JPH03211281A - シリンダーボックスのガス配管装置 - Google Patents
シリンダーボックスのガス配管装置Info
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- JPH03211281A JPH03211281A JP746890A JP746890A JPH03211281A JP H03211281 A JPH03211281 A JP H03211281A JP 746890 A JP746890 A JP 746890A JP 746890 A JP746890 A JP 746890A JP H03211281 A JPH03211281 A JP H03211281A
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- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 68
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、シランやフォスフイン等の半導体ガスボンベ
を収納するシリンダーボックスのガス配管装置に関する
。
を収納するシリンダーボックスのガス配管装置に関する
。
従来の技術
以下、従来のシリンダーボックス内のガス配管装置につ
いて説明する。
いて説明する。
第２図は、従来のシリンダーボックス内のガス配管系統
図で、１はガスボンベ、２は減圧弁、３（１） は生ガス出口弁、４はベント弁、５は窒素パージ弁、６
は逆止弁、７は流量計である。
図で、１はガスボンベ、２は減圧弁、３（１） は生ガス出口弁、４はベント弁、５は窒素パージ弁、６
は逆止弁、７は流量計である。
第２図からも判るように、従来ＣＶＤ、 ドライエツ
チング等の半導体製造装置に使用される半導体ガスは、
シリンダーボックス内に収納された各１本のガスボンベ
１から供給される。
チング等の半導体製造装置に使用される半導体ガスは、
シリンダーボックス内に収納された各１本のガスボンベ
１から供給される。
これらのガスボンベ１を従来のシリンダーボックス内の
ガス配管を利用して交換する場合、まず、ガスボンベ１
の元バルブを閉め、配管内の残留ガスを装置側へ放出し
た後、窒素ガスによる装置側への回分パージ、連続パー
ジを行い、続いてガスボンベ１の交換、高圧リークチエ
ツク、窒素ガスによる同様のパージを行ってリークのな
い事を確認した後、初めて新しいガスボンベ１のバルブ
を開けるという方法が採られていた。
ガス配管を利用して交換する場合、まず、ガスボンベ１
の元バルブを閉め、配管内の残留ガスを装置側へ放出し
た後、窒素ガスによる装置側への回分パージ、連続パー
ジを行い、続いてガスボンベ１の交換、高圧リークチエ
ツク、窒素ガスによる同様のパージを行ってリークのな
い事を確認した後、初めて新しいガスボンベ１のバルブ
を開けるという方法が採られていた。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来のシリンダーボックスのガス配
管では、ガスボンベを交換する場合、残留ガスの放出や
窒素ガスパージはすべて半導体装置側を通して行われて
いるため、その期間及びす−クチニック中は、装置の稼
働が不可能であった。また常圧ＣＶＤ装置に於いては、
装置出口側が大気圧のため、窒素ガスパージの効率が悪
く、そのためにパージ回数を多（したり、パージ時間を
長くしなければならないという問題点を有していた。
管では、ガスボンベを交換する場合、残留ガスの放出や
窒素ガスパージはすべて半導体装置側を通して行われて
いるため、その期間及びす−クチニック中は、装置の稼
働が不可能であった。また常圧ＣＶＤ装置に於いては、
装置出口側が大気圧のため、窒素ガスパージの効率が悪
く、そのためにパージ回数を多（したり、パージ時間を
長くしなければならないという問題点を有していた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、ガスボン
ベ交換時の半導体製造装置の稼働を可能にし、かつパー
ジ効率の向上も可能としたシリンダーボックスのガス配
管装置を提供することを目的とする。
ベ交換時の半導体製造装置の稼働を可能にし、かつパー
ジ効率の向上も可能としたシリンダーボックスのガス配
管装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、シリンダーボックス内に於いて同一のガスボ
ンへが２本設置可能なガス配管を有し、又そのパージラ
インはロータリーポンプによる真空排気を可能とするこ
とを特徴としている。
ンへが２本設置可能なガス配管を有し、又そのパージラ
インはロータリーポンプによる真空排気を可能とするこ
とを特徴としている。
作用
シリンダーボックス内に同一種類のガスボンベが２本設
置可能なガス配管とすることにより、ガスボンベ交換時
はバルブの切り換えだけでガスの切り換えが可能となる
。このため、半導体製造装置の稼働を停止させなくて済
む。又パージラインをロータリーポンプで真空排気する
ことでパージ時のガス配管内の圧力差を大きくすること
が可能となり、ガス配管内のパージの効率が高まる。
置可能なガス配管とすることにより、ガスボンベ交換時
はバルブの切り換えだけでガスの切り換えが可能となる
。このため、半導体製造装置の稼働を停止させなくて済
む。又パージラインをロータリーポンプで真空排気する
ことでパージ時のガス配管内の圧力差を大きくすること
が可能となり、ガス配管内のパージの効率が高まる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例に於けるシリンダーボックス
内のガス配管図を示すものである。
内のガス配管図を示すものである。
第１図において、１．１ａは同一種類のガスボンベ、２
，２ａは減圧弁、３，３ａは生ガス出目弁、４，４ａは
ベント（パージ）弁、５，５ａは窒素パージ弁、６，６
ａは逆止弁、７は流量計、８はロータリーポンプ、９は
ストップ弁である。
，２ａは減圧弁、３，３ａは生ガス出目弁、４，４ａは
ベント（パージ）弁、５，５ａは窒素パージ弁、６，６
ａは逆止弁、７は流量計、８はロータリーポンプ、９は
ストップ弁である。
以上のように構成された本実施例のガス配管を利用して
ガスボンベ交換を行う場合について説明する。
ガスボンベ交換を行う場合について説明する。
まず、同一種類のガスボンベ１，１ａ及び同一構成のガ
ス配管を並列に設置したガス系に於いて”、ボンベ１の
