JPH03213132A - gas mixer - Google Patents
gas mixerInfo
- Publication number
- JPH03213132A JPH03213132A JP2009114A JP911490A JPH03213132A JP H03213132 A JPH03213132 A JP H03213132A JP 2009114 A JP2009114 A JP 2009114A JP 911490 A JP911490 A JP 911490A JP H03213132 A JPH03213132 A JP H03213132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- mixer housing
- rotary
- screw groove
- gases
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、2種以上又は2成分以上の原料ガス、反応性
ガスによる混合ガスを扱う必要のある薄膜形成装置、ド
ライエツチング用プラズマ装置等の混合ガス処理装置に
対して入力用となるガスミキサに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention is applicable to thin film forming apparatuses, dry etching plasma apparatuses, etc., which require the handling of a mixed gas of two or more types or two or more component source gases and reactive gases. The present invention relates to a gas mixer that is used as an input to a gas processing device.
従来の技術
従来、この種の混合ガス処理装置としては、例えば2種
以上又は2成分以上のガスを混合し、装置内部で高周波
放電、直流放電等によりプラズマを発生させ、そのエネ
ルギーを用いて気相化学反応を行なわせるプラズマ装置
がある。また、紫外域から赤外域にわたる光中から適当
な波長の光を選定し、導入ガスの光化学分解及び光エネ
ルギーを利用して気相化学反応を行なわせる光CVD装
置がある。Conventional technology Conventionally, this type of mixed gas processing equipment mixes, for example, two or more gases or two or more components, generates plasma inside the equipment by high-frequency discharge, direct current discharge, etc., and uses the energy to generate gas. There are plasma devices that perform phase chemical reactions. There is also a photo-CVD device that selects light of an appropriate wavelength from light ranging from the ultraviolet region to the infrared region, and performs a gas phase chemical reaction using photochemical decomposition of introduced gas and light energy.
何れにしても、この種の2種以上のガスを扱う気相反応
装置では、一般に、装置内にガスを導入する際には均一
な混合ガスとなっていることを要する。In any case, in this kind of gas-phase reaction apparatus that handles two or more types of gases, it is generally required that a uniform gas mixture is introduced when the gases are introduced into the apparatus.
二のため、従来、第1の方式として、第3図に示すよう
に気相反応装置l内にn種の導入ガスGa、〜、Gnを
各々の異なる経路のガス導入管2a〜2nから導入する
際に、1つのジャンクション3で統合するようにしたジ
ャンクション型ガスミキサがある。これは、最も普通に
みられる形式%式%
また、第2の方式として、特開昭59−108124号
公報中に示されるようなものもある(特開平1−183
810号公報では、従来技術として扱われている)。こ
れは、第4図に概略的に示すように、気相反応装置4内
にn種の導入ガスGa、〜、Gnを各々のガス導入管5
a〜5nからそのまま導入し、ガス導入管5内と気相反
応装置4内との圧力差及び流速変化を用いて乱流を発生
させ、気相反応装置4内で均一な混合ガスが得られるよ
うにしたものである。Therefore, conventionally, as a first method, n types of introduction gases Ga, -, Gn are introduced into the gas phase reactor l from gas introduction pipes 2a to 2n of different routes, as shown in Fig. 3. There is a junction type gas mixer that integrates the two at one junction 3. This is the most commonly seen format, the % formula.
810, it is treated as prior art). As schematically shown in FIG. 4, n types of introduced gases Ga, .
The gases are introduced as they are from a to 5n, and a turbulent flow is generated using the pressure difference and flow rate change between the gas introduction pipe 5 and the gas phase reactor 4, and a homogeneous mixed gas can be obtained in the gas phase reactor 4. This is how it was done.
