JPH03208679A - 液晶マスク印字装置 - Google Patents
液晶マスク印字装置Info
- Publication number
- JPH03208679A JPH03208679A JP2003427A JP342790A JPH03208679A JP H03208679 A JPH03208679 A JP H03208679A JP 2003427 A JP2003427 A JP 2003427A JP 342790 A JP342790 A JP 342790A JP H03208679 A JPH03208679 A JP H03208679A
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- Japan
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- imaging lens
- liquid crystal
- crystal mask
- lens
- imaging
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶マスクを用いた印字装置に関するもので
ある。
ある。
液晶マスクを用いた印字装置としての従来例は第３図に
示すようになっていて、レーザ（または光源）１より発
せられた光ビームはコリメータ２を通して大略平行ビー
ムとなってＸ．Ｙ走査用の２個のスキャナミラー３ａ，
３ｂにより散乱型の液晶マスク５の面上に走査される。
示すようになっていて、レーザ（または光源）１より発
せられた光ビームはコリメータ２を通して大略平行ビー
ムとなってＸ．Ｙ走査用の２個のスキャナミラー３ａ，
３ｂにより散乱型の液晶マスク５の面上に走査される。
この場合、収差を防止するために液晶マスク５の手前側
にフィールドレンズ４を設けて大略平行に液晶マスク５
に光ビームが入射するようにしてもよい。また上記コリ
メータ２及びスキャナミラー３ａ，３ｂを用いない場合
もある。スキャナミラーを用いない場合は、印字面は固
定、つまり、一定の面積となる。そしてその印字面積は
結像レンズ６の倍率に応じて決められる。
にフィールドレンズ４を設けて大略平行に液晶マスク５
に光ビームが入射するようにしてもよい。また上記コリ
メータ２及びスキャナミラー３ａ，３ｂを用いない場合
もある。スキャナミラーを用いない場合は、印字面は固
定、つまり、一定の面積となる。そしてその印字面積は
結像レンズ６の倍率に応じて決められる。
上記従来の印字装置において、印字面積を拡大するには
結像レンズの倍率を上げる手段が考えられるが、結像倍
率を拡大すれば、それに伴って高い出力のレーザが必要
となり、装置が高価になってしまう、 また他の手段としては、結像レンズと印字面の間にスキ
ャナミラーを介装し、印字位置（（印字面）を移動可能
にすることにより印字範囲を拡大することが考えられる
。しかしながら、散乱型の液晶マスクは現状では形状が
大きく、従って結像レンズ後の光束が大きく、大きな径
のミラーが必要となり、大きな駆動力のモータが必要と
なり、また立上り性能が悪くなる。またスキャナと印字
面の間隔を十分に取れず、ワークの搬送、出入れがやり
に＜＜、印字面からの飛散物が光学部品を汚染、損傷さ
せる恐れがある。焦点距離が非常に長い結像レンズを使
えば良いが、システムが非常に大型となり、実用的では
ない。
結像レンズの倍率を上げる手段が考えられるが、結像倍
率を拡大すれば、それに伴って高い出力のレーザが必要
となり、装置が高価になってしまう、 また他の手段としては、結像レンズと印字面の間にスキ
ャナミラーを介装し、印字位置（（印字面）を移動可能
にすることにより印字範囲を拡大することが考えられる
。しかしながら、散乱型の液晶マスクは現状では形状が
大きく、従って結像レンズ後の光束が大きく、大きな径
のミラーが必要となり、大きな駆動力のモータが必要と
なり、また立上り性能が悪くなる。またスキャナと印字
面の間隔を十分に取れず、ワークの搬送、出入れがやり
に＜＜、印字面からの飛散物が光学部品を汚染、損傷さ
せる恐れがある。焦点距離が非常に長い結像レンズを使
えば良いが、システムが非常に大型となり、実用的では
ない。
本発明は上記のことにかんがみなされたもので、小さな
スキャナミラーで印字位置の移動、すなわち、印字範囲
の拡大が可能で、しかも、スキャナミラーやレンズ等の
光学部品とワークの印字面との間隔を十分に取れて、ワ
ークの搬送出入れがやりやすく、また印字面からの飛散
物にて光学部品を汚染、損傷しないようにした印字装置
を提供することを目的とするものである。
スキャナミラーで印字位置の移動、すなわち、印字範囲
の拡大が可能で、しかも、スキャナミラーやレンズ等の
光学部品とワークの印字面との間隔を十分に取れて、ワ
