JPH03213775A - 真空シール - Google Patents

真空シール

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Publication number
JPH03213775A
JPH03213775A JP611790A JP611790A JPH03213775A JP H03213775 A JPH03213775 A JP H03213775A JP 611790 A JP611790 A JP 611790A JP 611790 A JP611790 A JP 611790A JP H03213775 A JPH03213775 A JP H03213775A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flange
magnetic
groove
magnet
channel
Prior art date
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Pending
Application number
JP611790A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshifumi Koike
敏文 小池
Eiichi Sato
栄一 佐藤
Toshio Masuda
俊夫 増田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP611790A priority Critical patent/JPH03213775A/ja
Publication of JPH03213775A publication Critical patent/JPH03213775A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Sealing Using Fluids, Sealing Without Contact, And Removal Of Oil (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、大型真空チャンバに取り付けられるフランジ
部の真空シールに関する。
〔従来の技術〕
従来、大型真空チャンバ開口部の真空シールは、開口部
の周辺に平面状のフランジ取付は面を設け。
このフランジ取り付は面に開口部をかこんでJISB 
 2406で規定された断面形状が矩形状の溝を設け、
この溝にJIS  B  2401で規定されたゴム製
のOリングを装着し、フランジ取り付は面にフランジを
押し付けてOリングを変形させ、溝底部とフランジ面に
0リングを密着させることにより行なっていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、比較的簡単に10−’Paの程度の真
空を得ることができるが、0リングが接する溝底部やフ
ランジ面の表面粗さを最大粗さで3μm以下にする必要
がある。溝の加工は、一般に旋盤で行うため表面粗さを
容易に実現できるが、旋盤加工が困難な大型の真空チャ
ンバや旋盤加工が不可能な円形以外の溝形状の場合、エ
ンドミルやフライス盤により溝の加工を行なっている。
この加工によると加工の性質上、カッタの加工痕が付き
やすく、特に、加工の最後の部分の円形状の加工痕をな
くすことは困難である。また、加工痕は、Oリング溝の
真空側と大気側を横切るように付くため、真空リークが
発生しやすいという問題があった。
本発明の目的は、精密な加工を必要とせずに安定なシー
ル性能が得られる真空シールを提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明は平面状のフランジ
面の開口部をとり囲んで設けられた周状の溝と、この溝
の底面全周に溝の幅方向に両極を持つように設けた磁石
と、磁石の両極をはさんで溝内に設けた溝の深さよりわ
ずかに小さい一対の磁性体部材と、平面状のフランジ取
り付は部に対向して開口部をふさぐように設けた平面状
のフランジとでシール部を構成し、磁性体部材とフラン
ジとの隙間に磁性流体を封入したものである。
〔作用〕 真空チャンバの開口部のフランジ取り付は部に設けた溝
底部に設置された磁石と、この磁石をはんで設けた溝深
さよりわずかに小さい磁性体部材と、フランジ取り付は
部をおおうように設けた磁性体フランジでシール部を構
成することにより、磁石→片方の磁性体部材→磁性体フ
ランジ→もう一方の磁性体フランジ→磁石となる閉じた
磁気回路が形成される。この時、磁性体部材と磁性体フ
ランジとの隙間に磁性流体を封入することにより。
磁性流体はこの隙間を通る磁力で保持され、真空側と大
気側とを遮断する真空シールとして動作する。シール面
となる磁性部材端面や磁性フランジ面の加工精度が悪く
加工痕やうねりなどがあったとしても、磁性流体によっ
て満たされ、真空リークが発生することがない。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図及び第2図により説明
する。第2図は、本発明の真空シール方法を示す平面図
、第1図は、第2図のA−A断面図である。非磁性体か
らなる真空チャンバ1の開口部8の周囲に設けられた平
面状のフランジ取付面1aには、開口部8をとり囲んで
周状の溝5が設けられている。溝5の底部には永久磁石
4が溝5の幅方向に両極を持つように設置され、永久磁
石4の両極に接し、溝5の深さhaよりもわずかに小さ
い寸法hpをもつ磁性体部材3a、3bが設置されてい
る。一方、真空チャンバ1のフランジ取り付は面1aに
は開口部8をふさぐため、磁性体でできた平面状のフラ
ンジ2が複数本のボルト7により固定されている。また
、磁性体部材3a、3bとフランジ2との間の隙間りに
は磁性流体6が満たされている。このように構成するこ
とにより、永久磁石4のN極から出た磁力線は、図中に
示すように、磁性体部材3a、磁性体フランジ2.磁性
体部材3bを通り永久磁石4のS極に至る閉じた磁気回
路を形成する。この時、磁性体部材3a、3bと磁性体
フランジ2との間のすきまhを満たすように封入された
磁性流体6は、すきまhを通る磁力で保持され、真空側
と大気側とを遮断する真空シールとして動作する。また
、溝5やフランジ2の磁性流体当接面2aの仕上げ粗さ
やうねりなどの加工精度が悪い場合でも、磁性流体6に
より粗さやうねり部分が満されているために大気側から
真空側へ気体が浸入する真空リークが発生することはな
い。
第3図は、本発明の他の実施例を示す縦断面図である。
非磁性体のフランジ2のフランジ面2aには周状の溝5
が設けられている。溝5の底部には永久磁石4が溝5の
幅方向に両極を持つように設置され、永久磁石4の両極
に接し、溝5の深さhtよりもわずかにホさい寸法hp
をもつ磁性体部材3a、3bが設置されている。フラン
ジ2は、磁性体でできた真空チャンバ1に複数本のボル
ト7で固定される。磁性体部材3a、3bと真空チャン
バ1との間の隙間には磁性流体6が満たされている。こ
のように構成することにより、第一の実施例と同様な閉
じた磁性回路がシール部に形成され、フランジ面の加工
精度に左右されない安定した真空シール性能が得られる
〔発明の効果〕
本発明によれば、真空チャンバの平面状の真空シール面
に加工された溝の底部に設置された磁石が発生する磁力
により、真空シール面に磁性流体が保持されるため、平
面状の真空シール面の加工精度が悪く傷やうねりがあっ
ても真空リークの発生しない安定した真空シール性能を
発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す縦断面図、第2図は
、本発明の真空チャンバ真空シール部全体を示す平面図
、第3図は本発明の他の実施例を示す縦断面図である。 1・・・真空チャンバ、2・・・フランジ、3・・・磁
性体部不 図 疏オ斌 第 図 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、真空チャンバに設けられた開口部と、前記開口部に
    設けられたフランジ取付部と、前記フランジ取付部に装
    着されるフランジとを含む真空チャンバのフランジ部に
    おいて、 前記フランジ面の開口部をとり囲んで設けられた周状の
    溝と、前記溝の底面全周にわたり前記溝の幅方向に両極
    を持つように設けた磁石と、前記磁石の両極をはさんで
    溝内に対向して設けた前記溝の深さよりもわずかに短い
    磁性体部材とで構成し、前記磁性体部材と前記フランジ
    とのすき間に磁性流体を封入したことを特徴とする真空
    シール。
JP611790A 1990-01-17 1990-01-17 真空シール Pending JPH03213775A (ja)

