JPH03214040A - 光分析装置 - Google Patents
光分析装置Info
- Publication number
- JPH03214040A JPH03214040A JP930890A JP930890A JPH03214040A JP H03214040 A JPH03214040 A JP H03214040A JP 930890 A JP930890 A JP 930890A JP 930890 A JP930890 A JP 930890A JP H03214040 A JPH03214040 A JP H03214040A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- sample
- intensity
- sample cell
- irradiation surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 7
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 abstract description 5
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 13
- 238000001506 fluorescence spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000695 excitation spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は蛍光分光光度計又はUV検出器等の光分析装置
に関する。
に関する。
第4図は従来の蛍光分光光度計の原理構成を示す。
光源1
0から放射された連続光のうち、
特定波
長の光が励起光分光用モノクロメータ12で選択されて
出射スリット14から射出され、コリメートレンズ16
で集光され、ビームスプリッタ18を透過して試料セル
20内の試料22に照射される。ビームスプリッタ18
で反射された光は、光検出器24で受光され、その光強
度に応じた電気信号に変換される。試料22は励起光を
受けて蛍光を発し、この蛍光は、コリメートレンズ26
で集光されて蛍光分光用モノクロメータ28に入射する
。蛍光分光用モノクロメータ28は、この入射光のうち
特定波長の光を選択して出射し、その光強度が光検出器
30で検出される。光検出器24及び30の検出信号は
それぞれ、了ンブ32.34で増幅され、A/D変換器
36.38でデジタル変換され、次いで除算器40に供
給されて、A/D変換器38の出力値がA/D変換器3
6の出力値で除せられ、その結果が定数倍器41で定数
倍され、表示器42に表示される。 励起光分光用モノクロメータ12の選択波長を固定して
蛍光分光用モノクロメータ28の選択波長を走査するこ
とにより、発光スペクトルが得られ、逆に、蛍光分光用
モノクロメータ28の選択波長を固定して励起光分光用
モノクロメータ12の選択波長を走査することにより、
励起スペクトルが得られる。 この蛍光分光光度計によれば、光源10の出力が時間的
に変動しても、上記除算により補正される。 ところが、光検出器24の受光強度は試料22の受光強
度に完全には比例しない。これは、試料セル20の寸法
が比較的小さい場合(液体クロマトグラフ用の場合、試
料セル20の横断内面は1.8mmX5mm程度)には
、コリメートレンズ16の収差に因り出射スリット14
から出た光が広がるたt、ビームスプリッタ18を通っ
た励起光の全てを試料22に照射することができないこ
と、及び、光源10の輝度分布の局所性に起因する。 また、ビームスプリッタ18が汚れたり破損したりする
と、測定値が信頼できなくなったり測定不能になったり
する。 このような問題点を解決するために、ビームスプリッタ
18を用いずに、試料セル20を透過した光を光検出器
24で検出する構成が提案されている(特願昭58−1
74833号公報)。
出射スリット14から射出され、コリメートレンズ16
で集光され、ビームスプリッタ18を透過して試料セル
20内の試料22に照射される。ビームスプリッタ18
で反射された光は、光検出器24で受光され、その光強
度に応じた電気信号に変換される。試料22は励起光を
受けて蛍光を発し、この蛍光は、コリメートレンズ26
で集光されて蛍光分光用モノクロメータ28に入射する
。蛍光分光用モノクロメータ28は、この入射光のうち
特定波長の光を選択して出射し、その光強度が光検出器
30で検出される。光検出器24及び30の検出信号は
それぞれ、了ンブ32.34で増幅され、A/D変換器
36.38でデジタル変換され、次いで除算器40に供
給されて、A/D変換器38の出力値がA/D変換器3
6の出力値で除せられ、その結果が定数倍器41で定数
倍され、表示器42に表示される。 励起光分光用モノクロメータ12の選択波長を固定して
蛍光分光用モノクロメータ28の選択波長を走査するこ
とにより、発光スペクトルが得られ、逆に、蛍光分光用
モノクロメータ28の選択波長を固定して励起光分光用
モノクロメータ12の選択波長を走査することにより、
励起スペクトルが得られる。 この蛍光分光光度計によれば、光源10の出力が時間的
に変動しても、上記除算により補正される。 ところが、光検出器24の受光強度は試料22の受光強
度に完全には比例しない。これは、試料セル20の寸法
が比較的小さい場合(液体クロマトグラフ用の場合、試
料セル20の横断内面は1.8mmX5mm程度)には
、コリメートレンズ16の収差に因り出射スリット14
から出た光が広がるたt、ビームスプリッタ18を通っ
た励起光の全てを試料22に照射することができないこ
と、及び、光源10の輝度分布の局所性に起因する。 また、ビームスプリッタ18が汚れたり破損したりする
と、測定値が信頼できなくなったり測定不能になったり
する。 このような問題点を解決するために、ビームスプリッタ
18を用いずに、試料セル20を透過した光を光検出器
24で検出する構成が提案されている(特願昭58−1
74833号公報)。
しかし、この透過光モニタ方式では、試料セル20内に
気泡が発生した場合、上記補正が正確に行われない。ま
た、試料22の光吸収の強さに応じて定数倍器41の定
数を設定変更する必要があるが、未知試料の場合には変
更不可能であるため、上記補正が正確に行なわれない。 本発明の目的は、このような問題点に鑑み、試料セル内
での気泡の発生や試料の吸光度に影響されずに、より正
確に測定値を補正することができる光分析装置を提供す
ることにある。
気泡が発生した場合、上記補正が正確に行われない。ま
た、試料22の光吸収の強さに応じて定数倍器41の定
数を設定変更する必要があるが、未知試料の場合には変
更不可能であるため、上記補正が正確に行なわれない。 本発明の目的は、このような問題点に鑑み、試料セル内
での気泡の発生や試料の吸光度に影響されずに、より正
確に測定値を補正することができる光分析装置を提供す
ることにある。
この目的を達成するために、本発明では、試料が入れら
れる透明の試料セルと、特定波長又は多波長の光束を該
試料に照射する照射光学系と、該試料から発せられた蛍
光の特定波長若しくは多波長の強度、又は、該試料を透
過した光の特定波長若しくは多波長の強度を検出する検
出光学系と、該照射光のモニター光強度を検出する手段
と、該モニター光強度に対する該検出光学系による光強
度を求める光強度補正手段とを有する、蛍光分光光度計
又はUV検出器等の光分析装置において、該試料セルの
光照射面に対し照射光束の中心線が略垂直(垂直を除く
)になるようにし、該モニター光強度検出手段は、照射
光の該照射面での反射光の強度を検出する光検出器で構
成している。 本発明では、試料セルの光照射面の反射率が定であるの
で、光照射面の受光強度が試料の受光強度に比例する。 また、光照射面の反射率は試料の吸光度とは無関係であ
る。さらに、光照射面の受光強度は、試料セル内に発生
する気泡の影響を受けることがない。 したがって、試料セル内での気泡の発生や試料の吸光度
に影響されずに、より正確に測定値を補正することがで
きる。 また、ビームスプリッタを用いていないので、その汚れ
や損傷の心配がなく、装置の信頼性が向上する。 試料セルの光照射面に、該照射面からの反射光東の幅が
試料を透過する光束の幅に等しくなるように、反射防止
マスクを付ければ、試料セルの寸法が小さくても、光照
射面での反射光の強度と試料を通る光の強度の比は一定
になる。このため、上記効果がより確実に達成される。 また、試料セルの光照射面を、試料セル内壁面の該照射
面に対向する面に対し、略平行(平行を除く)にすれば
、試料セルの光照射面と反対側の面での反射光がモニタ
ー光強度検出用光検出器に到達しないので、上記効果が
より確実に達成される。
れる透明の試料セルと、特定波長又は多波長の光束を該
試料に照射する照射光学系と、該試料から発せられた蛍
光の特定波長若しくは多波長の強度、又は、該試料を透
過した光の特定波長若しくは多波長の強度を検出する検
出光学系と、該照射光のモニター光強度を検出する手段
と、該モニター光強度に対する該検出光学系による光強
度を求める光強度補正手段とを有する、蛍光分光光度計
又はUV検出器等の光分析装置において、該試料セルの
光照射面に対し照射光束の中心線が略垂直(垂直を除く
)になるようにし、該モニター光強度検出手段は、照射
光の該照射面での反射光の強度を検出する光検出器で構
成している。 本発明では、試料セルの光照射面の反射率が定であるの
で、光照射面の受光強度が試料の受光強度に比例する。 また、光照射面の反射率は試料の吸光度とは無関係であ
る。さらに、光照射面の受光強度は、試料セル内に発生
する気泡の影響を受けることがない。 したがって、試料セル内での気泡の発生や試料の吸光度
に影響されずに、より正確に測定値を補正することがで
きる。 また、ビームスプリッタを用いていないので、その汚れ
や損傷の心配がなく、装置の信頼性が向上する。 試料セルの光照射面に、該照射面からの反射光東の幅が
試料を透過する光束の幅に等しくなるように、反射防止
マスクを付ければ、試料セルの寸法が小さくても、光照
射面での反射光の強度と試料を通る光の強度の比は一定
になる。このため、上記効果がより確実に達成される。 また、試料セルの光照射面を、試料セル内壁面の該照射
面に対向する面に対し、略平行(平行を除く)にすれば
、試料セルの光照射面と反対側の面での反射光がモニタ
ー光強度検出用光検出器に到達しないので、上記効果が
より確実に達成される。
以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説明する。
(1)第1実施例
第1図は本発明に係る光分析装置が適用された蛍光分光
光度計の構成を示す。第4図と同一構成要素には同一符