ークの搬送出入れがやりやすく、また印字面からの飛散
物にて光学部品を汚染、損傷しないようにした印字装置
を提供することを目的とするものである。
上記目的を達成するために、本発明に係る液晶マスク印
字装置は、液晶マスクを用いて光ビームにて印字する液
晶マスク印字装置において、液晶マスクの後方に第１の
結像レンズを配置すると共に、この第１の結像レンズの
焦点位置より後方に第２の結像レンズを配置し、第１の
結像レンズとこの第１の結像レンズの焦点位置の間、及
び第１の結像レンズの焦点位置と第２の結像レンズの間
の少なくとも一方にスキャナミラーを介装した構成とな
っている。
字装置は、液晶マスクを用いて光ビームにて印字する液
晶マスク印字装置において、液晶マスクの後方に第１の
結像レンズを配置すると共に、この第１の結像レンズの
焦点位置より後方に第２の結像レンズを配置し、第１の
結像レンズとこの第１の結像レンズの焦点位置の間、及
び第１の結像レンズの焦点位置と第２の結像レンズの間
の少なくとも一方にスキャナミラーを介装した構成とな
っている。
上記スキャナミラーは第１の結像レンズの結像倍率比と
なる位置にほぼ配置する。
なる位置にほぼ配置する。
第１の結像レンズの焦点と第．２の結像レンズ間の距離
と、第２の結像レンズと印字面間の距離がほぼ等しくな
っている。
と、第２の結像レンズと印字面間の距離がほぼ等しくな
っている。
第１の結像レンズの焦点の両側に配置したスキャナミラ
ーの間にリレーレンズを介装する。
ーの間にリレーレンズを介装する。
さらに液晶マスクを用いて光ビームにて印字する液晶マ
スク印字装置において、液晶マスクの後側に位置する結
像レンズと印字面との間に凹レンズを介装し、この凹レ
ンズと印字面の間にスキャナミラーを少なくとも１個介
装した構成となっている。
スク印字装置において、液晶マスクの後側に位置する結
像レンズと印字面との間に凹レンズを介装し、この凹レ
ンズと印字面の間にスキャナミラーを少なくとも１個介
装した構成となっている。
第１の結像レンズと第２の結像レンズにより所定の結像
比が得られ、かつ第２の結像レンズの結像比を適切に選
ぶことにより、この第２の結像レンズと印字面との間隔
を十分とることができる。
比が得られ、かつ第２の結像レンズの結像比を適切に選
ぶことにより、この第２の結像レンズと印字面との間隔
を十分とることができる。
同様に、結像レンズとその焦点の間に凹レンズを介装す
ることにより全体としての焦点距離が長くなる。
ることにより全体としての焦点距離が長くなる。
スキャナミラーを作動することにより印字面の移動、す
なわち、印字範囲が拡げられる。
なわち、印字範囲が拡げられる。
〔実 施 例〕
本発明の実施例を第１図、第２図に基づいて説明する。
なおこの実施例において、第３図に示した従来例と同一
構成の部材は同一の符号を付して説明を省略する。
構成の部材は同一の符号を付して説明を省略する。
第１図は第１の実施例を示すもので液晶マスク５の後側
に位置する第１の結像レンズ６の後方で、かつこの第１
の結像レンズ６の焦点より後方に、第２の結像レンズ８
を介装し、この第２の結像レンズ８の焦点位置に印字面
７を位置させる。
に位置する第１の結像レンズ６の後方で、かつこの第１
の結像レンズ６の焦点より後方に、第２の結像レンズ８
を介装し、この第２の結像レンズ８の焦点位置に印字面
７を位置させる。
上記両結像レンズ６，８の間の距離が長い場合、第２図
に示すように、第１の結像レンズ６の焦点９の両側にリ
レーレンズ１．０ａ，１０ｂ及びスキャナミラー１１ａ
、１１ｂを介装して両結像レンズ６，８間の光路を屈折
させる。
に示すように、第１の結像レンズ６の焦点９の両側にリ
レーレンズ１．０ａ，１０ｂ及びスキャナミラー１１ａ
、１１ｂを介装して両結像レンズ６，８間の光路を屈折
させる。
この構或において、第２の結像レンズ８の結像比を適切
に選ぶことにより、この結像レンズ８と印字面７との間
隔を十分にとることができる。
に選ぶことにより、この結像レンズ８と印字面７との間
隔を十分にとることができる。
そして２個のスキャナミラー１１ａ、１１ｂを回転操作
することにより、印字面７における印字個所が移動され
、これにより印字範囲が拡大される。
することにより、印字面７における印字個所が移動され
、これにより印字範囲が拡大される。
上記２個のスキャナミラー１１ａ、１１ｂの配置位置は
所定の結像比、例えば、第１図においてａ：ｂになると
ころにおくことにより、収差を最小限に押さえることが
できる。また液晶マスク５が散乱型である場合には、第
１の結像レンズ６の焦点とスキャナミラー１１ａとの間
にリレーレンズ１０ａを介装することにより収差をさら
に押さえることができる。
所定の結像比、例えば、第１図においてａ：ｂになると
ころにおくことにより、収差を最小限に押さえることが
できる。また液晶マスク５が散乱型である場合には、第