さらに、第3の方式として第5図に示すようなものもあ
る。これは、ジャンクション型を発展改良した形式であ
り、ジャンクション3と気相反応装置lとの間に例えば
通過経路を複雑にする多数の通過孔6が形成された中空
体7を内蔵したいわゆるバッファ室8を設けたものであ
る。即ち、バッファ室8内でガスが複雑な経路を通り抜
ける間に乱流を発生させ、均一に混合させようとしたも
のである。Furthermore, there is a third method as shown in FIG. This is a type developed and improved from the junction type, and includes a so-called buffer chamber containing a hollow body 7 in which a large number of passage holes 6 are formed between the junction 3 and the gas phase reactor l to complicate the passage route. 8. That is, an attempt is made to generate turbulent flow while the gas passes through a complicated path within the buffer chamber 8 to mix uniformly.
発明が解決しようとする課題
ところが、第1の方式によると、ジャンクション3内で
異なるガス同士が衝突するため、混合されるとしても均
一な混合状態を作り出すことは困難である。Problems to be Solved by the Invention However, according to the first method, different gases collide with each other within the junction 3, so even if they are mixed, it is difficult to create a uniform mixed state.
第2の方式では、気相反応装置5内及び導入ガス圧力の
僅かな変動により、所望の乱流が得られず、均一な混合
状態が得られない。In the second method, the desired turbulence cannot be obtained due to slight fluctuations in the gas phase reactor 5 and the pressure of the introduced gas, and a uniform mixing state cannot be obtained.
第3の方式では、上記2例よりも混合状態の均一化の程
度が高いものの、複雑な経路によるため、バッファ室8
内でのコンダクタンスの悪化を招き、気相反応装置lに
対するガス導出に困難を生ずる場合がある。In the third method, the degree of uniformity of the mixing state is higher than in the above two examples, but due to the complicated path, the buffer chamber 8
This may lead to deterioration of the conductance within the gas phase reactor, making it difficult to lead out the gas to the gas phase reactor l.
つまり、これらの従来方式によると、均一なガス混合状
態が得にくい、気相反応装置内への混合ガスの導出が困
難、ガスミキサのコンダクタンスの悪化、といった欠点
がある。特に、従来方式によると、導入ガスの圧力と気
相反応装置内の圧力との差圧を用いてガスを混合し導出
させるため、ガス自体は動的な乱流状態を示すが、ガス
ミキサ自体は静的な容器として用いられることになる。In other words, these conventional methods have drawbacks such as difficulty in obtaining a uniform gas mixture state, difficulty in introducing the mixed gas into the gas phase reactor, and deterioration of the conductance of the gas mixer. In particular, according to the conventional method, the gases are mixed and extracted using the pressure difference between the introduced gas pressure and the pressure inside the gas phase reactor, so the gas itself exhibits a dynamic turbulent flow state, but the gas mixer itself It will be used as a static container.
このため、ガスの混合条件の制御は圧力差だけを一意に
扱うことになり、ミキサ自体の物理的大きさ、配管の太
さ等を調整することにより均一なる混合状態を経験的に
作り出すことになる。換言すれば、気相反応装置毎に異
なるガスミキサを使用することになり、気相反応装置に
対して固有性を持つものでもある。For this reason, controlling the gas mixing conditions uniquely deals with only the pressure difference, and it is necessary to empirically create a uniform mixing state by adjusting the physical size of the mixer itself, the thickness of the piping, etc. Become. In other words, a different gas mixer is used for each gas phase reactor, and is unique to each gas phase reactor.
