JPH0320494A - メッキ装置およびクリーニング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明はストリップのメッキおよびクリーニング装置に
関するものである． 「従来の技術」 メッキ鋼板の増産、生産性向上には不溶性アノードによ
る高電流密度メッキの実施が不可欠である。このために
は次の設備技術上の問題を解決する必要がある． （！）ストリップとアノードの極間の短縮（２）　スト
リップとアノードの極間内のメッキ液の撹拌 （３）ストリップとアノードの極間へのイオンの供給 従来の極間は３０〜４０ｎｎであったが上記（１）のよ
うに極間を短縮するとアノードタッチという重大事故を
起す危険がある．父上記（２）の撹拌のためアノードの
内面に邪魔板を設ける装置（特開昭５５−１４８７９８
号、特開昭６２−２　１　１　３９９号）が考案されて
いるが邪魔板とメッキ面との接触によるメッキ面損傷を
生じるおそれがある。さらに上記（３）のイオンの供給
装置にはメッキ液をストリップの走向と向流方向に供給
するもの（特開昭４０−５６０９２号、特開昭６２−２
１）３９９号）が考えられたが、この方法では大量のメ
ッキ液の吹き込み置が必要で、そのための装置が膨大に
なり、かつこの方法では低速（５０ｍ／ｍｉｎ　）では
有効であるが、速度が１００〜５００　ｍ／ｍｉｎと速
くなると効果が少なくなることが明らかである．又圧延
工程を経たストリップの表面の圧延油などの汚物をアル
カリ液中で電気分解によって洗汗するクリーニング装置
も上記メッキ装置と同様の上記条件＋１）　　（２）　
（３）を解決する必要がある． 「発明が解決しようとする課題」 本発明は上記（１）　　（２）　　（３）の課題を解決
し、安全迅速にストリップの高電流密度メッキ又はクリ
ーニングを実施する装置を得ることを目的とする． 「課題を解決するための手段」 上記の目的を達成するため本発明は 液槽内にアノードを対向配置し、該アノード間にストリ
ップを走行させるストリップ処理装置において、上記ア
ノードの内面に対向位置に絶縁体を突設し、該絶縁体に
ストリップの走行方向に向ってアノード側からストリッ
プ側に向って傾斜するテーパ面を形成してなるメッキ装
置、対向位置に代えて千鳥位置である上記発明記載のメ
ッキ装置、 絶縁体の間隔部アノードの内外面に連通ずる透孔を穿設
し、該アノードの内外に処理液を流通させる上記第１又
は第２発明記載のメッキ装置、ストリップの走行方向が
上下方向である上記第ｌ、第２又は第３発明にそれぞれ
記載のメッキ装置、 液槽の液面より高い位置にあるアノード上部に上記絶縁
体を対向位置に設けた上記第４発明記載のメッキ装置、 ストリップの走行方向が横向である上記第ｌ、第２又は
第３発明記載のメッキ装置、 絶縁体の間隔部に処理液強制供給装置を接続した上記第
１、第２、第３、第４、第５又は第６発明にそれぞれ記
載したメッキ装置、 アノードに代えてカソードを対向配置し、かつメッキ装
置に代えて上記第１、第２、第３、第４、第５、第６又
は第７発明にそれぞれ記載のクリーニング装置によって
構成される． 「作用」 従ってアノード２、２間のストリップ３と絶縁体４のテ
ーパ函５との間にはストリップ３の走行に伴ってメッキ
液９が引込まれ（連行され）、それによってストリップ
３とテーバ而５との間に液膜が形成される．該液膜には
テーパ面５の作用で揚力を発生するからストリップ３と
絶縁体４とは接触しない．そのためストリップ３とアノ
ード２とが接触することは勿論ないし、形状の良くない
ストリップ３即ち走行方向と直角方向の反り５両耳部の
蛇行襞などを有するストリップ３であって６上記揚力を
受けて上記絶縁体４に接触することはない． 対向位置に代えて千鳥位置に絶縁体４を突設した場合は
第５図に示すように上記揚力によってストリップ３は絶
縁体４を避けて蛇行し、絶縁体４に接触することはない
。

即ち上記絶縁体４を設けることによってアノード２とス
トリップ３との極間を小さくしてもストリップ３とアノ
ード２との接触は防止される。

又絶縁体４はアノード２の内面に突出しているためスト
リップ３に連行されるメッキ液９は第２図、第３図に示
すように該絶縁体４に当って逆流ｂし、テーパ面５内に
引込まれる直前にアノード２とストリップ３との間にお
いて回動じ連行流Ｃと逆流ｂとの間に剪断力（第３図〕
を生じて撹拌される． 上記絶縁体４は千鳥位＠（第５図）に突設することによ
ってアノード２、２の極間をさらに小となすことができ
る． メッキ液９は透孔６、６からアノード２の内外側に流通
しアノード２の外側のメッキ液９をアノード２とストリ
ップ３間に取込むことができアノート２内に外側のイオ
ンを撹拌供給することができる． 第６図に示すように液面７の上位にあるアノード２，２
の対向絶縁体４、４のテーパ面５、５間にストリップ３
によって連行上昇するメッキ液９は対向絶縁体４、４に
よって上昇を阻止される．強制供給装置８によって絶縁
体４の間隔部にメッキ液９を外部から供給しイオン濃度
を増すことができる． 上記の作用はストリップ表面の汚物をアルカリもしくは
酸液で電気分解するクリーニング装置においても同様で
ある．この場合は、ストリップ３をアノード側に、前述
のアノード２をカソードとする電極切換えを行う。

