correlation curves for an organic light emitting device |
| CA2692097A1 (en) | 2010-02-04 | 2011-08-04 | Ignis Innovation Inc. | Extracting correlation curves for light emitting device |
| CN102446475B (zh) * | 2010-10-14 | 2016-08-31 | 上海天马微电子有限公司 | 平板显示装置的像素电极电压检测电路 |
| US8547170B1 (en) * | 2011-04-29 | 2013-10-01 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Multimode integration circuit for sensor readout |
| US9530349B2 (en) | 2011-05-20 | 2016-12-27 | Ignis Innovations Inc. | Charged-based compensation and parameter extraction in AMOLED displays |
| US9466240B2 (en) | 2011-05-26 | 2016-10-11 | Ignis Innovation Inc. | Adaptive feedback system for compensating for aging pixel areas with enhanced estimation speed |
| US9773439B2 (en) | 2011-05-27 | 2017-09-26 | Ignis Innovation Inc. | Systems and methods for aging compensation in AMOLED displays |
| US9324268B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-04-26 | Ignis Innovation Inc. | Amoled displays with multiple readout circuits |
| US10089924B2 (en) | 2011-11-29 | 2018-10-02 | Ignis Innovation Inc. | Structural and low-frequency non-uniformity compensation |
| US9093412B2 (en) * | 2011-12-20 | 2015-07-28 | Intel Corporation | Apparatus and method for testing pad capacitance |
| US8937632B2 (en) | 2012-02-03 | 2015-01-20 | Ignis Innovation Inc. | Driving system for active-matrix displays |
| US8922544B2 (en) | 2012-05-23 | 2014-12-30 | Ignis Innovation Inc. | Display systems with compensation for line propagation delay |
| TWI489191B (zh) | 2012-09-20 | 2015-06-21 | 友達光電股份有限公司 | 畫素結構及薄膜電晶體 |
| EP3043338A1 (en) | 2013-03-14 | 2016-07-13 | Ignis Innovation Inc. | Re-interpolation with edge detection for extracting an aging pattern for amoled displays |
| US9761170B2 (en) | 2013-12-06 | 2017-09-12 | Ignis Innovation Inc. | Correction for localized phenomena in an image array |
| US9502653B2 (en) | 2013-12-25 | 2016-11-22 | Ignis Innovation Inc. | Electrode contacts |
| FR3025606B1 (fr) * | 2014-09-10 | 2016-09-23 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif pour la mesure de courant |
| CA2879462A1 (en) | 2015-01-23 | 2016-07-23 | Ignis Innovation Inc. | Compensation for color variation in emissive devices |
| CA2889870A1 (en) | 2015-05-04 | 2016-11-04 | Ignis Innovation Inc. | Optical feedback system |
| CA2892714A1 (en) | 2015-05-27 | 2016-11-27 | Ignis Innovation Inc | Memory bandwidth reduction in compensation system |
| CA2900170A1 (en) | 2015-08-07 | 2017-02-07 | Gholamreza Chaji | Calibration of pixel based on improved reference values |
| KR102732522B1 (ko) * | 2016-12-16 | 2024-11-21 | 애플 인크. | 발광 다이오드 테스트 장치 및 제조 방법 |
| US11143690B2 (en) * | 2019-10-02 | 2021-10-12 | Nanya Technology Corporation | Testing structure and testing method |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318278A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | 電荷検出回路 |
| JPH01129295A (ja) * | 1987-11-13 | 1989-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネル用セグメントドライブic |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4187459A (en) * | 1978-02-13 | 1980-02-05 | Automatic Systems Laboratories Limited | Digital measurement of impedance ratios |
| DE3116079A1 (de) * | 1981-04-23 | 1982-11-11 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Pruefsystem |
| US4458196A (en) * | 1981-08-05 | 1984-07-03 | John Fluke Mfg. Co., Inc. | Method and apparatus for high speed resistance, inductance and capacitance measurement |