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JP611790A JPH03213775A (ja) 1990-01-17 1990-01-17 真空シール

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JP611790A JPH03213775A (ja) 1990-01-17 1990-01-17 真空シール

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007026479A1 (ja) * 2005-08-30 2007-03-08 Shinmaywa Industries, Ltd. 真空処理用チャンバ
CN101769381A (zh) * 2010-03-01 2010-07-07 北京交通大学 一种磁性液体与c型滑环组合式往复轴密封装置
CN101776146A (zh) * 2010-03-02 2010-07-14 北京交通大学 一种大直径大间隙磁性液体静密封结构
US20110187061A1 (en) * 2010-02-03 2011-08-04 Beijing Jiaotong University Static sealing device for large-diameter flange with magnetic fluid seal
PL422264A1 (pl) * 2017-07-18 2019-01-28 Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie Uszczelnienie spoczynkowe z zastosowaniem cieczy magnetycznej, zwłaszcza dla pokrywy zbiornika

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WO2007026479A1 (ja) * 2005-08-30 2007-03-08 Shinmaywa Industries, Ltd. 真空処理用チャンバ
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PL422264A1 (pl) * 2017-07-18 2019-01-28 Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie Uszczelnienie spoczynkowe z zastosowaniem cieczy magnetycznej, zwłaszcza dla pokrywy zbiornika
PL234172B1 (pl) * 2017-07-18 2020-01-31 Akademia Gorniczo Hutnicza Im Stanislawa Staszica W Krakowie Uszczelnienie spoczynkowe z zastosowaniem cieczy magnetycznej, zwłaszcza dla pokrywy zbiornika

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