JPH0321239Y2 - - Google Patents

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JPH0321239Y2
JPH0321239Y2 JP1987093979U JP9397987U JPH0321239Y2 JP H0321239 Y2 JPH0321239 Y2 JP H0321239Y2 JP 1987093979 U JP1987093979 U JP 1987093979U JP 9397987 U JP9397987 U JP 9397987U JP H0321239 Y2 JPH0321239 Y2 JP H0321239Y2
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foot
cleaning tank
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container
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Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は水虫洗浄槽に係わり、特に、足の指等
の患部に消毒液等の水虫治療薬を浸透させるため
の洗浄槽と、上記洗浄槽に浸漬することにより濡
れた足等を乾燥させる装置が一体的に構成されて
いるものに用いて好適なものでなる。
〈従来の技術〉 周知の通り、水虫に悩む人が多い。水虫になる
と足の裏(足蹠)や足の指の間が赤くなつたり
(紅班)、小さな水ぶくれができたり、(小水疱)、
皮膚がカサカサして厚くなつたり(角質増殖)、
皮膚がふやけて白くなつたり(白色浸軟)、さら
に皮膚がむけて赤身が露出したり(びらん)とい
つた状態になる。自覚症状は通常はかゆく、ひど
いときは痛みを生ずる。
このような耐えがたい自覚症状を伴うため、水
虫にかかつた人はを誰もがそれを一日も早く完治
させたいと切実に要望している。このような要望
に応えるために、水虫を治療するための治療剤お
よび方法が従来より種々提案されているが、それ
をもつてしても完治できないのが実情である。
そこで、完全に治すことができないまでも、水
虫によるかゆみ、痛み等を少なくしたり、或いは
患部をそれ以上拡大するのを押さえたりすること
が1つには要求されている。このための従来技術
の1つは、かゆみ止め軟膏や殺菌消毒液体(アル
コール、酢等)をマニユアルによつて患部に塗る
等して、足の指等の患部を清潔に保つようにして
いるものである。
また、他の従来技術としては、例えば特開昭58
−15857号公報にて提案されている、「遠赤外線放
射セラミツクスを用いた足専用浴槽」や、実開昭
55−95745号公報似て提案されている、「皮膚洗浄
施薬装置」等がある。
〈考案が解決しようとする課題〉 上記公報にて提案されている「遠赤外線放射セ
ラミツクスを用いた足専用浴槽」の場合、足専用
浴槽の底部にバイブレータが取り付けられてい
て、上記足専用浴槽の内部に温水を入れて使用す
るように構成されている。この場合、上記足専用
浴槽の内部は比較的に深く形成されているので、
内部に入れる温水の量は非常に多くなる。このた
め、上記「遠赤外線放射セラミツクスを用いた足
専用浴槽」の場合は、上記温水を交換するのが大
変であつた。また、上記足専用浴槽の内部に消毒
液等を入れる場合には、その量が多く必要なの
で、一回ごとに消毒液を入れ換える場合には洗
浄、殺菌のコストが高くなつてしまう。また、同
じ消毒液を使用して複数の人が連続的に使用する
ようにした場合には、一回当たりの消毒、殺菌コ
ストは高くならないが、見ている人に不潔感を与
える不都合がある。
これに対し、実開昭55−95745号公報にて提案
されている、「皮膚洗浄施薬装置」の場合には、
上記薬液槽の深さが比較的に浅く形成されている
とともに、薬液槽の最も深く形成されている底部
に超音波振動子が取り付けられている。したがつ
て、この場合には一回に使用する薬液を少なくす
ることができるので、上記消毒液をその都度交換
しても、消毒、殺菌に要するコストを逓減するこ
とができる。しかしながら、上記超音波振動子に
よつて消毒液中にキヤビテーシヨンをより良く発
生させることができる位置は決まつているので、
このように消毒液が少ないと良好なキヤビテーシ
ヨンを発生させることができない不都合があつ
た。
なお、上記「遠赤外線放射セラミツクスを用い
た足専用浴槽」の場合、内部に入れる消毒液の量
を少なくすることにより、一回当たりの消毒、殺
菌コストを逓減させることができるが、このよう
に内部に入れる消毒液の量を少なくすると、良好
なキヤビテーシヨンを発生させることができない
不都合が生じる。
本考案は上述の問題点に鑑み、一回の消毒、殺
菌に使用する消毒液の量を少なくして消毒、殺菌
のコストを逓減することができるようにするとと
もに、良好なキヤビテーシヨンを発生させること
ができるようにすることを目的とする。
〈課題を解決するための手段〉 本考案の水虫洗浄槽は、底面に超音波振動子が
取り付けられているとともに、内部が水などの液
体を収納するために比較的深く形成されている洗
浄槽本体8と、上記洗浄槽本体8の内部に着脱自
在に取り付けられるとともに、足13の指等にで
きている水虫を治療するための消毒、殺菌を行う
消毒液25がその内部に入れられる足入れ容器9
と、上記足入れ容器9の底面を上記洗浄槽本体8
の底面から所定間隔Lだけ浮かせた状態に保持す
るための保持手段とを具備することを特徴とする
水虫洗浄槽である。
また、本考案の他の特徴とするところは、上記
洗浄槽本体8の上部開口面を塞ぐための蓋上に赤
外線ランプ24が配設されていて、上記蓋が足1
3を載せて乾燥させるための足載せ台20として
形成されているとともに、上記足載せ台20を上
記洗浄槽本体8の上部開口面を開く位置に移動さ
せた状態で支持するための支持部材26が上記洗
浄槽本体8の側面に設けられている。
〈作用〉 足13を洗浄するための槽の構造を、洗浄槽本
体8と足入れ容器9とで構成することにより、二
重構造とする。これにより、消毒、殺菌のために
実際に使用する消毒液の量を少なくするととも
に、洗浄槽全体の液体量を多くできるようにする
ことを可能にし、振動子7を動作させて患部を洗
浄、殺菌させているときには、キヤビテーシヨン
を良好に発生させることができるようにするとと
もに、一回の洗浄、殺菌により消費する消毒液の
量を少なくした消毒、殺菌を行うことができるよ
うにする。
〈実施例〉 次に、添付図面第1図〜第6図に従い、本考案
の好適な実施例を詳述する。
図中1は水虫洗浄槽全体を示し、この洗浄槽全
体1は、蓋2と本体ケーシング3とによりより構
成されている。本実施例においては、上記洗浄槽
全体1を小型コンパクトに形成するとともに、蓋
2と本体ケーシング3とを止め手段4によつて止
めることにより一体化している。また、上記蓋2
に把手部5が取り付けられているので、この把手
部5を持つことにより容易に携帯することがで
き、何処でも手軽に使用することを可能にしてい
る。
上記本体ケーシング3に着目すると、この本体
ケーシング3の底部6には、振動子7と図示せざ
る高周波発振器より成る超音波発生装置が配設さ
れている。また、上記超音波発生装置の上方には
洗浄槽本体8が配設されているとともに、上記洗
浄槽本体8内には足入れ容器9が着脱自在に設け
られている。
この構成を具体的に説明すると、上記洗浄槽本
体8の底面10から所定間隔Lだけ上方に離間し
た位置に、上記足入れ容器9が保持手段11によ
つて位置決め保持されている。すなわち、上記足
入れ容器9は、洗浄槽本体8中の水12中に浸漬
され、かつ洗浄槽本体8の底面より浮いた状態で
収容されている。上記足入れ容器9は、足13が
収容できる大きさに形成されている。
本実施例においては、上記足入れ容器9の開口
部14の周面15の外側につば16を突出させ、
その段部17をケーシング3の上部に支持させる
ようにして保持手段11を構成した例を示してい
る。
すなわち、上記保持手段11であるつば16の