| US4583042A (en) * | 1983-04-18 | 1986-04-15 | The Boeing Company | Capacitive circuit board testing system and method using a conductive pliant elastomeric reference plane |
| DE3413849C2 (de) * | 1984-02-21 | 1986-07-10 | Dietrich 8891 Obergriesbach Lüderitz | Kapazitäts-Meßgerät |
| US4649339A (en) * | 1984-04-25 | 1987-03-10 | Honeywell Inc. | Integrated circuit interface |
| DK158168C (da) * | 1985-06-19 | 1990-09-17 | Risoe Forsoegsanlaeg | Kobling til behandling af signaler fra en nuklear detektor |
| JPH0756503B2 (ja) * | 1985-11-26 | 1995-06-14 | 株式会社日立製作所 | 論理回路診断方法 |
| DE3601192C1 (de) * | 1986-01-17 | 1987-04-30 | Aeg Elotherm Gmbh | Pruefeinrichtung fuer parallelgeschaltete FET's |
| US4744084A (en) * | 1986-02-27 | 1988-05-10 | Mentor Graphics Corporation | Hardware modeling system and method for simulating portions of electrical circuits |
| US4728931A (en) * | 1986-07-25 | 1988-03-01 | Honeywell Inc. | Charge redistribution capacitance detection apparatus |
| US4819038A (en) * | 1986-12-22 | 1989-04-04 | Ibm Corporation | TFT array for liquid crystal displays allowing in-process testing |
| JPS63238574A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の欠陥検出方法 |
| NL8700933A (nl) * | 1987-04-21 | 1988-11-16 | Philips Nv | Testmethode voor lcd-elementen. |
| KR960006869B1 (ko) * | 1987-09-02 | 1996-05-23 | 도오교오 에레구토론 가부시끼가이샤 | 프로우브 장치에 의한 전기특성 검사방법 |
| JPH01101646A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アクティブマトリクス液晶表示装置の製造方法 |
| US4870357A (en) * | 1988-06-03 | 1989-09-26 | Apple Computer, Inc. | LCD error detection system |
| US5057775A (en) * | 1990-05-04 | 1991-10-15 | Genrad, Inc. | Method of testing control matrices for flat-panel displays |
| US5113134A (en) * | 1991-02-28 | 1992-05-12 | Thomson, S.A. | Integrated test circuit for display devices such as LCD's |
| US5235272A (en) * | 1991-06-17 | 1993-08-10 | Photon Dynamics, Inc. | Method and apparatus for automatically inspecting and repairing an active matrix LCD panel |
| US5268638A (en) * | 1991-07-15 | 1993-12-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for particle beam testing of substrates for liquid crystal displays "LCD" |
| US5233448A (en) * | 1992-05-04 | 1993-08-03 | Industrial Technology Research Institute | Method of manufacturing a liquid crystal display panel including photoconductive electrostatic protection |
| US5444390A (en) * | 1994-02-02 | 1995-08-22 | Texas Digital Systems, Inc. | Means and method for sequentially testing electrical components |
-
1989
- 1989-12-13 US US07/450,635 patent/US5179345A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-08-20 EP EP90115904A patent/EP0436777B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-20 DE DE69025158T patent/DE69025158T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-13 JP JP30694090A patent/JP2620405B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-01-08 US US08/002,293 patent/US5561381A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318278A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | 電荷検出回路 |
| JPH01129295A (ja) * | 1987-11-13 | 1989-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネル用セグメントドライブic |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0590373A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜トランジスタの特性検査装置 |
| JPH0659283A (ja) * | 1992-04-27 | 1994-03-04 | Terenikusu:Kk | Tft−lcdの検査方法及びその装置 |
| JPH06230418A (ja) * | 1992-12-17 | 1994-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マトリクス表示装置の製造方法 |
