JPH03208358A - 半導体装置のパターンデータ検証方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体装置を製造するための半導体装置自身の〔産業上
の利用分野〕 この発明は半導体装置を製造するための半導体装置自身
の露光データあるいは半導体装置を製造するためのマス
クやレチクルの露光データを正確に作成するためのパタ
ーンデータ検証方法に関するものである。

近年では高い信頼性を備えた半導体集積回路を大量に且
つ短期間で製造することが要請されているが、このよう
な要請を満足させるためには半導体装置を製造するため
のマスクやレチクルを電子ビーム露光装置で露光する露
光パターンデータあるいは半導体装置自身を電子ビーム
露光装置で露光する露光パターンデータの精度を向上さ
せる必要がある。

〔従来の技術〕

レチクル製造の際の露光パターンデータの従来の検証方
法を第２図〜第４図に従って説明する。

第３図に示すようにレチクル露光データを作成するため
のＣＡＤ装置１は演算処理装置２と、多数の設計パター
ンデータを格納しているライブラリ３と、演算処理装置
２による演算結果を表示するための表示装置としてのＣ
ＲＴ４と、演算処理装置２に指令信号あるいは設計デー
タを入力するための入力装置５とから構成されている。

そのＣＡＤ装置装置波算処理装置２は外部のコンピュー
タ６に接続され、そのコンピュータ６には計算結果を紙
面上に印字して出力するプリンタ７が接続されるととも
に、その計算結果に基づいて電子ビーム露光装置８でレ
チクルが露光されるようになっている。

このようなＣＡＤ装置によるレチクル露光データの作成
手順を第２図及び第４図に従って説明すると、まず露光
パターンの設計データを入力装置５から演算処理装置２
に入力するとともに、入力装置５で入力する指令信号に
よりライブラリ３から所望の設計データを読み出す（Ｓ
ＴＥＰ　１．以下５ＴＥＰはＳとする）。

次いで、入力装置５で入力された設計データとライブラ
リ３から読み出した設計データに基づいて演算処理装置
２により例えば第２図（ａ）に示すような設計画像デー
タ９をＣＲＴＪ上で構成し、コンピュータ６に出力する
（Ｓ２）。そして、その設計画像データ９をあらかじめ
設定された変換プログラムに基づいて設計画像データ９
をシフト操作することにより第５図（ｂ）に示すような
露光パターンデータ１０に変換する（Ｓ３）。この露光
パターンデータは画像データではなく前記設計画像デー
タとはフォーマットが異なる。次いで、コンピュータ６
はその露光パターンデータ１０をプリンタ７からプロッ
トデータとして出力するフォーマットに変換するための
演算を行い（Ｓ４）、そのプロットデータをプリンタ７
で出力する（Ｓ５）。そして、プリンタ７から出力され
たプロット図面を作業者が目視でチエツクする事により
第２図（ａ）に示す設計画像データ９が第２図（ｂ）に
示す露光パターンデータ１０に正しく演算処理されてい
るか否かが検証され（Ｓ６）、作業者が正しいと認識し
た場合にはその露光パターンデータ１０をコンピュータ
６で演算処理して露光作業データに変換しくＳ７）、そ
の露光作業データに基づいて電子ビーム露光装置により
レチクルを露光する（Ｓ８）。また、設計画像データ９
が作業者の入力ミス等により露光パターンデータ１０に
正しく変換されていない場合にはＳｌからの作業が繰り
返される。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上記のような設計画像データと露光パターン
データとの検証方法ではプロットデータとして出力され
た露光パターンデータを目視でチエツクすることは極め
て煩雑であり、設計画像データと露光パターンデータと
を同一フォーマ・ソトで比較することができないため、
露光パターンデータの欠陥を見落とすことがあるという
問題点があった。

この発明の目的は、設計画像データと露光パターンデー
タとを同一フォーマットで容易に比較検証することが可
能な検証方法を提供するにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、ＣＡＤ装置で設計した露光パターンの設計
画像データを演算装置で演算して露光装置を駆動するた
めの露光作業データに変換し、次いでその露光作業デー
タを前記設計画像データと同一フォーマットの検証画像
データに逆変換し、その検証画像データと前記設計画像
データとをＣＡＤ装置の表示装置上に合成して表示して
設計画像データに対する検証画像データのパターン欠陥
を検出する検証方法により達成される。

