JPH03209737A - プローブ装置 - Google Patents
プローブ装置Info
- Publication number
- JPH03209737A JPH03209737A JP2004879A JP487990A JPH03209737A JP H03209737 A JPH03209737 A JP H03209737A JP 2004879 A JP2004879 A JP 2004879A JP 487990 A JP487990 A JP 487990A JP H03209737 A JPH03209737 A JP H03209737A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- electrode
- electrode pad
- contact
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07314—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
本発明は、プローブ装置に関する。
(従来の技術)
一般に、半導体デバイスは、精密写真転写技術等を用い
て半導体ウェハ上に多数形成され、この後、個々の半導
体デバイスに切断される。このような半導体デバイスの
製造工程においては、従来から切断前(半導体ウェハの
状態)の単導体デバイスの電気的な特性の検査が実施さ
れており、このような電気的な特性の検査にプローブ装
置が用いられている。
て半導体ウェハ上に多数形成され、この後、個々の半導
体デバイスに切断される。このような半導体デバイスの
製造工程においては、従来から切断前(半導体ウェハの
状態)の単導体デバイスの電気的な特性の検査が実施さ
れており、このような電気的な特性の検査にプローブ装
置が用いられている。
すなわち、プローブ装置は、例えばx−y−z−θ方向
に移動可能に構成された測定ステージ上に半導体ウェハ
を吸着保持し、所定位置に固定されたプローブカードの
探針に該半導体ウェハ上に形成された各半導体デバイス
の電極パッド群を接触させて電気的導通を得る。そして
、プローブカードの探針を介してテスタから半導体デバ
イスに所定の検査信号を供給し、半導体デバイスの電気
的な特性を検査する。
に移動可能に構成された測定ステージ上に半導体ウェハ
を吸着保持し、所定位置に固定されたプローブカードの
探針に該半導体ウェハ上に形成された各半導体デバイス
の電極パッド群を接触させて電気的導通を得る。そして
、プローブカードの探針を介してテスタから半導体デバ
イスに所定の検査信号を供給し、半導体デバイスの電気
的な特性を検査する。
上述したプローブ装置においては、微小な電極パッドと
探針とを確実に接触させるため、検査に先立って電極パ
ッドと探針との位置合せを行う必要がある。このため、
プローブ装置には、顕微鏡が設けられており、電極パッ
ドと探針との接触部位を真上から観察可能に構成されて
いる。そして、この顕微鏡により電極パッドと探針との
接触部位の観察および針跡の観察を行って、電極パッド
と探針との位置合せを行うことができるよう構成されて
いる。
探針とを確実に接触させるため、検査に先立って電極パ
ッドと探針との位置合せを行う必要がある。このため、
プローブ装置には、顕微鏡が設けられており、電極パッ
ドと探針との接触部位を真上から観察可能に構成されて
いる。そして、この顕微鏡により電極パッドと探針との
接触部位の観察および針跡の観察を行って、電極パッド
と探針との位置合せを行うことができるよう構成されて
いる。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、近年半導体デバイスは18M、64Mと
高集積化される傾向にあり、これに伴い半導体デバイス
の電極パッドも多数化、狭ピッチ化、小パッド化される
傾向にある。
高集積化される傾向にあり、これに伴い半導体デバイス
の電極パッドも多数化、狭ピッチ化、小パッド化される
傾向にある。
このため、電極パッドと探針との接触部位を真上から観
察するよう構成された従来のプローブ装置では、探針か
電極パッドのどの部位に接触しているか否か等、電極パ
ッドと探針との接触状態が判定しにくくなりつつある。
察するよう構成された従来のプローブ装置では、探針か
電極パッドのどの部位に接触しているか否か等、電極パ
ッドと探針との接触状態が判定しにくくなりつつある。
また、いわゆるバンプパッドでは、針跡も付きにくいた
め、電極パッドと探針との接触状態の判定がさらに困難
になっている。したがって、充分な電気的導通を得るこ
とができず、検査結果の信頼性が損われる虞があるとい
う問題があった。
め、電極パッドと探針との接触状態の判定がさらに困難
になっている。したがって、充分な電気的導通を得るこ
とができず、検査結果の信頼性が損われる虞があるとい
う問題があった。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、被検査体の電極と探針、との接触状態を従来に較べて
より確実に検知することができ、充分な電気的導通を得
ることにより信頼性の高い検査を実施することのできる
プローブ装置を提供しようとするものである。
、被検査体の電極と探針、との接触状態を従来に較べて
より確実に検知することができ、充分な電気的導通を得
ることにより信頼性の高い検査を実施することのできる
プローブ装置を提供しようとするものである。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
すなわち本発明は、被検査体の電極に探針を接触させ、
該被検査体と検査装置との電気的な導通を得るプローブ
装置において、前記探針先端と前記電極との接触部位の
斜視像を観察することにより位置合せする手段を設けた
ことを特徴とする。
該被検査体と検査装置との電気的な導通を得るプローブ
装置において、前記探針先端と前記電極との接触部位の
斜視像を観察することにより位置合せする手段を設けた
ことを特徴とする。
(作 用)
本発明のプローブ装置は、例えば反射鏡とレンズ等から
構成され、探針と電極との接触部・位からの光を所定方
向へ導出し、この接触部位の斜視像を観察可能とする手
段を備えている。
構成され、探針と電極との接触部・位からの光を所定方
向へ導出し、この接触部位の斜視像を観察可能とする手
段を備えている。
したがって、被検査体の電極と探針との接触部位の斜視
像を観察することにより、この接触部位の状態を従来に
較べてより確実に検知することができ、充分な電気的導
通を得ることにより信頼性の高い検査を実施することが
できる。
像を観察することにより、この接触部位の状態を従来に
較べてより確実に検知することができ、充分な電気的導