１の結像レンズ６の焦点とスキャナミラー１１ａとの間
にリレーレンズ１０ａを介装することにより収差をさら
に押さえることができる。
第２図は本発明の第２の実施例を示すもので、結像レン
ズ６とその焦点９の間に凹レンズ１２を介装して全体と
して焦点距離を長くしてある。
ズ６とその焦点９の間に凹レンズ１２を介装して全体と
して焦点距離を長くしてある。
この場合、凹レンズ１２の焦点距離を適切に選べば凹レ
ンズ１２と印字面７の間で光束が小さく、しかも距離が
十分とれるようになる。そしてこの間にスキャナミラー
を配置することにより、印字面の移動、すなわち印字範
囲の拡大が可能となる。
ンズ１２と印字面７の間で光束が小さく、しかも距離が
十分とれるようになる。そしてこの間にスキャナミラー
を配置することにより、印字面の移動、すなわち印字範
囲の拡大が可能となる。
次に本発明者らが実際に実施した例を示す。
光ビーム９は、ＹＡＧパルスレーザのレーザで、パルス
幅０．１ｍｓｅｃｓ出力４Ｊ／Ｐのものを用いた。
幅０．１ｍｓｅｃｓ出力４Ｊ／Ｐのものを用いた。
液晶マスク５は、７０Ｘ７０加、１６Ｘ１６ドット、Ｏ
Ｎ時透過率７２％、ＯＦＦ時透過率１１％のものを用い
た。
Ｎ時透過率７２％、ＯＦＦ時透過率１１％のものを用い
た。
第１の結像レンズ６は、焦点距離２５０ｍ田、直径１０
０關のものを用いた。
０關のものを用いた。
そして第１園に示す実施例において、
結像比率は６０：７（印字面上）
スキャナミラー１１ａ、１１ｂの位置は、第２の結像ミ
ラー８の焦点９の前後に２９．１ｍｍの位置である。こ
れは結像比６０：７の位置で、７ ｆ−２５０Ｘ匝＝２９．１により求められる。
ラー８の焦点９の前後に２９．１ｍｍの位置である。こ
れは結像比６０：７の位置で、７ ｆ−２５０Ｘ匝＝２９．１により求められる。
第２の結像レンズ８の焦点距離は１ ３ ０ ＋ｏｍ、
第２の結像レンズ８と印字面７間距離は約１００ｍｕで
ある。
第２の結像レンズ８と印字面７間距離は約１００ｍｕで
ある。
この実施例によりスキャナミラー１１ａ，１ｌｂを振る
ことにより８×８１Ｉｌｍの印字が横方向に３個、縦方
向に３個、計９個の印字ができた。
ことにより８×８１Ｉｌｍの印字が横方向に３個、縦方
向に３個、計９個の印字ができた。
第２回に示す実施例において、
結像比率は６０：７
凹レンズ１２は直径３０祁、焦点距離は−６５０ｍ■で
あり、この結果、凹レンズ１２と印字面距離は約１５０
帥となった。
あり、この結果、凹レンズ１２と印字面距離は約１５０
帥となった。
スキャナミラー１１ａ’、１１ｂ’ は凹レンズ１２の
後方に２個（直径３０＋ａｍ）介装した。
後方に２個（直径３０＋ａｍ）介装した。
この実施例により上記実施例と同様の印字ができた。
なお上記両実施例において、スキャナミラー１ １ ａ
， １ ｌ ｂ， １ １ ａ’ ， １ ｌ
ｂ’ は必ずしも２個必要でなく、少なくとも一方だけ
でよい。
， １ ｌ ｂ， １ １ ａ’ ， １ ｌ
ｂ’ は必ずしも２個必要でなく、少なくとも一方だけ
でよい。
このスキャナミラー１１ａ、１１ｂ、１１ａ’，１１ｂ
′は第２の結像レンズ８あるいは凹レンズ１２にて光ビ
ーム９が収束された位置に介装されるので小さなもので
よい。
′は第２の結像レンズ８あるいは凹レンズ１２にて光ビ
ーム９が収束された位置に介装されるので小さなもので
よい。
本発明によれば、光学部品と印字面７間の距離を適切に
選べるようになると共に、その間の光束の小さいところ
にスキャナミラー１１ａ，１ １ ｂ， １ １ ｇ
’ ， １ ｌ ｂ’を挿入することができ、小さな
スキャナミラー１１ａ、１１ｂ，１１ａ’ 、１１ｂ’
で印字位置の移動、すなわち、印字範囲の拡大が可能と
なる。また光学部品とワークの印字面７との間隔を十分
にとることができて、印字面７からの飛散物にて光学部
品が汚染、破損するようなことがなくなる。また本発明
によれば、所定の結像比位置にスキャナミラーを配置す
ることにより光学系の収差を最小限に押さえることがで
きる。
選べるようになると共に、その間の光束の小さいところ
にスキャナミラー１１ａ，１ １ ｂ， １ １ ｇ
’ ， １ ｌ ｂ’を挿入することができ、小さな
スキャナミラー１１ａ、１１ｂ，１１ａ’ 、１１ｂ’
で印字位置の移動、すなわち、印字範囲の拡大が可能と
なる。また光学部品とワークの印字面７との間隔を十分
にとることができて、印字面７からの飛散物にて光学部
品が汚染、破損するようなことがなくなる。また本発明
によれば、所定の結像比位置にスキャナミラーを配置す
ることにより光学系の収差を最小限に押さえることがで
きる。
第１図、第２図は本発明の異なる実施例を示す説明図で
ある。第３図は従来例を示す説明図である。 ５は液晶マスク、６，８は結像レンズ、７は印字面、９
は焦点、１０ａ．１０ｂはリレーレンズ、１ １ ａ，