課題を解決するための手段
内周面にねじ溝を有するミキサハウジング内に、前記ね
じ溝と同ピッチのねじ溝を有して両ねじ溝間にガス流路
を形成するロータリアクセルを設け、ミキサハウジング
に対して真空接続部により回転自在に保持されたモータ
軸をロータリアクセルに接続して駆動モータに回転させ
るようにする一方、前記ミキサハウジング外周には2種
又は2成分以上のガスを各々導入する複数のガス導入口
を形成し、ミキサハウジングのロータリアクセル回転軸
上位置には混合ガスを混合ガス処理装置に導く1つの混
合ガス導出口を形成した。Means for Solving the Problem A rotary accelerator having a thread groove having the same pitch as the thread groove and forming a gas flow path between both the thread grooves is provided in a mixer housing having a thread groove on the inner circumferential surface. A motor shaft rotatably held by a vacuum connection to the housing is connected to a rotary accelerator to be rotated by a drive motor, while two or more gases are introduced into the outer periphery of the mixer housing. A plurality of gas inlet ports were formed to guide the mixed gas to the mixed gas processing device, and one mixed gas outlet port was formed at a position on the rotary accelerator rotation axis of the mixer housing to lead the mixed gas to the mixed gas processing device.
作用
ガス導入口からミキサハウジング内に導入されたガスは
ガス流路を経て混合ガス導出口から混合ガス処理装置に
導出される。このとき、駆動モータによりロータリアク
セルを回転させると、両ねじ溝により形成されたガス流
路が動的となり、ここを通る混合ガスに送出圧力が付与
され流速を持つことになる。よって、導入ガスの圧力と
混合ガス処理装置内の圧力との圧力差に、このようなミ
キサ自体の動的な構造による送出圧力も加わるため、混
合ガス処理装置に容易に導出させることができる。また
、導入ガス自体は乱流となって両ねじ溝による複雑なガ
ス流路を通るため、混合状態は均一となる二二二に、こ
のような混合条件、導出圧力等ば、駆動モータによるロ
ータリアクセルの回転を適宜制御することにより対応で
き、接続される混合ガス処理装置に対して固有性を持た
ない動的なものとなる。The gas introduced into the mixer housing from the working gas inlet is led out to the mixed gas processing device from the mixed gas outlet via the gas flow path. At this time, when the rotary accelerator is rotated by the drive motor, the gas flow path formed by both thread grooves becomes dynamic, and the mixed gas passing therethrough is given a delivery pressure and has a flow velocity. Therefore, the delivery pressure due to the dynamic structure of the mixer itself is added to the pressure difference between the pressure of the introduced gas and the pressure inside the mixed gas processing device, so that the gas can be easily delivered to the mixed gas processing device. In addition, since the introduced gas itself becomes a turbulent flow and passes through a complicated gas flow path formed by both screw grooves, the mixing state becomes uniform.Secondly, given these mixing conditions and outlet pressure, the rotary This can be handled by appropriately controlling the rotation of the accelerator, and is dynamic and has no specificity to the mixed gas processing device to which it is connected.
実施例
本発明の一実施例を第1図及び第2図に基づいて説明す
る。まず、中空円筒状のミキサハウジング11が設けら
れている。このミキサハウジング11の一部は肉厚が厚
くされ、その内周面にはステータを構成するねじ溝12
が形成されている。Embodiment An embodiment of the present invention will be explained based on FIGS. 1 and 2. First, a hollow cylindrical mixer housing 11 is provided. A part of the mixer housing 11 has a thick wall, and the inner peripheral surface thereof has a thread groove 12 that constitutes a stator.
is formed.
