JPH0321033B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0321033B2 JPH0321033B2 JP56142739A JP14273981A JPH0321033B2 JP H0321033 B2 JPH0321033 B2 JP H0321033B2 JP 56142739 A JP56142739 A JP 56142739A JP 14273981 A JP14273981 A JP 14273981A JP H0321033 B2 JPH0321033 B2 JP H0321033B2
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- Japan
- Prior art keywords
- group
- carboxylic acid
- penem
- nax
- absorption spectrum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明は一般式
を有する新規なペネム−３−カルボン酸誘導体及
びその薬理上許容される塩並びにその製法に関す
るものである。 上記式中、R1は水素原子またはR4A−基（式
中、R4Aは１位にヒドロキシ基、アシルオキシ
基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスル
ホニルオキシ基またはトリアルキルシリルオキシ
基を有するアルキレン基を示す。）を表わし、R2
はハロゲン原子で置換された低級アルキルスルホ
ニル基またはR5B−基（式中、Ｂは低級アルキレ
ン基を示し、R5はヒドラジノ基、アシル化され
ていてもよいカルバモイルアミノ基、カルバモイ
ルオキシ基、エポキシ基、ジアルキルホスホリル
基、置換基を有するか有しないピリジニウム基、
シアノ基、低級アルキルチオ基もしくは −CONR6CONHR7基、（式中、R6およびR7同
一または異なつて水素原子または低級アルキル基
を示す。）または低級アルキル基、アリールスル
ホニルオキシ基、水酸基、ハロゲン原子、アミノ
基もしくはニトロ基を有してもよく、ベンゼン環
が縮環してもよい、酸素原子、硫黄原子を有する
こともある窒素原子を少なくとも１個含む５員環
もしくは６員環芳香複素環基を示す。）を表わし、
R3は水素原子またはカルボキシル基の保護基を
表わす。 前記一般式(1)において、R1の１位にヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキ
シ基、アリールスルホニルオキシ基および１−ト
リアルキルシリルオキシ基を有するアルキル基に
おけるアルキレン基は、たとえばメチレン、エチ
レン、エチリデン、トリメチレン、プロピリデ
ン、テトラメチレン、ブチリデン、ペンタメチレ
ンまたはペンチリデンがあげられる。 R1のアシルオキシアルキレン基におけるアシ
ルオキシ基は、たとえばアセトキシ、プロピオニ
ルオキシ，ブチリルオキシもしくはイソブチリル
オキシのような低級脂肪族アシルオキシ基または
ベンジルオキシカルボニルもしくはｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシのようなアラルキ
ルオキシカルボニルオキシ基があげられる。 R1のアルキルスルホニルオキシアルキレン基
におけるアルキルスルホニル基は、たとえばメタ
ンスルホニル、エタンスルホニルまたはプロパン
スルホニルがあげられる。 R1のアリールスルホニルオキシアルキレン基
におけるアリールスルホニル基は、たとえばベン
ゼンスルホニルまたはｐ−トルエンスルホニルが
あげられる。 R1のトリアルキルシリルオキシアルキレン基
におけるトリアルキルシリル基は、たとえばトリ
メチルシリルまたはtert−ブチルジメチルシリル
があげられる。 R2のハロゲン原子で置換された低級アルキル
スルホニル基は、たとえばトリフロオロメタンス
ルホニルまたは２，２，２−トリフルオロエタン
スルホニルがあげられる。 R5のアシル化されていてもよいカルバモイル
アミノ基のアシル基は、たとえばアセチルがあげ
られる。 R5のジアルキルスルホリル基におけるアルキ
ル基は、たとえばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチルまたはtert−ブ
チルがあげられる。 R5の置換基を有するプリジニウム基における
置換基は、たとえばメチルもしくはエチルのよう
なアルキル基または弗素、塩素もしくは臭素のよ
うなハロゲン原子があげられる。 R5の低級アルキルチオ基におけるアルキル基
は、たとえば、メチル，エチル，プロピル，イソ
プロピルまたはブチルがあげられる。 R6およびR7におけるアルキル基は、たとえば
メチル，エチル，プロピルまたはイソプロピルが
あげられる。 R5の低級アルキル基、アリールスルホニルオ
キシ基、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基もしく
はニトロ基を有してもよく、ベンゼン環が縮環し
てもよい、酸素原子、硫黄原子を有することもあ
る窒素原子を少なくとも１個含む５員環もしくは
６員環芳香複素環基は、たとえば２−ピロリル，
１−イミダゾリル，２−イミダゾリル，４−イミ
ダゾリル，１−（４−アミノ−２−メチルイミダ
ゾリル），３−（４−アミノ−２−メチルイミダゾ
リル），２−チアゾリル，４−チアゾリル，５−
チアゾリル，２−（４−アミノチアゾリル），４−
（２−アミノチアゾリル），４−（２−アミノ−５
−プロモチアゾリル），４−オキサゾリル，４−
（３−ヒドロキシイソキサゾリル），２−オキサゾ
リル，４−（３−ベンゼンスルホニルオキシイソ
サキゾリル），１−トリアゾリル，５−（１−メチ
ルテトラゾリル），２−ピリジル，３−ピリジル，
４−ピリジル，３−（２−アミノピリジル），４−
（２−アミノピリジル），２−（４−アミノピリジ
ル），１−（４−ヒドロキシピリジル），２−ピリ
ミジル，４−ピリミジル，５−（２−アミノピリ
ミジル），５−（４−アミノピリミジル），２−（４
−アミノピリミジル），２−（５−アミノピリミジ
ル），６−（2.4−ジヒドロキシピリミジル），２−
ピラジニル，２−ベンツチアゾリル，２−ベンツ
イミダゾリル，２−キノリル，４−キノリル，１
−イソキノリル，２−キナゾリル，４−キナゾリ
ルまたは２−キノキザリルまたは前記アミノ化合
物のＮ−ホルムイミドイル若しくはアセトイミド
イル誘導体のような低級アルキル基，アミノ基，
ホルムイミドイルアミノ基，アセトイミドイルア
ミノ基，ハロゲン原子，ヒドロキシ基，低級アル
キル若しくはアリールスルホニルオキシ基を有し
てもよい酸素、硫黄、窒素原子のいずれかを１乃
至４個含有する単環系若しくは二環系芳香族異項
環基：例えば２−アミノメチルフエニル，３−ア
ミノメチルフエニル，４−アミノメチルフエニ
ル，４−（２−アミノエチルフエニル），４−（１
−アミノエチルフエニル）または前記化合物のＮ
−ホルムイミドイル若しくはＮ−アセトイミドイ
ル誘導体のようなアミノ低級アルキル置換アリー
ル基を示し、Ｂは例えばメチレン，エチレン，エ
チリデン，トリメチレン，プロピレン，プロピリ
デンのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アル
キレン基を示す。〕であり、R3は好適には水素原
子；例えばメチル，エチル，ｎ−プロピル，イソ
プロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，tert−ブチ
ルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキ
ル基；例えば２−ヨードエチル，2.2−ジブロモ
エチル，2.2.2−トリクロロエチルのようなハロ
ゲン低級アルキル基；例えばメトキシメチル，エ
トキシメチル，ｎ−プロポキシメチル，イソプロ
ポキシメチル，ｎ−プトキシメチル，イソブトキ
シメチルのような低級アルコキシメチル基；例え
ばアセトキシメチル，プロピオニルオキシメチ
ル，ｎ−ブチリルオキシメチル，イソブチリルオ
キシメチル，ピバロイルオキシメチルのような低
級脂肪族アシルオキシメチル基；例えば１−メト
キシカルボニルオキシエチル，１−エトキシカル
ボニルオキシエチル，１−ｎ−プロポキシカルボ
ニルオキシエチル，１−イソプロポキシカルボニ
ルオキシエチル，１−ｎ−ブトキシカルボニルオ
キシエチル，１−イソブトキシカルボニルオキシ
エチルのような１−低級アルコキシカルボニルオ
キシエチル基；例えばベンジル，ｐ−メトキシベ
ンジル，ｏ−ニトロベンジル，ｐ−ニトロベンジ
ルのようなアラルキル基；ベンズヒドリル基また
はフタリジル基である。 さらに、前記一般式(1)における特に好適な化合
物としては、R1が水素原子、α−ヒドロキシエ
チル，α−アセトキシエチル，α−プロピオニル
オキシエチル，α−ブチリルオキシエチルであ
り、R2がR5B−基〔式中、R5は例えばカルバモ
イルアミノ基，Ｎ−アセチルカルバモイルアミノ
基のようなアシル基を有するか有しないカルバモ
イルアミノ；カルバモイルオキシ基；エポキシ
基；例えばジメチルホスホリル，ジエチルホスホ
リルのような低級アルキルホスホリル基；例えば
メチル，エチルのような低級アルキル基若しくは
弗素，塩素，臭素のようなハロゲンを有するか有
しないピリジニウム塩；
びその薬理上許容される塩並びにその製法に関す
るものである。 上記式中、R1は水素原子またはR4A−基（式
中、R4Aは１位にヒドロキシ基、アシルオキシ
基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスル
ホニルオキシ基またはトリアルキルシリルオキシ
基を有するアルキレン基を示す。）を表わし、R2
はハロゲン原子で置換された低級アルキルスルホ
ニル基またはR5B−基（式中、Ｂは低級アルキレ
ン基を示し、R5はヒドラジノ基、アシル化され
ていてもよいカルバモイルアミノ基、カルバモイ
ルオキシ基、エポキシ基、ジアルキルホスホリル
基、置換基を有するか有しないピリジニウム基、
シアノ基、低級アルキルチオ基もしくは −CONR6CONHR7基、（式中、R6およびR7同
一または異なつて水素原子または低級アルキル基
を示す。）または低級アルキル基、アリールスル
ホニルオキシ基、水酸基、ハロゲン原子、アミノ
基もしくはニトロ基を有してもよく、ベンゼン環
が縮環してもよい、酸素原子、硫黄原子を有する
こともある窒素原子を少なくとも１個含む５員環
もしくは６員環芳香複素環基を示す。）を表わし、
R3は水素原子またはカルボキシル基の保護基を
表わす。 前記一般式(1)において、R1の１位にヒドロキ
シ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキ
シ基、アリールスルホニルオキシ基および１−ト
リアルキルシリルオキシ基を有するアルキル基に
おけるアルキレン基は、たとえばメチレン、エチ
レン、エチリデン、トリメチレン、プロピリデ
ン、テトラメチレン、ブチリデン、ペンタメチレ
ンまたはペンチリデンがあげられる。 R1のアシルオキシアルキレン基におけるアシ
ルオキシ基は、たとえばアセトキシ、プロピオニ
ルオキシ，ブチリルオキシもしくはイソブチリル
オキシのような低級脂肪族アシルオキシ基または
ベンジルオキシカルボニルもしくはｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシのようなアラルキ
ルオキシカルボニルオキシ基があげられる。 R1のアルキルスルホニルオキシアルキレン基
におけるアルキルスルホニル基は、たとえばメタ
ンスルホニル、エタンスルホニルまたはプロパン
スルホニルがあげられる。 R1のアリールスルホニルオキシアルキレン基
におけるアリールスルホニル基は、たとえばベン
ゼンスルホニルまたはｐ−トルエンスルホニルが
あげられる。 R1のトリアルキルシリルオキシアルキレン基
におけるトリアルキルシリル基は、たとえばトリ
メチルシリルまたはtert−ブチルジメチルシリル
があげられる。 R2のハロゲン原子で置換された低級アルキル
スルホニル基は、たとえばトリフロオロメタンス
ルホニルまたは２，２，２−トリフルオロエタン
スルホニルがあげられる。 R5のアシル化されていてもよいカルバモイル
アミノ基のアシル基は、たとえばアセチルがあげ
られる。 R5のジアルキルスルホリル基におけるアルキ
ル基は、たとえばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチルまたはtert−ブ
チルがあげられる。 R5の置換基を有するプリジニウム基における
置換基は、たとえばメチルもしくはエチルのよう
なアルキル基または弗素、塩素もしくは臭素のよ
うなハロゲン原子があげられる。 R5の低級アルキルチオ基におけるアルキル基
は、たとえば、メチル，エチル，プロピル，イソ
プロピルまたはブチルがあげられる。 R6およびR7におけるアルキル基は、たとえば
メチル，エチル，プロピルまたはイソプロピルが
あげられる。 R5の低級アルキル基、アリールスルホニルオ
キシ基、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基もしく
はニトロ基を有してもよく、ベンゼン環が縮環し
てもよい、酸素原子、硫黄原子を有することもあ
る窒素原子を少なくとも１個含む５員環もしくは
６員環芳香複素環基は、たとえば２−ピロリル，
１−イミダゾリル，２−イミダゾリル，４−イミ
ダゾリル，１−（４−アミノ−２−メチルイミダ
ゾリル），３−（４−アミノ−２−メチルイミダゾ
リル），２−チアゾリル，４−チアゾリル，５−
チアゾリル，２−（４−アミノチアゾリル），４−
（２−アミノチアゾリル），４−（２−アミノ−５
−プロモチアゾリル），４−オキサゾリル，４−
（３−ヒドロキシイソキサゾリル），２−オキサゾ
リル，４−（３−ベンゼンスルホニルオキシイソ
サキゾリル），１−トリアゾリル，５−（１−メチ
ルテトラゾリル），２−ピリジル，３−ピリジル，
４−ピリジル，３−（２−アミノピリジル），４−
（２−アミノピリジル），２−（４−アミノピリジ
ル），１−（４−ヒドロキシピリジル），２−ピリ
ミジル，４−ピリミジル，５−（２−アミノピリ
ミジル），５−（４−アミノピリミジル），２−（４
−アミノピリミジル），２−（５−アミノピリミジ
ル），６−（2.4−ジヒドロキシピリミジル），２−
ピラジニル，２−ベンツチアゾリル，２−ベンツ
イミダゾリル，２−キノリル，４−キノリル，１
−イソキノリル，２−キナゾリル，４−キナゾリ
ルまたは２−キノキザリルまたは前記アミノ化合
物のＮ−ホルムイミドイル若しくはアセトイミド
イル誘導体のような低級アルキル基，アミノ基，
ホルムイミドイルアミノ基，アセトイミドイルア
ミノ基，ハロゲン原子，ヒドロキシ基，低級アル
キル若しくはアリールスルホニルオキシ基を有し
てもよい酸素、硫黄、窒素原子のいずれかを１乃
至４個含有する単環系若しくは二環系芳香族異項
環基：例えば２−アミノメチルフエニル，３−ア
ミノメチルフエニル，４−アミノメチルフエニ
ル，４−（２−アミノエチルフエニル），４−（１
−アミノエチルフエニル）または前記化合物のＮ
−ホルムイミドイル若しくはＮ−アセトイミドイ
ル誘導体のようなアミノ低級アルキル置換アリー
ル基を示し、Ｂは例えばメチレン，エチレン，エ
チリデン，トリメチレン，プロピレン，プロピリ
デンのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アル
キレン基を示す。〕であり、R3は好適には水素原
子；例えばメチル，エチル，ｎ−プロピル，イソ
プロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，tert−ブチ
ルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキ
ル基；例えば２−ヨードエチル，2.2−ジブロモ
エチル，2.2.2−トリクロロエチルのようなハロ
ゲン低級アルキル基；例えばメトキシメチル，エ
トキシメチル，ｎ−プロポキシメチル，イソプロ
ポキシメチル，ｎ−プトキシメチル，イソブトキ
シメチルのような低級アルコキシメチル基；例え
ばアセトキシメチル，プロピオニルオキシメチ
ル，ｎ−ブチリルオキシメチル，イソブチリルオ
キシメチル，ピバロイルオキシメチルのような低
級脂肪族アシルオキシメチル基；例えば１−メト
キシカルボニルオキシエチル，１−エトキシカル
ボニルオキシエチル，１−ｎ−プロポキシカルボ
ニルオキシエチル，１−イソプロポキシカルボニ
ルオキシエチル，１−ｎ−ブトキシカルボニルオ
キシエチル，１−イソブトキシカルボニルオキシ
エチルのような１−低級アルコキシカルボニルオ
キシエチル基；例えばベンジル，ｐ−メトキシベ
ンジル，ｏ−ニトロベンジル，ｐ−ニトロベンジ
ルのようなアラルキル基；ベンズヒドリル基また
はフタリジル基である。 さらに、前記一般式(1)における特に好適な化合
物としては、R1が水素原子、α−ヒドロキシエ
チル，α−アセトキシエチル，α−プロピオニル
オキシエチル，α−ブチリルオキシエチルであ
り、R2がR5B−基〔式中、R5は例えばカルバモ
イルアミノ基，Ｎ−アセチルカルバモイルアミノ
基のようなアシル基を有するか有しないカルバモ
イルアミノ；カルバモイルオキシ基；エポキシ
基；例えばジメチルホスホリル，ジエチルホスホ
リルのような低級アルキルホスホリル基；例えば
メチル，エチルのような低級アルキル基若しくは
弗素，塩素，臭素のようなハロゲンを有するか有
しないピリジニウム塩；
【式】基（式中、R6およびR7は同一
または異なつて水素原子または例えばメチル，エ
チルのような低級アルキル基を示す。）；ジアノ
基，例えばメチルチオ，エチルチオのような低級
アルキルチオ基；例えば１−イミダゾリル，２−
イミダゾリル，４−イミダゾリル，１−（４−ア
ミノ−２−メチルイミダゾリル），３−（４−アミ
ノ−２−メチルイミダゾリル），２−（４−アミノ
チアゾリル），４−（２−アミノチアゾリル），４
−オキサゾリル，４−（３−ヒドロキシイソキサ
ゾリル），１−トリアゾリル，５−（１−メチルテ
トラゾリル），２−ピリジル，３−ピリジル，４
−ピリジル，３−（２−アミノピリジル），２−ピ
リミジル，４−ピリミジル，５−（２−アミノピ
リミジル），５−（４−アミノピリミジル），２−
（４−アミノピリミジル），２−（５−アミノピリ
ミジル）または２−ピラチニル、Ｂは例えばメチ
レン，エチレン，エチリデン，トリメチレン，プ
ロピレン，プロピリデンのような直鎖状若しくは
分枝鎖状の低級アルキレン基を示す。〕であり、
R3は水素原子またはピバロイルオキシメチル基
である化合物をあげることができる。 なお、前記一般式(1)を有する化合物においては
不斉炭素原子に基く光学異性体および立体異性体
が存在し、これらの異性体がすべて単一の式で示
されているが、これによつて本発明の記載の範囲
は限定されるものではない。しかしながら、好適
には５位の炭素原子がペニシリン類と同一配位す
なわちＲ配位を有する化合物を選択することがで
きる。 また、前記一般式(1)において、R3が水素原子
であるカルボン酸化合物は必要に応じて薬理上許
容される塩の形にすることができる。そのような
塩としては、リチウム，ナトリウム，カルウム，
カルシウム，マグネシウムのような無機金属の塩
あるいはアンモニウム，シクロヘキシルアンモニ
ウム，ジイソプロピルアンモニウム，トリエチル
アンモニウムのようなアンモニウム塩類をあげる
ことができるが、好適にはナトリウム塩およびカ
リウム塩である。 本発明の前記一般式(1)を有する化合物は、ペニ
シリン環の２位と３位の間に二重結合が存在する
ペネム誘導体に属し、その２位に各種置換メルカ
プト基を有する新規な化合物の一群であり、これ
らの化合物は優れた抗菌活性を表わし医薬として
有用な化合物であるか、あるいはそれらの活性を
表わす化合物の重要合成中間体である。 本発明によつて得られる前記一般式(1)を有する
化合物としては例えば以下に記載する化合物があ
げられる。 (1) ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（１−メ
チル−1H−テトラゾール−５−イルメチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 (2) ２−（４−ピリジルメチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 (3) ２−（２−ピリジルメチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 (4) ２−［２−（Ｎ−アセチルカルバモイルアミ
ノ）エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸およ
びそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 (5) ２−（２−カルバモイルアミノエチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 (6) ２−（２−カルバモイルオキシエチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 (7) ２−（2.3−エポキシプロピルチオ）ペネム−
３−カルボン酸およびそのナトリウム塩若しく
はカリウム塩 (8) ２−（３−ベンゼンスルホニルオキシイソキ
サゾール−５−イルメチルチオ）ペネム−３−
カルボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカ
リウム塩 (9) ２−（ウラシル−５−イルメチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸およびそのナトリウム塩若
しくはカリウム塩 (10) ２−（２−アミノチアゾール−４−イルメチ
ルチオ）ペネム−３−カルボン酸およびナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 （11） ２−（２−アミノ−５−ブロモチアゾー
ル−４−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボ
ン酸 （12） ２−（１−ウレイドカルボニルエチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 （13） ２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 （14） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（ウ
レイドカルボニルメチルチオ）ペネム−３−カ
ルボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカリ
ウム塩 （15） ２−（１−メチルウレイドカルボニルメ
チルチオ）ペネム−３−カルボン酸およびその
ナトリウム塩若しくはカリウム塩 （16） ２−（２−ベンズイミダゾリルメチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 （17） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（４
−ピリジルメチルチオ）ペネム−３−カルボン
酸およびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （18） ２−トリフルオロメタンスルホニルチオ
ペネム−３−カルボン酸 （19） ２−（２−ヒドラジノエチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸 （20） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−アミノピリジン−３−イルメチルチオ）ベネ
ム−３−カルボン酸 （21） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−アミノチアゾール−４−イルメチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸 （22） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−アミノ−５−プロモチアゾール−４−イルメ
チルチオ）ペネム−３−カルボン酸 （23） ２−（１−メチル−1H−テトラゾール−
５−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボン酸
およびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （24） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−ヒドラジノエチルチオ）ペネム−３−カルボ
ン酸 （25） ２−［２−（２−アミノ−1H−イミダゾ
ール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３−カ
ルボン酸 （26） ２−［２−（２−メチル−４−アミノ−
1H−イミダゾール−１−イル）エチルチオ］
ペネム−３−カルボン酸 （27） ２−［２−（２−メチル−５−アミノ−
1H−イミダゾール−１−イル）エチルチオ］
ペネム−３−カルボン酸 （28） ２−［２−（２−ピリジル）エチルチオ］
ペネム−３−カルボン酸 （29） ２−［２−（１−ピリジニウム）エチルチ
オ］ペネム−３−カルボキシレート （30） ２−［４−（１−メチルピリジニウム）メ
チルチオ］ペネム−３−カルボキシレート （31） ２−（２−ジエチルホスホノエチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 （32） ２−シアノメチルチオペネム−３−カル
ボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカリウ
ム塩 （33） ２−シアノメチルチオ−６−（１−ヒド
ロキシエチル）ペネム−３−カルボン酸および
そのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （34） ２−（１−シアノエチルチオ）−６−（１
−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボン酸
およびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （35） ２−メチルチオメチルチオペネム−３−
カルボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカ
リウム塩 （36） ２−メチルチオメチルチオ−６−（１−
ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボン酸お
よびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 本例示化合物においては上述したように立体異
性体が存在するが、それらの異性体のうちで好適
なものとしては、（5R，6S）配位および（5R，
6R）配位を有する化合物並びに６位置換基のα
位に水酸基、アセトキシ基、アミノ基、アセトア
ミド基のような置換分を有する場合にはその配位
がＲ配位である化合物をあげることができる。 本発明による新規化合物(1)は以下に示す方法に
よつて製造することができる。 上記式中、R1，R2およびR3は前述したものと
同意義を示し、R10は水素原子、R12A−基（式
中、R12Aは、１位にアシルオキシ基、アルキル
スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ
基またはトリアルキルシリルオキシ基を有するア
ルキレン基を示す。）表わし、R13 aはハロゲン原
子で置換されていてもよい低級アルキルスルホニ
ル基、アリー置換スルホニル基、R14B−基〔式
中、Ｂは低級アルキレン基を示し、R14は保護さ
れたヒドラジノ基、アシル化されていてもよいカ
ルバモイルアミノ基、カルバモイルオキシ基、エ
ポキシ基、ジアルキルホスホリル基、置換基を有
するか有しないピリジニウム基、
チルのような低級アルキル基を示す。）；ジアノ
基，例えばメチルチオ，エチルチオのような低級
アルキルチオ基；例えば１−イミダゾリル，２−
イミダゾリル，４−イミダゾリル，１−（４−ア
ミノ−２−メチルイミダゾリル），３−（４−アミ
ノ−２−メチルイミダゾリル），２−（４−アミノ
チアゾリル），４−（２−アミノチアゾリル），４
−オキサゾリル，４−（３−ヒドロキシイソキサ
ゾリル），１−トリアゾリル，５−（１−メチルテ
トラゾリル），２−ピリジル，３−ピリジル，４
−ピリジル，３−（２−アミノピリジル），２−ピ
リミジル，４−ピリミジル，５−（２−アミノピ
リミジル），５−（４−アミノピリミジル），２−
（４−アミノピリミジル），２−（５−アミノピリ
ミジル）または２−ピラチニル、Ｂは例えばメチ
レン，エチレン，エチリデン，トリメチレン，プ
ロピレン，プロピリデンのような直鎖状若しくは
分枝鎖状の低級アルキレン基を示す。〕であり、
R3は水素原子またはピバロイルオキシメチル基
である化合物をあげることができる。 なお、前記一般式(1)を有する化合物においては
不斉炭素原子に基く光学異性体および立体異性体
が存在し、これらの異性体がすべて単一の式で示
されているが、これによつて本発明の記載の範囲
は限定されるものではない。しかしながら、好適
には５位の炭素原子がペニシリン類と同一配位す
なわちＲ配位を有する化合物を選択することがで
きる。 また、前記一般式(1)において、R3が水素原子
であるカルボン酸化合物は必要に応じて薬理上許
容される塩の形にすることができる。そのような
塩としては、リチウム，ナトリウム，カルウム，
カルシウム，マグネシウムのような無機金属の塩
あるいはアンモニウム，シクロヘキシルアンモニ
ウム，ジイソプロピルアンモニウム，トリエチル
アンモニウムのようなアンモニウム塩類をあげる
ことができるが、好適にはナトリウム塩およびカ
リウム塩である。 本発明の前記一般式(1)を有する化合物は、ペニ
シリン環の２位と３位の間に二重結合が存在する
ペネム誘導体に属し、その２位に各種置換メルカ
プト基を有する新規な化合物の一群であり、これ
らの化合物は優れた抗菌活性を表わし医薬として
有用な化合物であるか、あるいはそれらの活性を
表わす化合物の重要合成中間体である。 本発明によつて得られる前記一般式(1)を有する
化合物としては例えば以下に記載する化合物があ
げられる。 (1) ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（１−メ
チル−1H−テトラゾール−５−イルメチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 (2) ２−（４−ピリジルメチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 (3) ２−（２−ピリジルメチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 (4) ２−［２−（Ｎ−アセチルカルバモイルアミ
ノ）エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸およ
びそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 (5) ２−（２−カルバモイルアミノエチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 (6) ２−（２−カルバモイルオキシエチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 (7) ２−（2.3−エポキシプロピルチオ）ペネム−
３−カルボン酸およびそのナトリウム塩若しく
はカリウム塩 (8) ２−（３−ベンゼンスルホニルオキシイソキ
サゾール−５−イルメチルチオ）ペネム−３−
カルボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカ
リウム塩 (9) ２−（ウラシル−５−イルメチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸およびそのナトリウム塩若
しくはカリウム塩 (10) ２−（２−アミノチアゾール−４−イルメチ
ルチオ）ペネム−３−カルボン酸およびナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 （11） ２−（２−アミノ−５−ブロモチアゾー
ル−４−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボ
ン酸 （12） ２−（１−ウレイドカルボニルエチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 （13） ２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 （14） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（ウ
レイドカルボニルメチルチオ）ペネム−３−カ
ルボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカリ
ウム塩 （15） ２−（１−メチルウレイドカルボニルメ
チルチオ）ペネム−３−カルボン酸およびその
ナトリウム塩若しくはカリウム塩 （16） ２−（２−ベンズイミダゾリルメチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩 （17） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（４
−ピリジルメチルチオ）ペネム−３−カルボン
酸およびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （18） ２−トリフルオロメタンスルホニルチオ
ペネム−３−カルボン酸 （19） ２−（２−ヒドラジノエチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸 （20） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−アミノピリジン−３−イルメチルチオ）ベネ
ム−３−カルボン酸 （21） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−アミノチアゾール−４−イルメチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸 （22） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−アミノ−５−プロモチアゾール−４−イルメ
チルチオ）ペネム−３−カルボン酸 （23） ２−（１−メチル−1H−テトラゾール−
５−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボン酸
およびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （24） ６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（２
−ヒドラジノエチルチオ）ペネム−３−カルボ
ン酸 （25） ２−［２−（２−アミノ−1H−イミダゾ
ール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３−カ
ルボン酸 （26） ２−［２−（２−メチル−４−アミノ−
1H−イミダゾール−１−イル）エチルチオ］
ペネム−３−カルボン酸 （27） ２−［２−（２−メチル−５−アミノ−
1H−イミダゾール−１−イル）エチルチオ］
ペネム−３−カルボン酸 （28） ２−［２−（２−ピリジル）エチルチオ］
ペネム−３−カルボン酸 （29） ２−［２−（１−ピリジニウム）エチルチ
オ］ペネム−３−カルボキシレート （30） ２−［４−（１−メチルピリジニウム）メ
チルチオ］ペネム−３−カルボキシレート （31） ２−（２−ジエチルホスホノエチルチオ）
ペネム−３−カルボン酸およびそのナトリウム
塩若しくはカリウム塩 （32） ２−シアノメチルチオペネム−３−カル
ボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカリウ
ム塩 （33） ２−シアノメチルチオ−６−（１−ヒド
ロキシエチル）ペネム−３−カルボン酸および
そのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （34） ２−（１−シアノエチルチオ）−６−（１
−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボン酸
およびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 （35） ２−メチルチオメチルチオペネム−３−
カルボン酸およびそのナトリウム塩若しくはカ
リウム塩 （36） ２−メチルチオメチルチオ−６−（１−
ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボン酸お
よびそのナトリウム塩若しくはカリウム塩 本例示化合物においては上述したように立体異
性体が存在するが、それらの異性体のうちで好適
なものとしては、（5R，6S）配位および（5R，
6R）配位を有する化合物並びに６位置換基のα
位に水酸基、アセトキシ基、アミノ基、アセトア
ミド基のような置換分を有する場合にはその配位
がＲ配位である化合物をあげることができる。 本発明による新規化合物(1)は以下に示す方法に
よつて製造することができる。 上記式中、R1，R2およびR3は前述したものと
同意義を示し、R10は水素原子、R12A−基（式
中、R12Aは、１位にアシルオキシ基、アルキル
スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ
基またはトリアルキルシリルオキシ基を有するア
ルキレン基を示す。）表わし、R13 aはハロゲン原
子で置換されていてもよい低級アルキルスルホニ
ル基、アリー置換スルホニル基、R14B−基〔式
中、Ｂは低級アルキレン基を示し、R14は保護さ
れたヒドラジノ基、アシル化されていてもよいカ
ルバモイルアミノ基、カルバモイルオキシ基、エ
ポキシ基、ジアルキルホスホリル基、置換基を有
するか有しないピリジニウム基、
【式】基（式中、R6およびR7は同一
または異なつて水素原子または低級アルキル基を
示す。）、シアノ基、低級アルキルチオ基、あるい
は低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、低
級アルキル若しくはアリールスルホニルオキシ
基、保護されたアミノ基または保護されていても
よい水酸基を有するか有しない芳香複素環基を示
す。〕を表わし、R13 bはハロゲン原子で置換され
ていてもよい低級アルキルスルホニル基、アリー
ル置換スルホニル基、R14B−基〔式中、Ｂは低
級アルキレン基を示し、R14は保護されたヒドラ
ジノ基、アシル化されていてもよいカルバモイル
アミノ基、カルバモイルオキシ基、エポキシ基、
ジアルキルホスホニル基、置換基を有するか有し
ないピリジニウム基、
示す。）、シアノ基、低級アルキルチオ基、あるい
は低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、低
級アルキル若しくはアリールスルホニルオキシ
基、保護されたアミノ基または保護されていても
よい水酸基を有するか有しない芳香複素環基を示
す。〕を表わし、R13 bはハロゲン原子で置換され
ていてもよい低級アルキルスルホニル基、アリー
ル置換スルホニル基、R14B−基〔式中、Ｂは低
級アルキレン基を示し、R14は保護されたヒドラ
ジノ基、アシル化されていてもよいカルバモイル
アミノ基、カルバモイルオキシ基、エポキシ基、
ジアルキルホスホニル基、置換基を有するか有し
ないピリジニウム基、
【式】（式
中、R6およびR7は前述したものと同意義を示
す。）、シアノ基、低級アルキルチオ基、あるいは
低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級
アルキル若しくはアリールスルホニルオキシ基、
保護されたアミノ基または保護された水酸基を有
するか有しない芳香複素環基を示す。〕を表わし、
R15は低級アルキル基を表わす。 Ａ法は一般式(2)を有する化合物に一般式(3)を有
するアルキル化剤を反応させて一般式(4)を有する
ペネム−３−カルボン酸誘導体を製造し、次いで
所望に応じて得られた化合物をカルボキシル基の
保護基R11の除去反応並びにR10およびR13 aに含ま
れるそれぞれ対応する保護基を除去して水酸基、
メルカプト基およびアミノ基若しくは低級アルキ
ルアミノ基を復元する反応に付し、一般式(1)を有
する本発明の目的化合物を製造する反応である。 本発明のＡ法を実施するに当つて、前記一般式
(2)を有する化合物を前記一般式(3)を有するアルキ
ル化剤と反応させて前記一般式(4)を有する化合物
を製造する反応は不活性溶剤中塩素共存下で好適
に行なわれる。使用される溶剤としては本反応に
関与しなければ特に限定はなく、例えばクロロホ
ルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類、アセ
トニトリルのようなニトリル類、ギ酸エチル、酢
酸エチルのようなエステル類、例えばメタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、ジメチルスルホキサイ
ド、ニトロメタンまたはこれらの有機溶剤との混
合溶剤若しくは水との混合溶剤があげられる。ま
た、使用される塩基としては化合物の他の部分、
特にβ−ラクタム環に影響を与えないものであれ
ば特に限定はないが、好適には酸結合剤であるト
リエチルアミン、ピリジン、26−ルチヂン、ジメ
チルアニリン等の有機塩基、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシ
ウム等のアルカリ金属重炭酸塩若しくは炭酸塩あ
るいは水素化ナトリウム、水素化カリウムのよう
なアルカリ金属水素化合物等があげられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行うのが望ましく、通常
は−10℃乃至100℃位で行なわれる。反応時間は
主に反応温度、原料化合物の種類によつて異なる
が数分乃至100時間である。 反応終了後、本反応の目的化合物(4)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応混合
物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、溶
剤を留去することによつて得られる。得られた目
的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶、再沈
澱またはクロマトグラフイーなどによつて更に精
製することができる。 ここで得られる化合物(4)が5S配位の異性体で
ある場合には、これを例えばトルエン、キシレ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドのような有機溶剤中で加熱することによつて、
容易に5R配位の異性体に変換することができる。 次いで、得られた化合物(4)は必要に応じて常法
に従つてカルボキシル基の保護基R11の除去処理
を行つて、カルボン酸誘導体に変換することがで
きる。保護基の除去はその種類によつて異なる
が、一般にこの分野の技術で知られている方法に
よつて除去される。好適には反応は前記一般式(4)
を有する化合物のうちの置換基R11がハロゲノア
ルキル基、アラルキル基、ベンズヒドリル基など
の還元処理によつて除去し得る保護基である化合
物を還元剤と接触させることによつて達成され
る。本反応に使用される還元剤としてはカルボキ
シル基の保護基が例えば2.2−ジブロモエチル、
2.2.2−トリクロロエチルのようなハロゲノアル
キル基である場合には亜鉛および酢酸が好適であ
り、保護基が例えばベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ルのようなアラルキル基またはベンズヒドリル基
である場合には水素およびパラジウム−炭素のよ
うな接触還元触媒または硫化ナトリウム若しくは
硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物が好適
である。反応は溶剤の存在下で行なわれ、使用さ
れる溶剤としては本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類、酢酸のような脂肪酸
およびこれらの有機溶剤と水との混合溶剤が好適
である。反応温度は通常は０℃乃至室温付近であ
り、反応時間は原料化合物および還元剤の種類に
よつて異なるが、通常は５分間乃至12時間であ
る。 反応終了後は、カルボキシル基の保護基の除去
反応の目的化合物は常法に従つて反応混合物から
採取される。例えば反応混合物より析出した不溶
物を去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し溶剤
を留去することによつて得ることができる。 このようにして得られた目的化合物は、必要な
らば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグ
ラフイー、カラムクロマトグラフイーなどによつ
て精製することができる。 また、化合物(4)において置換基R10および／ま
たはR13 aがアシルオキシ基、アシルチオ基、トリ
アルキルシリルオキシ基、アシルアミノ基または
アラルキルアミノ基、を有する時には所望に応じ
て、以下に記載するように常法に従つてそれぞれ
の保護基を除去して対応する水酸基またはアミノ
基である化合物に変換し、さらにこのようにして
得られた化合物を上述したカルボキシル基の保護
基R11の除去反応に付することができる。すなわ
ち、前記一般式(1)を有する化合物のうち、置換基
R1および／またはR2が水酸基を有する化合物を
製造する反応は、一般式(4)を有する化合物のうち
のR10および／またはR13 aがアシルオキシ基ある
いはトリアルキルシリルオキシ基を有する化合物
より水酸基のアシルあるいはトリアルキルシリン
保護基を除去することによつて達成される。R10
および／またはR13 aがアセトキシのような低級脂
肪族アシルオキシ基またはアセチルチオのような
低級脂肪族アシルチオ基を有する場合には、反応
は相当する化合物(4)を水性溶剤の存在下で塩基で
処理することにより実施することができる。使用
される溶剤としては通常の加水分解反応に使用さ
れる溶剤であれば特に限定はないが、水あるいは
水とメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール
のようなアルコール類若しくはテトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類などの有機溶
剤との混合溶剤が好適である。また、使用される
塩基としては化合物の他の部分、特にβ−ラクタ
ム環に影響を与えないものであれば特に限定はな
いが、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩を用いて行なわれる。
反応温度は特に限定はないが、副反応を抑制する
ために０℃乃至室温付近が好適である。反応に要
する時間は原料化合物の種類および反応温度など
によつて異なるが、通常は１乃至６時間である。 さらに上記の置換基R10および／またはR13 aが
ベンジルオキシカルボニルオキシあるいはｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシのようなア
ラルキルオキシカルボニルオキシ基を有する場合
には、反応は相当する化合物(4)を還元剤と接触さ
せることによつて実施することができる。本反応
に使用される還元剤の種類および反応条件は前述
したカルボキシル基の保護基R11であるアラルキ
ル基を除去する場合と同様であり、従つてカルボ
キシル基の保護基R11も同時に除去することがで
きる。なお、本還元反応によつて、前記一般式(4)
を有する化合物のうちの置換基R10およびR13 aが
アミノ基の保護基であるベンジルオキシカルボニ
ル若しくはｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
のようなアラルキルオキシカルボニル基あるいは
ジフエニルメチルのようなアラルキル基を有する
化合物よりこれらの保護基を除去して相当するア
ミノ化合物に変換することができる。さらに本還
元反応によつて置換基R13 aがニトロ基を有する場
合もアミノ基に還元し、置換分としてのハロゲン
原子も水素原子に還元することができる。 また、上記の置換基R10および／またはR13 aが
tert−ブチルジメチルシリルオキシのようなトリ
低級アルキルシリルオキシ基を有する場合には、
反応は相当する化合物(4)をフツ化テトラブチルア
ンモニウムで処理することにより実施することが
できる。使用される溶剤としては特に限定はない
が、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類が好適である。反応は室温付近において
10乃至18時間処理することによつて好適に行なわ
れる。 また、前記一般式(4)を有する化合物のうちの置
換基R10および／またはR13 aがアミノ基または低
級アルキルアミノ基の保護基であるトリフルオロ
アセチルあるいはトリクロロアセチルのようなハ
ロゲノアセチル基を有する場合には、その除去反
応は相当する化合物(4)を水性溶剤の存在下で塩基
で処理することにより実施することができる。本
反応に使用される塩基の種類および反応条件は前
述した置換基R10および／またはR13 aにおける水
酸基の低級脂肪族アシル保護基を除去する場合と
同様である。 以上の各種の反応を実施した後、各反応の目的
化合物は常法に従つて反応混合物から採取され、
必要ならば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロ
マトグラフイー、カラムクロマトグラフイーなど
によつてさらに精製することができる。 Ｂ法は一般式(2)を有する化合物にトリフエニル
ホスフインの存在下、一般式(5)を有するヒドロキ
シ化合物および一般式(6)を有するアゾジカルボン
酸ジエステルを反応させて一般式(4)を有するペネ
ム−３−カルボン酸誘導体を製造し、次いで前述
したＡ法と同様にして所望に応じて得られた化合
物をカルボキシル基の保護基R11の除去反応並び
にR10および／R13 aに含まれるそれぞれ対応する
保護基を除去して水酸基、メルカプト基、および
アミノ基、低級アルキルアミノ基を復元する反応
に付し、一般式(1)を有する本発明の化合物を製造
する反応である。 本発明のＢ法を実施するに当つて、前記一般式
(2)を有する化合物をトリフエニルホスフインおよ
び一般式(6)を有するアゾジカルボン酸ジエステル
の存在下、一般式(5)を有するヒドロキシ化合物と
反応させて前記一般式(4)を有する化合物を製造す
る反応は不活性溶剤中で行なわれる。使用される
溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定は
なく、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンのような芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、
クロロホルム、ジクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、ヘキサメチルホスホルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミド
類、ピリジンまたはこれらの有機溶剤の混合溶剤
があげられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行なうのが望ましく、通
常は−20℃乃至室温付近で行なわれる。反応時間
は主に反応温度、原料化合物の種類によつて異な
るが数分乃至100時間である。 反応終了後は、本反応の目的化合物(4)は常法に
従つて反応混合物から採取される。例えば反応混
合物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、
溶剤を留去することによつて得られる。得られた
目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶、再
沈澱またはクロマトグラフイーなどによつて更に
精製することができる。 次いで、得られた化合物(4)は必要に応じて前述
したＡ法と同様にして一般式(1)を有する化合物に
導くことができる。 本発明の前記一般式(1)を有するペネム−３−カ
ルボン酸誘導体は、すぐれた抗菌作用を表わすも
のであるかあるいはそれらの抗菌作用を表わす化
合物の重要合成中間体である。そのうちの抗菌作
用を表わす化合物についてその活性を寒天平板希
釈法により測定したところ、例えば黄色ブドウ状
球菌、枯草菌などのグラム陽性菌及び大腸菌、赤
痢菌、肺炎桿菌、変形菌、緑膿菌などのグラム陰
性菌を包含する広範囲な病原菌に対して活性を示
した。 従つてこのような化合物はこれらの病原菌によ
る細菌感染症を治療する抗菌剤として有用であ
る。その目的のための投与形態としては、例えば
錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロツプ剤な
どによる経口投与あるいは静脈内注射、筋肉内注
射などによる非経口投与があげられる。投与量は
年令、体重、症状など並びに投与形態および投与
回数によつて異なるが、通常は成人に対して１日
約250乃至3000mgを１回または数回に分けて投与
する。 次に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説
明する。 実施例 １−ａ （5s，6s，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル （5s，6s，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−チオキソペネム−
３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル
（174mg）の塩化メチレン溶液（３ml）にトリエチ
ルアミン（56μl）、５−クロロメチル−１−メチ
ルテトラゾール（53mg）、ヨウ化ナトリウム（60
mg）を加え、室温で24時間撹拌する。溶媒を留去
した後、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥（硫酸