１ ｌ ｂ， １ １ ａ’ ． １ ｌ ｂ
’ はスキャナミラー １２は凹レンズ。
ある。第３図は従来例を示す説明図である。 ５は液晶マスク、６，８は結像レンズ、７は印字面、９
は焦点、１０ａ．１０ｂはリレーレンズ、１ １ ａ，
１ ｌ ｂ， １ １ ａ’ ． １ ｌ ｂ
’ はスキャナミラー １２は凹レンズ。
Claims (5)
- （１）液晶マスク５を用いて光ビームにて印字する液晶
マスク印字装置において、液晶マスク５の後方に第１の
結像レンズ６を配置すると共に、この第１の結像レンズ
６の焦点位置９より後方に第２の結像レンズ８を配置し
、第１の結像レンズ６とこの第１の結像レンズ６の焦点
位置の間、及び第１の結像レンズ６の焦点位置と第２の
結像レンズ８の間の少なくとも一方にスキャナミラー１
１ａ、１１ｂを介装したことを特徴とする液晶マスク印
字装置。 - （２）スキャナミラー１１ａ、１１ｂは第１の結像レン
ズ６の結像倍率比となる位置にほぼ位置させたことを特
徴とする請求項（１）記載の液晶マスク装置。 - （３）第１の結像レンズ６の焦点９と第２の結像レンズ
８間の距離と、第２の結像レンズ８と印字面７間の距離
がほぼ等しくしたことを特徴とする請求項（１）記載の
液晶マスク印字装置。 - （４）第１の結像レンズ６の焦点９の両側に配置したス
キャナミラー１１ａ、１１ｂの間にリレーレンズ１０ａ
、１０ｂを介装したことを特徴とする請求項（１）記載
の液晶マスク印字装置。 - （５）液晶マスク５を用いて光ビームにて印字する液晶
マスク印字装置において、液晶マスクの後側に位置する
結像レンズ６と印字面７との間に凹レンズ１２を介装し
、この凹レンズ１２と印字面７との間にスキャナミラー
１１ａ′、１１ｂ′を介装したことを特徴とする液晶マ
スク印字装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003427A JP2534565B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 液晶マスク印字装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003427A JP2534565B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 液晶マスク印字装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8004899A Division JPH08248339A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 光路偏向装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03208679A true JPH03208679A (ja) | 1991-09-11 |
| JP2534565B2 JP2534565B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=11557080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003427A Expired - Fee Related JP2534565B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 液晶マスク印字装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2534565B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5075738A (ja) * | 1973-11-07 | 1975-06-21 | ||
| JPH02251387A (ja) * | 1989-03-27 | 1990-10-09 | Toshiba Corp | レーザマーキング装置 |
-
1990
- 1990-01-12 JP JP2003427A patent/JP2534565B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5075738A (ja) * | 1973-11-07 | 1975-06-21 | ||
| JPH02251387A (ja) * | 1989-03-27 | 1990-10-09 | Toshiba Corp | レーザマーキング装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2534565B2 (ja) | 1996-09-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |