JPH0321007B2 - - Google Patents

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JPH0321007B2
JPH0321007B2 JP57049230A JP4923082A JPH0321007B2 JP H0321007 B2 JPH0321007 B2 JP H0321007B2 JP 57049230 A JP57049230 A JP 57049230A JP 4923082 A JP4923082 A JP 4923082A JP H0321007 B2 JPH0321007 B2 JP H0321007B2
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palladium
reaction
group
compound
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JP57049230A
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Supensaa Aruin
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Ciba Geigy AG
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Publication date
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Publication of JPH0321007B2 publication Critical patent/JPH0321007B2/ja
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    • C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明はスチレン誘導体及び／又はスチルベ
ン誘導の新しい製造方法に関するものである。 ビニル又はアリル置換基を有する有機化合物、
特にスチレン類又はスチルベン類は適当なハロゲ
ン化物をオレフイン類、例えばメチルアクリレー
トやエチレンと、第三級アミンの存在下で触媒反
応させることにより製造できることが知られてい
る。触媒としては酢酸パラジウムとトリフエニル
ホスフイン又はトリ−ｏ−トリルホスフインとの
混合物を使用することが好ましい。この反応は、
まずハロゲン化物と触媒系との間で錯体を形成さ
せ、次にこの錯体をオレフインと第三級アミンの
存在下で反応させて行うこともできる。ハロゲノ
ベンゼンとエチレンとの反応は加圧下、好ましく
は約1.4〜14バールのエチレン圧の下で行われ、
反応条件及び／又は原料のハロゲノベンゼンによ
つてスチレン及び／又はスチルベンが生成する
〔例えば、米国特許第3922299号明細書及びJ.Org.
Chem.，43，2454，同43，2941（1978）参照。〕。 Bull.Chem.Soc.Japan，46，1505（1973）によ
れば、種々のオレフイン類、特にエチレン又はプ
ロピレンを、パラジウム黒又はPdCl2、及び酸受
容体としての過剰の酢酸カリウムの存在下で、ハ
ロゲノベンゼン類、特にヨードベンゼンによりア
リル化することができる。ヨードベンゼンを加圧
下でエチレンと反応させると、スチレンが60〜90
％の選択率で生成する。一方、ベンゾイルクロリ
ドをメチルアクリレートと化学量論量のニツケル
（Ｏ）触媒の存在下で反応させ、反応混合物を次
にメタノール中のヨウ素で処理するとトランス−
３−ベンゾイルアクリル酸メチルエステルを生成
することが知られている。副生成物として桂皮酸
メチルエステルがその反応で生成する。ベンゾイ
ルパラジウムジクロリドとトリフエニルホスフイ
ンとの錯体をメチルアクリレートと70〜85℃でト
リエチルアミンの存在下で反応させると、主生成
物として桂皮酸メチルエステル、副生成物として
ベンゾイルアクリル酸メチルエステルが得られ
る。パラジウムとトリフエニルホスフインを触媒
量で使用する場合には、反応平衡はベンゾイルア
クリル酸メチルエステルの形成に有利な方へ移動
する〔ベンゾイルアクリル酸メチルエステル：桂
皮酸メチルエステル（重量比）＝約8.3：１〕
（Transition Met.Chem.，2270（1977）、同4298
（1979）参照）。更にSynthesis，777（1977）によ
り、芳香族酸ハロゲン化物と１−アルキン類との
Pd触媒による反応で脱カルボニル化が起らずに
アルキニルケトンを生成することが知られてい
る。 次式ａ又はｂ Ｚ−CH＝CH−Z1 （ａ） CH2＝CH−Z2−CH＝CH2 （ｂ） 〔式中、Ｚは置換されていないか又は置換され
ているフエニル又はナフチル基を表わし、Z1は水
素又はＺと同じ意味を表わし、そしてZ2は置換さ
れていないか又は置換されているフエニレン、ナ
フチレン或いはｐ−ビフエニレン基、又は置換さ
れていないか或いは置換されているスチルベン基
を表わす。〕 で示される化合物が、0.1〜20バールの圧力下で
エチレンを次式又は Ｚ−COX XOC−Z2−COX （） （） 〔式中、ＺとZ2は式ａ及び式ｂの場合と同
じ意味を表わし、Ｘは塩素、臭素又はヨウ素を表
わす。〕 で示される化合物と塩基の存在下で、触媒として
反応条件下でリンを含有しないレイビルパラジウ
ム（Ｏ）化合物を形成するパラジウム金属又はパ
ラジウム化合物を添加して反応させることにより
製造できることが見出された。 式の化合物は本発明の方法により緩和な反応
条件で、入手しやすい原料を用いて容易かつ経済
的に製造することができる。この方法では、式
又はの酸ハロゲン化物が脱カルボニル化して、
驚くべき選択率で反応が進む。 Ｚ，Z1又はZ2基中の置換基は反応条件下で不活
性なものである。このＺ，Z1又はZ2基はモノ置換
又は多置換されていてもよい。 Ｚ，Z1及びZ2基の置換基としては以下のものが
挙げられる：ハロゲン原子、ホルミル、−CH
（OCH3）2，−CH（OC2H5）、
【式】，
【式】，
【式】又は−Ｃ（X1）＝Ｃ（X2）（X3） 基 〔基中、X1は水素、C1-4−アルキル、−CN又
は−COORを表わし、X2は水奏、C1-4−アルキ
ル、−（CH2）n−COOR又は（−CH2）−nCN（式中ｍ
は１〜４である。）を表わし、X3はフエニル、−
CN，−COOR又は−CON（Ｒ）2を表わし、そして
前記のＲは互に独立したものであつて、それぞれ
C1-12−アルキル又はフエニル基を表わす。そし
てX1とX2の一方は少なくとも水素でなければな
らないものとする。〕； C1-10−アルキル、C1-16−アルコキシ、フエノ
キシ、ジ−（C1-10−アルキル）アミノ、ニトロ、
シアノ基；−CH2Cl、トリフルオロメチル、ベン
ジル、C1-4−アルキルスルホニル、−CO−C1-10
−アルキル、−CO−フエニル、
【式】アルキル、−COO−C1-10−ア ルキル、−COO−フエニル、フエニル又はナフチ
ル基（これらはハロゲン原子、C1-10−アルキル、
C1-10−アルコキシ、ジ−（C1-10−アルキル）ア
ミノ、ニトロ、シアノ、トリフルオロメチル、−
CO−C1-10−アルキル、−CO−フエニル、−COO
−C1-10−アルキル又は−COO−フエニル基によ
つて置換されていてもよい。）。Ｚ，Z1又はZ2基の
フエニル及びナフチル置換基はモノ置換されてい
るか又は置換されていないことが好ましい。上記
の置換基中のアルキル及びアルコキシ基は直鎖状
でも分枝状でもよく、Ｚ，Z1又はZ2基のアルキル
及びアルコキシ基はＣ−原子数１〜８、特に１〜
４のものが好ましい。ハロゲン置換基の例はフツ
素、塩素又は臭素である。Ｚ，Z1及びZ2基につい
て先に定義した置換基の例として以下のものが挙
げられる：メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−，sec−及びtert−ブチル、ｎ−
ペンチル、２−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘ
プチル、ｎ−オクチル及びｎ−デシル基；メトキ
シ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、
ｎ−ヘキシロキシ及びｎ−デシロキシ基；Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、
Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−
ｎ−ブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ヘキシルア
ミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノ、Ｎ−メ
チル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−
プロピルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ヘキシル
アミノ及びＮ−エチル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ
基；メチルスルホニル及びエチルスルホニル基；
アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレロイル
及びオクタノイル基；カルボン酸メチル、−エチ
ル、−ｎ−プロピル、−イソプロピル、−ｎ−ブチ
ル、−ｎ−ペンチル、−ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチ
ル及び−ｎ−デシルエステル基；−CH＝CH−
フエニル、−CH＝Ｃ（COOCH3）CH2COOCH3、
−CH＝Ｃ（CH3）−COOC2H5，−Ｃ（COOCH3）＝
CHCOOCH3，−CH＝Ｃ（CN）CH2−CH2CN，−
CH＝CHCOOR及び−CH＝CHCN基（基中のＲ
は前記と同じ意味を表わす。）。 式及び中のＸは臭素、特に塩素が好まし
い。アルキル基Ｒは直鎖状でも分枝状でもよい。
Ｃ−原子数が１−４、特に１又は２の直鎖状アル
キル基が好ましい。 製造することのできる式ａの化合物は下記の
式 で示されるもの並びに次式 で示される新規化合物が好ましい。 式及びの化合物としては特に以下のものが
あげられる： (1) 式ａ 〔式中、Ｘは塩素又は臭素を表わし、R1は水
素、Cl，Br，Ｆ，Ｉ，ホルミル、−CH（OCH3）2，
−CH（OC2H5）2、
【式】、−CH＝CHCN，−CH＝CH −COO−C1-4−アルキル、C1-4−アルキル、
C1-4−アルコキシ、フエノキシ、ジ−（C1-2−ア
ルキル）−アミノ、−NO2，−CN，−CF3，C1-4−
アルキルスルホニル、ベンジル、−CO−C1-4−ア
ルキル、−CO−フエニル、−OCO−C1-4−アルキ
ル、−COO−C1-4−アルキル、−COO−フエニル、
フエニル、クロロフエニル、ブロモフエニル、メ
チルフエニル、メトキシフエニル、１−又は２−
ナフチル基を表わし、R2とR3は互に独立したも
のであつて、水素、Cl，Br，Ｆ，−NO2，C1-4−
アルキル又はC1-4−アルコキシ、特にメチル又は
メトキシ基を表わし、R4とR5は水素又はR1，R2
及びR3がそれぞれ塩素、臭素、フツ素又はメチ
ル基を表わすときには各々塩素、臭素、フツ素又
はメチル基をも表わす。〕 で示される化合物。 好ましい式ａの化合物は、Ｘが塩素を表わ
し、R1が水素、Cl，Nr，Ｆ，Ｉ，−CH＝
CHCN，−CH＝CHCOOCH3，−CH＝
CHCOOC2H5，C1-4−アルキル、特にメチル又
はエチル、メトキシ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、
−NO2，−CN，ホルミル、メチルスルホニル又
はフエニル基を表わし、R2が水素、Cl，Br，メ
チル、エチル、メトキシ又はニトロ基を表わし、
R3が水素、Cl，Br，メチル、エチル又はメトキ
シ基を表わし、そしてR4とR5がそれぞれ水素を
表わす化合物、特にＸが塩素を表わし、R1が−
CH＝CHCN又は−CH＝CH−COOC2H5を表わ
し、R2〜R5がそれぞれ水素を表わす化合物であ
る。 (2) 式ｂ 〔式中、−COCl基は１−位又は２−位に結合
し、R6とR7は同一の環又は異なる環に結合する
ことができ、R6は水素、Cl，Br，Ｆ，メチル、
エチル、メトキシ、エトキシ、−CHO，−
COCH3，−SO2CH3，−CN，−NO2又は−CH
（OCH3）2を表わし、R7は水素、Cl，Br，Ｆ，メ
チル、メトキシ又は−NO2を表わす。〕 で示される化合物。式ｂの化合物としては、
R6がメチル及び特に水素を表わし、R7が水素を
表わすものが好ましい。 (3) 式ａ 〔式中、R8は水素、−CO−フエニル、Cl，Br，
Ｆ，−CN，−CHO，−NO2又はメチル基を表わし、
R9は水素、Cl，Br，Ｆ又はメチル基を表わす。〕 で示される化合物。式ａの化合物としては、置
換されていないか、又はメチル若しくは−NO2
基によつて置換されているイソフタル酸ジクロリ
ド及びテレフタル酸ジクロリド、特に置換されて
いないイソフタル酸ジクロリド又はテレフタル酸
ジクロリドが好ましい。 (4) 式ｂ 〔式中、−COCl基は同一の環又は異なる環に結
合することができる。〕 で示される化合物。式ｂの化合物としては、
１，４−及び２，６−ナフタリンジカルボン酸ジ
クロリドが好ましい。 (5) 式ｃ及びｄ で示される化合物。 特に好ましい酸ハロゲン化物は式ｃ及びｄ
の化合物、並びにＸが塩素を表わし、R1が水素、
ホルミル、メチル、メトキシ、Cl，Br又はニト
ロ基を表わし、R2が水素、メチル、メトキシ、
Cl又はBrを表わし、R3が水素又はメトキシ基を
表わし、R4とR5が水素を表わす式ａの化合物
又はＸが塩素を表わし、R1が−CH＝CHCN，−
CH＝CHC−OOCH3又は−CH＝CHCOOC2H5を
表わし、R2〜R5が水素を表わす式ａの化合物
である。 本発明の方法では、式のハロゲン化物による
反応で条件によつてスチレン誘導体（Z1＝Ｈ）と
スチルベン類との混合物が生成する。反応は主と
して適用する圧力を変えることによつて制御され
る。スチルベン類は主として0.1〜１バールの圧
力、好ましくは１バール（常圧）で形成され、一
方高圧、すなわち５〜15バール、好ましくは10バ
ールでは主生成物のスチレン中に形成される。式
の酸ハロゲン化物から式ｂの化合物を得る反
応は加圧下、特に５〜15バール、好ましくは10バ
ールで行うのが好ましい。 触媒及び式との化合物は公知であるか、又
はそれ自体公知の方法によつて製造することがで
きる。式との化合物の調製に関しては、例え
ばOrganikum，387−388，VEB Deutscher
Verlag der Wissenschaften，Berlin 1964を参
照されたい。 パラジウム金属と共に使用することができる先
に定義したパラジウム化合物としては式 My〔PdLo〕x （） 〔式中、ｎは２〜４の整数を表わし、ｘは２
〜２ を表わし、ｙは−（ｘ）でありＭはｘが０
でない場合に対イオンを表わし、複数のＬは同一
でも異なつてもよく、例えばCl，Br，Ｉ，−CN，
−NO3，C1-12−アルキル−COO、
CH3COCHCOCH3，NH3，２，2′−ビピリジル、
ｏ−フエナントロリン、
【式】又は− NC−フエニルのようなリンを含有しない配位子
を表わす。〕 で示される化合物である。式の適当な化合物の
例はPdCl2，PdBr2，Pd（CN）2，Pd（NO3）2，Pd
（O2C−C1-12−アルキル）2、特にPd（OOCCH3）2，
【式】，〔Pd（NH3）4〕 Cl2，〔PdCl4〕Na2・Pd（OOCCH3）2（２，2′−ビ
ピリジル）、Pd（OOCCH3）2−（ｏ−フエナントロ
リン），
【式】及びPdCl2（NC− フエニル）2である。 上記した化合物のほかに、他の酸化段階のパラ
ジウム化合物、例えばビス−（ジベンジリデンア
セトン）パラジウム（Ｏ）及びビス−（イソニト
リル）パラジウム（Ｏ）化合物を使用することも
できる。このようなイソニトリル類の例としては
以下のものが挙げられる：ビス−（シクロヘキシ
ルイソニトリル）−パラジウム（Ｏ）、ビス−（イ
ソプロピルイソニトリル）−パラジウム（Ｏ）、ビ
ス−（tert−ブチルイソニトリル）−パラジウム
（Ｏ）、ビス−（ｐ−トリルイソニトリル）−パラジ
ウム（Ｏ）、ビス−（フエニルイソニトリル）−パ
ラジウムＯ及びビス−（ｐ−メトキシフエニルイ
ソニトリル）−パラジウム（Ｏ）。これらのうち
で、ビス−（ジベンジリデンアセトン）−パラジウ
ム（Ｏ）、ビス−（シクロヘキシルイソニトリル）
−パラジウム（Ｏ）及びビス−（イソプロピルイ
ソニトリル）−パラジウム（Ｏ）が好ましい。 触媒としてはPdCl2，PdBr2，Pd（OOCCH3）2，
【式】Pd（OOCH3）2 （２，2′−ビピリジル）、PdCl2（NC−フエニル）2、
ビス−（ジベンジリデンアセトン）パラジウム
（Ｏ）及びビス−（シクロヘキシルイソニトリル）
−パラジウム（Ｏ）を使用するのが好ましい。特
に好ましいのはPdCl2、酢酸パラジウム及びビス
−（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（Ｏ）
である。触媒は通常式又はの化合物に対して
0.0001〜20mol％、好ましくは0.001〜3mol％の
量で使用される。 本発明の方法で使用される塩基は、反応媒体に
十分溶解する無機又は有機化合物である。適当な
塩基の例は、式〜 （Z′）ｎ （ OOCQ′）o （）
【式】又は
【式】で 示される化合物及び環状第三級アミン類、例えば
Ｎ−メチル−又はＮ−エチルピペリジン、１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−
オキソ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペ
リジン、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕
オクタン（DABCO）、Ｎ−アルキルモルホリン
及びＮ−アルキルピロリジン（Ｎ−メチル−及び
Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−メチル−及びＮ−エ
チルピロリジン）、又はＮ，N′−ジアルキルピペ
ラジン（Ｎ，N′−ジメチルピペラジン等）であ
る。 上記の式において、ｎは１又は２の数であり、
Q′はフエニル又はC1-17−アルキル基を表わし、
Z′はアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カ
チオン又は を表わし、ＱはＣ−原子数２−６の直鎖状若しく
は分枝状アルキレン基を表わし、Q1は水素、
C1-12−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、ベンジル又はフエニル基を表わし、Q2，
Q3及びQ4はそれぞれ等しいか又は異なるもので
あつて、C1-12−アルキル基を表わし、Q5はC1-12
−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
フエニル又はベンジル基（この基は例えば塩素又
は臭素のようなハロゲン原子、Ｃ−原子数が１−
４、特に１若しくは２のアルキル−又はアルコキ
シ基によつて置換されていてもよい。）を表わし、
Q6とQ7は同一でも異なつていてもよく、C1-12−
アルキル基を表わし、そしてQ8はメチル又はエ
チル基を表わす。 アルカリ金属カチオンを表わすZ′は特にナトリ
ウムカチオン、とりわけリチウムカチオンであ
る。Q′及びQ1〜Q7のアルキル基は直鎖状でも分
枝状でもよい。Q5〜Q7がアルキル基を表わす場
合には、これらの基はＣ−原子を総数で少なくと
も９有し、一方Q1〜Q4のアルキル基はＣ−原子
数をそれぞれ１〜４有することが好ましい。式
〜の化合物の例は；リチウムアセテート、−ブ
チレート及び−ステアレート、バリウムアセテー
ト及びカルシウムアセテート、カリウム−、カル
シウム−及びナトリウムステアレート、リチウム
−及びナトリウムベンゾエート、並びに相当する
トリメチル−、テトラメチル−、テトラエチル−
及びテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム塩；トリエ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−
（２−エチルヘキシルアミン）、トリ−ｎ−オクチ
ルアミン及びトリ−ｎ−ドデシルアミン；Ｎ−ベ
ンジルジアルキルアミン（Ｎ−ベンジルジメチル
アミン、Ｎ−ベンジルエチルアミン、Ｎ−（４−
クロロベンジル）−ジメチルアミン及びＮ−（３−
メチル−又は３−メトキシベンジル）−ジメチル
アミン等）；Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラメチル−及
びＮ，Ｎ，N′，N′−テトラエチル−エチレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラメチル−１，
３−ジアミノプロパン及びＮ，Ｎ，N′，N′−テ
トラメチル−１，６−ジアミノヘキサンである。 塩基としては上記した種類の第三級アミン、特
にＮ−エチルモルホリン又はQ5が４−クロロベ
ンジル、４−メチルベンジル又は４−メトキシベ
ンジル、特にベンジル基を表わし、Q6とQ7がそ
れぞれＣ−原子数１〜４、特に１又は２のアルキ
ル基を表わす式の化合物、又はQ5，Q6及びQ7
がそれぞれＣ−原子数３〜12のアルキル基を表わ
す式の化合物を使用するのが好ましい。特に好
ましいのはＮ−ベンジルメチルアミン、Ｎ−エチ
ルモルホリン及びトリ−ｎ−ブチルアミンであ
る。 本発明による反応の温度は０〜200℃、好まし
くは80〜150℃である。式又はの化合物が液
体の場合には、溶媒を添加せずに反応を行うこと
ができる。しかし、反応成分に対して不活性な有
機溶媒中で反応を行うのが好ましい。適当な不活
性有機溶媒はそれぞれ反応成分によるが、例えば
塩素化されていてもよい脂肪族、脂環式又は芳香
族炭化水素（ｎ−ペンタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−
オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン類、クロルベンゼン
等）；芳香族、脂肪族及び環状エーテル（アニソ
ール、ジエチルエーテル、ジ−イソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等）；
ニトリル類特にベンゾニトリル及びＣ−原子数２
〜５のアルキルニトリル（プロピオニルトリル及
びブチロニトリル等）；３−メトキシプロピオニ
トリル及び３−エトキシプロピオニトリル；ジア
ルキルスルホキシド（ジメチル−及びジエチルス
ルホキシド等）；Ｃ−原子数１〜３の脂肪族モノ
カルボン酸のＮ，Ｎ−ジアルキルアミド（Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルア
セトアミド等；Ｃ−原子数８までのアルコール
（エタノール、ｎ−プロパノール及びtert−ブタ
ノール等）；脂肪族及び脂環式ケトン（アセトン、
ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シ
クロペンタノン及びシクロヘキサノン；炭酸のエ
ステルのようなエステル（炭酸ジエチル等）；ニ
トロメタン；Ｃ−原子総数２〜８の脂肪族モノカ
ルボン酸のアルキル−及びアルコキシアルキルエ
ステル（酢酸メチル−，−エチル−，−ｎ−ブチル
−及び−イソブチルエステル、酪酸エチル−及び
−ｎ−ブチルエステル並びに１−アセトキシ−２
−エトキシエタン及び１−アセトキシ−２−メト
キシエタン等）である。好ましい溶媒はケトン
類、エステル類、芳香族及び環状エーテル類及び
前記した種類の芳香族炭化水素類である。無機塩
基の存在下での反応には、特にケトン類やエステ
ル類のような極性溶媒が適している。特に好まし
いのは芳香族エーテル類又は炭化水素類、とりわ
けアニソール、キシレン類又はトルエンの存在下
で行う反応である。 本発明により製造される化合物及びその応用は
多くの場合に知られている。例えば、それらは直
接、螢光白色剤の中間体として、又はシンチレー
ターとして使用することができる。このような螢
光白色剤又はシンチレーターは、例えば米国特許
第4108887号明細書及び英国特許第2015021号明細
書に記載されている。本発明によつて調製された
化合物は、更にそれ自体公知の方法で、所望によ
りアミノ基のような官能基を導入して、そして／
又は芳香族基Ｚ，Z1及びZ2をスルホン化すること
によつて染料又は螢光白色剤に変換することもで
きる〔例えば、Encyclopedia of Chemical
Technology、第２版、第19巻、１〜16頁を参照
されたい。〕。スチルベン類及びスチルベン誘導体
も接着剤、殺昆虫剤又は光安定剤として用いられ
る；例えばChemical Abstracts 78，39352；同
84，137386及び同85，22416を参照されたい。ス
チレン類及びスチレン誘導体はホモポリマー及び
コポリマーの製造に適している。 以下の例においては、特に記載がない限り反応
は常圧（約１バール）で行つている。 例 １： 塩化ベンゾイル5.76ml（50mmol）、Ｎ−ベンジ
ルジメチルアミン7.53ml（50mmol）及び酢酸パ
ラジウム0.1122ｇ（0.5mmol）をトルエン100ml
に加える。エチレンを反応混合物に導入する。混
合物を次に100℃で８時間かきまぜる。ガスクロ
分析によれば、反応混合物はトランススチルベン
37％とスチレン18％を含む。 例２−４： 溶媒を代えて例１を繰返す。
【表】 ず
例５−13： 下記に示すように種々のパラメータを変えて例
１を繰返す。
【表】 を加える。
【表】 拌。 れず
例 14： ４−クロロベンゾイルクロリド34.1ｇ
（0.2mol）、Ｎ−ベンジルジメチルアミン27.04ｇ
（0.2mol）及び酢酸パラジウム0.448ｇ（2mmol）
をｐ−キシレン400mlに加える。エチレンを反応
混合物に導入し、120℃で６時間撹拌する。次に
混合物を過し、液を蒸発させる。残留物をフ
イルター上でメタノール200mlにより洗浄し、生
成したアミン塩を除去する。次いで残留物をシク
ロヘキサン400mlから再結晶する。トランス−４，
4′−ジクロロスチルベン13.7ｇ（理論量の56％）
を白色結晶として得る。融点176.2℃。 例 15： ｐ−トルイルクロリド30.92（0.2mol）を用いて
例14を繰返す。混合物を120℃で８時間撹拌する。
例14と同様に処理し、再結晶してトランス−４，
4′−ジメチルスチルベン9.3ｇ（理論量の45％）
を白色の光沢ある結晶として得る。融点184.5℃。 例 16： ３，４，５−トリメトキシベンゾイルクロリド
46.13ｇ（0.2mol）を用いて例14を繰返す。混合
物を120℃で4.5時間撹拌する。例14と同様に処理
し、再結晶を２回（シクロヘキサン200mlとトル
エン500mlとから１回及びアセトン900mlから１
回）行つて、トランス３，3′，４，4′，５，5′−
ヘキサメトキシスチルベン10.7ｇ（理論量の30
％）を黄色結晶として得る。融点220.4℃。 例 17： ３，４−ジメチルベンゾイルクロリド33.7ｇ
（0.2mol）を用いて例14を繰返す。混合物を120
℃で6.5時間撹拌する。例14に記載したように処
理し、ｎ−ヘキサン250mlから再結晶してトラン
ス−３，3′，４，4′−テトラスチルベン10.2ｇ
（理論量の43％）を淡黄色結晶として得る。融点
137.6℃。 例 18： ３−メトキシベンゾイルクロリド34.1ｇ
（0.2mol）を用いて例14を繰返す。混合物を120
℃で７時間撹拌する。例14に記載したように処理
し、ｎ−ヘキサン200mlから再結晶して、トラン
ス−３，3′−ジメトキシスチルベン10.0ｇ（理論
量の42％）を淡黄色結晶状態で得る。融点98.4
℃。 例 19： ３，４−ジクロロベンゾイルクロリド41.89ｇ
（0.2mol）を用いて例14を繰返す。混合物を120
℃で６時間15分撹拌する。例14に記載したように
処理し、シクロヘキサン300mlと四塩化炭素250ml
の混合物から再結晶して、トランス−３，3′，
４，4′−テトラクロロスチルベン10.1ｇ（理論量
の32％）を淡褐色結晶状態で得る。融点187.7℃。 例 20： ４−ニトロベンゾイルクロリド37.11ｇ
（0.2mol）とＮ−エチルモルホリン23.04ｇ
（0.2mol）を用いて例14を繰返す。混合物を120
℃で６時間撹拌する。例14に従つて処理し、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド50mlから２度再結晶し
て、トランス−４，4′−ジニトロスチルベン8.65
ｇ（理論量の32％）を黄色針状晶の状態で得る。
融点＞300℃。 例 21： ４−クロロベンゾイルクロリドの代わりに、２
−メチル−３−ニトロベンゾイルクロリド39.9ｇ
を用いて例20を繰返す。混合物を５℃に冷却し、
粗生成物を別して2NHCl200mlで洗浄する。次
にまずＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド200mlから、
次いでＮ，Ｎ−ジメチルアミド100mlから再結晶
する。トランス−２，２−ジメチル−３，3′−ジ
ニトロスチルベン13.1ｇ（理論量の44％）を黄色
結晶として得る。融点246.0℃。 例 22： ４−ホルミルベンゾイルクロリド8.43ｇ
（50mmol）、トリ−ｎ−ブチルアミン11.91ml
（50mmol）及び酢酸パラジウム0.1122ｇ
（0.5mmol）をｐ−キシレン100mlに加える。エチ
レンを混合物に導入し、120℃で３時間撹拌する。
次に混合物を2NHCl100mlと振盪して抽出し、硫
酸マグネシウム５ｇにより乾燥する。濃縮後褐色
の残留物をシリカゲルによつてクロマトグラフイ
ーにかける（流出剤：二塩化メチレン）。二種類
の生成物が得られる。第一の生成物は二塩化メチ
レンを留去した後、球管で55℃／0.002バールに
て留出する。４−ホルミルスチレン0.32ｇ（理論
量の５％）を得る。第二の反応生成物は二塩化メ
チレンを留去した後ベンゼン／シクロヘキサンか
ら再結晶する。４，4′−ジホルミルスチルベン
0.57ｇ（理論量の10％）を黄色葉状晶として得
る。融点168.9℃。 例14−21の方法では相当するスチレン類が少量
常に生成するが、単離されなかつた。 例 23： 塩化ベンゾイル1.44ml（12.5mmol）、Ｎ−ベン
ジルジメチルアミン1.88ml（12.5mmol）及び酢
酸パラジウム0.0281ｇ（0.125mmol）を、ガラス
製の加圧装置中でトルエン25mlに加える。空気を
除去するために装置をエチレンによりフラツシユ
する。次にエチレンで10バールに加圧し、混合物
を120℃で４時間撹拌する。スチレン55％とトラ
ンス−スチルベン９％が生成する。 例24−38： 下記に示すようにパラメーターを変えて、例23
に記載したのと同様の操作を行つて、スチレンと
トランス−スチルベンを下記の割合で得る。
【表】
【表】 例 39： ｐ−トルイルクロリド7.73ｇ（50mmol）、Ｎ−
ベンジルジメチルアミン6.76ｇ（50mmol）及び
酢酸パラジウム0.112ｇ（0.5mmol）をトルエン
100mlに加える。エチレン圧10バールで混合物を
140℃にて４時間撹拌する。反応混合物を過し、
液を2NHCl100ml、2NNaOH100ml、次に濃ア
ンモニア水30ml及び水50mlと振盪して抽出する。
硫酸マグネシウムで乾燥後、混合物を濃縮し、シ
リカゲルによりクロマトグラフイーにかける。溶
媒を留去後、４−メチルスチレン2.1ｇ（理論量
の36％）を無色の液体として得る。このものは二
重結合に対する臭素の付加によつて 定される。 臭素誘導体は白色結晶状態で得られる。融点
44.7℃。 例 40： ｐ−トルイルクロリドの代わりに４−クロロベ
ンゾイルクロリド8.75ｇ（50mmol）を用いて例
39を繰返す。例39に記載したように処理して、４
−クロロスチレン3.8ｇ（理論量の55％）を無色
の液状で得る。相当する臭素誘導体は白色結晶と
して沈澱する。融点46.0℃。 例 41： ３−メトキシベンゾイルクロリド8.53ｇ
（50mmol）を用いて例39を繰返す。例39に従い
処理後、３−メトキシスチレン3.2ｇ（理論量の
48％）を無色の液体として得る。相当する臭素誘
導体は白色結晶状態で沈澱する。融点63.3℃。 例 42： ３，４，５−トリメトキシベンゾイルクロリド
11.53ｇ（50mmol）を用いて例39を繰返す。例39
に従つて処理した後、３，４，５−トリメトキシ
スチレン4.1ｇ（理論量の36％）を黄色液体とし
て得る。この３，４，５−トリメトキシスチレン
は相当する臭素誘導体に変換される（淡黄色針状
晶、融点104.1℃）。 例 43： ３，４−ジクロロベンゾイルクロリド10.47ｇ
（50mmol）を用いて例39を繰返す。例39と同様
に処理して、３，４−ジクロロスチレン1.6ｇ
（理論量の18％）を黄色液体の状態で得る。相当
する臭素誘導体へ変換して白色結晶を得る。融点
49.3℃。 例 44： 例39に記載したのと同様の操作によつて、３，
４−ジメチルベンゾイルクロリド8.41ｇ
（50mmol）を用いて、３，４−ジメチルスチレ
ン3.5ｇ（理論量の53％）を無色の液体として得
る。臭素誘導体に変換して、淡黄色結晶を得る。
融点40℃以下。 例 45： 例39の記載と同様の操作を行い、２−メチル−
３−ニトロベンゾイルクロリド9.98ｇ（50mmol）
とＮ−エチルモルホリン5.76ｇ（50mmol）を用
いて、２−メチル−３−ニトロスチレン4.15ｇ
（理論量の51％）を淡褐色の液体として得る。臭
素誘導体に変換して白色結晶を得る。融点56.7
℃。 例 46： ４−ニトロベンゾイルクロリド9.29ｇ
（50mmol）を用いて例45を繰返す。後処理して、
４−ニトロスチレン2.2ｇ（理論量の30％）を黄
色の液体状態で得る。臭素誘導体に変換して白色
結晶を得る。融点74.8℃。 例 47： ４−ホルミルベンゾイルクロリド8.44ｇ
（50mmol）を用いて例45を繰返す。後処理して
４−ホルミルスチレン0.7ｇ（理論量の11％）を
深黄色の液状で得る。臭素誘導体に変換して白色
結晶を得る。融点65.9℃。 例 48： ４−クロロホルミル桂皮酸ニトリル2.39ｇ
（12.5mmol）、Ｎ−ベンジルジメチルアミン1.69
ｇ（12.5mmol）及び酢酸パラジウム0.0280ｇ
（0.125mmol）をアルゴン雰囲気下でトルエン25
mlに加える。エチレン圧10バールで反応混合物を
140℃にて４時間撹拌する。次に混合物を室温で
2NHCl100ml及び2NNaOH100mlと振盪して抽出
し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥する。溶液を
次に濃縮し、残留物を流出剤に二塩化メチレンを
用いてシリカゲルによつてクロマトグラフインに
かける。得られた黄色油状物は沸騰ｎ−ペンタン
に溶解する。−20℃で４−ビニル桂皮酸ニトリル
0.8ｇ（理論量の44％）が白色結晶として得られ
る。融点45.8℃。 例 49： ビフエニル−４，4′−ジカルボン酸ジクロリド
1.743ｇ（6.25mmol）、Ｎ−ベンジルジメチルア
ミン1.88ml（12.5mmol）及び酢酸パラジウム
0.0280ｇ（0.125mmol）をアルゴン雰囲気下でト
ルエン25mlに加える。エチレン圧10バールで115
℃にて混合物を1.5時間撹拌する。混合物を次に
室温で過し、液を2NHCl40ml及び
2NHaOH40mlと振盪して抽出する。次いで混合
物を硫酸マグネシウムにより乾燥し、濃縮して残
留物をｎ−ヘキサンから１回再結晶する。４，
4′−ジビニルジフエニル0.17ｇ（理論量の12％）
を白色結晶として得る。融点＞300℃（分解）。 例 50： ４−クロロホルミル桂皮酸ニトリル3.83ｇ
（20mmol）、Ｎ−ベンジルジメチルアミン2.70ｇ
（20mmol）及び酢酸パラジウム0.0448ｇ
（0.2mmol）をアルゴン雰囲気下でｐ−キシレン
40mlに加える。エチレンを混合物に導入し、130
℃で23時間撹拌する。次に反応混合物を130℃に
てｐ−キシレン40mlで希釈し、過する。液に
ｎ−ヘキサン10mlを加える。室温まで冷却して
４，4′−ビス−（２−シアノビニル）−スチルベン
0.39ｇ（理論量の15％）を得る。融点220℃。 応用例 例 ： ４−ビニル桂皮酸ニトリル0.68ｇ
（4.44mmol）、４−クロロホルミル桂皮酸ニトリ
ル0.85ｇ（4.44mmol）及びＮ−ベンジルジメチ
ルアミン0.60ｇ（4.44mmol）をアルゴン雰囲気
下で、酢酸パラジウム9.85mg（0.044mmol）をｐ
−キシレン19.7mlに溶かした溶液に加える。混合
物を130℃で４時間撹拌し、室温に冷却して過
する。沈澱をメタノールで洗浄する。次に熱Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド20mlに溶かし、水10ml
を加え、混合物を０℃に冷却する。標題の螢光白
色剤を0.62ｇ（理論量の50％）得る。 例 ： ４−ビニル桂皮酸ニトリル0.84ｇ
（5.49mmol）、桂皮酸エチルエステル−４−カル
ボン酸クロリド1.309ｇ（5.48mmol）及びＮ−ベ
ンジルジメチルアミン0.742ｇ（5.49mmol）をア
ルゴン雰囲気下で、ｐ−キシレン24.5ml中の酢酸
パラジウム12.25mg（0.0549mmol）に加える。次
に混合物をトルエン100mlで希釈し、2NHCl100
ml及び2NNaOH100mlと振盪して抽出する。硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶液を濃縮し、粗生成物
をまず四塩化炭素100mlから、次いでエタノール
50mlから再結晶する。標題の螢光白色剤0.47ｇ
（理論量の26％）を淡黄色結晶として得る。融点
155.1℃。 例 ： 酢酸パラジウム0.0449ｇ（0.2mmol）、トリフ
エニルホスフイン0.1048ｇ（0.4mmol）、２−（４
−ブロモフエニル）−ピリミジン〔４−ブロモベ
ンズアミジンとマロンジアルデヒドとの塩基性媒
体中での反応によつて調製〕、４−ビニル桂皮酸
ニトリル3.1ｇ（20mmol）及びトリ−ｎ−ブチル
アミン4.47ｇ（20mmol）をアルゴン雰囲気下で
ｐ−キシレン20mlに加え、混合物を130℃で６時
間撹拌する。得られた粗生成物を室温で別し、
トルエン／四塩化炭素から２度再結晶する。標題
の螢光白色剤1.9ｇ（理論量の31％）を黄色結晶
として得る。融点290〜291℃。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 0.1〜20バールの圧力下で、エチレンを次式
    又は Ｚ−COX （） XOC−Z2COX （） 〔式中、Ｚは置換されていないか又は置換され
    ているフエニル又はナフチル基を表わし、Z2は置
    換されていないか又は置換されているフエニレ
    ン、ナフチレン又はｐ−ビフエニレン又は置換さ
    れていないか若しくは置換されているスチルベン
    基を表わし、Ｘは塩素、臭素又はヨウ素を表わ
    す。〕 で示される化合物と、塩基の存在下で触媒として
    パラジウム金属又は反応条件下でリンを含有しな
    いレイビルパラジウム（Ｏ）化合物を形成するパ
    ラジウム化合物を添加して反応させることを特徴
    とする次式ａ又はｂ Ｚ−CH＝CH−Z1 （ａ） CH2＝CH−Z2−CH＝CH2 （ｂ） 〔式中、Ｚ及びZ2は式乃至の場合と同じ意
    味を表わし、Z1は水素又はＺの場合と同じ意味を
    表わす。〕 で示される化合物の製造方法。 ２ Ｘが塩素を表わす式又はの化合物を使用
    することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
    載の方法。 ３ 酸ハロゲン化物として、ビフエニル−４，
    4′−ジカルボン酸ジクロリド、スチルベン−４，
    4′−ジカルボン酸ジクロリド又は式ａ 〔式中、Ｘは塩素を表わし、R1は水素、ホル
    ミル、メチル、メトキシ、Cl，Br又はニトロ基
    を表わし、R2は水素、メチル、メトキシ、Cl又
    はBrを表わし、R3は水素又はメトキシ基を表わ
    し、そしてR4とR5は水素を表わすか、又は式中、
    Ｘは塩素を表わし、R1は−CH＝CHCN、−CH＝
    CHCOOCH3又は−CH＝CHCOOC2H5を表わし、
    そしてR2〜R5は水素を表わす。〕 で示される化合物を使用することを特徴とする特
    許請求の範囲第１項に記載の方法。 ４ 触媒としてPdCl2，PdBr2，Pd（OOCCH3）2、