ミキサハウジングll内部にはロータリアクセル13が
設けられている。このロータリアクセル13はミキサハ
ウジング11の肉厚が厚い部分の径よりも小径のもので
、外周にはねじ溝14が形成されている。このねじ溝1
4は前記ねじ溝12と同ピッチ(詳細は、後述する)と
されている。よって、ミキサハウジングll内部におい
て両ねじ溝12.14間にはガス流路15なる空間が形
成される。また、前記ロータリアクセル13はモータ軸
16にねじ17により固定されており、ミキサハウジン
グ11外に設けた駆動モータ18により回転可能な状態
に片持ち保持されている。ここに、前記モータ軸16は
ミキサハウジング11の一部を貫通するが、この部分は
真空接続部19により保持されている。真空接続部19
は無潤滑ベアリング20、ウィルソンシール21及びキ
ャップ22からなる。ここに、これらのミキサハウジン
グ11、ロータリアクセル13、モータ軸16、無潤滑
ベアリング20にはすべて5US316が使用され、耐
蝕性が考慮されている。A rotary accelerator 13 is provided inside the mixer housing ll. The rotary axle 13 has a smaller diameter than the thicker portion of the mixer housing 11, and has a threaded groove 14 formed on its outer periphery. This thread groove 1
4 has the same pitch as the thread groove 12 (details will be described later). Therefore, a space called a gas flow path 15 is formed between both thread grooves 12, 14 inside the mixer housing 11. Further, the rotary accelerator 13 is fixed to a motor shaft 16 with a screw 17, and is held in a cantilever state so as to be rotatable by a drive motor 18 provided outside the mixer housing 11. Here, the motor shaft 16 passes through a part of the mixer housing 11, and this part is held by a vacuum connection part 19. Vacuum connection part 19
consists of a non-lubricated bearing 20, a Wilson seal 21 and a cap 22. Here, 5US316 is used for all of these mixer housing 11, rotary accelerator 13, motor shaft 16, and non-lubricated bearing 20, and corrosion resistance is taken into consideration.
また、前記ミキサハウジング11に対してはロータリア
クセル13の両側に位置させてガス導入口24とガス導
出口25とが形成されている。まず、ガス導入口24は
モータ軸16対応位置付近に位置させてミキサハウジン
グ11の外周に、導入ガスの種類分だけ複数個形成され
ている。また、ガス導出口25はミキサハウジング11
の一端であってロータリアクセル13の回転軸上に位置
させて形成され、気相反応装置(図示せず)に連結され
ている。なお、前記ねじ溝12.=14の送り方向はこ
のガス導出口25側とされている。Furthermore, a gas inlet 24 and a gas outlet 25 are formed in the mixer housing 11 so as to be located on both sides of the rotary axle 13 . First, a plurality of gas inlet ports 24 are formed on the outer periphery of the mixer housing 11 in the vicinity of a position corresponding to the motor shaft 16, corresponding to the types of gases to be introduced. Further, the gas outlet 25 is connected to the mixer housing 11.
It is located at one end of the rotary axle 13 on the rotation axis of the rotary accelerator 13, and is connected to a gas phase reaction device (not shown). Note that the thread groove 12. The feeding direction of =14 is set to the gas outlet 25 side.
ここに、前記駆動モータ18は第2図に示すようにCP
U26制御のモータコントローラ27により駆動制御さ
れる。また、ガス導入口24から導入するガスの圧力等
は導入ガス圧カマスフローコントローラ28により制御
される。Here, the drive motor 18 is connected to the CP as shown in FIG.
The drive is controlled by a motor controller 27 controlled by U26. Further, the pressure of the gas introduced from the gas introduction port 24 is controlled by an introduced gas pressure Kamas flow controller 28.
このような構成において、混合すべき導入ガスは導入ガ
ス圧カマスフローコントローラ28により制御された状
態で各々のガス導入口24からミキサハウジングll内
に導入される。ここでは、例えば1次側の圧力が1.0
kg/co?、ガス流量15CCM 、 30CCM
、 50ccMの3種類について実施した。ミキサハ
ウジングll内に導入された各々のガスは、ねじ溝12
,14間のガス流路15を通ってガス導出口25から気
相反応装置内に均一混合ガスとして導出される。In such a configuration, the introduced gases to be mixed are introduced into the mixer housing 11 from each gas inlet 24 under the control of the introduced gas pressure Kamas flow controller 28. Here, for example, the pressure on the primary side is 1.0
kg/co? , gas flow rate 15CCM, 30CCM
, 50ccM. Each gas introduced into the mixer housing 11 is
, 14, and is led out from the gas outlet 25 into the gas phase reactor as a uniform mixed gas.