通を得ることにより信頼性の高い検査を実施することが
できる。
(実施例)
以下本発明のプローブ装置を図面を参照して一実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
第1図に示す如く、プローブ装置の筺体1内には、上面
に載置された被検査体例えば半導体デバイスが複数形成
された半導体ウェハ2を例えば真空チャック等により吸
着保持し、x−y−z−θ方向に移動可能に構成された
測定ステージ3が設けられている。また、上記測定ステ
ージ3の上部には、半導体ウェハ2に形成された半導体
デバイスの電極パッド4に対応して、多数の探針5が斜
めに植設されたプローブカード6が着脱自在に保持され
ている。
に載置された被検査体例えば半導体デバイスが複数形成
された半導体ウェハ2を例えば真空チャック等により吸
着保持し、x−y−z−θ方向に移動可能に構成された
測定ステージ3が設けられている。また、上記測定ステ
ージ3の上部には、半導体ウェハ2に形成された半導体
デバイスの電極パッド4に対応して、多数の探針5が斜
めに植設されたプローブカード6が着脱自在に保持され
ている。
そして、上記測定ステージ3を駆動して、半導体ウェハ
2に形成された半導体デバイスの電極パッド4と、プロ
ーブカード6の探針5とを接触させて電気的な導通を得
、この探針5を介して図示しないテスタにより、半導体
ウニ/X2に形成された半導体デバイスの電気的特性の
検査を実施するよう構成されている。
2に形成された半導体デバイスの電極パッド4と、プロ
ーブカード6の探針5とを接触させて電気的な導通を得
、この探針5を介して図示しないテスタにより、半導体
ウニ/X2に形成された半導体デバイスの電気的特性の
検査を実施するよう構成されている。
また、プローブ装置の筐体1の上面には、上記プローブ
カード6の着脱およびプローブカード6とテスタとの電
気的な接続等を実施するための開口部、例えば円形間ロ
アが設けられており、この円形間ロアの上部には、探針
5と半導体デバイスの電極パッド4との接触部を観察す
るだめのモニタ機構10が設けられている。このモニタ
機構10は、光学系11と、この光学系11を移動させ
るための駆動機構12とから構成されている。
カード6の着脱およびプローブカード6とテスタとの電
気的な接続等を実施するための開口部、例えば円形間ロ
アが設けられており、この円形間ロアの上部には、探針
5と半導体デバイスの電極パッド4との接触部を観察す
るだめのモニタ機構10が設けられている。このモニタ
機構10は、光学系11と、この光学系11を移動させ
るための駆動機構12とから構成されている。
上記光学系11は、第2図に示す如く、先端部に反射鏡
11aを備えている。この反射鏡11aは、垂直からの
傾き(図中符号Aで示す)が例えば25〜35度程度に
設定されており、反射鏡11aで反射された光は、外径
例えば9Il111程度に形成されたスコープ部11b
内を通ってカメラレンズ部11cへ導入され、撮像手段
例えばCCDカメラ11dによって撮像されるよう構成
されている。
11aを備えている。この反射鏡11aは、垂直からの
傾き(図中符号Aで示す)が例えば25〜35度程度に
設定されており、反射鏡11aで反射された光は、外径
例えば9Il111程度に形成されたスコープ部11b
内を通ってカメラレンズ部11cへ導入され、撮像手段
例えばCCDカメラ11dによって撮像されるよう構成
されている。
なお、CCDカメラllll上って撮像された画像は、
表示手段例えば第1図に示すCRT8等に表示される。
表示手段例えば第1図に示すCRT8等に表示される。
また、第1図に示す実施例では、CRT8に隣接して照
明機構用コントローラ9が設けられており、上記モニタ
機構10の近傍に設けられた、図示しない照明機構をこ
の照明機構用コントローラ9によってコントロールし、
モニタ機構10によって観察する部位を、照明可能に構
成されている。
明機構用コントローラ9が設けられており、上記モニタ
機構10の近傍に設けられた、図示しない照明機構をこ
の照明機構用コントローラ9によってコントロールし、
モニタ機構10によって観察する部位を、照明可能に構
成されている。
また、上記駆動機構12は、光学系11を保持し、この
光学系11をX−¥−Z−〇方向に移動可能に構成され
たマニュピレ−タ12aと、このマニュピレータ12a
が載置され、図示矢印の如くθ方向に回転自在に構成さ
れた円板12bとから構成されており、光学系11をx
−y−z方向に移動させるとともに、光学系11をθ方
向に回転させ、プローブカード6の各探針5の先端部(
通常四辺上に配列される)を観察できるように構成され
ている。
光学系11をX−¥−Z−〇方向に移動可能に構成され
たマニュピレ−タ12aと、このマニュピレータ12a
が載置され、図示矢印の如くθ方向に回転自在に構成さ
れた円板12bとから構成されており、光学系11をx
−y−z方向に移動させるとともに、光学系11をθ方
向に回転させ、プローブカード6の各探針5の先端部(
通常四辺上に配列される)を観察できるように構成され
ている。
上記構成のこの実施例のプローブ装置では、上述した如
く、測定ステージ3を駆動して、半導体ウェハ2に形成
された半導体デバイスの電極パッド4と、プローブカー
ド6の探針5とを接触させて電気的な導通を得、図示し
ないテスタにより半導体デバイスの電気的特性の検査を
実施するか、この検査に先立ってプローブカード6の探
針5と半導体デバイスの電極パッド4との位置合せを行
う。
く、測定ステージ3を駆動して、半導体ウェハ2に形成
された半導体デバイスの電極パッド4と、プローブカー
ド6の探針5とを接触させて電気的な導通を得、図示し
ないテスタにより半導体デバイスの電気的特性の検査を
実施するか、この検査に先立ってプローブカード6の探
針5と半導体デバイスの電極パッド4との位置合せを行
う。
この位置合せの際、第3図探針5と電極パッド4との接
触部を斜め上方から観察し、例えば第4図に示す如く、
斜視像としてこれらの接触部位を観察することができる
。したがって、例えば第5図に示す観察像の如く、探針
5と電極パッド4との接触部を真上から観察する従来の
プローブ装置の場合に較べて、探針5の先端が電極パッ
ド4のどの部位に接触しているか等を確実に判定するこ
とかできる。
触部を斜め上方から観察し、例えば第4図に示す如く、
斜視像としてこれらの接触部位を観察することができる
。したがって、例えば第5図に示す観察像の如く、探針
5と電極パッド4との接触部を真上から観察する従来の
プローブ装置の場合に較べて、探針5の先端が電極パッ
ド4のどの部位に接触しているか等を確実に判定するこ
とかできる。
このため、例えばバンプパッド等、小さい電極パットか
狭ピッチで多数配列されているような場合であっても、
接触部位の状態を従来に較べてより確実に検知すること
ができ、充分な電気的導通を得ることにより信頼性の高
い検査を実施することができる。
狭ピッチで多数配列されているような場合であっても、
接触部位の状態を従来に較べてより確実に検知すること
ができ、充分な電気的導通を得ることにより信頼性の高
い検査を実施することができる。
上記実施例では、光学系11をプローブカードの中心に
配置するように構成したが、パッドに探針が接触したこ
とを確認した後上記光学系11を移動、例えばスイング
してプローブカードの中心から外周または外部に配置す
るようにしてもよい。
配置するように構成したが、パッドに探針が接触したこ
とを確認した後上記光学系11を移動、例えばスイング
してプローブカードの中心から外周または外部に配置す
るようにしてもよい。
このことにより、プローブ装置の上部にテストヘッドを
配置しても上記光学系11等を取り外さなくてもよい。
配置しても上記光学系11等を取り外さなくてもよい。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明のプローブ装置によれば、
被検査体の電極と探針先端との接触部位の斜視像を観察
することにより、この接触部位の状態を従来に較べてよ
り確実に検知することができ、充分な電気的導通を得る
ことにより信頼性の高い検査を実施することができる。
被検査体の電極と探針先端との接触部位の斜視像を観察
することにより、この接触部位の状態を従来に較べてよ
り確実に検知することができ、充分な電気的導通を得る
ことにより信頼性の高い検査を実施することができる。
第1図は本発明の一実施例のプローブ装置の全体構成を
示す図、第2図は第1図のプローブ装置のモニタ機構の
光学系の構成を示す図、第3図は第1図のプローブ装置
の位置合せにおける探針と電極パッドおよび光学系の位
置関係を説明するための図、第4図は第1図のプローブ
装置の位置合せにおける観察像の例を示す図、第5図は
従来のプローブ装置の位置合せにおける観察像の例を示
す図である。 1・・・・・・筐体、2・・・・・・半導体ウェハ、3
・・・・・・測定ステージ、4・・・・・・電極パッド
、5・・・・・・探針、6・・・・プローブカード、7
・・・・・・円形開口、8・・・・・・CRT、9・・
・・・・照明機構用コントローラ、10・・・・・・モ
ニタ機構、11・・・・・・光学系、lla・・・・・
・反射鏡、12・・・・・・駆動機構、12a・・・・
・マニュピレータ、12b・・・・・・円板。
示す図、第2図は第1図のプローブ装置のモニタ機構の
光学系の構成を示す図、第3図は第1図のプローブ装置
の位置合せにおける探針と電極パッドおよび光学系の位
置関係を説明するための図、第4図は第1図のプローブ
装置の位置合せにおける観察像の例を示す図、第5図は
従来のプローブ装置の位置合せにおける観察像の例を示
す図である。 1・・・・・・筐体、2・・・・・・半導体ウェハ、3
・・・・・・測定ステージ、4・・・・・・電極パッド
、5・・・・・・探針、6・・・・プローブカード、7
・・・・・・円形開口、8・・・・・・CRT、9・・
・・・・照明機構用コントローラ、10・・・・・・モ
ニタ機構、11・・・・・・光学系、lla・・・・・
・反射鏡、12・・・・・・駆動機構、12a・・・・
・マニュピレータ、12b・・・・・・円板。
Claims (1)
- (1)被検査体の電極に探針を接触させ、該被検査体と
検査装置との電気的な導通を得るプローブ装置において
、 前記探針先端と前記電極との接触部位の斜視像を観察す
ることにより位置合せする手段を設けたことを特徴とす
るプローブ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004879A JPH03209737A (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | プローブ装置 |
| US07/636,094 US5091692A (en) | 1990-01-11 | 1990-12-31 | Probing test device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004879A JPH03209737A (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | プローブ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03209737A true JPH03209737A (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=11595962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004879A Pending JPH03209737A (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | プローブ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5091692A (ja) |
| JP (1) | JPH03209737A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115424952A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-12-02 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | Wat系统自动比对基准点的功能 |
| CN116609604A (zh) * | 2023-05-31 | 2023-08-18 | 武汉云岭光电股份有限公司 | 静电放电测试系统及方法 |
Families Citing this family (90)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04269607A (ja) * | 1991-02-25 | 1992-09-25 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 物体の寸法計測装置 |
| US6380751B2 (en) * | 1992-06-11 | 2002-04-30 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
| US5345170A (en) | 1992-06-11 | 1994-09-06 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems |
| JPH06151532A (ja) * | 1992-11-13 | 1994-05-31 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | プローブ装置 |
| US5394100A (en) * | 1993-05-06 | 1995-02-28 | Karl Suss America, Incorporated | Probe system with automatic control of contact pressure and probe alignment |
| US5481202A (en) * | 1993-06-17 | 1996-01-02 | Vlsi Technology, Inc. | Optical scan and alignment of devices under test |
| US20020053734A1 (en) * | 1993-11-16 | 2002-05-09 | Formfactor, Inc. | Probe card assembly and kit, and methods of making same |
| KR100248569B1 (ko) * | 1993-12-22 | 2000-03-15 | 히가시 데쓰로 | 프로우브장치 |
| US5543726A (en) * | 1994-01-03 | 1996-08-06 | International Business Machines Corporation | Open frame gantry probing system |
| DE69533910T2 (de) * | 1994-03-31 | 2005-12-15 | Tokyo Electron Ltd. | Messfühlersystem und Messverfahren |
| EP0704106B1 (en) | 1994-04-18 | 2003-01-29 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for automatically positioning electronic die within component packages |
| US5550480A (en) * | 1994-07-05 | 1996-08-27 | Motorola, Inc. | Method and means for controlling movement of a chuck in a test apparatus |
| US5742173A (en) * | 1995-03-18 | 1998-04-21 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for probe testing substrate |
| US5561377A (en) * | 1995-04-14 | 1996-10-01 | Cascade Microtech, Inc. | System for evaluating probing networks |
| US6232789B1 (en) * | 1997-05-28 | 2001-05-15 | Cascade Microtech, Inc. | Probe holder for low current measurements |
| US5867032A (en) * | 1995-11-30 | 1999-02-02 | Motorola, Inc. | Process for testing a semiconductor device |
| US5859924A (en) * | 1996-07-12 | 1999-01-12 | Robotic Vision Systems, Inc. | Method and system for measuring object features |
| US5914613A (en) | 1996-08-08 | 1999-06-22 | Cascade Microtech, Inc. | Membrane probing system with local contact scrub |
| US6075883A (en) * | 1996-11-12 | 2000-06-13 | Robotic Vision Systems, Inc. | Method and system for imaging an object or pattern |
| US5861759A (en) * | 1997-01-29 | 1999-01-19 | Tokyo Electron Limited | Automatic probe card planarization system |
| JP3172760B2 (ja) * | 1997-03-07 | 2001-06-04 | 東京エレクトロン株式会社 | バキュームコンタクタ |
| US6002263A (en) | 1997-06-06 | 1999-12-14 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having inner and outer shielding |
| JP3206509B2 (ja) * | 1997-08-22 | 2001-09-10 | 日本電気株式会社 | 表示パネル用プローブ装置 |
| US6049216A (en) * | 1997-10-27 | 2000-04-11 | Industrial Technology Research Institute | Contact type prober automatic alignment |
| US6256882B1 (en) * | 1998-07-14 | 2001-07-10 | Cascade Microtech, Inc. | Membrane probing system |
| US6298312B1 (en) * | 1998-07-22 | 2001-10-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method of determining the tip angle of a probe card needle |
| US6578264B1 (en) | 1999-06-04 | 2003-06-17 | Cascade Microtech, Inc. | Method for constructing a membrane probe using a depression |
| US6445202B1 (en) * | 1999-06-30 | 2002-09-03 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current |
| US6838890B2 (en) | 2000-02-25 | 2005-01-04 | Cascade Microtech, Inc. | Membrane probing system |
| US7173648B1 (en) * | 2000-04-21 | 2007-02-06 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and method for visually monitoring a semiconductor processing system |
| US6914423B2 (en) * | 2000-09-05 | 2005-07-05 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station |
| US6965226B2 (en) | 2000-09-05 | 2005-11-15 | Cascade Microtech, Inc. | Chuck for holding a device under test |
| DE10143173A1 (de) | 2000-12-04 | 2002-06-06 | Cascade Microtech Inc | Wafersonde |
| WO2003052435A1 (en) | 2001-08-21 | 2003-06-26 | Cascade Microtech, Inc. | Membrane probing system |
| WO2003020467A1 (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-13 | Cascade Microtech, Inc. | Optical testing device |
| US6777964B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-08-17 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station |
| US7352258B2 (en) * | 2002-03-28 | 2008-04-01 | Cascade Microtech, Inc. | Waveguide adapter for probe assembly having a detachable bias tee |
| DE10220343B4 (de) * | 2002-05-07 | 2007-04-05 | Atg Test Systems Gmbh & Co. Kg Reicholzheim | Vorrichtung und Verfahren zum Prüfen von Leiterplatten und Prüfsonde |
| JP2005527823A (ja) | 2002-05-23 | 2005-09-15 | カスケード マイクロテック インコーポレイテッド | デバイスのテスト用プローブ |
| US7026832B2 (en) * | 2002-10-28 | 2006-04-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Probe mark reading device and probe mark reading method |
| US6847219B1 (en) | 2002-11-08 | 2005-01-25 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station with low noise characteristics |
| US6724205B1 (en) | 2002-11-13 | 2004-04-20 | Cascade Microtech, Inc. | Probe for combined signals |
| US7250779B2 (en) * | 2002-11-25 | 2007-07-31 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station with low inductance path |
| US6861856B2 (en) * | 2002-12-13 | 2005-03-01 | Cascade Microtech, Inc. | Guarded tub enclosure |
| US7342402B2 (en) * | 2003-04-10 | 2008-03-11 | Formfactor, Inc. | Method of probing a device using captured image of probe structure in which probe tips comprise alignment features |
| US7221172B2 (en) * | 2003-05-06 | 2007-05-22 | Cascade Microtech, Inc. | Switched suspended conductor and connection |
| US7492172B2 (en) * | 2003-05-23 | 2009-02-17 | Cascade Microtech, Inc. | Chuck for holding a device under test |
| US7057404B2 (en) * | 2003-05-23 | 2006-06-06 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Shielded probe for testing a device under test |
| DE102004030881B4 (de) * | 2003-07-01 | 2015-05-13 | Cascade Microtech, Inc. | Verfahren und Prober zur Kontaktierung einer Kontakfläche mit einer Kontaktspitze |
| US7224173B2 (en) * | 2003-10-01 | 2007-05-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Electrical bias electrical test apparatus and method |
| US7250626B2 (en) * | 2003-10-22 | 2007-07-31 | Cascade Microtech, Inc. | Probe testing structure |
| DE202004021093U1 (de) | 2003-12-24 | 2006-09-28 | Cascade Microtech, Inc., Beaverton | Aktiver Halbleiterscheibenmessfühler |
| US7187188B2 (en) * | 2003-12-24 | 2007-03-06 | Cascade Microtech, Inc. | Chuck with integrated wafer support |
| US7307433B2 (en) * | 2004-04-21 | 2007-12-11 | Formfactor, Inc. | Intelligent probe card architecture |
| JP2008502167A (ja) * | 2004-06-07 | 2008-01-24 | カスケード マイクロテック インコーポレイテッド | 熱光学チャック |
| US7330041B2 (en) * | 2004-06-14 | 2008-02-12 | Cascade Microtech, Inc. | Localizing a temperature of a device for testing |
| US7368927B2 (en) | 2004-07-07 | 2008-05-06 | Cascade Microtech, Inc. | Probe head having a membrane suspended probe |
| US7245133B2 (en) * | 2004-07-13 | 2007-07-17 | Credence Systems Corporation | Integration of photon emission microscope and focused ion beam |
| KR20070058522A (ko) | 2004-09-13 | 2007-06-08 | 캐스케이드 마이크로테크 인코포레이티드 | 양측 프루빙 구조 |
| US7535247B2 (en) | 2005-01-31 | 2009-05-19 | Cascade Microtech, Inc. | Interface for testing semiconductors |
| US20060169897A1 (en) * | 2005-01-31 | 2006-08-03 | Cascade Microtech, Inc. | Microscope system for testing semiconductors |
| US7656172B2 (en) * | 2005-01-31 | 2010-02-02 | Cascade Microtech, Inc. | System for testing semiconductors |
| US7449899B2 (en) * | 2005-06-08 | 2008-11-11 | Cascade Microtech, Inc. | Probe for high frequency signals |
| JP5080459B2 (ja) * | 2005-06-13 | 2012-11-21 | カスケード マイクロテック インコーポレイテッド | 広帯域能動/受動差動信号プローブ |
| JP2007311515A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Aitos Kk | 撮像素子の検査装置、光学検査ユニット装置並びに光学検査ユニット |
| DE202007018733U1 (de) | 2006-06-09 | 2009-03-26 | Cascade Microtech, Inc., Beaverton | Messfühler für differentielle Signale mit integrierter Symmetrieschaltung |
| US7443186B2 (en) * | 2006-06-12 | 2008-10-28 | Cascade Microtech, Inc. | On-wafer test structures for differential signals |
| US7764072B2 (en) * | 2006-06-12 | 2010-07-27 | Cascade Microtech, Inc. | Differential signal probing system |
| US7723999B2 (en) * | 2006-06-12 | 2010-05-25 | Cascade Microtech, Inc. | Calibration structures for differential signal probing |
| US7403028B2 (en) | 2006-06-12 | 2008-07-22 | Cascade Microtech, Inc. | Test structure and probe for differential signals |
| JP2008205042A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| DE102007054879B4 (de) * | 2007-07-17 | 2018-08-02 | Cascade Microtech, Inc. | Verfahren und Anordnung zur Positionierung einer Probecard |
| US7876114B2 (en) | 2007-08-08 | 2011-01-25 | Cascade Microtech, Inc. | Differential waveguide probe |
| DE102007046443A1 (de) * | 2007-09-28 | 2009-04-09 | Siemens Ag | Verfahren zur Messnadelüberwachung im Prüfbetrieb |
| US7888957B2 (en) * | 2008-10-06 | 2011-02-15 | Cascade Microtech, Inc. | Probing apparatus with impedance optimized interface |