〔作用〕

設計画像データに基づいて演算された露光作業データが
設計画像データと同一フォーマットの検証画像データに
逆変換され、その設計画像データと検証画像データとが
表示装置上に合成して表示されるので、両データの比較
検証が容易となる。

〔実施例〕

以下、この発明を具体化した一実施例を第１図及び第２
図に従って説明する。なお、前記実施例と同一構成部分
は同一番号を付してその説明を省略する。

この実施例のパターンデータ検証方法は前記従来例と同
様なＣＡＤ装置１及びコンピュータ６に基づいて行われ
る。その検証方法を第１図及び第２図に従って説明する
と、まず従来例と同様に露光ハターンデータを作成する
ための設計データを入力装置５から演算処理装置２に入
力するとともに、入力装置５で入力する指令信号により
ライブラリ３から所望の設計パターンデータを読み出す
（Ｓｌｌ）。

次いで、入力装置５で入力された設計データとライブラ
リ３から読み出した設計パターンデータに基づいて演算
処理装置２により第２図（ａ）に示すような設計画像デ
ータ９をＣＲＴＪ上で構成してライブラリ３に格納する
とともに、その設計画像データ９をコンピュータ６に出
力しくＳ　１２）、コンピュータ６はその設計画像デー
タ９をあらかじめ設定された変換プログラムに基づいて
演算して第２図（ｂ）に示すような露光パターンデータ
１０に変換する（Ｓ　１３）。

次いで、その露光パターンデータ１０をコンピュータ６
で演算処理して露光作業データに変換してコンピュータ
６内のメモリに格納するとともに、その露光パターンデ
ータ１０を前記設計画像データ９と同一フォーマットの
検証画像データ１１に逆変換してＣＡＤ装置１のライブ
ラリ３に格納させる（Ｓ１４）。

そして、検証画像データ１１と前記設計画像データ９と
をＣＡＤ装置１のライブラリ３から読み出して公知のプ
ログラムにより第２図（Ｃ）に示すように合成処理して
ＣＲＴ４上に表示しく５１５）、設計画像データ９に対
し検証画像データ１１が正しく変換処理されているかを
目視によりチエツクする（Ｓ１６）。そこで、作業者が
ＣＲＴ４上の検証画像データが正しいと認識した場合に
はコンピュータ６のメモリに格納されている露光作業デ
ータに基づいて電子ビーム露光装置によりレチクルを露
光する（Ｓ　１７）。また、設計画像データ９が作業者
の入力ミス等により正しい検証画像データに変換されて
いない場合にはＳｌｌからの作業が繰り返される。

以上のようにこの検証方法では、ＣＡＤ装置ｌで作成さ
れた設計画像データ９に基づいてコンピュータ６で変換
処理された露光パターンデータｌＯを同コンピュータ６
で設計画像データと同一フォーマットの検証画像データ
１１に逆変換してＣＡＤ装置１に戻し、その検証画像デ
ータ１１と設計画像データ９とを合成してＣＲＴ４上で
同時に比較検証することができるので、その検証作業を
正確に且つ容易に行うことができる。

〔発明の効果〕

以上詳述したように、この発明は設計画像データと露光
パターンデータとを同一フォーマットで容易に比較検証
することができる優れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すフローチャート図、 第２図（ａ）（ｂ）（ｃ）はデータ処理手順を示す説明
図、 第３図は露光データ作成装置のブロック図、第４図は設
計パターンデータ検証方法の従来例を示すフローチャー
ト図である。 図中、 １はＣＡＤ装置、 ４はＣＲＴ　（表示装置）、 ６はコンピュータ（演算装置） ９は設計画像データ、 １０は露光パターンデータ、 １１は検証画像データである。 第１図 本発明の一実１！例を示すフローチャート図面その１ 第　２　図 データ処理手順を示す説明図 （ａ） （Ｃ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、ＣＡＤ装置で設計した露光パターンの設計画像デー
   タを演算装置で演算して露光装置を駆動するための露光
   作業データに変換し、次いでその露光作業データを前記
   設計画像データと同一フォーマットの検証画像データに
   逆変換し、その検証画像データと前記設計画像データと
   をＣＡＤ装置の表示装置上に合成して表示して設計画像
   データに対する検証画像データのパターン欠陥を検出す
   ることを特徴とする半導体装置のパターンデータ検証方
   法。