ラインを使用しているものとする。ここで使用している
ガスボンベ１の１次制圧力が規定以下になったら未使用
中のガスボンベ１３元バルブ及び生ガス出目弁３ａを開
ける。続いてガスボンベ１、及び生ガス出口弁３を閉め
る。
ス配管を並列に設置したガス系に於いて”、ボンベ１の
ラインを使用しているものとする。ここで使用している
ガスボンベ１の１次制圧力が規定以下になったら未使用
中のガスボンベ１３元バルブ及び生ガス出目弁３ａを開
ける。続いてガスボンベ１、及び生ガス出口弁３を閉め
る。
以上の動作により装置側へはガスを連続供給しているこ
とになる。
とになる。
次にパージラインに設置されたロータリーポンプ８を稼
働し、ストップ弁９を開け、流量計７を通してロータリ
ーポンプへ窒素ガスを流しておく。
働し、ストップ弁９を開け、流量計７を通してロータリ
ーポンプへ窒素ガスを流しておく。
この状態で、ガスボンベ１のラインの弁３゜４．５の間
の配管内の残留ガスをロータリーポンプ８ｇｓへ放出し
、次に窒素ガスによる回分パージ、連続パージを行う。
の配管内の残留ガスをロータリーポンプ８ｇｓへ放出し
、次に窒素ガスによる回分パージ、連続パージを行う。
続いてガスボンベ交換。
高圧リークチエツク、窒素ガスによる同様のパージを行
い、リークのない事を確認後、ボンベｌを開け、減圧弁
２で、２次個圧力を調整した後、ボンベ１を閉にしてお
く。またパージラインはロータリーポンプ停止後、スト
ップ弁９を閉め、窒素加圧しておく。
い、リークのない事を確認後、ボンベｌを開け、減圧弁
２で、２次個圧力を調整した後、ボンベ１を閉にしてお
く。またパージラインはロータリーポンプ停止後、スト
ップ弁９を閉め、窒素加圧しておく。
以上のように本実施例によれば、ガスボンベ交換時はバ
ルブの切り換えだけでガスの切り換えが可能となる。又
他のガスボンベ使用中にもガスボンベ交換が可能で、特
にパージラインにロータリーポンプ８を設置することに
より、パージ効率が高まり、常圧ＣＶＤ装置でのパージ
時間の短縮が可能となる。
ルブの切り換えだけでガスの切り換えが可能となる。又
他のガスボンベ使用中にもガスボンベ交換が可能で、特
にパージラインにロータリーポンプ８を設置することに
より、パージ効率が高まり、常圧ＣＶＤ装置でのパージ
時間の短縮が可能となる。
発明の効果
本発明は、同一種類のガスボンベが２本設置可能でかつ
パージラインにロークリポンプを用いることにより、ガ
ス使用中にも他のガスボンベ交換ができ、又パージ効率
の高いガスパージが可能となるシリンダーボックスのガ
ス配管を実現できるものである。
パージラインにロークリポンプを用いることにより、ガ
ス使用中にも他のガスボンベ交換ができ、又パージ効率
の高いガスパージが可能となるシリンダーボックスのガ
ス配管を実現できるものである。
第１図は本発明の一実施例におけるシリンダーボックス
のガス配管図、第２図は従来のシリンダーボックスのガ
ス配管図である。 １．１ａ・・・・・・ガスボンベ、２，２ａ・・・・・
・減圧弁、３，３ａ・・・・・・生ガス出口弁、４，４
ａ・・・・・・ベント（パージ）弁、５，５ａ・旧・・
窒素パージ弁、６．６ａ・・・・・・逆止弁、７・・・
・・・流量計、８・・・・・・ロータリーポンプ、９・
・・・・・ストップ弁。
のガス配管図、第２図は従来のシリンダーボックスのガ
ス配管図である。 １．１ａ・・・・・・ガスボンベ、２，２ａ・・・・・
・減圧弁、３，３ａ・・・・・・生ガス出口弁、４，４
ａ・・・・・・ベント（パージ）弁、５，５ａ・旧・・
窒素パージ弁、６．６ａ・・・・・・逆止弁、７・・・
・・・流量計、８・・・・・・ロータリーポンプ、９・
・・・・・ストップ弁。
Claims (2)
- （１）シリンダーボックス内に、同一種類のガスボンベ
を２本設置したことを特徴とするシリンダーボックスの
ガス配管装置。 - （２）パージラインに真空用ロータリーポンプを設置し
たことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシリン
ダーボックスのガス配管装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP746890A JPH03211281A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | シリンダーボックスのガス配管装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP746890A JPH03211281A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | シリンダーボックスのガス配管装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03211281A true JPH03211281A (ja) | 1991-09-17 |
Family
ID=11666631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP746890A Pending JPH03211281A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | シリンダーボックスのガス配管装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03211281A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009518826A (ja) * | 2005-12-01 | 2009-05-07 | ザクティックス・インコーポレイテッド | パルス式連続エッチング |
-
1990
- 1990-01-17 JP JP746890A patent/JPH03211281A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009518826A (ja) * | 2005-12-01 | 2009-05-07 | ザクティックス・インコーポレイテッド | パルス式連続エッチング |
| US8257602B2 (en) | 2005-12-01 | 2012-09-04 | Xactix, Inc. | Pulsed-continuous etching |
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