JPH0320932A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、近年進展著しいパーソナルコンビエ一夕やオ
フィスフークステーシ璽ン、ないしは将来の発展が期待
されている壁かけテレビ等に用いられるドットマトリク
スタイプのカラープラズマディスプレイの構造に関する
。

〔従来の技術〕

従来のカラープラズマディスプレイパネルの例としては
第６図に示す構造のものがある（エス・アイ●ディー●
８８●ダイジェスト●オブ●テクニカルペーパーズ　１
４２頁（ＳＩＤ　８８　Ｄｉｇｅｃｔｏｆ　Ｔｅｃｈｎ
ｉｃａｌ　Ｐａｐｅｒｓ　，Ｐ　．　１４２）　）。第
６図にかいて２１は背面ガラス板、２２は前面ガラス板
、２３は補助陽極、２４は表示陽極、２５は下地電極、
２６は下地電極２５の上に積層された陰極、２７は表示
セル、２８は各表示セル間を区切るセル障壁、２９は前
面ガラス板２２に或膜された蛍光体である。

選択された陰極２６には走査パルス電圧が印加される。

補助陽極２３には直流電圧が印加されてかり、選択され
た陰極２６との間で補助放電を生じる。一方表示陽極２
４には表示セル２７の発光に対応してパルス電圧が印加
される。発光すべき表示セル２７では補助放電に誘起さ
れて放電が生じ、放電による紫外光によって蛍光体２９
が刺激され、可視発光を生じる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の技術では、表示セルを固定し、また背面
ガラスと前面ガラスを適当な距離に保ち表示セルの放電
空間を得るた躬にセル障壁を用いている。このセル障壁
はいわゆるスクリーン印刷法を用いて作製されるが、セ
ル障壁の横幅をある値に選択すると、１回の印刷で得ら
れるセル障壁の高さには限度があるため、高精細パネル
に必要とされる、幅が狭く、高さが高いセル障壁を作製
しようとする場合は、重ね塗ｂを行なってセル障壁を形
成する必要がある。しかし重ね塗ｂを行うと製造コスト
が高くなる．重ね塗シを行うときａ１合せが必要で、し
かも色合せ誤差によシ寸法精度が悪化して、パネル製造
プロセスにかける歩留ｂが低下してしまう、重ね塗シを
行う間に、下地の陰極表面をいためる可能性がある、と
いった欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば放電ガス空間と、放電ガス空間をはさむ
ように平行におかれた２枚の絶縁基板を有し、第１絶縁
基板の放電ガス空間側の面上には、縞状の列電極、及び
この列電極と電気的に絶縁され、この列電極と直交する
方向に配置された縞状の行電極を有し、第２絶縁基板の
放電ガス空間側の面上には各画素に対応する位置に穴を
配置し、この穴の内面に蛍光体を塗布し、穴と穴の間の
壁が第１絶縁基板と接していることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルが得られる。

〔作用〕

本発明は上述の構成を用いることにより従来技術の問題
点を解決した。すなわち、従来は、背面ガラス上にセル
障壁を形戒していたが、本発明ではセル障壁として前面
ガラスの一部を用いることとした。すなわち、前面ガラ
スにエッチング等によシめくら穴を堀ｂ，この穴を放電
ガス空間とし、穴と穴の間の壁をセル障壁として用いる
。従って、従来のようにセル障壁を多重印刷で作製する
必要がなくなシ、パネル製造プロセスが簡単で、コスト
も低くかさえることができ、また製造歩留ｂが高まった
。