| WO2010059247A2 (en) | 2008-11-21 | 2010-05-27 | Cascade Microtech, Inc. | Replaceable coupon for a probing apparatus |
| US8319503B2 (en) * | 2008-11-24 | 2012-11-27 | Cascade Microtech, Inc. | Test apparatus for measuring a characteristic of a device under test |
| US9110131B2 (en) * | 2010-04-13 | 2015-08-18 | Cascade Microtech, Inc. | Method and device for contacting a row of contact areas with probe tips |
| US20140300729A1 (en) * | 2010-05-03 | 2014-10-09 | United Technologies Corporation | Probe for Inspection System |
| US9759772B2 (en) | 2011-10-28 | 2017-09-12 | Teradyne, Inc. | Programmable test instrument |
| US10776233B2 (en) | 2011-10-28 | 2020-09-15 | Teradyne, Inc. | Programmable test instrument |
| TW201411161A (zh) * | 2012-09-11 | 2014-03-16 | Etron Technology Inc | 改善襯墊測試覆蓋率的晶片及其相關的方法 |
| TWI586967B (zh) * | 2015-10-27 | 2017-06-11 | Mpi Corp | Probe module |
| TWI657988B (zh) * | 2017-03-24 | 2019-05-01 | 鴻勁精密股份有限公司 | Electronic component working machine |
| US11119148B2 (en) * | 2018-10-18 | 2021-09-14 | International Business Machines Corporation | Test probe assembly with fiber optic leads and photodetectors for testing semiconductor wafers |
| US11125780B2 (en) * | 2018-10-18 | 2021-09-21 | International Business Machines Corporation | Test probe assembly with fiber optic leads and photodetectors |
| CN112415239A (zh) * | 2019-08-20 | 2021-02-26 | 汉民测试系统股份有限公司 | 探针卡 |
| CN113075429A (zh) * | 2020-01-03 | 2021-07-06 | 迪科特测试科技(苏州)有限公司 | 探测卡、探测系统及探测方法 |
| WO2023276002A1 (ja) * | 2021-06-29 | 2023-01-05 | 株式会社日立ハイテク | プローブ装置 |
| US12203959B2 (en) | 2022-11-18 | 2025-01-21 | Formfactor, Inc. | Methods of establishing contact between a probe tip of a probe system and a device under test, probe systems that perform the methods, and storage media that directs probe systems to perform the methods |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59155734A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-04 | Nec Corp | 力変換器 |
| JPS62203341A (ja) * | 1986-03-03 | 1987-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プロ−バ−装置 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4845373A (en) * | 1984-02-22 | 1989-07-04 | Kla Instruments Corporation | Automatic alignment apparatus having low and high resolution optics for coarse and fine adjusting |
| JPS6115341A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-01-23 | Canon Inc | ウエハプロ−バ |
| US4856904A (en) * | 1985-01-21 | 1989-08-15 | Nikon Corporation | Wafer inspecting apparatus |
| US4741043B1 (en) * | 1985-11-04 | 1994-08-09 | Cell Analysis Systems Inc | Method of and apparatus for image analyses of biological specimens |
| US4809341A (en) * | 1986-07-18 | 1989-02-28 | Fujitsu Limited | Test method and apparatus for a reticle or mask pattern used in semiconductor device fabrication |
| US4943767A (en) * | 1986-08-21 | 1990-07-24 | Tokyo Electron Limited | Automatic wafer position aligning method for wafer prober |
| US4965515A (en) * | 1986-10-15 | 1990-10-23 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method of testing a semiconductor wafer |