号を付してその説明を省略する。 この分光光度計では、コリメートレンズ16の光軸りを
試料セル20の光照射面20aに対し略垂直(垂直を除
く)にしている。これにより、光照射面20aで反射さ
れた励起光は、コリメートレンズ16を通って出射スリ
ット14の近くに集光される。この集光位置に対応して
、励起光分光用モノクロメータ12に光検出器24Aが
配設されている。光検出器24への出力は、アンプ32
で増幅され、A/D変換器36でデジタル変換され、A
/D変換器38の出力値に対する除数として除算器40
へ供給される。 光照射面20aでの励起光の反射率は通常5%程度であ
り、モニタ光強度としては充分である。 上記構成によれば、光照射面20aの反射率が一定、す
なわち光照射面20aの受光強度が試料22の受光強度
に比例する。また、光照射面20aの反射率は試料22
の吸光度とは無関係であるため、試料22が未知試料で
あっても定数倍器41の定数を変更する必要がない。さ
らに、光照射面20aの受光強度は、試料セル20内に
発生する気泡の影響を受けることがない。したがって、
第4図に示す構成よりもより正確に光検出器30の出力
を補正することができる。 また、ビームスプリッタ18を用いていないので、その
汚れや損傷の心配がなく、装置の信頼性が向上する。 (2)第2実施例 第2図は蛍光分光光度計で使用される試料セル20の断
面を示す。この試料セル20の、励起光が照射される光
照射面20aには、スリット状の反射防止マスク44が
被着されている。その開口は長方形であり、横巾は試料
セル20の内壁幅に等しくなっている。すなわち、光照
射面20aからの反射光東の幅は、試料22を通過する
光束の幅に等しくなっている。 したがって、試料セル200寸法が小さいために、励起
光を波長走査したときに、コリメートレンズ16の収差
に因り光照射面20Hに対する入射光束の幅が変動して
も、光照射面20aでの反射光の強度と試料22を通る
光の強度の比は一定になる。このため、上記第1実施例
で述べた効果がより確実に達成される。 (3)第3実施例 第3図は蛍光分光光度計で使用される試料セル2OAの
断面を示す。この試料セル2OAは、励起光が照射され
る光照射面208′が、光照射面20a°に対向する内
壁面20bに略平行(平行を除く)になっている。 したがって、光照射面20a’ 上のP点に入射した光
は、その一部(約5%)が反射され、残り(約95%)
が試料セル2OAの内壁QSRを通り、試料セル2OA
の外壁Sでその一部が反射され、これが試料セル2OA
の内壁点り、Uを通り、光照射面20a′上の点Vを通
って入射方向と略反対方向へ戻る。この戻り方向は、P
点での反射光の方向とずれるため、第1図に示す光検出
器24Aには到達しない。 なあ、試料セル2OAの屈折率は約1.5であり、液体
クロマトグラフで使用する溶媒の屈折率は通常1.3〜
1.6であるので、試料22と試料セル2OAとの間の
相対屈折率は1に近く、点Q、R,T及びUでの反射光
(反射率的0.8%程度)は無視することができる。 他の構成は第1実施例と同一である。本実施例によれば
、試料セル2OAの光照射面20a と反対側の面で
の反射光が光検出器24Aに到達しないので、上記第1
実施例で述べた効果がより確実に達成される。 なお、本発明には外にも種々の変形例が含まれる。 例えば、上記実施例において、励起光分光用モノクロメ
ータ12又は蛍光分光用モノクロメータ28のいずれか
一方を省略した構成であってもよい。 また、上記実施例では本発明を蛍光分光光度計に適用し
た場合を説明したが、本発明はUV検出器にも適用する
ことができる。この場合、光検出器30は試料セルを透
過した光の強度を検出する。
光度計の構成を示す。第4図と同一構成要素には同一符
号を付してその説明を省略する。 この分光光度計では、コリメートレンズ16の光軸りを
試料セル20の光照射面20aに対し略垂直(垂直を除
く)にしている。これにより、光照射面20aで反射さ
れた励起光は、コリメートレンズ16を通って出射スリ
ット14の近くに集光される。この集光位置に対応して
、励起光分光用モノクロメータ12に光検出器24Aが
配設されている。光検出器24への出力は、アンプ32
で増幅され、A/D変換器36でデジタル変換され、A
/D変換器38の出力値に対する除数として除算器40
へ供給される。 光照射面20aでの励起光の反射率は通常5%程度であ
り、モニタ光強度としては充分である。 上記構成によれば、光照射面20aの反射率が一定、す
なわち光照射面20aの受光強度が試料22の受光強度
に比例する。また、光照射面20aの反射率は試料22
の吸光度とは無関係であるため、試料22が未知試料で
あっても定数倍器41の定数を変更する必要がない。さ
らに、光照射面20aの受光強度は、試料セル20内に
発生する気泡の影響を受けることがない。したがって、
第4図に示す構成よりもより正確に光検出器30の出力
を補正することができる。 また、ビームスプリッタ18を用いていないので、その
汚れや損傷の心配がなく、装置の信頼性が向上する。 (2)第2実施例 第2図は蛍光分光光度計で使用される試料セル20の断
面を示す。この試料セル20の、励起光が照射される光
照射面20aには、スリット状の反射防止マスク44が
被着されている。その開口は長方形であり、横巾は試料
セル20の内壁幅に等しくなっている。すなわち、光照
射面20aからの反射光東の幅は、試料22を通過する
光束の幅に等しくなっている。 したがって、試料セル200寸法が小さいために、励起
光を波長走査したときに、コリメートレンズ16の収差
に因り光照射面20Hに対する入射光束の幅が変動して
も、光照射面20aでの反射光の強度と試料22を通る
光の強度の比は一定になる。このため、上記第1実施例
で述べた効果がより確実に達成される。 (3)第3実施例 第3図は蛍光分光光度計で使用される試料セル2OAの
断面を示す。この試料セル2OAは、励起光が照射され
る光照射面208′が、光照射面20a°に対向する内
壁面20bに略平行(平行を除く)になっている。 したがって、光照射面20a’ 上のP点に入射した光
は、その一部(約5%)が反射され、残り(約95%)
が試料セル2OAの内壁QSRを通り、試料セル2OA
の外壁Sでその一部が反射され、これが試料セル2OA
の内壁点り、Uを通り、光照射面20a′上の点Vを通
って入射方向と略反対方向へ戻る。この戻り方向は、P
点での反射光の方向とずれるため、第1図に示す光検出
器24Aには到達しない。 なあ、試料セル2OAの屈折率は約1.5であり、液体
クロマトグラフで使用する溶媒の屈折率は通常1.3〜
1.6であるので、試料22と試料セル2OAとの間の
相対屈折率は1に近く、点Q、R,T及びUでの反射光
(反射率的0.8%程度)は無視することができる。 他の構成は第1実施例と同一である。本実施例によれば
、試料セル2OAの光照射面20a と反対側の面で
の反射光が光検出器24Aに到達しないので、上記第1
実施例で述べた効果がより確実に達成される。 なお、本発明には外にも種々の変形例が含まれる。 例えば、上記実施例において、励起光分光用モノクロメ
ータ12又は蛍光分光用モノクロメータ28のいずれか
一方を省略した構成であってもよい。 また、上記実施例では本発明を蛍光分光光度計に適用し
た場合を説明したが、本発明はUV検出器にも適用する
ことができる。この場合、光検出器30は試料セルを透
過した光の強度を検出する。
第1図は本発明に係る光分析装置が適用された第1実施
例の蛍光分光光度計の原理構成を示す。 第2図は本発明の第2実施例の試料セルの構成を示す横
断面図、 第3図は本発明の第3実施例の試料セルの構成を示す横
断面図である。 第4図は従来の蛍光分光光度計の原理構成図である。 図中、 10は光源 I2は励起光分光用モノクロメータ 14は出射スリット 16.26はコリメートレンズ 18はビームスプリッタ 0.20Δは試料セル 4.24A、30は光検出器 8は蛍光分光用モノクロメータ lは定数倍器 4は反射防止マスク
例の蛍光分光光度計の原理構成を示す。 第2図は本発明の第2実施例の試料セルの構成を示す横
断面図、 第3図は本発明の第3実施例の試料セルの構成を示す横
断面図である。 第4図は従来の蛍光分光光度計の原理構成図である。 図中、 10は光源 I2は励起光分光用モノクロメータ 14は出射スリット 16.26はコリメートレンズ 18はビームスプリッタ 0.20Δは試料セル 4.24A、30は光検出器 8は蛍光分光用モノクロメータ lは定数倍器 4は反射防止マスク
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)、試料(22)が入れられる透明の試料セル(20
)と、 光束を該試料に照射する照射光学系(10〜16)と、 該試料から発せられた蛍光の強度又は該試料を透過した
光の強度を検出する検出光学系(26〜30)と、 該照射光のモニター光強度を検出する手段と、該モニタ
ー光強度に対する該検出光学系による光強度を求める光
強度補正手段(32〜40)と、を有する光分析装置に
おいて、 該試料セルの光照射面に対し照射光束の中心線(L)が
略垂直(垂直を除く)になるようにし、該モニター光強
度検出手段は、照射光の該照射面での反射光の強度を検
出する光検出器(24A)であることを特徴とする光分
析装置。 2)、前記試料セルの光照射面に、該照射面からの反射
光束の幅が該試料を透過する光束の幅に等しくなるよう
に、反射防止マスク(44)を付けたことを特徴とする
請求項1記載の光分析装置。 3)、前記試料セルの光照射面(20a′)を、該試料
セル内壁面の該照射面に対向する面(20b)に対し、
略平行(平行を除く)にしたことを特徴とする請求項1
記載の光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP930890A JPH03214040A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP930890A JPH03214040A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 光分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03214040A true JPH03214040A (ja) | 1991-09-19 |
Family
ID=11716844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP930890A Pending JPH03214040A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03214040A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008008631A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Fujifilm Corp | センサ、センシング装置、及びセンシング方法 |