〔実施例〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例であう第１図人は平面図、第
ｌ図Ｂは第１図Ａのａ−ａ’にかける断面図である。１
は２−厚さのガラスよシなる第１絶縁基板、２ぱやはう
２箇厚さのソーダガラスよシなる第２絶縁基板、３は銀
の厚膜印刷によシ第１絶縁基板面に作製した厚さ約１０
ミクロン、幅１００ミクロンの列電極、４及びｌ４は列
電極３と同じく銀の厚膜印刷によシ作製した厚さ約１０
ミクロン、幅１００ミクロンの行電極、５は低融点ガラ
スの焼或によシ得られる厚さ約２０くクロンで、列電極
３と行電極３と行電極４を電気的に絶縁する第１絶縁層
、６は行電極４の上部を放電ガス空間９よｂ絶縁する、
厚さ約２０μｍの低融点ガラスを焼或して得られる第２
絶縁層６０表面を放電ガスから保護する、真空蒸着法に
よう得られる厚さｓ　ｏ　ｏ　ｏｆのＭｇＯ膜、８は第
２絶縁基板２にあけた、３００ミクロン角で深さ２００
ミクロンの角型のめくら穴ようなる放電ガス空間、９は
放電ガス空間８である第２絶縁基板２にあけた穴と穴と
の間の、厚さ１００ミクロン、高さ２００ミクロンの壁
、１０は蛍光体である。

第２絶縁基板２に穴をあけるには、周知のフォトリング
ラフィ法によシ、まず平らなガラス基板上に壁と同一パ
ターンのレジスト部を残し、ついで沸酸を用いてガラス
基板をエクチングする方法を用いた。本方法を用いるこ
とによｂ１第１絶縁基板１の上にあるＭｇＯ膜７を傷つ
けることなく、容易に放電セルを区切ｂ１第１絶縁基板
ｌと、第２絶縁基板２の間の放電ガス空間８を保持する
壁９を得ることができた。この場合、フォトリソグ２７
イ法によって穴位置を確定しているので、壁の位置の誤
差は、厚膜印刷法にくらべて１／５以下にでき、従って
大面積パネルを作製する場合特に有利である。

なシここでは通常のソーダガラスを７ｆトリソグラフィ
法によシエッチングする方法を述べたが、ソーダガラス
のかわｂに感光性ガラスを用いて、感光性ガラスのエク
チングによう、第２絶縁基板２の穴加工を行うこともで
きる。

筐た、第２絶縁基板２に穴をあけるためにサンドイラス
ト法を用いても、良好な結果が得られた。

この場合は、筐ず、沸酸によるエグチング法と同様に、
周知のフォトリングラフイ法によう、平らなガラス基板
上に壁と同一の７ォトレジストパターンを形或する。次
にサンドブラスト法によシ、ガラス基板にコラ／ダム、
カーボランダム、等の研磨材やＳｉ（ｈの粉を吹き付け
、穴となる部分を削シとシ、穴を形威した。この場合も
、フォトリングラフィ法によって穴位置を確定している
ので、大面積にわたシ精度よく、ガラス基板を加工して
、第２絶縁基板２を得ることができた。

次に本発明の第２の実施例を第２図に示す。第１図の場
合と同様、第２図Ａは平面図、第２図Ｂは断面図である
。第２図では、第１図と異なシ行電極４ぱ各画素に１本
とし、いわゆる維持放電は行電極４と列電極３の間で行
うようにしている。

この他は第１図の実施例と同じである。この実施例は、
行電極の数が第１の実施例の半分ですむため、高精細化
にかいて有利である。

本発明の第３の実施例を第３図（第３図Ａは平面図、第
３図Ｂは断面図）に示す。第３図では、第１図と異なシ
行電極が両側の画素（放電ガス空間）にまたがって形或
されて＞，６、１行の行電極が２行の画素に対して共通
の電極となっている。

この他は先の実施例と同じである。この場合も、行電極
の数は、第１の実施例の半分ですむため、高精細化に有
利である。１た本実施例の構造では、粋に壁９０幅が設
計値ようも大きくなると、行電極４が放電に寄与する面
積が、壁９がＭｇＯ膜７に接する部分で遮蔽され、放電
特性が変動する。特に壁９の幅が極端に設計値よう大き
くなると行電極４の全面が壁９をＭｇＯ！７に接する部
分でシシわれてし筐い、放電しなくなる恐れもある。壁
９をスクリーン印刷法で作製する場合は、このような恐
れが十分にあるが、本実施例によれば、壁９の位置及び
壁９のＭｇＯ膜７に接する部分の幅を設計値通ｂに作製
できるので、行電極４が放電に寄与する面積が一定とな
う，パネル全体にわたって、各画素の放電が一定にそろ
ったパネルが得られる。従って、各画素の発光輝度も一
定となるので、非常に表示品位の高いディスプレイパネ
ルを得ることができる。