段部17と上記した本体ケーシング3の上端18
の周縁部19上に支持させることにより、上記洗
浄槽本体8の底面10に対して所定間隔Lだけ上
方に浮かせた状態で位置決め保持させている。
上記足入れ容器9の材料としては、透明または
半透明な合成樹脂材料、および金属等の材料を用
いることができる。
次いで、上記足入れ容器9の開口部14の上方
には足載せ台20が取り付けられている。第4図
に示すように、この足載せ台20は複数の位置決
めピンAをケーシング3の位置決め穴Bに挿入す
ることによつて、上記本体ケーシングBの長手方
向に対して直交する方向、すなわち、左右21,
22方向に移動可能に取り付けられている。ま
た、この足載せ台20が、本体ケーシング3の左
右21,22の側面23から脱落しないようにす
るために、支持部材26が設けられている。
更に、上記足載せ台20上には赤外線ランプ2
4が配設されていて、足入れ容器9によつて洗
浄、殺菌された方の足13を載せた状態で上記赤
外線ランプ24から赤外線を照射し、足の指の間
の患部を乾燥させることができるようになされて
いる。
したがつて、足13の患部を足入れ容器9内に
入れるた状態で上記した超音波発生装置を動作さ
せると、これにより発生した超音波は洗浄槽本体
8内の水12を伝播し、次いで上記足入れ容器9
の底面を振動させる。これにより、上記足入れ容
器9内の消毒液25に、キヤビテーシヨンをより
効果的に発生させるようにしている。
したがつて、上記足13の患部の深部まで消毒
液25を浸透させることができ、患部の洗浄、殺
菌等の効果を向上させることができる。
足載せ台20を左右21,22方向に移動させ
たときに、この足載せ台20を支持するための支
持部材26が本体ケーシング3の側面23に設け
られている。この支持部材26は、止め手段によ
つて回動自在に取り付けられていて、使用時に上
記支持部材26を上記側面23と直交する方向に
回動させることにより、上記足載せ台20に足1
3を載せても安定した状態に支持することができ
る。
なお、本実施例においては、足入れ容器9の保
持手段11については、開口部14の外側のつば
16の段部17が本体ケーシング3の上端18の
周縁部19に座すことによつて、足入れ容器9を
浮かせた状態に位置決め保持する例を示したが、
他の例としては、第5図に示すように、上記足入
れ容器9と洗浄槽本体8の底面10との間に、所
定高さHのすの子27を配設し、このすの子27
上に上記足入れ容器9を位置決め保持することに
よつても上記足入れ容器9を浮かせた状態で支持
し、かつ着脱自在にすることができる。したがつ
て、上記すの子27を交換することによつて上記
の高さHを自由に設定することが可能である。
また、第6図に示すように、上記足入れ容器9
自体に所定高さMの複数の脚28を予め設けるこ
とによつて同様の効果を得ることができる。
すなわち、上記した洗浄槽本体8に足入れ容器
9を浮いた状態に保持することによつて超音波発
生装置によつて発生して超音波の伝播性を良くす
るとともに、足入れ容器9内の消毒液25により
良くキヤビテーシヨンを発生させることができ
る。これにより、足13の指の間等の患部の深部
に消毒液25を侵入させることができる、かつ浸
透させ易くすることによつて患部の深部まで洗
浄、殺菌等を効果的に行うことが可能である。
加えて、洗浄、殺菌等の完了時において赤外線
ランプ24によつて患部の水分、消毒液等を完全
に衛生的に乾燥させることが可能であり、患部を
清潔にすることができるので、その結果水虫の増
殖を効果的に押さえることが可能である。
上記足載せ台20の左右21,22移動手段で
ある位置決めピンAを用いて右22側に移動した
所を示したが、左21側に移動する場合にも同様
に左21側の位置決めピンAを左21側の位置決
め穴Bに挿入することによつて容易に移動するこ
とができる。
次に、この実施例の使用例を説明する。
先ず、使用者が水虫洗浄槽1の蓋2を外し、本
体ケーシング3の洗浄槽本体8内に挿着されてい
る足入れ容器9を取り出す。