この時、ロータリアクセル13は駆動モータ18により
回転されるため、導入されたガスはねじ溝12.14間
の動的となったガス流路15で乱流となり混合される。At this time, since the rotary accelerator 13 is rotated by the drive motor 18, the introduced gas becomes turbulent and mixed in the dynamic gas passage 15 between the thread grooves 12 and 14.
かつ、ねじ溝14の送り方向がガス導出口25側となる
ように溝が切られているため、乱流となった混合ガスは
流速を持ってガス導出口25側へ確実に送られる。実験
によれば、ねじ溝12.14のピッチ(同一ピッチ)を
5mm、10■、12順の3種類としたところ、ピッチ
をl’ommとした場合が最も安定した流速となったも
のである。なお、ねじ溝12.14の山開土間距離(ガ
ス流路15の間隙)としては、2印。In addition, since the groove is cut so that the feeding direction of the screw groove 14 is on the gas outlet 25 side, the turbulent mixed gas is reliably sent to the gas outlet 25 side with a flow velocity. According to experiments, when the pitch (same pitch) of thread grooves 12 and 14 was set to three types: 5mm, 10mm, and 12mm, the most stable flow velocity was obtained when the pitch was l'ommm. . Note that the distance between the thread grooves 12 and 14 (the gap between the gas passages 15) is 2 marks.
3胴、5■の3種類で実験したところ、3柵の場合が最
も流速が安定したものである。ちなみに、ねじ溝12の
溝深さは5nvn、ねじ溝14の溝深さは3Mとした。Experiments were conducted with three types, 3-barrel and 5-barrel, and the flow velocity was most stable with 3-barrel. Incidentally, the groove depth of the thread groove 12 was 5nvn, and the groove depth of the thread groove 14 was 3M.
ところで、駆動モータ18の回転数制御は第2図に示す
ブロック図構成のCPU26によりセルフコントロール
で行なわれる。即ち、導入ガス圧カマスフローコントロ
ーラ28から得られる所定のマスフロー出力(流入量)
と、気相反応装置の真空計29から得られる真空度出力
とをCPU26に取り込み、演算を行ない、演算結果に
応じてモータコントローラ27を制御し、駆動モータ1
8の回転数(回転速度)を制御することになる。Incidentally, the rotational speed control of the drive motor 18 is self-controlled by a CPU 26 having a block diagram configuration shown in FIG. That is, the predetermined mass flow output (inflow amount) obtained from the introduced gas pressure Kamas flow controller 28
and the vacuum level output obtained from the vacuum gauge 29 of the gas phase reactor are input into the CPU 26, the CPU 26 performs calculations, controls the motor controller 27 according to the calculation results, and controls the drive motor 1.
The number of rotations (rotational speed) of 8 will be controlled.
例えば、導入ガスとしてアルゴン、酸素を各々1100
CCの流入量でミキサハウジング11に導入し、気相反
応装置内の真空度が10−’Paとなるようにしたとこ
ろ、駆動モータ18の回転数は380〜530 rpm
の範囲内に制御されたものである。これは、気相反応装
置の主ポンプ(本例では、大阪真空株式会社製のTG1
800ターボ分子ポンプ使用)の排気速度と、スロット
ルバルブの開度により気相反応装置内の真空度をCPU
26により同時に制御しているために出る差である(こ
のため、CPU26にはスロットルバルブコントローラ
30も接続されている)。この時、導入ガス圧カマスフ
ローコントローラ28出力によれば、ガス流入量はI
00ccy±2 CCMとなり多少のふらつきをみせる
が、ガスミキサにおけるステータ、ロータの諸寸法をよ
り正確に求めて設計すれば解決できる。For example, argon and oxygen are each introduced at 1,100 yen each.
When CC was introduced into the mixer housing 11 at an inflow rate so that the degree of vacuum in the gas phase reactor was 10-'Pa, the rotation speed of the drive motor 18 was 380 to 530 rpm.