マグネシウム）する。再び、溶媒を留去し、残渣
をローバーカラムクロマトグラフイーを用い精製
して、ベンゼン−酢酸エチル（４：１）で溶出さ
れる部分から149mgの目的化合物を得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1798，1700。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.11（6H，ｓ），0.86（9H，ｓ），1.48（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.7〜4.3（2H，ｍ），4.14（3H，ｓ），
4.52（2H，ｓ），5.20，５，37（2H，AB−ｑ，Ｊ
＝14.0Hz），5.71（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），7.63，
8.19（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 １−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル
（149mg）のキシレン溶液（40ml）にハイドロキノ
ン（３mg）を加え、150℃に油浴中１時間加熱す
る。溶媒を留去し、残渣をローバーカラムを用い
（ベンゼン−酢酸エチル＝３：１）、目的化合物と
原料に分離する。回収した原料は、再び同じ操作
を行なうことにより、合計117mgの目的化合物を
得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1795，1695。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.03（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.76（9H，ｓ），
1.16（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz），3.74（1H，ｄ−ｄ，
Ｊ＝1.8，4.0Hz），4.09（3H，ｓ），4.41（2H，ｓ），
5.21，5.38（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.69
（1H，ｄ，Ｊ＝1.8Hz），7.65，8.24（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz）。 実施例 １−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−
ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル
（96mg）のテトラヒドロフラン溶液（３ml）に酢
酸（120μl）とテトラブチルアンモニウムフルオ
ライド（308mg）を加え、室温で24時間撹拌する。
反応液に酢酸エチルと飽和食塩水を加え、有機層
を分離し、５％重曹水、飽和食塩水で洗浄する。
硫酸マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を留去
し、残渣をローバーカラムで精製して（酢酸エチ
ル）、25mgの目的化合物を結晶として得た。 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.31（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz），3.87（1H，ｄ−ｄ，
Ｊ＝1.8，7.0Hz），3.5〜4.3（2H，ｍ），4.24（3H，
ｓ），4.72（2H，ｓ），5.38，5.57（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝14.0Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ＝1.8Hz），7.83，
8.31（1H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 １−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ナト
リウム塩 （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−
ニトロベンジルエステル（25mg）のテトラヒドロ
フラン溶液（４ml）に、リン酸緩衝液（PH7.1，
４ml）と10％パラジウム炭素（50mg）を加え、水
素ふん囲気下、２時間撹拌する。反応後、セライ
トを用いて触媒を去し、液を酢酸エチルで２
回洗浄する。水層を約１mlになるまで減圧下濃縮
し、ダイアイオン（三菱化成工業〓 Hp20AG）
で精製して、５％アセトン水で溶出される部分か
ら目的化合物８mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1775，1590。 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.27（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.88（1H，ｄ−ｄ，
Ｊ＝1.8，6.5Hz），3.9〜4.4（1H，ｍ），4.14（3H，
ｓ），4.37，4.59（2H，AB−ｑ，Ｊ＝16.0Hz），
5.62（1H，ｄ，Ｊ＝1.8Hz） 以下実施例１−ａ（チオキソペナムのアルキル
化）、１−ｂ（ペネム化合物の異性化）、１−ｃ（側
鎖水酸基の脱保護）、１−ｄ（接触還元による脱保
護基）の各工程を準用し、下記各化合物を得た。 実施例 ２−ａ ２−［（４−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1790，1685，1603 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.47.1H，dd，Ｊ＝17.7，2.0Hz），3.85（1H，
dd，Ｊ＝17.7，4.0Hz），4.28（2H，ｓ），5.24，
5.43（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13.5Hz），5.77（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.68，8.18（4H，A2B2，Ｊ＝
8.4Hz），7.38，8.51（4H，A2B2，Ｊ＝6.3Hz） 実施例 ２−ｄ ２−［（４−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1760，1595，1515 実施例 ３−ａ ２−［（２−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.34（1H，dd，Ｊ＝17.1，2.0Hz），3.64（1H，
dd，Ｊ＝17.1，3.0Hz），4.22（2H，ｓ），5.11，
5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13.8Hz），5.55（1H，dd，
Ｊ＝3.0，2.0Hz），7.51，8.10（4H，A2B2，Ｊ＝
8.7Hz），7.0−7.7（3H，ｍ），8.4−8.6（1H，ｍ） 実施例 ３−ｄ ２−［（２−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1760，1588，1510 実施例 ４−ａ ２−［２−（Ｎ−アセチルカルバモイル）アミノ
エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロ
ベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1770 実施例 ４−ｄ ２−［２−（Ｎ−アセチルカルバモイル）アミノ
エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ナトリウム
塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，3320，1760，1690，1570 紫外線吸収スペクトル νH2O naxnm（ε） 252.9（3840），320.7（6810） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 2.14（3H，ｓ），3.15（2H，ｔ，Ｊ＝6.6Hz），
3.58（2H，ｔ，Ｊ＝6.6Hz），3.49（1H，dd，Ｊ＝
17.5，2.0Hz），3.79（1H，dd，Ｊ＝17.5，4.0Hz），
5.68（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0mm2） 実施例 ５−ａ ２−（２−カルバモイルオキシエチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3450，3330，1785，1705，1685，1600 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.30（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），3.6−4.1（2H，dd×
２，Ｊ＝3.5，1.5Hz），4.28（2H，ｔ，Ｊ＝6.0mm2），
5.41，5.57（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.4mm2），6.67
（2H，bs），7.87，8.36（4H，A2B2，Ｊ＝9.3mm2），
5.97（1H，dd，Ｊ＝3.5，1.5Hz） 実施例５−ｄ ２−（２−カルバモイルオキシエチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400〜3450，1760，1710，1580 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.25（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），3.54（1H，dd，Ｊ
＝16.5，2.0Hz），3.82（1H，dd，Ｊ＝16.5，3.0
Hz），4.31（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），5.76（1H，dd，
Ｊ＝3.0，2.0Hz） 実施例 ６−ａ ２−（2.3−エポキシプロピルチオ）ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1800，1685，1605 実施例 ６−ｄ ２−（2.3−エポキシプロピルチオ）ペネム−３
−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1760，1590 実施例 ７−ａ ２−［（３−ベンゼンスルホニルオキシイソキサ
ゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム−３−カ
ルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1802 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.51（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.82（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz）、4.16（2H，ｓ），5.23，5.44（2H，
AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.73（1H，dd，Ｊ＝４，２
Hz），6.38（1H，ｓ），7.5−8.5（9H，ｍ） 実施例 ７−ｄ ２−［３−ベンゼンスルホニルオキシイソキサ
ゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム−３−カ
ルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1770 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.50（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.83（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz）、4.08，4.26（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
18Hz），5.65（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），6.34（1H，
ｓ），7.6−8.1（5H，ｍ） 実施例 ８−ａ ２−［（ウラシル−５−イル）メチルチオ］ペネ
ム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1： 3550−3200，1790，1710−1665，1610 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.33−4.07（2H），4.05（2H，ｓ），5.34，5.54
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.4Hz），5.60（1H，ｓ），
5.85（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.70，8.18（4H，
A2B2，Ｊ＝9.3Hz） 実施例 ８−ｄ ２−［（ウラシル−５−イル）メチルチオ］ペネ
ム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 200.0，262.5，320.5 参考例 ａ ２−［（２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−５−プロモチアゾール−４−イル）メ
チルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエスエル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1795 核磁気共鳴スペクトル（DMSO−d6）δppm： 3.41（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.77（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz），4.10（2H，ｓ），5.10，5.32（2H，
AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.27（2H，ｓ）5.73（1H，
dd，Ｊ＝４，２Hz），7.58，8.07（4H，A2B2，Ｊ
＝９Hz），7.58，8.12（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 ９−ｄ ２−［（２−アミノチアゾール−４−イル）メチ
ルチオ］ペネム−３−カルボン酸（化合物Ａ）及
び２−［（２−アミノ−５−ブロモチアゾール−４
−イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸
（化合物Ｂ） 実施例 ９−ａで得られた化合物を接触還元処理
により目的化合物Ａ，Ｂが得られた。 （化合物Ａ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1755 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.48（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.78（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz），3.95，4.07（2H，AB−ｐ，Ｊ＝
14Hz），5.67（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），6.61（1H，
ｓ） （化合物Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1755 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.50（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.81（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz），3.92，4.10（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
14Hz），5.70（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz） 実施例 10−ａ ２−（１−ウレイドカルボニルエチルチオ） ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエ
ステル（異性体混合物） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，3310，1790，1700，1690，1670 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.64（3H×1/2，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），1.67（3H×1/
２，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），3.65（1H，dd，Ｊ＝15.9，
2.0Hz），3.98（1H，dd，Ｊ＝15.9，4.0Hz），4.41
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），〜4.85（2H，bs），5.35，
5.53（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），5.92（1H，
ｍ），〜7.33（1H，bs），7.79，8.27（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） 実施例 10−ｄ ２−（１−ウレイドカルボニルエチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ナトリウム塩（異性体混合
物） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，1770，1720〜1690，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 320.8（5892） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.52（3H×1/2，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），1.58（3H×1/
２，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），3.55（1H，dd，Ｊ＝17.0，
2.0Hz），3.83（1H，dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），4.13
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），5.76（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz） 実施例 11−ａ ２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3480，3330，1768，1690，1600 実施例 11−ｄ ２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，1760，1720−1690，1580 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 245.0（4762），320.7（6012） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.52（1H，dd，Ｊ＝17.0，2.0Hz），3.80（1H，
dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），3.88（2H，ｓ），5.76（1H，
dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz） 実施例 12−ａ （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（ウレイドカルボニ
ルメチルチオ）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニト
ロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3440，3330，3250，1788，1720，1705，1690，
1605 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 0.13（6H，ｓ），0.87（9H，ｓ），1.45（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.88−4.57（4H），5.37，5.55，（2H，
AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），5.97（1H，ｄ，Ｊ＝4.0
Hz），〜7.3（3H），7.84，8.30（4H，A2B2，Ｊ＝
9.3Hz） 実施例 12−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（ウレイドカルボニ
ルメチルチオ）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニト
ロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3500，3430，3350，3250，1790，1720，1700，
1690，1605 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 0.05（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.83（9H，ｓ），
1.27（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.97（1H，dd，Ｊ＝
4.0，2.0Hz），4.13（2H，ｓ），4.0−4.47（1H，
ｍ），5.28，5.44（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），
5.76（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），〜7.2（3H），7.74，
8.19（4H，A2B2，Ｊ＝8.4Hz） 実施例 12−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，3320，1780，1690，1670，1600 実施例12−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1785，1690 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 248.3（4611），322.5（5449） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.29（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.91（1H，dd，Ｊ
＝6.0，2.0Hz），4.1−4.36（1H，ｍ），5.69（1H，
ｄ，Ｊ＝2.0Hz），4.71（2H，ｓ） 実施例 13−ａ ２−［（１−メチルウレイドカルボニル）メチル
チオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3430，3380，1770，1690 実施例 13−ｄ ２−［（１−メチルウレイドカルボニル）メチル
チオ］ペネム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1765，1690，1670，1595 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 320.6（5656） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.28（3H，ｓ），3.52（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0
Hz），3.80（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），4.23（2H，
ｓ），5.75（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz） 実施例 14−ａ ２−（２−ベンズイミダゾリルメチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3450，1793，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.32（1H，dd，Ｊ＝17.4，2.0Hz），3.66（1H，
dd，Ｊ＝17.4，4.0Hz），4.47（2H，ｓ），5.11，
5.30（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.4Hz），5.48（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.10−8.18（8H，ｍ） 実施例 14−ｄ ２−（２−ベンズイミダゾリルメチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1760，1580 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.36（1H，dd，Ｊ＝17.0，2.0Hz），3.70（1H，
dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），5.59（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz），7.23，7.44（2H，ｍ），7.53−7.70（2H，
ｍ） 実施例 15−ａ （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（４−ピリジルメチ
ルチオ）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1785，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.05，0.10（6H，ｓ×２），0.87（9H，ｓ），1.42
（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.87（1H，dd，Ｊ＝10.0，
4.0Hz），4.20（2H，ｓ），4.0−4.40（1H，ｍ），
5.17，5.44（2H，AB−ｑ）Ｊ＝12.9Hz）5.67（1H，
ｄ，Ｊ＝4.0Hz），7.57，8.15（4H，A2B2−Ｊ＝8.7
Hz），7.28，8.54（4H，A2B2，Ｊ＝6.0Hz） 実施例 15−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（４−ピリジルメチ
ルチオ〕ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1785，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.04，0.06（6H，ｓ×２），0.82（9H，ｓ），1.22
（3H，dd，Ｊ＝6.0Hz），3.67（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz），4.12（2H，ｓ），4.05−4.40（1H，ｍ），
5.16−5.38（2H−AB−ｑ，Ｊ＝13.5Hz），5.58
（1H，dd，Ｊ＝2.0Hz），7.57，8.14（4H，A2B2，
Ｊ＝9.9Hz），7.25，8.55（4H，A2B2，Ｊ＝6.0Hz） 実施例 15−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（４−ピリジルメチルチオ）ペネム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1785，1670 実施例 15−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（４−ピリジルメチルチオ）ペネム−３−
カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1762，1593 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 255.9（6940），323.9（6290） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.26（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.81（1H，dd，Ｊ
＝7.0，1.5Hz），4.08−4.30（3H，ｍ），5.55（1H，
ｄ，Ｊ＝1.5Hz），7.51，8.50（4H，A2B2，Ｊ＝6.0
Hz） 実施例 16−ａ ２−トリフルオロメタンスルホニルチオペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1793，1680 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.83（1H，dd，Ｊ＝16.8，2.0Hz），3.59（1H，
dd，Ｊ＝16.8，4.0Hz），5.22，5.41（2H，AB−
ｑ，Ｊ＝13.5Hz），5.70（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0
Hz）7.57，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 16−ｄ ２−トリフオロメタンスルホニルチオペネム−
３−カルボン酸ナトリウム塩 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 246.5，318.5 実施例 17−ａ ２−［（２−Ｎ，N′−ジ−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルヒドラジノエチル）チオペネ
ム］−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3390，1790，1750，1718，1685 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.40−4.05（6H，ｍ），5.23（4H，ｓ），5.17，
5.39（2H，AB−ｑ，Ｊ＝12.9Hz），5.64（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.10−8.30（13H，ｍ） 実施例 17−ｄ ２−（２−ヒドラジノエチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 249.0，320.0 実施例 18−ａ ２−（２−ジエチルホスホノエチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1785，1683，1605 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 1.28（6H，ｔ），1.75−2.45（2H，ｍ），2.98−
3.37（2H，ｍ），3.50（1H，dd，Ｊ＝14.4，2.0Hz），
3.79（1H，dd，Ｊ＝14.4，3.5Hz），4.10（4H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz），5.22，5.43（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13.2
Hz），5.73（1H，dd，Ｊ＝3.5，2.0Hz），7.64，8.24
（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 18−ｄ ２−（２−ジエチルホスホノエチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1765，1595 実施例 19−ａ （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（２−アミノピリジ
ン−３−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3500，3400，1790，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.10（6H，ｓ），0.87（9H，ｓ），1.40（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.89（1H，dd，Ｊ＝10.0，4.0Hz），
4.10（2H，ｓ），4.30（1H，dq，Ｊ＝4.0，6.0Hz），
4.97（2H，bs），5.13，5.42（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
14Hz），5.65（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），6.58（1H，
dd，Ｊ＝7.5，5.0Hz），7.30（1H，dd，Ｊ＝7.5，
2.0Hz），8.00（1H，dd，Ｊ＝5.0，2.0Hz），7.55，
8.13（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 19−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（２−アミノピリジ
ン−３−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3500，3400，1790，1695 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.05（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.83（9H，ｓ），
1.25（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），3.73（1H，dd，Ｊ＝
４，２Hz），4.10（2H，ｓ），4.2（1H，ｍ），4.93
（2H，bs），5.17，5.38（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14
Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），6.62（1H，dd，
Ｊ＝7.5，５Hz），7.35（1H，dd，Ｊ＝7.5，２Hz），
8.05（1H，dd，Ｊ＝５，２Hz），7.6，8.15（4H，
A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 19−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（２−アミノピリジン−３−イルメチルチ
オ）−ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.29（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.90（1H，dd，Ｊ＝
６，２Hz），4.16（1H，ｍ），4.30（2H，ｓ），5.33
（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），5.34，5.54（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝14Hz），5.85（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），6.09（2H，
bs），6.49（1H，dd，Ｊ＝８，５Hz），7.59（1H，
dd，Ｊ＝８，２Hz），7.98（1H，dd，Ｊ＝５，２
Hz），7.80，8.26（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 19−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（２−アミノピリジン−３−イルメチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3350，1770，1660，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 213，311 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.24（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），4.04（1H，ｍ），
4.18，4.36（2H，AB−ｑ，Ｊ＝12Hz），5.61（1H，
ｄ，Ｊ＝２Hz），6.51（1H，dd，Ｊ＝７，５Hz），
7.46（1H，dd，Ｊ＝７，３Hz），7.90（1H，dd，
Ｊ＝５，３Hz） 実施例 20−ａ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（２−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ−５−ブロモチ
アゾール−４−イル）メチルチオ］ペネム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）６−（tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−２−チオキソペナム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルを用い実
施例１−ａと同様の反応処理により表題化合物を
得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3400，1790，1730，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.02（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.80（9H，ｓ），
1.22（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），3.75（1H，dd，Ｊ＝
4.2Hz），4.07（2H，ｓ），4.18（1H，ｍ），5.06，
5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.30（2H，ｓ），
5.54（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），7.46，8.08（4H，
A2B2，Ｊ＝９Hz）7.51，8.13（4H，A2B2，Ｊ＝
９Hz） 実施例 20−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−５−ブロモチアゾール−４−イル）メ
チルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1785，1725，1690 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.28（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），3.8−4.15（2H，
ｍ），4.27（2H，ｓ），5.83（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.77，8.22（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz），7.77，8.26
（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 20−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル
−２−［（２−アミノチアゾール−４−イル）メチ
ルチオ］ペネム−３−カルボン酸（化合物Ａ）及
び（5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（２−アミノ−５−ブロモチアゾール−４
−イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸
（化合物Ｂ） （化合物Ａ） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.28（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.85（1H，dd，Ｊ＝
６，１Hz），3.95，4.10（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13
Hz），4.22（1H，ｍ），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz），
6.62（1H，ｓ） 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 253，324 （化合物Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3450，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 261，325 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.29（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.88（1H，dd，Ｊ＝
6.5，１Hz），3.90，4.15（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14
Hz），4.2（1H，ｍ），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz） 実施例 21−ａ ２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−
ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1798，1695 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.49（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝1.8，17.0Hz），3.68
（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝4.0，17.0Hz），3.95（3H，
ｓ），4.29（2H，ｓ），5.06，5.26（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝13.5Hz），5.59（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝1.8，4.0
Hz），7.52，8.09（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 21−ｄ ２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ナト
リウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 245（4530），322（5980） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.54（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝2.0，17.0Hz），3.81
（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝3.8，17.0Hz），4.15（1H，
ｓ），4.42，4.58（2H，AB−ｑ，Ｊ＝17.0Hz），
5.70（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝3.8Hz） 実施例 22−ａ （5R，6S，8R）−６−（１−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル）−２−［Ｎ，N′−ビス
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−ヒ
ドラジノエチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ
−ニトロベンジルエステル トリフエニルホスフイン（68mg）のTHF溶液
（１ml）に氷冷窒素気流下、ジエチルアゾジカル
ボキシレート（41μl）を加え、10分間撹拌する。
別に、Ｎ，N′−ビス（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−ヒドラジノエタノール（113
mg）と（5R，6S，8R）−６−（１−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）−２−チオキソペ
ナム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル（86mg）のTHF溶液（1.5ml）を用意し、氷冷
下、先の溶液に滴下する。氷冷下１時間撹拌した
後、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄、芒
硝で乾燥する。溶剤を留去後、残渣をローパーカ
ラム（ベンゼン：酢酸エチル＝２：１）を用いて
精製して目的化合物（86mg）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）： 0.06，0.09（6H，ｓ×２），0.85（9H，ｓ），1.25
（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.07−4.10（5H，ｍ），
4.08−4.45（1H，ｍ），5.15，5.41（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝13.8Hz），5.26（4H，ｓ×２），5.68（1H，ｄ
状），7.27−7.77，7.97−8.3513H，ｍ） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3400，1785，1755，1723，1690 実施例 22−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［Ｎ，N′−ビス（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−ヒドラジノエチルチオ］ペ
ネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.1−4.4（6H，ｍ），
5.28（4H，ｓ），5.21.5.46（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
14.4Hz），5.73（1H，ｄ状），7.4−7.8（6H，ｍ），
7.95−8.30（6H，ｍ） 実施例 22−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（２−ヒドラジノエチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3370，1760，1588 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），2.90−3.43（4H，ｔ
状×２），3.95（1H，dd，Ｊ＝6.0，1.5Hz），4.12
−4.40（1H，ｍ），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝1.5Hz） 実施例 23−ａ ２−［２−（２−ニトロ−1H−イミダゾール−
１−イル）エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル 融点 57−58℃ 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1795，1705，1680，1605 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.23（1H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），3.27（1H，ｔ，Ｊ
＝6.0Hz），3.46（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0Hz），3.83
（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），4.12（1H，ｔ，Ｊ
＝6.0Hz），4.23（1H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），5.17，5.48
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.66（1H，dd，Ｊ
＝4.0，2.0Hz），6.99（2H，ｓ），7.58，8.20（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 23−ｄ ２−［−（２−アミノ−1H−イミダゾール−１
−イル）エチルチオ〕ペネム−３−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3430，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 255，319 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 2.49−3.10（2H，ｍ），3.06（1H，dd，Ｊ＝16.0，
2.0Hz），3.46（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），3.98
（2H，ｍ），4.92（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），6.44
−6.68（3H，ｍ），7.52−7.74（2H，ｍ） 実施例 24−ａ ２−［２−（２−メチル−４−ニトロ−1H−イ
ミダゾール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 融点 184−185℃ 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1795，1705，1680，1600 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm： 267，326 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 2.47（3H，ｓ），3.54（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），
3.56（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0Hz），4.00（1H，dd，
Ｊ＝16.0，4.0Hz），4.48（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），
5.26，5.55（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.80
（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.72，8.22（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz），7.98（1H，ｓ） 実施例 24−ｄ ２−［２−（２−メチル−４−アミノ−1H−イ
ミダゾール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1770，1710，1670，1600 紫外線吸収スクトル λH2O naxnm（ε）：319（4851
） 実施例25−ａ ２−［２−（２−メチル−５−ニトロ−1H−イ
ミダゾール−１−ル）エチルチオ］ベネム−３
−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νL1g nax： 1795，1700 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm： 263，318 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 2.50（3H，ｓ），3.15−3.70（2H，ｍ），3.50
（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0Hz），3.83（1H，dd，Ｊ
＝16.0，4.0Hz），4.35−4.80（2H，ｍ），5.23，4.40