    【式】Pd（OOCCH3）2 （２，2′−ビピリジル）、PdCl2（NC−フエニル）2、
    ビス−（ジベンジリデンアセトン）パラジウム
    （Ｏ）又はビス−（シクロヘキシルイソニトリル）
    −パラジウム（Ｏ）を使用することを特徴とする
    特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ５ 触媒としてPdCl2、酢酸パラジウム又はビス
    −（ベンジリデンアセトン）−パラジウム（Ｏ）を
    使用することを特徴とする特許請求の範囲第１項
    に記載の方法。 ６ 式の酸ハロゲン化物との反応を0.1〜１バ
    ールの圧力下で行うことを特徴とする特許請求の
    範囲第１項に記載の方法。 ７ 反応を１バールの圧力下で行うことを特徴と
    する、Z1が置換されていないフエニル又はナフチ
    ル基を表わす式ａの化合物を製造する特許請求
    の範囲第６項に記載の方法。 ８ 式 で示される化合物を製造する特許請求の範囲第７
    項に記載の方法。 ９ 式 で示される化合物を製造する特許請求の範囲第７
    項に記載の方法。 １０ 式又はの酸ハロゲン化物との反応を５
    〜15バールの圧力下で行うことを特徴とする特許
    請求の範囲第１項に記載の方法。 １１ 反応を10バールの圧力下で行うことを特徴
    とする、Z1が水素を表わす式ａの化合物又はZ2
    が置換されていないか或いは置換されているフエ
    ニレン、ナフチレン若しくはＰ−ビフエニレン基
    を表わす式ｂの化合物を製造する特許請求の範
    囲第１０項に記載の方法。 １２ 式又はの化合物に対して、触媒を
    0.001〜3mol％の量で使用することを特徴とする
    特許請求の範囲第１項に記載の方法。 １３ 反応を０〜200℃の温度にて、反応成分に
    対して不活性な有機溶媒の存在下で行うことを特
    徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 １４ 溶媒としてアニソール、キシレン類又はト
    ルエンを使用することを特徴とする特許請求の範
    囲第１３項に記載の方法。 １５ 式 〔式中、Q5が４−クロロベンジル、４−メチ
    ルベンジル、４−メトキシベンジル又はベンジル
    基を表わし、そしてQ6とQ7がそれぞれＣ−原子
    数１〜４のアルキル基を表わすか、又はQ5，Q6
    及びQ7がそれぞれＣ−原子数３〜12のアルキル
    基を表わす。〕 で示される化合物を塩基として使用することを特
    徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 １６ Ｎ−ベンジルジメチルアミン、Ｎ−エチル
    モルホリン又はトリ−ｎ−ブチルアミンを塩基と
    して使用することを特徴とする特許請求の範囲第
    １項に記載の方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59181225A (ja) * 1983-03-29 1984-10-15 Nippon Petrochem Co Ltd 芳香族炭化水素の変換方法
US4925595A (en) * 1987-07-03 1990-05-15 Ciba-Geigy Corporation Liquid detergent compositions containing disulfonated fluorescent whitening agents: di-styryl-biphenyl or di-styryl-benzene derivatives

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL169175C (nl) * 1968-03-23 1982-06-16 Asahi Chemical Ind Werkwijze voor het bereiden van onverzadigde nitrillen.
US3869500A (en) * 1968-03-23 1975-03-04 Asahi Chemical Ind Process for the production of unsaturated aliphatic nitriles
US3689583A (en) * 1968-12-10 1972-09-05 Naoya Kominami Production of dimethylstyrenes
JPS5510633B2 (ja) * 1972-05-19 1980-03-18
CH603513A5 (ja) * 1975-02-05 1978-08-15 Sandoz Ag
DE3160641D1 (en) * 1980-05-13 1983-08-25 Ciba Geigy Ag Process for the preparation of benzene or naphthalene alkenyl carboxylic acid derivatives

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Publication number Publication date
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US4533505A (en) 1985-08-06
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DE3264392D1 (en) 1985-08-01
JPS57175131A (en) 1982-10-28

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