「実施例」 メッキ液９の液槽ｌ内に板状アノード２，２を上下方向
に対向して配置し、該アノード２、２の上部を液面７の
上位に保持し、かっこの対向板状アノード２、２を２組
宛各液槽ｌ内に保持する（第６図）．一方の対向板状ア
ノード２、２間にはストリップ３を下向に走行させ、誘
導ローラ１０を迂回させて他方の上記アノード２、２間
を上向に走行させる．この状態において、上記アノード
２、２に陽極を接続し、ストリップ３に向って電流を流
すとメッキ液９内の金属イオンがストリップ３に析出し
てメッキ処理を行うことができる。

上記板状アノード２、２の対向面（内面）には第１図、
第２図、第４図に示すように互に対向位置に複数のセラ
ミックス製絶縁体４、４を突設し、又は第５図に示すよ
うに千鳥位置に突設する．この絶縁体４の走行方向の長
さは第４図に示すように可及的に短くすることによって
アノード２の電極面積を広く保持することができる．こ
のようにした絶縁体４にはストリップ３に対面する部分
にテーパ面５を形成し、該テーパ面５は走行方向に向っ
てアノード２側からストリップ３側に向って傾斜させる
．この絶縁体４、４の走行方向間隔部にあるアノード２
には内面（対向面〉と外側面とを連通ずる透孔６，６を
突設するものであって第２図に示すようにストリップ３
に連行されるメッキ液９は絶縁体４に当って透Ｒ６から
外側面に排出され（矢印ｄ）、他方の透孔６から内面側
に流入するようになっている．板状アノード２、２は上
下方向のみならず横向（水平方向）に配置されたもので
あっても差支えない．又第２図に示すように透孔６′に
配管１）を接続し、ボンブｌ２によって貯槽内のメッキ
液９を外部から強制的に供給する強制供給装＠８を設け
、それによって新し゛いメッキ液９を極間に供給しイオ
ン濃度を向上させることができる．本発明は、ストリッ
プ３の走行速度が高速（およそ３００　〜ｌ　ＯＯＯｍ
／ｍｉｎ　）になる程効果的であるが、アノード２、２
の極間を約５ａｌｌ１程度とし、走行速度を３　０　〜
３　０　０ｍ／ｍｉｎの低速までに設計することができ
る。ストリップ３の速度が低速の場合には、アノード２
と絶縁体４とを貫通する別の透孔を適当な配置となるよ
う設け、この透孔から液９を強制的に吹出すことにより
、この時の動圧あるいは静圧でストリップ３に及ぼす揚
力を助勢することもできる６又ストリップの両エッジは
揚力の発生が減少するため、ごく低速では絶縁体に接触
することもありうる．しかし電気的には短絡しないし又
ストリップのエッジにスリ疵が発生しても後工程で切り
落すため製品には影響しない。

上記はメッキ装置について述べたが，ストリップ３の表
面附着汚物のアルカリ処理液中における電気分解による
クリーニング装置にも適用することができる．尚図中１
２で示すものはストリップ３の上部誘導ローラ、第３図
及び第９図中ｌ３は速度分布曲線である。

「発明の効果」 本発明は上述のように構成したので対向配置されるアノ
ード又はカソード２、２の極間を著しく短縮し得るばか
りでなくストリップ３とアノード又はカソード２、２と
の接触のおそれがなく安全に高電流密度メッキ又はクリ
ーニングを実施し得るし、ストリップ３の走行速度を著
しく向上し得る． さらに極間内の液撹拌及び極間へのイオン供給を充分行
い得てメッキ又はクリーニング処理能率を著しく向上す
ることができる． 又液面７の上位にある対向絶縁体４、４がストリップ３
に連行される処理液を阻止するため上部のストリップ誘
導ローラｌ２、ｌ２の水準を液面７に向って低下せしめ
得て設備を小形化し得る効果がある．

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のメッキ装置な゛示す斜視図、第２図は
対向アノードの拡大縦断正面図、第３図はメッキ液の流
速曲線図５第４図は７ノードの他の実施例の正面図、第
５図はアノートの千鳥配置状態の正面図、第６図は往復
走行ストリップの正面図、第７図は従来のメッキ装置の
斜視図、第８図は第７図示のアノード、ストリップの正
面図、第９図は第８図のアノード間処理液の速度分布曲
線である。 ｌ・・液槽、２・・アノード又はカソード、３・・スト
リップ、４・・絶縁体、ａ・・走行方向、５・・テーバ
面、６・・透孔、７・・液面、８・・処理液強制供給装
置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）液槽内にアノードを対向配置し、該アノード間に
   ストリップを走行させるストリップ処理装置において、
   上記アノードの内面に対向位置に絶縁体を突設し、該絶
   縁体にストリッップの走行方向に向ってアノード側から
   ストリップ側に向って傾斜するテーパ面を形成してなる
   メッキ装置。 （２）対向位置に代えて千鳥位置である請求項（１）記
   載のメッキ装置。 （３）絶縁体の間隔部アノードの内外面に連通する透孔
   を穿設し、該アノードの内外に処理液を流通させる請求
   項（１）又は（２）記載のメッキ装置。 （４）ストリップの走行方向が上下方向である請求項（
   １）（２）又は（３）にそれぞれ記載のメッキ装置。 （５）液槽の液面より高い位置にあるアノード上部に上
   記絶縁体を対向位置に設けた請求項 （４）記載のメッキ装置。 （６）ストリップの走行方向が横向である請求項（１）
   （２）又は（３）にそれぞれ記載のメッキ装置。 （７）絶縁体の間隔部に処理液強制供給装置を接続した
   請求項（１）（２）（３）（４）（５）又は（６）にそ
   れぞれ記載のメッキ装置。 （８）アノードに代えてカソードを対向配置し、かつメ
   ッキ装置に代えて請求項（１）（２）（３）（４）（５
   ）（６）又は（７）にそれぞれ記載のクリーニング装置
   。