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），7.60，8.18（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz），7.93（1H，ｓ） 実施例 25−ｄ ２−［２−（２−メチル−５−アミノ−1H−イ
ミダゾール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr nax： 3425，1770，1595 紫外線吸収スペクトル λH2O nax： 318.5（4629.6） 実施例 26−ａ ２−［２−（２−ピリジル）エチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 融点 131−133℃ 赤外線吸収スペクトル νLiq nax： 1798，1690，1520 赤外線吸収スペクトル νEtOH nax： 262，338.5 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 2.95−3.55（4H，ｍ），3.47（1H，dd，Ｊ＝15.0，
2.0Hz），3.83（1H，dd，Ｊ＝15.0，4.0Hz）5.17，
5.43（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.67（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），6.95−7.80（3H，ｍ），7.58，
8.15（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 26−ｄ ２−［２−（２−ピリジル）エチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 261.1（7270），321.0（5819） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.0−3.50（4H，ｍ），3.42（1H，dd，Ｊ＝16.0，
2.0Hz），3.76（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），5.53
（1H，dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），7.23−7.48（2H，
ｍ），7.66−7.92（1H，ｍ），8.30−8.56（1H，ｍ） 実施例 27−ａ １−［３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）ペネム−２−イルチオエチル］ピリジニウム
プロマイド 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm： 260，336 核磁気共鳴スペクトル（DMSO−d6）δppm： 2.9−4.0（4H，ｍ），4.98（2H，ｔ，Ｊ＝5.0Hz），
5.25，5.45（2H，AB−ｑ，Ｊ＝15.0Hz），7.4−9.3
（5H，ｍ） 実施例 27−ｄ ２−［２−（１−ピリジニウム）エチルチオ］ペ
ネム−３−カルボキシレート 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1790，1560，1490 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 257（7284），317.2（5310） 実施例 28−ａ ２−シアノメチルチオペネム−３−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2245，1788，1680 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.66（1H，dd，Ｊ＝17.1，2.0Hz），3.98（1H，
dd，Ｊ＝17.1，4.0Hz），4.28（2H，ｓ），5.32，
5.50（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），5.96（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.77，8.26（4H，A2B2，Ｊ＝
9.9Hz） 実施例 28−ｄ ２−シアノメチルチオペネム−３−カルボン酸
ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2240，1760，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 239.9（4742），322.1（5901） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.62（1H，dd，Ｊ＝17.0，2.0Hz），3.87（1H，
dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），5.86（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz） 実施例 29−ａ （5S，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６−
（１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）
ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエス
テル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1788，1690，1603 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.16（6H，ｓ），0.86（9H，ｓ），1.34（3H，ｄ，
Ｊ＝5.5Hz），3.61（2H，ｓ），3.77（1H，dd，Ｊ＝
4.5，Ｊ＝11.0Hz），4.2付近（1H，ｍ），5.07，
5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.68（1H，ｄ，
Ｊ＝4.5Hz），7.47，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 29−ｂ （5R，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６
−（１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジル
エステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1795，1695 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.06（3H，ｓ），0.09（3H，ｓ），0.81（9H，ｓ），
1.20（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.57（2H，ｓ），3.69
（1H，dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），4.2付近（1H，ｍ），
5.09，5.28（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.66
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.50，8.10（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） 実施例 29−ｃ （5R，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６
−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボ
ン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3440，2240，1775，1680 核磁気共鳴スペクトル（CD3OCD3）δppm： 1.22（3H，ｄ，JJ＝6.0Hz），3.95（2H，Ｓ），
5.19，5.38（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.80
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.65，8.13（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） 実施例 29−ｄ （5R，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６
−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボ
ン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，2230，1775 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.22（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.99（1H，dd，Ｊ
＝2.0，6.0Hz），4.14−4.40（1H，ｍ），5.77（1H，
ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 30−ａ （5S，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチオ）
−６−（１−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル（異性体混合物） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1795，1700 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.15（6H，ｓ），0.90（9H，ｓ），1.45（3H，ｄ，
Ｊ＝６Hz），1.72（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.82（1H，
dd，Ｊ＝５，９Hz），4.10（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
〜4.4（1H，ｍ），5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），
5.77（1H，ｍ），7.63，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝８
Hz） 実施例 30−ｂ （5R，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチ
オ）−６−（１−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステル（異性体ＡおよびＢ） （異性体Ａ） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1800，1700 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.05（3H，ｓ），0.08（3H，ｓ），0.83（6H，ｓ），
1.27（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.74（3h，ｄ，Ｊ＝７
Hz），3.83（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），4.07（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.2（1H，ｍ），5.24，5.36
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13Hz），5.73（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.61，8.19（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） （異性体Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2220，1790，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.04（3H，ｓ），0.06（3H，ｓ），0.82（6H，ｓ），
1.25（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.70（3H，ｄ，Ｊ＝７
Hz），3.78（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），4.06（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.2（1H，ｍ），5.19，5.38
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13Hz），5.76（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.60，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 30−ｃ （5R，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチ
オ）−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル（異性体
ＡおよびＢ） （異性体Ａ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2220，1780，1680 核磁気共鳴スペクトル（DMFd7＋CDCl3）
δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.69（3H，ｄ，Ｊ＝
７Hz），3.80（1H，dd，Ｊ＝７，２Hz），4.19（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.3（1H，ｍ），5.20，5.45
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），6.81（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.65，8.15（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） （異性体Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2230，1780，1700 核磁気共鳴スペクトル（DMFd7＋CDCl3） 1.32（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.74（3H，ｄ，Ｊ＝
７Hz），3.88（1H，dd，Ｊ＝７，２Hz），4.22（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.2（1H，ｍ），5.32，5.45
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.84（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.72，8.19（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 30−ｄ 5R，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチオ）
−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カ
ルボン酸ナトリウム塩（異性体ＡおよびＢ） （異性体Ａ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2240，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 261，324 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.64（3H，ｓ），
4.05（1H，dd，Ｊ＝６，２Hz），〜4.4（1H，ｍ），
5.76（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） （異性体Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2240，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 239.9（4600），323.5（5600） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.68（3H，ｄ，Ｊ＝
７Hz），3.99（1H，dd，Ｊ＝６，２Hz），4.24（1H，
ｑ，Ｊ＝６Hz），〜4.3（1H，ｍ），5.78（1H，ｄ，
Ｊ＝２Hz） 実施例 31−ａ ２−メチルチオメチルチオペネム−３−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1772，1670 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 2.30（3H，ｓ），3.66（1H，dd，Ｊ＝16.8，2.0
Hz），4.01（1H，dd，Ｊ＝16.8，4.0Hz），4.29（2H，
ｓ），5.37，5.53（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），
4.92（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.81，8.28（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 31−ｄ ２−メチルチオメチルチオペネム−３−カルボン
酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1763，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 252，322.5。
す。）、シアノ基、低級アルキルチオ基、あるいは
低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、低級
アルキル若しくはアリールスルホニルオキシ基、
保護されたアミノ基または保護された水酸基を有
するか有しない芳香複素環基を示す。〕を表わし、
R15は低級アルキル基を表わす。 Ａ法は一般式(2)を有する化合物に一般式(3)を有
するアルキル化剤を反応させて一般式(4)を有する
ペネム−３−カルボン酸誘導体を製造し、次いで
所望に応じて得られた化合物をカルボキシル基の
保護基R11の除去反応並びにR10およびR13 aに含ま
れるそれぞれ対応する保護基を除去して水酸基、
メルカプト基およびアミノ基若しくは低級アルキ
ルアミノ基を復元する反応に付し、一般式(1)を有
する本発明の目的化合物を製造する反応である。 本発明のＡ法を実施するに当つて、前記一般式
(2)を有する化合物を前記一般式(3)を有するアルキ
ル化剤と反応させて前記一般式(4)を有する化合物
を製造する反応は不活性溶剤中塩素共存下で好適
に行なわれる。使用される溶剤としては本反応に
関与しなければ特に限定はなく、例えばクロロホ
ルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類、アセ
トニトリルのようなニトリル類、ギ酸エチル、酢
酸エチルのようなエステル類、例えばメタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、ジメチルスルホキサイ
ド、ニトロメタンまたはこれらの有機溶剤との混
合溶剤若しくは水との混合溶剤があげられる。ま
た、使用される塩基としては化合物の他の部分、
特にβ−ラクタム環に影響を与えないものであれ
ば特に限定はないが、好適には酸結合剤であるト
リエチルアミン、ピリジン、26−ルチヂン、ジメ
チルアニリン等の有機塩基、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシ
ウム等のアルカリ金属重炭酸塩若しくは炭酸塩あ
るいは水素化ナトリウム、水素化カリウムのよう
なアルカリ金属水素化合物等があげられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行うのが望ましく、通常
は−10℃乃至100℃位で行なわれる。反応時間は
主に反応温度、原料化合物の種類によつて異なる
が数分乃至100時間である。 反応終了後、本反応の目的化合物(4)は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応混合
物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、溶
剤を留去することによつて得られる。得られた目
的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶、再沈
澱またはクロマトグラフイーなどによつて更に精
製することができる。 ここで得られる化合物(4)が5S配位の異性体で
ある場合には、これを例えばトルエン、キシレ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドのような有機溶剤中で加熱することによつて、
容易に5R配位の異性体に変換することができる。 次いで、得られた化合物(4)は必要に応じて常法
に従つてカルボキシル基の保護基R11の除去処理
を行つて、カルボン酸誘導体に変換することがで
きる。保護基の除去はその種類によつて異なる
が、一般にこの分野の技術で知られている方法に
よつて除去される。好適には反応は前記一般式(4)
を有する化合物のうちの置換基R11がハロゲノア
ルキル基、アラルキル基、ベンズヒドリル基など
の還元処理によつて除去し得る保護基である化合
物を還元剤と接触させることによつて達成され
る。本反応に使用される還元剤としてはカルボキ
シル基の保護基が例えば2.2−ジブロモエチル、
2.2.2−トリクロロエチルのようなハロゲノアル
キル基である場合には亜鉛および酢酸が好適であ
り、保護基が例えばベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ルのようなアラルキル基またはベンズヒドリル基
である場合には水素およびパラジウム−炭素のよ
うな接触還元触媒または硫化ナトリウム若しくは
硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物が好適
である。反応は溶剤の存在下で行なわれ、使用さ
れる溶剤としては本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類、酢酸のような脂肪酸
およびこれらの有機溶剤と水との混合溶剤が好適
である。反応温度は通常は０℃乃至室温付近であ
り、反応時間は原料化合物および還元剤の種類に
よつて異なるが、通常は５分間乃至12時間であ
る。 反応終了後は、カルボキシル基の保護基の除去
反応の目的化合物は常法に従つて反応混合物から
採取される。例えば反応混合物より析出した不溶
物を去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し溶剤
を留去することによつて得ることができる。 このようにして得られた目的化合物は、必要な
らば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロマトグ
ラフイー、カラムクロマトグラフイーなどによつ
て精製することができる。 また、化合物(4)において置換基R10および／ま
たはR13 aがアシルオキシ基、アシルチオ基、トリ
アルキルシリルオキシ基、アシルアミノ基または
アラルキルアミノ基、を有する時には所望に応じ
て、以下に記載するように常法に従つてそれぞれ
の保護基を除去して対応する水酸基またはアミノ
基である化合物に変換し、さらにこのようにして
得られた化合物を上述したカルボキシル基の保護
基R11の除去反応に付することができる。すなわ
ち、前記一般式(1)を有する化合物のうち、置換基
R1および／またはR2が水酸基を有する化合物を
製造する反応は、一般式(4)を有する化合物のうち
のR10および／またはR13 aがアシルオキシ基ある
いはトリアルキルシリルオキシ基を有する化合物
より水酸基のアシルあるいはトリアルキルシリン
保護基を除去することによつて達成される。R10
および／またはR13 aがアセトキシのような低級脂
肪族アシルオキシ基またはアセチルチオのような
低級脂肪族アシルチオ基を有する場合には、反応
は相当する化合物(4)を水性溶剤の存在下で塩基で
処理することにより実施することができる。使用
される溶剤としては通常の加水分解反応に使用さ
れる溶剤であれば特に限定はないが、水あるいは
水とメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール
のようなアルコール類若しくはテトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類などの有機溶
剤との混合溶剤が好適である。また、使用される
塩基としては化合物の他の部分、特にβ−ラクタ
ム環に影響を与えないものであれば特に限定はな
いが、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩を用いて行なわれる。
反応温度は特に限定はないが、副反応を抑制する
ために０℃乃至室温付近が好適である。反応に要
する時間は原料化合物の種類および反応温度など
によつて異なるが、通常は１乃至６時間である。 さらに上記の置換基R10および／またはR13 aが
ベンジルオキシカルボニルオキシあるいはｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシのようなア
ラルキルオキシカルボニルオキシ基を有する場合
には、反応は相当する化合物(4)を還元剤と接触さ
せることによつて実施することができる。本反応
に使用される還元剤の種類および反応条件は前述
したカルボキシル基の保護基R11であるアラルキ
ル基を除去する場合と同様であり、従つてカルボ
キシル基の保護基R11も同時に除去することがで
きる。なお、本還元反応によつて、前記一般式(4)
を有する化合物のうちの置換基R10およびR13 aが
アミノ基の保護基であるベンジルオキシカルボニ
ル若しくはｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
のようなアラルキルオキシカルボニル基あるいは
ジフエニルメチルのようなアラルキル基を有する
化合物よりこれらの保護基を除去して相当するア
ミノ化合物に変換することができる。さらに本還
元反応によつて置換基R13 aがニトロ基を有する場
合もアミノ基に還元し、置換分としてのハロゲン
原子も水素原子に還元することができる。 また、上記の置換基R10および／またはR13 aが