It is controlled within the range of . This is the main pump of the gas phase reactor (in this example, TG1 manufactured by Osaka Vacuum Co., Ltd.
The degree of vacuum in the gas phase reactor is determined by the pumping speed of the 800 turbo molecular pump) and the opening degree of the throttle valve.
This difference arises because the throttle valve controller 30 is simultaneously controlled by the CPU 26 (for this reason, the throttle valve controller 30 is also connected to the CPU 26). At this time, according to the output of the introduced gas pressure Kamas flow controller 28, the gas inflow amount is I
00ccy±2 CCM, which causes some wobbling, but this can be solved by more accurately finding and designing the dimensions of the stator and rotor in the gas mixer.
本実施例のようなガスミキサを用いてアルミニウム薄膜
のプラズマ酸化を行なったところ、得られた酸化アルミ
ニウム膜の膜厚の面内バラツキが2±0.15%となり
、従来方式のガス供給により同一の気相反応装置で同一
プラズマ条件で得られた酸化アルミニウム膜の場合の面
内バラツキ7%に比して格段に向上したものであり、混
合ガスが均一に供給されたことが裏付けされたものであ
る。When plasma oxidation of an aluminum thin film was performed using a gas mixer as in this example, the in-plane variation in the thickness of the obtained aluminum oxide film was 2 ± 0.15%, and the same This is a marked improvement over the in-plane variation of 7% in the case of an aluminum oxide film obtained under the same plasma conditions in a gas phase reactor, confirming that the mixed gas was supplied uniformly. be.
発明の効果
本発明は、上述したように内周面にねじ溝を有するミキ
サハウジングと、このねじ溝と同ピッチのねじ溝を有し
て両ねじ溝間にガス流路を形成すして駆動モータにより
回転されるロータリアクセルとにより、複雑なガス流路
を持つ動的な構造としたので、複数の導入ガスについて
均一なる混合状態を作って、ガス導出口から混合ガス処
理装置内へ容易に導出させることができ、かつ、駆動モ
ータによるロータリアクセルの回転数を適宜制御するこ
とにより各種混合ガス処理装置に対応でき、特定の混合
ガス処理装置に対して固有性も持たない動的なものとす
ることができる。Effects of the Invention As described above, the present invention provides a mixer housing having a threaded groove on the inner circumferential surface, and a drive motor having a threaded groove having the same pitch as the threaded groove to form a gas flow path between both threaded grooves. The rotary accelerator is rotated by the rotary accelerator, which creates a dynamic structure with a complex gas flow path, so multiple gases can be mixed uniformly and easily guided from the gas outlet into the mixed gas processing equipment. The system is dynamic and can be adapted to various mixed gas processing devices by appropriately controlling the rotation speed of the rotary accelerator by the drive motor, and is not unique to any particular mixed gas processing device. be able to.
第1図は本発明の一実施例を示す断面構造図、第2図は
制御系を示すブロック図、第3図ないし第5図は各々異
なる従来例を示す概略断面図である。
11・・・ミキサハウジング、12・・・ねじ溝、13
・・・ロータリアクセル、14・・・ねじ溝、15・・
・ガス流路、16・・・モータ軸、18・・・駆動モー
タ、19・・・真空接続部、24・・・ガス導入口、2
5・・・ガス導出口
1、.3図FIG. 1 is a sectional structural diagram showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a control system, and FIGS. 3 to 5 are schematic sectional views showing different conventional examples. 11...Mixer housing, 12...Thread groove, 13
...Rotary accelerator, 14...Thread groove, 15...