次いで、上記洗浄槽本体8内に所定高さまで水
12を入れる。この所定高さとは、上記洗浄槽本
体8の底面10より浮上した状態に位置決めされ
ている足入れ容器9までの間隔Lである。
次いで、足入れ容器9を保持手段11である開
口部14の周面15の外側に形成されたつば16
の段部17によつて、本体ケーシング3の上端1
8の周縁部19に支持させる。これにより、上記
した所定間隔Lで上記洗浄槽本体8の底面10よ
り浮上した状態にして位置決め保持することがで
きるようになる。
次いで、上記足入れ容器9内に所定量の消毒液
25等を入れる。このとき、使用者の足13の甲
がかくれる程度の量の消毒液25等を入れるよう
にする。したがつて、使用者の足13の甲の高さ
に合わせて上記消毒液25等の量を決める。上記
消毒液25の一例を示すと、グルコン酸クロルヘ
キシジンが用いられ、この溶液を希釈し、水溶液
またはエタノール溶液として使用されている。
次いで、使用者の足13のいずれか片方を上記
足入れ容器9内に入れる。本実施例においては、
先ず右側の足13を入れた場合を示している。
次いで、水虫洗浄槽1の電源をオンにすること
によつて本体ケーシング3内の超音波発生装置の
図示せざる高周波発振器と振動子7等によつて超
音波が発生する。すると、超音波によつて上記洗
浄槽本体8の底面10が振動し、この振動によつ
て洗浄槽本体8内の水12がキヤビテーシヨンを
発生するとともに、この水12を介在させて上記
足入れ容器9を振動させる。すると、この足入れ
容器9の底面等の振動によつて足入れ容器9内の
消毒液25中にもキヤビテーシヨンが生ずる。
したがつて、消毒液25中に浸漬されている足
13の指の間等の患部の深部に、上記消毒液25
が浸透する。すなわち、上記患部のすみずみまで
25が浸透するので、患部の洗浄、殺菌等の効果
が一段と向上するものである。
また、この洗浄、殺菌等は自動的に行われるの
で、使用者の水虫の程度に応じて所定時間足入れ
容器9内に足13を浸漬しておくだけなので簡便
にかつ衛生的に用いることができる。
次いで、所定時間洗浄、殺菌等が完了したら足
載せ台20を予め右22側にセツトしておくこと
によつて、上記右側の足13を上記足入れ容器9
内から上記足載せ台20上に移動させる。
そしてこのとき、上記足載せ台20上に配設さ
れている赤外線ランプ24の下方に上記患部を位
置決めし、赤外線ランプ24のスイツチをオンに
することによつて上記患部内に浸透した消毒液2
5等を自動的に乾燥させる。したがつて、足13
の洗浄、殺菌等から乾燥まで自動的に行うことが
できるので衛生的であり、他人に対して違和感、
不潔感等を与えることがないものである。
さらに、上記右側の足13を乾燥させている間
に左側の足13を上記した右側の足13と同様の
順序に従つて行うことによつて短時間で患部の洗
浄、殺菌等を連続的に行うことができる。
また、上記消毒液25を一回ごとに交換したり
する場合においても、足入れ容器9のみを洗浄槽
1より外すことができるので、消毒液25等の交
換作業が簡単であるとともに他人にこの作業を依
頼したとしても、上記消毒液25等に触れること
がないので衛生的である。
さらに、複数の人が連続的に使用する場合にお
いても同様の手順で行うことによつて他人の洗浄
液等に触れることがないので安心して行うことが
できる。
さらに、洗浄等が終了したときにおいても小型
コンパクトであるので、保管、携帯、持ち運びが
便利である。また、いつでもどこでも自由に移動
させることができ、しかも使用時には常に衛生的
で、短時間で患部の深部まで洗浄、殺菌等ができ
るので、水虫のかゆみ、痛み等を少なくすること
ができるとともに、水虫の細菌等の増殖を押さえ
ることができ、かつ常時衛生的に使用することが
できる。
〈考案の効果〉 本考案は上述のように、足13を洗浄するため
の洗浄槽の構造を、洗浄槽本体8と足入れ容器9
との二重構造に構成したので、消毒、殺菌のため
に実際に使用する消毒液の量を少なくすることが
できるとともに、洗浄槽全体の液体量を多くする
ことができる。したがつて、全体として大量の液