tert−ブチルジメチルシリルオキシのようなトリ
低級アルキルシリルオキシ基を有する場合には、
反応は相当する化合物(4)をフツ化テトラブチルア
ンモニウムで処理することにより実施することが
できる。使用される溶剤としては特に限定はない
が、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類が好適である。反応は室温付近において
10乃至18時間処理することによつて好適に行なわ
れる。 また、前記一般式(4)を有する化合物のうちの置
換基R10および／またはR13 aがアミノ基または低
級アルキルアミノ基の保護基であるトリフルオロ
アセチルあるいはトリクロロアセチルのようなハ
ロゲノアセチル基を有する場合には、その除去反
応は相当する化合物(4)を水性溶剤の存在下で塩基
で処理することにより実施することができる。本
反応に使用される塩基の種類および反応条件は前
述した置換基R10および／またはR13 aにおける水
酸基の低級脂肪族アシル保護基を除去する場合と
同様である。 以上の各種の反応を実施した後、各反応の目的
化合物は常法に従つて反応混合物から採取され、
必要ならば常法例えば再結晶法、分取用薄層クロ
マトグラフイー、カラムクロマトグラフイーなど
によつてさらに精製することができる。 Ｂ法は一般式(2)を有する化合物にトリフエニル
ホスフインの存在下、一般式(5)を有するヒドロキ
シ化合物および一般式(6)を有するアゾジカルボン
酸ジエステルを反応させて一般式(4)を有するペネ
ム−３−カルボン酸誘導体を製造し、次いで前述
したＡ法と同様にして所望に応じて得られた化合
物をカルボキシル基の保護基R11の除去反応並び
にR10および／R13 aに含まれるそれぞれ対応する
保護基を除去して水酸基、メルカプト基、および
アミノ基、低級アルキルアミノ基を復元する反応
に付し、一般式(1)を有する本発明の化合物を製造
する反応である。 本発明のＢ法を実施するに当つて、前記一般式
(2)を有する化合物をトリフエニルホスフインおよ
び一般式(6)を有するアゾジカルボン酸ジエステル
の存在下、一般式(5)を有するヒドロキシ化合物と
反応させて前記一般式(4)を有する化合物を製造す
る反応は不活性溶剤中で行なわれる。使用される
溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定は
なく、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンのような芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、
クロロホルム、ジクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、ヘキサメチルホスホルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミド
類、ピリジンまたはこれらの有機溶剤の混合溶剤
があげられる。 反応温度には特に限定はないが、副反応を抑え
るためには比較的低温で行なうのが望ましく、通
常は−20℃乃至室温付近で行なわれる。反応時間
は主に反応温度、原料化合物の種類によつて異な
るが数分乃至100時間である。 反応終了後は、本反応の目的化合物(4)は常法に
従つて反応混合物から採取される。例えば反応混
合物に水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、
溶剤を留去することによつて得られる。得られた
目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶、再
沈澱またはクロマトグラフイーなどによつて更に
精製することができる。 次いで、得られた化合物(4)は必要に応じて前述
したＡ法と同様にして一般式(1)を有する化合物に
導くことができる。 本発明の前記一般式(1)を有するペネム−３−カ
ルボン酸誘導体は、すぐれた抗菌作用を表わすも
のであるかあるいはそれらの抗菌作用を表わす化
合物の重要合成中間体である。そのうちの抗菌作
用を表わす化合物についてその活性を寒天平板希
釈法により測定したところ、例えば黄色ブドウ状
球菌、枯草菌などのグラム陽性菌及び大腸菌、赤
痢菌、肺炎桿菌、変形菌、緑膿菌などのグラム陰
性菌を包含する広範囲な病原菌に対して活性を示
した。 従つてこのような化合物はこれらの病原菌によ
る細菌感染症を治療する抗菌剤として有用であ
る。その目的のための投与形態としては、例えば
錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロツプ剤な
どによる経口投与あるいは静脈内注射、筋肉内注
射などによる非経口投与があげられる。投与量は
年令、体重、症状など並びに投与形態および投与
回数によつて異なるが、通常は成人に対して１日
約250乃至3000mgを１回または数回に分けて投与
する。 次に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説
明する。 実施例 １−ａ （5s，6s，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル （5s，6s，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−チオキソペネム−
３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル
（174mg）の塩化メチレン溶液（３ml）にトリエチ
ルアミン（56μl）、５−クロロメチル−１−メチ
ルテトラゾール（53mg）、ヨウ化ナトリウム（60
mg）を加え、室温で24時間撹拌する。溶媒を留去
した後、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥（硫酸
マグネシウム）する。再び、溶媒を留去し、残渣
をローバーカラムクロマトグラフイーを用い精製
して、ベンゼン−酢酸エチル（４：１）で溶出さ
れる部分から149mgの目的化合物を得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1798，1700。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.11（6H，ｓ），0.86（9H，ｓ），1.48（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.7〜4.3（2H，ｍ），4.14（3H，ｓ），
4.52（2H，ｓ），5.20，５，37（2H，AB−ｑ，Ｊ
＝14.0Hz），5.71（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），7.63，
8.19（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 １−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル
（149mg）のキシレン溶液（40ml）にハイドロキノ
ン（３mg）を加え、150℃に油浴中１時間加熱す
る。溶媒を留去し、残渣をローバーカラムを用い
（ベンゼン−酢酸エチル＝３：１）、目的化合物と
原料に分離する。回収した原料は、再び同じ操作
を行なうことにより、合計117mgの目的化合物を
得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1795，1695。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.03（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.76（9H，ｓ），
1.16（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz），3.74（1H，ｄ−ｄ，
Ｊ＝1.8，4.0Hz），4.09（3H，ｓ），4.41（2H，ｓ），
5.21，5.38（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.69
（1H，ｄ，Ｊ＝1.8Hz），7.65，8.24（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz）。 実施例 １−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−
ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（１−メチル−1H
−テトラゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル
（96mg）のテトラヒドロフラン溶液（３ml）に酢
酸（120μl）とテトラブチルアンモニウムフルオ
ライド（308mg）を加え、室温で24時間撹拌する。
反応液に酢酸エチルと飽和食塩水を加え、有機層
を分離し、５％重曹水、飽和食塩水で洗浄する。
硫酸マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を留去
し、残渣をローバーカラムで精製して（酢酸エチ
ル）、25mgの目的化合物を結晶として得た。 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.31（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz），3.87（1H，ｄ−ｄ，
Ｊ＝1.8，7.0Hz），3.5〜4.3（2H，ｍ），4.24（3H，
ｓ），4.72（2H，ｓ），5.38，5.57（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝14.0Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ＝1.8Hz），7.83，
8.31（1H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 １−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ナト
リウム塩 （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−
ニトロベンジルエステル（25mg）のテトラヒドロ
フラン溶液（４ml）に、リン酸緩衝液（PH7.1，
４ml）と10％パラジウム炭素（50mg）を加え、水
素ふん囲気下、２時間撹拌する。反応後、セライ
トを用いて触媒を去し、液を酢酸エチルで２
回洗浄する。水層を約１mlになるまで減圧下濃縮
し、ダイアイオン（三菱化成工業〓 Hp20AG）
で精製して、５％アセトン水で溶出される部分か
ら目的化合物８mgを得た。 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1775，1590。 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.27（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.88（1H，ｄ−ｄ，
Ｊ＝1.8，6.5Hz），3.9〜4.4（1H，ｍ），4.14（3H，
ｓ），4.37，4.59（2H，AB−ｑ，Ｊ＝16.0Hz），
5.62（1H，ｄ，Ｊ＝1.8Hz） 以下実施例１−ａ（チオキソペナムのアルキル
化）、１−ｂ（ペネム化合物の異性化）、１−ｃ（側
鎖水酸基の脱保護）、１−ｄ（接触還元による脱保
護基）の各工程を準用し、下記各化合物を得た。 実施例 ２−ａ ２−［（４−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1790，1685，1603 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.47.1H，dd，Ｊ＝17.7，2.0Hz），3.85（1H，
dd，Ｊ＝17.7，4.0Hz），4.28（2H，ｓ），5.24，
5.43（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13.5Hz），5.77（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.68，8.18（4H，A2B2，Ｊ＝
8.4Hz），7.38，8.51（4H，A2B2，Ｊ＝6.3Hz） 実施例 ２−ｄ ２−［（４−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1760，1595，1515 実施例 ３−ａ ２−［（２−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.34（1H，dd，Ｊ＝17.1，2.0Hz），3.64（1H，
dd，Ｊ＝17.1，3.0Hz），4.22（2H，ｓ），5.11，
5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13.8Hz），5.55（1H，dd，
Ｊ＝3.0，2.0Hz），7.51，8.10（4H，A2B2，Ｊ＝
8.7Hz），7.0−7.7（3H，ｍ），8.4−8.6（1H，ｍ） 実施例 ３−ｄ ２−［（２−ピリジル）メチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1760，1588，1510 実施例 ４−ａ ２−［２−（Ｎ−アセチルカルバモイル）アミノ
エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロ
ベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1770 実施例 ４−ｄ ２−［２−（Ｎ−アセチルカルバモイル）アミノ
エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ナトリウム
塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，3320，1760，1690，1570 紫外線吸収スペクトル νH2O naxnm（ε） 252.9（3840），320.7（6810） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 2.14（3H，ｓ），3.15（2H，ｔ，Ｊ＝6.6Hz），
3.58（2H，ｔ，Ｊ＝6.6Hz），3.49（1H，dd，Ｊ＝
17.5，2.0Hz），3.79（1H，dd，Ｊ＝17.5，4.0Hz），
5.68（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0mm2） 実施例 ５−ａ ２−（２−カルバモイルオキシエチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3450，3330，1785，1705，1685，1600 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.30（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），3.6−4.1（2H，dd×
２，Ｊ＝3.5，1.5Hz），4.28（2H，ｔ，Ｊ＝6.0mm2），
5.41，5.57（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.4mm2），6.67
（2H，bs），7.87，8.36（4H，A2B2，Ｊ＝9.3mm2），
5.97（1H，dd，Ｊ＝3.5，1.5Hz） 実施例５−ｄ ２−（２−カルバモイルオキシエチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400〜3450，1760，1710，1580 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.25（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），3.54（1H，dd，Ｊ
＝16.5，2.0Hz），3.82（1H，dd，Ｊ＝16.5，3.0
Hz），4.31（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），5.76（1H，dd，
Ｊ＝3.0，2.0Hz） 実施例 ６−ａ ２−（2.3−エポキシプロピルチオ）ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1800，1685，1605 実施例 ６−ｄ ２−（2.3−エポキシプロピルチオ）ペネム−３
−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1760，1590 実施例 ７−ａ ２−［（３−ベンゼンスルホニルオキシイソキサ
ゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム−３−カ
ルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1802 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.51（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.82（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz）、4.16（2H，ｓ），5.23，5.44（2H，
AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.73（1H，dd，Ｊ＝４，２
Hz），6.38（1H，ｓ），7.5−8.5（9H，ｍ） 実施例 ７−ｄ ２−［３−ベンゼンスルホニルオキシイソキサ
ゾール−５−イル）メチルチオ］ペネム−３−カ
ルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1770 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.50（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.83（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz）、4.08，4.26（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
18Hz），5.65（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），6.34（1H，
ｓ），7.6−8.1（5H，ｍ） 実施例 ８−ａ ２−［（ウラシル−５−イル）メチルチオ］ペネ
ム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νNujol naxcm-1： 3550−3200，1790，1710−1665，1610 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.33−4.07（2H），4.05（2H，ｓ），5.34，5.54
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.4Hz），5.60（1H，ｓ），
5.85（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.70，8.18（4H，
A2B2，Ｊ＝9.3Hz） 実施例 ８−ｄ ２−［（ウラシル−５−イル）メチルチオ］ペネ
ム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 200.0，262.5，320.5 参考例 ａ ２−［（２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−５−プロモチアゾール−４−イル）メ
チルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエスエル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1795 核磁気共鳴スペクトル（DMSO−d6）δppm： 3.41（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.77（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz），4.10（2H，ｓ），5.10，5.32（2H，
AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.27（2H，ｓ）5.73（1H，
dd，Ｊ＝４，２Hz），7.58，8.07（4H，A2B2，Ｊ
＝９Hz），7.58，8.12（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 ９−ｄ ２−［（２−アミノチアゾール−４−イル）メチ
ルチオ］ペネム−３−カルボン酸（化合物Ａ）及
び２−［（２−アミノ−５−ブロモチアゾール−４
−イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸
（化合物Ｂ） 実施例 ９−ａで得られた化合物を接触還元処理
により目的化合物Ａ，Ｂが得られた。 （化合物Ａ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1755 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.48（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.78（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz），3.95，4.07（2H，AB−ｐ，Ｊ＝
14Hz），5.67（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），6.61（1H，
ｓ） （化合物Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1755 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.50（1H，dd，Ｊ＝17，２Hz），3.81（1H，dd，
Ｊ＝17，４Hz），3.92，4.10（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
14Hz），5.70（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz） 実施例 10−ａ ２−（１−ウレイドカルボニルエチルチオ） ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエ
ステル（異性体混合物） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，3310，1790，1700，1690，1670 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.64（3H×1/2，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），1.67（3H×1/
２，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），3.65（1H，dd，Ｊ＝15.9，
2.0Hz），3.98（1H，dd，Ｊ＝15.9，4.0Hz），4.41
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），〜4.85（2H，bs），5.35，
5.53（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），5.92（1H，
ｍ），〜7.33（1H，bs），7.79，8.27（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） 実施例 10−ｄ ２−（１−ウレイドカルボニルエチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ナトリウム塩（異性体混合
物） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，1770，1720〜1690，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 320.8（5892） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.52（3H×1/2，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），1.58（3H×1/
２，ｄ，Ｊ＝7.0Hz），3.55（1H，dd，Ｊ＝17.0，
2.0Hz），3.83（1H，dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），4.13
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），5.76（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz） 実施例 11−ａ ２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3480，3330，1768，1690，1600 実施例 11−ｄ ２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，1760，1720−1690，1580 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 245.0（4762），320.7（6012） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.52（1H，dd，Ｊ＝17.0，2.0Hz），3.80（1H，
dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），3.88（2H，ｓ），5.76（1H，
dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz） 実施例 12−ａ （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（ウレイドカルボニ
ルメチルチオ）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニト
ロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3440，3330，3250，1788，1720，1705，1690，
1605 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 0.13（6H，ｓ），0.87（9H，ｓ），1.45（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.88−4.57（4H），5.37，5.55，（2H，
AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），5.97（1H，ｄ，Ｊ＝4.0
Hz），〜7.3（3H），7.84，8.30（4H，A2B2，Ｊ＝
9.3Hz） 実施例 12−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（ウレイドカルボニ
ルメチルチオ）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニト
ロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3500，3430，3350，3250，1790，1720，1700，
1690，1605 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 0.05（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.83（9H，ｓ），
1.27（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.97（1H，dd，Ｊ＝
4.0，2.0Hz），4.13（2H，ｓ），4.0−4.47（1H，
ｍ），5.28，5.44（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），
5.76（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），〜7.2（3H），7.74，
8.19（4H，A2B2，Ｊ＝8.4Hz） 実施例 12−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，3320，1780，1690，1670，1600 実施例12−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（ウレイドカルボニルメチルチオ）ペネム
−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1785，1690 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 248.3（4611），322.5（5449） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.29（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.91（1H，dd，Ｊ
＝6.0，2.0Hz），4.1−4.36（1H，ｍ），5.69（1H，
ｄ，Ｊ＝2.0Hz），4.71（2H，ｓ） 実施例 13−ａ ２−［（１−メチルウレイドカルボニル）メチル
チオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3430，3380，1770，1690 実施例 13−ｄ ２−［（１−メチルウレイドカルボニル）メチル
チオ］ペネム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1765，1690，1670，1595 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 320.6（5656） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.28（3H，ｓ），3.52（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0
Hz），3.80（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），4.23（2H，
ｓ），5.75（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz） 実施例 14−ａ ２−（２−ベンズイミダゾリルメチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3450，1793，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.32（1H，dd，Ｊ＝17.4，2.0Hz），3.66（1H，
dd，Ｊ＝17.4，4.0Hz），4.47（2H，ｓ），5.11，
5.30（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.4Hz），5.48（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.10−8.18（8H，ｍ） 実施例 14−ｄ ２−（２−ベンズイミダゾリルメチルチオ）ペ
ネム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1760，1580 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.36（1H，dd，Ｊ＝17.0，2.0Hz），3.70（1H，
dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），5.59（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz），7.23，7.44（2H，ｍ），7.53−7.70（2H，
ｍ） 実施例 15−ａ （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（４−ピリジルメチ
ルチオ）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1785，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.05，0.10（6H，ｓ×２），0.87（9H，ｓ），1.42
（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.87（1H，dd，Ｊ＝10.0，
4.0Hz），4.20（2H，ｓ），4.0−4.40（1H，ｍ），
5.17，5.44（2H，AB−ｑ）Ｊ＝12.9Hz）5.67（1H，
ｄ，Ｊ＝4.0Hz），7.57，8.15（4H，A2B2−Ｊ＝8.7
Hz），7.28，8.54（4H，A2B2，Ｊ＝6.0Hz） 実施例 15−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（４−ピリジルメチ
ルチオ〕ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1785，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.04，0.06（6H，ｓ×２），0.82（9H，ｓ），1.22
（3H，dd，Ｊ＝6.0Hz），3.67（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz），4.12（2H，ｓ），4.05−4.40（1H，ｍ），
5.16−5.38（2H−AB−ｑ，Ｊ＝13.5Hz），5.58
（1H，dd，Ｊ＝2.0Hz），7.57，8.14（4H，A2B2，
Ｊ＝9.9Hz），7.25，8.55（4H，A2B2，Ｊ＝6.0Hz） 実施例 15−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（４−ピリジルメチルチオ）ペネム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1785，1670 実施例 15−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（４−ピリジルメチルチオ）ペネム−３−
カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1762，1593 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 255.9（6940），323.9（6290） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.26（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.81（1H，dd，Ｊ
＝7.0，1.5Hz），4.08−4.30（3H，ｍ），5.55（1H，
ｄ，Ｊ＝1.5Hz），7.51，8.50（4H，A2B2，Ｊ＝6.0
Hz） 実施例 16−ａ ２−トリフルオロメタンスルホニルチオペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1793，1680 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.83（1H，dd，Ｊ＝16.8，2.0Hz），3.59（1H，
dd，Ｊ＝16.8，4.0Hz），5.22，5.41（2H，AB−
ｑ，Ｊ＝13.5Hz），5.70（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0
Hz）7.57，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 16−ｄ ２−トリフオロメタンスルホニルチオペネム−
３−カルボン酸ナトリウム塩 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 246.5，318.5 実施例 17−ａ ２−［（２−Ｎ，N′−ジ−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルヒドラジノエチル）チオペネ
ム］−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3390，1790，1750，1718，1685 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.40−4.05（6H，ｍ），5.23（4H，ｓ），5.17，
5.39（2H，AB−ｑ，Ｊ＝12.9Hz），5.64（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.10−8.30（13H，ｍ） 実施例 17−ｄ ２−（２−ヒドラジノエチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 249.0，320.0 実施例 18−ａ ２−（２−ジエチルホスホノエチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1785，1683，1605 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 1.28（6H，ｔ），1.75−2.45（2H，ｍ），2.98−
3.37（2H，ｍ），3.50（1H，dd，Ｊ＝14.4，2.0Hz），
3.79（1H，dd，Ｊ＝14.4，3.5Hz），4.10（4H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz），5.22，5.43（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13.2
Hz），5.73（1H，dd，Ｊ＝3.5，2.0Hz），7.64，8.24
（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 18−ｄ ２−（２−ジエチルホスホノエチルチオ）ペネ
ム−３−カルボン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1765，1595 実施例 19−ａ （5S，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（２−アミノピリジ
ン−３−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3500，3400，1790，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.10（6H，ｓ），0.87（9H，ｓ），1.40（3H，ｄ，
Ｊ＝6.0Hz），3.89（1H，dd，Ｊ＝10.0，4.0Hz），
4.10（2H，ｓ），4.30（1H，dq，Ｊ＝4.0，6.0Hz），
4.97（2H，bs），5.13，5.42（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
14Hz），5.65（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），6.58（1H，
dd，Ｊ＝7.5，5.0Hz），7.30（1H，dd，Ｊ＝7.5，
2.0Hz），8.00（1H，dd，Ｊ＝5.0，2.0Hz），7.55，
8.13（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 19−ｂ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−（２−アミノピリジ
ン−３−イルメチルチオ）ペネム−３−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3500，3400，1790，1695 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.05（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.83（9H，ｓ），
1.25（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），3.73（1H，dd，Ｊ＝
４，２Hz），4.10（2H，ｓ），4.2（1H，ｍ），4.93
（2H，bs），5.17，5.38（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14
Hz），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），6.62（1H，dd，
Ｊ＝7.5，５Hz），7.35（1H，dd，Ｊ＝7.5，２Hz），
8.05（1H，dd，Ｊ＝５，２Hz），7.6，8.15（4H，
A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 19−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（２−アミノピリジン−３−イルメチルチ
オ）−ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.29（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.90（1H，dd，Ｊ＝
６，２Hz），4.16（1H，ｍ），4.30（2H，ｓ），5.33
（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），5.34，5.54（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝14Hz），5.85（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），6.09（2H，
bs），6.49（1H，dd，Ｊ＝８，５Hz），7.59（1H，
dd，Ｊ＝８，２Hz），7.98（1H，dd，Ｊ＝５，２
Hz），7.80，8.26（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 19−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（２−アミノピリジン−３−イルメチルチ
オ）ペネム−３−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3350，1770，1660，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 213，311 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.24（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），4.04（1H，ｍ），
4.18，4.36（2H，AB−ｑ，Ｊ＝12Hz），5.61（1H，
ｄ，Ｊ＝２Hz），6.51（1H，dd，Ｊ＝７，５Hz），
7.46（1H，dd，Ｊ＝７，３Hz），7.90（1H，dd，
Ｊ＝５，３Hz） 実施例 20−ａ （5R，6S，8R）６−（１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−２−［（２−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ−５−ブロモチ
アゾール−４−イル）メチルチオ］ペネム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル （5R，6S，8R）６−（tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−２−チオキソペナム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルを用い実
施例１−ａと同様の反応処理により表題化合物を
得た。 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3400，1790，1730，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.02（3H，ｓ），0.07（3H，ｓ），0.80（9H，ｓ），
1.22（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），3.75（1H，dd，Ｊ＝
4.2Hz），4.07（2H，ｓ），4.18（1H，ｍ），5.06，
5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.30（2H，ｓ），
5.54（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），7.46，8.08（4H，
A2B2，Ｊ＝９Hz）7.51，8.13（4H，A2B2，Ｊ＝
９Hz） 実施例 20−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−５−ブロモチアゾール−４−イル）メ
チルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1785，1725，1690 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 1.28（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），3.8−4.15（2H，
ｍ），4.27（2H，ｓ），5.83（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.77，8.22（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz），7.77，8.26
（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 20−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル
−２−［（２−アミノチアゾール−４−イル）メチ
ルチオ］ペネム−３−カルボン酸（化合物Ａ）及
び（5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［（２−アミノ−５−ブロモチアゾール−４
−イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸
（化合物Ｂ） （化合物Ａ） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.28（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.85（1H，dd，Ｊ＝
６，１Hz），3.95，4.10（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13
Hz），4.22（1H，ｍ），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz），
6.62（1H，ｓ） 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 253，324 （化合物Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3450，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 261，325 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.29（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.88（1H，dd，Ｊ＝
6.5，１Hz），3.90，4.15（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14
Hz），4.2（1H，ｍ），5.62（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz） 実施例 21−ａ ２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ−
ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 1798，1695 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.49（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝1.8，17.0Hz），3.68
（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝4.0，17.0Hz），3.95（3H，
ｓ），4.29（2H，ｓ），5.06，5.26（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝13.5Hz），5.59（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝1.8，4.0
Hz），7.52，8.09（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 21−ｄ ２−［（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）メチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ナト
リウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 245（4530），322（5980） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.54（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝2.0，17.0Hz），3.81
（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝3.8，17.0Hz），4.15（1H，
ｓ），4.42，4.58（2H，AB−ｑ，Ｊ＝17.0Hz），
5.70（1H，ｄ−ｄ，Ｊ＝3.8Hz） 実施例 22−ａ （5R，6S，8R）−６−（１−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル）−２−［Ｎ，N′−ビス
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−ヒ
ドラジノエチルチオ］ペネム−３−カルボン酸ｐ
−ニトロベンジルエステル トリフエニルホスフイン（68mg）のTHF溶液
（１ml）に氷冷窒素気流下、ジエチルアゾジカル
ボキシレート（41μl）を加え、10分間撹拌する。
別に、Ｎ，N′−ビス（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−ヒドラジノエタノール（113
mg）と（5R，6S，8R）−６−（１−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）−２−チオキソペ
ナム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル（86mg）のTHF溶液（1.5ml）を用意し、氷冷
下、先の溶液に滴下する。氷冷下１時間撹拌した
後、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄、芒
硝で乾燥する。溶剤を留去後、残渣をローパーカ
ラム（ベンゼン：酢酸エチル＝２：１）を用いて
精製して目的化合物（86mg）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）： 0.06，0.09（6H，ｓ×２），0.85（9H，ｓ），1.25
（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.07−4.10（5H，ｍ），
4.08−4.45（1H，ｍ），5.15，5.41（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝13.8Hz），5.26（4H，ｓ×２），5.68（1H，ｄ
状），7.27−7.77，7.97−8.3513H，ｍ） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 3400，1785，1755，1723，1690 実施例 22−ｃ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−［Ｎ，N′−ビス（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−ヒドラジノエチルチオ］ペ
ネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.1−4.4（6H，ｍ），
5.28（4H，ｓ），5.21.5.46（2H，AB−ｑ，Ｊ＝
14.4Hz），5.73（1H，ｄ状），7.4−7.8（6H，ｍ），
7.95−8.30（6H，ｍ） 実施例 22−ｄ （5R，6S，8R）６−（１−ヒドロキシエチル）
−２−（２−ヒドラジノエチルチオ）ペネム−３