- Gas flow path, 16... Motor shaft, 18... Drive motor, 19... Vacuum connection part, 24... Gas inlet, 2
5...Gas outlet 1, . Figure 3
Claims (1)
サハウジング外周に形成されて2種又は2成分以上のガ
スを各々導入する複数のガス導入口と、前記ねじ溝と同
ピッチのねじ溝を有して両ねじ溝間にガス流路を形成す
るロータリアクセルと、モータ軸により連結されてこの
ロータリアクセルを回転させる駆動モータと、前記ミキ
サハウジングに対して前記モータ軸を回転自在に保持す
る真空接続部と、前記ミキサハウジングの前記ロータリ
アクセル回転軸上位置に形成されて混合ガスを混合ガス
処理装置に導く1つの混合ガス導出口とよりなることを
特徴とするガスミキサ。A mixer housing having a threaded groove on an inner peripheral surface, a plurality of gas inlets formed on the outer periphery of the mixer housing for respectively introducing two or more gases, and a threaded groove having the same pitch as the threaded groove. a rotary accelerator that forms a gas flow path between both threaded grooves; a drive motor connected by a motor shaft to rotate the rotary accelerator; and a vacuum connection that rotatably holds the motor shaft with respect to the mixer housing. and one mixed gas outlet formed at a position on the rotary accelerator rotation axis of the mixer housing to guide the mixed gas to a mixed gas processing device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009114A JPH03213132A (en) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | gas mixer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009114A JPH03213132A (en) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | gas mixer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03213132A true JPH03213132A (en) | 1991-09-18 |
Family
ID=11711608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009114A Pending JPH03213132A (en) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | gas mixer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03213132A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1930069A1 (en) * | 2006-12-09 | 2008-06-11 | Haldor Topsoe A/S | Method and apparatus for mixing two or more gaseous or liquid streams |
-
1990
- 1990-01-18 JP JP2009114A patent/JPH03213132A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1930069A1 (en) * | 2006-12-09 | 2008-06-11 | Haldor Topsoe A/S | Method and apparatus for mixing two or more gaseous or liquid streams |
| JP2008142710A (en) * | 2006-12-09 | 2008-06-26 | Haldor Topsoe As | Method and apparatus for mixing two or more gaseous or liquid streams |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5276388B2 (en) | Film forming apparatus and substrate processing apparatus | |
| JP3645581B2 (en) | Gas turbulent mixing device and gas turbulent mixing method | |
| JP7819364B2 (en) | Gas mixing device and semiconductor processing device | |
| KR102610827B1 (en) | Method and apparatus for providing improved gas flow to the processing volume of a processing chamber | |
| TW201809341A (en) | Gas mixing device and substrate processing device | |
| US20200115797A1 (en) | Substrate processing apparatus having manifold | |
| TWI783107B (en) | Dogbone inlet cone profile for remote plasma oxidation chamber | |
| US10043639B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| CN107403714A (en) | An Improved Side Injection Nozzle Design for Processing Chambers | |
| US20170301568A1 (en) | Gas supply mechanism and semiconductor manufacturing system | |
| JP2021530876A (en) | Remote capacitively coupled plasma source with improved ion blocker | |
| WO2004073850A1 (en) | Gas feeding apparatus | |
| TWI385042B (en) | Multi-gas mixer and device for supplying mixed gas to plasma torch | |
| TW202231910A (en) | Novel and effective homogenize flow mixing design | |
| JPH03213132A (en) | gas mixer | |
| US11220750B2 (en) | Shower head and processing device | |
| CN113441032B (en) | Semiconductor process equipment and gas conveying device thereof | |
| CN118048622B (en) | Air intake structure and semiconductor processing equipment | |
| CN117046635A (en) | Fluid supply nozzle for semiconductor substrate processing and semiconductor substrate processing apparatus | |
| CN222956222U (en) | Gas mixing device | |
| CN219696391U (en) | A kind of plasma etching equipment | |
| CN221895188U (en) | Air inlet device and single crystal furnace | |
| JP7439345B2 (en) | Switching process fluid paths during recipe operation | |
| CN223035912U (en) | Mixing tube, manifold structure and semiconductor process equipment | |
| CN223201918U (en) | Gas mixing device and semiconductor manufacturing equipment |