体が収納されているので、振動子7を動作させて
患部を洗浄、殺菌させているときには、キヤビテ
ーシヨンを良好に発生させることができ、患部の
消毒、殺菌を良好に行うことができる。また、足
13を入れて実際に消毒するための足入れ容器9
が小型コンパクトに形成されているので、一回の
洗浄、殺菌により消費する消毒液の量を少なくす
ることができ、消毒、殺菌に必要なコストを逓減
させることができるとともに、消毒液の交換作業
をし易くすることがきる。
また、請求項(2)の考案によれば、消毒、殺菌を
終了した足13を足載せ台20に載せて赤外線ラ
ンプ24を動作させ、乾燥、殺菌を行うことがで
きるので、患部を消毒、殺菌する作用を更に高め
ることができる。
【図面の簡単な説明】
添付図面第1図〜第5図は、本考案の一実施例
を示し、第1図は、水虫洗浄槽全体を示す斜視
図、第2図は、第1図X−X線に沿う縦断側面
図、第3図は、動作を示す平面図、第4図は、足
載せ台の移動手段を示す分解斜視図、第5図〜第
6図は、保持手段の他の例を示す説明図であり、
第5図は、保持手段がすの子である例を示す縦断
側面図、第6図は、足入れ容器自体に脚を形成し
た例を示す縦断側面図をそれぞれ示している。 なお、図中、8……洗浄槽本体、9……足入れ
容器、10……底面、11……保持手段、13…
…足、14……開口部、16……つば、25……
消毒液、27……すの子、28……脚、L……所
定間隔、をそれぞれ示している。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 底面に超音波振動子が取り付けられていると
    ともに、内部が水などの液体を収納するために
    比較的深く形成されている洗浄槽本体8と、 上記洗浄槽本体8の内部に着脱自在に取り付
    けられるとともに、足13の指等にできている
    水虫を治療するための消毒、殺菌を行う消毒液
    25がその内部に入れられる足入れ容器9と、 上記足入れ容器9の底面を上記洗浄槽本体8
    の底面から所定間隔Lだけ浮かせた状態に保持
    するための保持手段とを具備することを特徴と
    する水虫洗浄槽。 (2) 上記洗浄槽本体8の上部開口面を塞ぐための
    蓋上に赤外線ランプ24が配設されていて、上
    記蓋が足13を載せて乾燥させるための足載せ
    台20として形成されているとともに、上記足
    載せ台20を上記洗浄槽本体8の上部開口面を
    開く位置に移動させた状態で支持するための支
    持部材26が上記洗浄槽本体8の側面に設けら
    れていることを特徴とする請求項(1)に記載の水
    虫洗浄槽。
JP1987093979U 1987-06-18 1987-06-18 Expired JPH0321239Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP1987093979U JPH0321239Y2 (ja) 1987-06-18 1987-06-18

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JPS63201538U JPS63201538U (ja) 1988-12-26
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5595745U (ja) * 1978-12-26 1980-07-03
JPS5626129U (ja) * 1979-08-03 1981-03-10
JPS5815857A (ja) * 1981-07-18 1983-01-29 天昇電気工業株式会社 遠赤外線放射セラミックスを用いた足専用浴槽

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JPS63201538U (ja) 1988-12-26

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