第４の実施例の断面図を第４図に示す。なお平面図は第
３図Ａと同じであるので略している。

第４図にかいては、第２絶縁基板２にアルカリ成分を含
！ない硬質ガラスを用い、この硬質ガラス上に低融点ガ
ラスを壁９の高さに平らに焼或し、しかるのち、第１の
実施例で述べたフォトリソグラフィー法によシ低融点ガ
ラス部分をエッチングして、低融点ガラスようなる壁９
を形成した。この場合、硬質ガラスの沸酸によるエッチ
ング速度は、低融点ガラスの沸酸によるエッチング速度
にくらべて十分遅いため、エッチングは実質上低融点ガ
ラス部分のみで停止する。従って壁９の高さを容易に調
整することができ、製造上非常に有利である。このよう
なエクテング方法は第１及び第２の実施例においても用
いることができる。

なか、第１〜第４の実施例では、蛍光体１０は穴底部、
すなわち放電ガス空間底部に形戒され、千面ｉＣになっ
ていたが、必ずしもこれにこだわる必要はなく、第５図
に示すように壁の側面にも蛍光体が付着していてもよい
。このようにすると、放電ガス空間８で発生した紫外光
を効率よく可視光に変換できて、発光の輝度・効率が上
昇するのでディスプレイの表示品位が向上し、消費電力
が低減される効果がある。

なか、第１〜第４の実施例とも穴の形は角形としたが、
必ずしも角形とする必要はなく、かどのとれた角形等任
意の形状でもよい。

咬た第１や第２の実施例で述べた数値は例として示した
ものであシ、本発明の適用範囲を制限するものではない
。

１た電極構成については、第１絶縁基板１の側に行電極
と列電極が形成されるのであれば、いかなる形式の電極
構或でもよい。また電極、及び絶縁層とも厚膜印刷で製
造される必要はなく、薄膜プロセス等によシ作製しても
よいことはもちろんである。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明は従来の厚膜印刷にかわっ
て、ガラスのエッチングによｂ１放電セルを区切シ放電
ガス空間を保持する壁を形或するようにしたため、低価
格で高歩留シのカラープラズマディスプレイパネルを製
造Ｔきる。また、厚膜印刷にたいして、寸法精度がずっ
とよい。

７オトリソグラフィ法によシ壁を形成するため、大面積
パネルを、寸歩の狂いＺく、容昌に製造することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ，Ｂは本発明のプラズマディスプレイの第１の
実施例の平面図及び断面図、第２図Ａ，Ｂは本発明のプ
ラズマディスプレイの第２の実施例の平面図及び断面図
、第３図Ａ，Ｂは本発明のの第４の実施例の断面図、第
５図は本発明の第１〜第４の実施例で蛍光体の配置が異
なる場合の例を示す図、第６図は従来のプラズマディス
プレイ・パネルの斜視図である。 １・・・・・・第１絶縁基板、２・・・・・・第２絶縁
基板、３・・・・・・列電極、４，１４・・・・・・行
電極、５・・・・・・第１絶縁屑、６・・・・・・第２
絶縁層、７・・・・・・ＭｇＯ膜、８・・・・・・放電
ガス空間、９・・・・・・壁、１０．２９・・・・・・
蛍光体、２ｌ・・・・・・背面ガラス板、２　２−・・
・・・前面ガラス板、２３・・・・・・補助陽極、２４
・・・・・・表示陽極、２５・・・・・・下地電極、２
６・・・・・・陰極、２７・・・・一表示セル、２　８
　−−−−−−セル障壁。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 放電ガス空間と、放電ガス空間をはさむように平行にお
   かれた２枚の絶縁基板を有し、第１絶縁基板の放電ガス
   空間側の面上には、縞状の列電極、及びこの列電極と電
   気的に絶縁され、この列電極と直交する方向に配置され
   た縞状の行電極を有し、第２絶縁基板の放電ガス空間側
   の面上には各画素に対応する位置に穴を配置し、この穴
   の内面に蛍光体を塗布し、穴と穴の間の壁が第１絶縁基
   板と接していることを特徴とするプラズマディスプレイ
   パネル。