| US4872052A (en) * | 1986-12-03 | 1989-10-03 | View Engineering, Inc. | Semiconductor device inspection system |
| GB8700754D0 (en) * | 1987-01-14 | 1987-02-18 | Int Computers Ltd | Test apparatus for printed circuit boards |
| US4864227A (en) * | 1987-02-27 | 1989-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer prober |
| JPS6465848A (en) * | 1987-09-04 | 1989-03-13 | Canon Kk | Alignment |
| KR960010067B1 (ko) * | 1987-08-07 | 1996-07-25 | 도오교오 에레구토론 가부시끼가이샤 | 회전 이동 장치 |
| US4929893A (en) * | 1987-10-06 | 1990-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer prober |
| US4896278A (en) * | 1988-07-11 | 1990-01-23 | Northrop Corporation | Automated defect recognition system |
| IE882350L (en) * | 1988-07-29 | 1990-01-29 | Westinghouse Electric Systems | Image processing system for inspecting articles |
-
1990
- 1990-01-11 JP JP2004879A patent/JPH03209737A/ja active Pending
- 1990-12-31 US US07/636,094 patent/US5091692A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59155734A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-04 | Nec Corp | 力変換器 |
| JPS62203341A (ja) * | 1986-03-03 | 1987-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プロ−バ−装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115424952A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-12-02 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | Wat系统自动比对基准点的功能 |
| CN116609604A (zh) * | 2023-05-31 | 2023-08-18 | 武汉云岭光电股份有限公司 | 静电放电测试系统及方法 |
| CN116609604B (zh) * | 2023-05-31 | 2024-05-10 | 武汉云岭光电股份有限公司 | 静电放电测试系统及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5091692A (en) | 1992-02-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03209737A (ja) | プローブ装置 | |
| US5416592A (en) | Probe apparatus for measuring electrical characteristics of objects | |
| JP2007183193A (ja) | プロービング装置 | |
| US7719297B2 (en) | Probe apparatus and method for measuring electrical characteristics of chips and storage medium therefor | |
| TWI718773B (zh) | 探測設備的操作方法 | |
| CN111386595A (zh) | 探针的针头位置调节方法和检查装置 | |
| JP2737744B2 (ja) | ウエハプロービング装置 | |
| JP5530261B2 (ja) | 被検査体の通電試験方法 | |
| JP3173676B2 (ja) | プローブ装置 | |
| JP2001515594A (ja) | 裏面放出型顕微鏡検査を用いた探測 | |
| JP2004063877A (ja) | ウェハの位置決め修正方法 | |
| JP2007183194A (ja) | プロービング装置 | |
| JP2007010671A (ja) | 被験体を電気的に検査する方法および装置ならびに検査時に使用される接触装置の製造方法 | |
| JPH08327658A (ja) | 基板検査装置 | |
| JP3202577B2 (ja) | プローブ方法 | |
| JPH0194631A (ja) | ウエハプローバ | |
| JPH1010197A (ja) | ファンクションテスタ | |
| JPH09326426A (ja) | ウェーハの検査装置および方法 | |
| TW200907356A (en) | Pogo probe unit and repair apparatus for flat panel display by the same | |
| US7518391B2 (en) | Probe card and a method for detecting defects using a probe card and an additional inspection | |
| KR101415276B1 (ko) | 웨이퍼 표면 검사가 가능한 웨이퍼 프로버 시스템 | |
| JPS58209134A (ja) | 1次試験用モニタ装置 | |
| JP2000049200A (ja) | プローバ | |
| JPH0758168A (ja) | プローブ装置 | |
| JPH05160210A (ja) | プローブ装置 |