| US5652632A (en) * | 1994-09-30 | 1997-07-29 | Nec Corporation | LCD apparatus having electrostatic breakdown preventing configuration capable of testing each pixel |
| JPH08110365A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Furontetsuku:Kk | 薄膜トランジスタの検査装置および検査方法 |
| US5550484A (en) * | 1994-10-12 | 1996-08-27 | Frontec Incorporated | Apparatus and method for inspecting thin film transistor |
| US6259424B1 (en) | 1998-03-04 | 2001-07-10 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Display matrix substrate, production method of the same and display matrix circuit |
| US6262589B1 (en) | 1998-05-25 | 2001-07-17 | Asia Electronics, Inc. | TFT array inspection method and device |
| JP2002296556A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Toshiba Corp | Lcdアレイテスタの校正方法 |
| US6847223B2 (en) | 2003-02-14 | 2005-01-25 | Wintest Corporation | Method and device for inspection active matrix substrate |
| US7161817B2 (en) | 2003-11-14 | 2007-01-09 | Agilent Technologies, Inc. | Current/charge-voltage converter and reset method |
| JP2007322133A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Seiko Epson Corp | 駆動トランジスタの特性測定方法、電気光学装置、および電子機器 |
| JP2008096379A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Micronics Japan Co Ltd | 画素アレイ基板の検査装置及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5179345A (en) | 1993-01-12 |
| EP0436777A2 (en) | 1991-07-17 |
| DE69025158T2 (de) | 1996-09-05 |
| EP0436777B1 (en) | 1996-01-31 |
| US5561381A (en) | 1996-10-01 |
| DE69025158D1 (de) | 1996-03-14 |
| JP2620405B2 (ja) | 1997-06-11 |
| EP0436777A3 (en) | 1992-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03200121A (ja) | 薄膜トランジスタアレイのアナログ試験方法及び装置 | |
| US8536892B2 (en) | System for testing transistor arrays in production | |
| US5363037A (en) | Method and apparatus for testing LCD panel array | |
| KR100394923B1 (ko) | 어레이 기판의 검사 방법 | |
| TW473622B (en) | TFT array inspection method and apparatus | |
| US5546013A (en) | Array tester for determining contact quality and line integrity in a TFT/LCD | |
| US5428300A (en) | Method and apparatus for testing TFT-LCD | |
| US20060012575A1 (en) | Touch sensitive active matrix display and method for touch sensing | |
| JP2672260B2 (ja) | Tft−lcdの検査方法 | |
| US20100283501A1 (en) | Testing method for optical touch panel and array tester | |
| US6252566B1 (en) | Compensation process for a disturbed capacitive circuit and application to matrix display screens | |
| US7269051B2 (en) | Inspection method of array board and inspection equipment thereof | |
| JP2900019B2 (ja) | 液晶ディスプレイ用セルの検査方法 | |
| US5243272A (en) | Method of testing control matrices employing distributed source return | |
| KR20090103340A (ko) | 박막 트랜지스터 디스플레이 어레이에 대한 테스트 장치 및방법 | |
| JPH0659283A (ja) | Tft−lcdの検査方法及びその装置 | |
| JP4782956B2 (ja) | アレイ基板の検査方法 | |
| JP3412054B2 (ja) | 液晶パネル検査装置及び検査方法 | |
| JP3021738U (ja) | Tft−lcdの検査装置 | |
| Troutman et al. | Characterization of TFT/LCD arrays | |
| TWI476654B (zh) | 觸控感測單元及具有該觸控感測單元之面板 | |
| JPH0590373A (ja) | 薄膜トランジスタの特性検査装置 | |
| JPH04329332A (ja) | Lcd基板上のtft画素の検査方法及び検査装置 | |
| JP2003035733A (ja) | 微小容量測定装置 | |
| Tai et al. | Study on the pixel voltage of TFTLCDs with optical measurement |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090311 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100311 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110311 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110311 Year of fee payment: 14 |