| JP2013178123A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 電磁波応答測定装置 |
| CN106197665A (zh) * | 2015-04-29 | 2016-12-07 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 光谱测试装置及其测试方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6375535A (ja) * | 1986-09-18 | 1988-04-05 | Shimadzu Corp | クロマトスキヤナ |
| JPH01109245A (ja) * | 1987-10-21 | 1989-04-26 | Hitachi Ltd | 蛍光光度計 |
-
1990
- 1990-01-18 JP JP930890A patent/JPH03214040A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6375535A (ja) * | 1986-09-18 | 1988-04-05 | Shimadzu Corp | クロマトスキヤナ |
| JPH01109245A (ja) * | 1987-10-21 | 1989-04-26 | Hitachi Ltd | 蛍光光度計 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008008631A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Fujifilm Corp | センサ、センシング装置、及びセンシング方法 |
| JP2013178123A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 電磁波応答測定装置 |
| CN106197665A (zh) * | 2015-04-29 | 2016-12-07 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 光谱测试装置及其测试方法 |
| CN106197665B (zh) * | 2015-04-29 | 2018-11-09 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 光谱测试装置及其测试方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS628729B2 (ja) | ||
| US20130222789A1 (en) | Spectrophotometer | |
| JPS6116010B2 (ja) | ||
| US6067156A (en) | Wavelength calibration and tracking methods and apparatus | |
| JPS58174833A (ja) | 蛍光光度計 | |
| EP3748339B1 (en) | Device for gas analysis using raman spectroscopy | |
| JPH038686B2 (ja) | ||
| JPH04232840A (ja) | キャピラリークロマトグラフィー用光検出器 | |
| US4533246A (en) | Photometer for measuring atomic fluorescence | |
| EP1447651B1 (en) | Optical measuring device with wavelength-selective light source | |
| JP7486178B2 (ja) | 分光分析装置 | |
| US20230296438A1 (en) | Absorbance spectroscopy analyzer and method of use | |
| JPH03214040A (ja) | 光分析装置 | |
| CN111829971A (zh) | 一种减小宽光谱透过率测量误差的方法 | |
| US20090173891A1 (en) | Fluorescence detection system | |
| JP4737896B2 (ja) | 試料濃度測定装置 | |
| JP2898489B2 (ja) | 分光光度分析のための装置 | |
| JP2002328103A (ja) | スペクトル依存反射性測定対象物の選定測定部位の反射率を決定するための反射率測定装置および反射率測定方法 | |
| JPH10115583A (ja) | 分光分析装置 | |
| JPS6175203A (ja) | 膜厚測定装置 | |
| JPH11101739A (ja) | エリプソメトリ装置 | |
| JP2000206047A (ja) | スペクトル測定装置 | |
| JP2895816B2 (ja) | Icp発光分光分析装置 | |
| JPH08159876A (ja) | 分光測定装置 | |
| JP3797759B2 (ja) | 光学的測定装置 |