−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3370，1760，1588 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），2.90−3.43（4H，ｔ
状×２），3.95（1H，dd，Ｊ＝6.0，1.5Hz），4.12
−4.40（1H，ｍ），5.68（1H，ｄ，Ｊ＝1.5Hz） 実施例 23−ａ ２−［２−（２−ニトロ−1H−イミダゾール−
１−イル）エチルチオ］ペネム−３−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル 融点 57−58℃ 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1795，1705，1680，1605 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 3.23（1H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），3.27（1H，ｔ，Ｊ
＝6.0Hz），3.46（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0Hz），3.83
（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），4.12（1H，ｔ，Ｊ
＝6.0Hz），4.23（1H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），5.17，5.48
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.66（1H，dd，Ｊ
＝4.0，2.0Hz），6.99（2H，ｓ），7.58，8.20（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 23−ｄ ２−［−（２−アミノ−1H−イミダゾール−１
−イル）エチルチオ〕ペネム−３−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3430，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 255，319 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 2.49−3.10（2H，ｍ），3.06（1H，dd，Ｊ＝16.0，
2.0Hz），3.46（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），3.98
（2H，ｍ），4.92（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），6.44
−6.68（3H，ｍ），7.52−7.74（2H，ｍ） 実施例 24−ａ ２−［２−（２−メチル−４−ニトロ−1H−イ
ミダゾール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 融点 184−185℃ 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1795，1705，1680，1600 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm： 267，326 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 2.47（3H，ｓ），3.54（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），
3.56（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0Hz），4.00（1H，dd，
Ｊ＝16.0，4.0Hz），4.48（2H，ｔ，Ｊ＝6.0Hz），
5.26，5.55（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.80
（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.72，8.22（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz），7.98（1H，ｓ） 実施例 24−ｄ ２−［２−（２−メチル−４−アミノ−1H−イ
ミダゾール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3400，1770，1710，1670，1600 紫外線吸収スクトル λH2O naxnm（ε）：319（4851
） 実施例25−ａ ２−［２−（２−メチル−５−ニトロ−1H−イ
ミダゾール−１−ル）エチルチオ］ベネム−３
−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νL1g nax： 1795，1700 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm： 263，318 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 2.50（3H，ｓ），3.15−3.70（2H，ｍ），3.50
（1H，dd，Ｊ＝16.0，2.0Hz），3.83（1H，dd，Ｊ
＝16.0，4.0Hz），4.35−4.80（2H，ｍ），5.23，4.40
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），7.60，8.18（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz），7.93（1H，ｓ） 実施例 25−ｄ ２−［２−（２−メチル−５−アミノ−1H−イ
ミダゾール−１−イル）エチルチオ］ペネム−３
−カルボン酸 赤外線吸収スペクトル νKBr nax： 3425，1770，1595 紫外線吸収スペクトル λH2O nax： 318.5（4629.6） 実施例 26−ａ ２−［２−（２−ピリジル）エチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 融点 131−133℃ 赤外線吸収スペクトル νLiq nax： 1798，1690，1520 赤外線吸収スペクトル νEtOH nax： 262，338.5 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 2.95−3.55（4H，ｍ），3.47（1H，dd，Ｊ＝15.0，
2.0Hz），3.83（1H，dd，Ｊ＝15.0，4.0Hz）5.17，
5.43（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.67（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），6.95−7.80（3H，ｍ），7.58，
8.15（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 26−ｄ ２−［２−（２−ピリジル）エチルチオ］ペネム
−３−カルボン酸 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 261.1（7270），321.0（5819） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.0−3.50（4H，ｍ），3.42（1H，dd，Ｊ＝16.0，
2.0Hz），3.76（1H，dd，Ｊ＝16.0，4.0Hz），5.53
（1H，dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），7.23−7.48（2H，
ｍ），7.66−7.92（1H，ｍ），8.30−8.56（1H，ｍ） 実施例 27−ａ １−［３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）ペネム−２−イルチオエチル］ピリジニウム
プロマイド 紫外線吸収スペクトル λEtOH naxnm： 260，336 核磁気共鳴スペクトル（DMSO−d6）δppm： 2.9−4.0（4H，ｍ），4.98（2H，ｔ，Ｊ＝5.0Hz），
5.25，5.45（2H，AB−ｑ，Ｊ＝15.0Hz），7.4−9.3
（5H，ｍ） 実施例 27−ｄ ２−［２−（１−ピリジニウム）エチルチオ］ペ
ネム−３−カルボキシレート 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1790，1560，1490 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 257（7284），317.2（5310） 実施例 28−ａ ２−シアノメチルチオペネム−３−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2245，1788，1680 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 3.66（1H，dd，Ｊ＝17.1，2.0Hz），3.98（1H，
dd，Ｊ＝17.1，4.0Hz），4.28（2H，ｓ），5.32，
5.50（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），5.96（1H，dd，
Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.77，8.26（4H，A2B2，Ｊ＝
9.9Hz） 実施例 28−ｄ ２−シアノメチルチオペネム−３−カルボン酸
ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2240，1760，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 239.9（4742），322.1（5901） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 3.62（1H，dd，Ｊ＝17.0，2.0Hz），3.87（1H，
dd，Ｊ＝17.0，4.0Hz），5.86（1H，dd，Ｊ＝4.0，
2.0Hz） 実施例 29−ａ （5S，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６−
（１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル）
ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエス
テル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1788，1690，1603 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.16（6H，ｓ），0.86（9H，ｓ），1.34（3H，ｄ，
Ｊ＝5.5Hz），3.61（2H，ｓ），3.77（1H，dd，Ｊ＝
4.5，Ｊ＝11.0Hz），4.2付近（1H，ｍ），5.07，
5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.68（1H，ｄ，
Ｊ＝4.5Hz），7.47，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 29−ｂ （5R，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６
−（１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジル
エステル 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1795，1695 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.06（3H，ｓ），0.09（3H，ｓ），0.81（9H，ｓ），
1.20（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.57（2H，ｓ），3.69
（1H，dd，Ｊ＝2.0，4.0Hz），4.2付近（1H，ｍ），
5.09，5.28（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.66
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.50，8.10（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） 実施例 29−ｃ （5R，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６
−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボ
ン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3440，2240，1775，1680 核磁気共鳴スペクトル（CD3OCD3）δppm： 1.22（3H，ｄ，JJ＝6.0Hz），3.95（2H，Ｓ），
5.19，5.38（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.0Hz），5.80
（1H，ｄ，Ｊ＝2.0Hz），7.65，8.13（4H，A2B2，
Ｊ＝9.0Hz） 実施例 29−ｄ （5R，6S，8R）−２−シアノメチルチオ−６
−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カルボ
ン酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 3420，2230，1775 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.22（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz），3.99（1H，dd，Ｊ
＝2.0，6.0Hz），4.14−4.40（1H，ｍ），5.77（1H，
ｄ，Ｊ＝2.0Hz） 実施例 30−ａ （5S，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチオ）
−６−（１−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル（異性体混合物） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1795，1700 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.15（6H，ｓ），0.90（9H，ｓ），1.45（3H，ｄ，
Ｊ＝６Hz），1.72（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），3.82（1H，
dd，Ｊ＝５，９Hz），4.10（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
〜4.4（1H，ｍ），5.32（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），
5.77（1H，ｍ），7.63，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝８
Hz） 実施例 30−ｂ （5R，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチ
オ）−６−（１−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステル（異性体ＡおよびＢ） （異性体Ａ） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2250，1800，1700 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.05（3H，ｓ），0.08（3H，ｓ），0.83（6H，ｓ），
1.27（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.74（3h，ｄ，Ｊ＝７
Hz），3.83（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），4.07（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.2（1H，ｍ），5.24，5.36
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13Hz），5.73（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.61，8.19（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） （異性体Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νCHCl3 naxcm-1： 2220，1790，1690 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3）δppm： 0.04（3H，ｓ），0.06（3H，ｓ），0.82（6H，ｓ），
1.25（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.70（3H，ｄ，Ｊ＝７
Hz），3.78（1H，dd，Ｊ＝４，２Hz），4.06（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.2（1H，ｍ），5.19，5.38
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝13Hz），5.76（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.60，8.17（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 30−ｃ （5R，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチ
オ）−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル（異性体
ＡおよびＢ） （異性体Ａ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2220，1780，1680 核磁気共鳴スペクトル（DMFd7＋CDCl3）
δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.69（3H，ｄ，Ｊ＝
７Hz），3.80（1H，dd，Ｊ＝７，２Hz），4.19（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.3（1H，ｍ），5.20，5.45
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），6.81（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.65，8.15（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） （異性体Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2230，1780，1700 核磁気共鳴スペクトル（DMFd7＋CDCl3） 1.32（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.74（3H，ｄ，Ｊ＝
７Hz），3.88（1H，dd，Ｊ＝７，２Hz），4.22（1H，
ｑ，Ｊ＝７Hz），〜4.2（1H，ｍ），5.32，5.45
（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14Hz），5.84（1H，ｄ，Ｊ＝
２Hz），7.72，8.19（4H，A2B2，Ｊ＝９Hz） 実施例 30−ｄ 5R，6S，8R）−２−（１−シアノエチルチオ）
−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カ
ルボン酸ナトリウム塩（異性体ＡおよびＢ） （異性体Ａ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2240，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 261，324 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.64（3H，ｓ），
4.05（1H，dd，Ｊ＝６，２Hz），〜4.4（1H，ｍ），
5.76（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） （異性体Ｂ） 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 2240，1770，1600 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm（ε）： 239.9（4600），323.5（5600） 核磁気共鳴スペクトル（D2O）δppm： 1.30（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz），1.68（3H，ｄ，Ｊ＝
７Hz），3.99（1H，dd，Ｊ＝６，２Hz），4.24（1H，
ｑ，Ｊ＝６Hz），〜4.3（1H，ｍ），5.78（1H，ｄ，
Ｊ＝２Hz） 実施例 31−ａ ２−メチルチオメチルチオペネム−３−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1772，1670 核磁気共鳴スペクトル（DMF−d7）δppm： 2.30（3H，ｓ），3.66（1H，dd，Ｊ＝16.8，2.0
Hz），4.01（1H，dd，Ｊ＝16.8，4.0Hz），4.29（2H，
ｓ），5.37，5.53（2H，AB−ｑ，Ｊ＝14.1Hz），
4.92（1H，dd，Ｊ＝4.0，2.0Hz），7.81，8.28（4H，
A2B2，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 31−ｄ ２−メチルチオメチルチオペネム−３−カルボン
酸ナトリウム塩 赤外線吸収スペクトル νKBr naxcm-1： 1763，1590 紫外線吸収スペクトル λH2O naxnm： 252，322.5。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 を有するペネム−３−カルボン酸誘導体およびそ
の薬理上許容される塩。 R1は水素原子またはR4A−基（式中、R4Aは
１位にヒドロキシ基、アシルオキシ基、アルキル
スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ
基またはトリアルキルシリルオキシ基を有するア
ルキレン基を示す。）を表わし、R2はハロゲン原
子で置換された低級アルキルスルホニル基または
R5B−基（式中、Ｂは低級アルキレン基を示し、
R5はヒドラジノ基、アシル化されていてもよい
カルバモイルアミノ基、カルバモイルオキシ基、
エポキシ基、ジアルキルホスホリル基、置換基を
有するか有しないピリジニウム基、シアノ基、低
級アルキルチオ基もしくは −CONR6CONHR7基、（式中、R6およびR7同
一または異なつて水素原子または低級アルキル基
を示す。）または低級アルキル基、アリールスル
ホニルオキシ基、水酸基、ハロゲン原子、アミノ
基もしくはニトロ基を有してもよく、ベンゼン環
が縮環してもよい、酸素原子、硫黄原子を有する
こともある窒素原子を少なくとも１個含む５員環
もしくは６員環芳香複素環基を示す。）を表わし、
R3は水素原子またはカルボキシル基の保護基を
表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56142739A JPS5843978A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | ペネム−３−カルボン酸誘導体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56142739A JPS5843978A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | ペネム−３−カルボン酸誘導体およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5843978A JPS5843978A (ja) | 1983-03-14 |
| JPH0321033B2 true JPH0321033B2 (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=15322448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56142739A Granted JPS5843978A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | ペネム−３−カルボン酸誘導体およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5843978A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4504485A (en) * | 1983-04-04 | 1985-03-12 | Schering Corporation | 5R,6S,8R-6-(1-Hydroxyethyl)-2-(2-carbamoyloxyethylthio)-penem-3-carboxylic acid |
| US4619924A (en) * | 1984-05-18 | 1986-10-28 | Pfizer Inc. | 2-alkylthiopenem derivatives |
| PT78761A (en) * | 1983-06-21 | 1984-07-01 | Pfizer | Process for preparing 2-alkylthiopenem derivatives |
| JPS61236785A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-22 | Sankyo Co Ltd | アゼチジノン誘導体 |
-
1981
- 1981-09-10 JP JP56142739A patent/JPS5843978A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5843978A (ja) | 1983-03-14 |
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