JPH03215528A - 天然ゴムラテックスの放射線加硫方法 - Google Patents

天然ゴムラテックスの放射線加硫方法

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JPH03215528A
JPH03215528A JP25756189A JP25756189A JPH03215528A JP H03215528 A JPH03215528 A JP H03215528A JP 25756189 A JP25756189 A JP 25756189A JP 25756189 A JP25756189 A JP 25756189A JP H03215528 A JPH03215528 A JP H03215528A
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JP
Japan
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hydroperoxide
natural rubber
latex
added
rubber latex
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Pending
Application number
JP25756189A
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English (en)
Inventor
Keizo Makuuchi
幕内 恵三
Isao Ishigaki
功 石垣
Fumio Yoshii
文男 吉井
Arunuisuutou Parinya
パリンヤ・アルンウィスートゥ
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Japan Atomic Energy Agency
Original Assignee
Japan Atomic Energy Research Institute
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Publication date
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  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は天然ゴムラテックス(以下NRLと略記する場
合がある)の放射線加硫方法に関する.更に詳しくは、
アクリル酸rl−ブチル(以下BAと略記する場合があ
る)を加え、tM性放射線を照射する天然ゴムラテック
スの放射線加硫において、あらかじめヒドロパーオギサ
イドを添加することを特徴とする天然ゴムラテックスの
前処理方法に関する. (従来の技術) NRLの放射線加硫は、ニトロソアミンの副生かない加
硫法であり、得られるゴムが高い透明性と柔軟性を有す
るため、手術用手袋、放射性汚染防護用ゴム手袋、カテ
ーテル等種々のゴム製品の製造原料として幅広い用途が
ある.しかし、放射線加硫では、照射のコストが安価で
はないため、少ない照射線量で放射線加硫する技術の開
発が望まれている.本発明者らはすでにアクリル酸2エ
チルヘキシル(以下2EHAと略記する場合がある)と
四塩化炭素を加え、電離性放射線を照射するに先立ち親
水性で液状のヒドロパーオキサイドを添加することを特
徴とする天然ゴムラテックスの前処理方法を提案した(
特願昭63−54514),これは、前述の照射コスト
低減を目的としたしのであり、10〜20klll’/
程度の少ない線量で加硫できる方法を提供した.しかし
ながら、この方法で製造したゴム製品は特異な臭気を有
し、使用者に不快感を与えたり皮膚を刺激することであ
った.(発明が解決しようとする課題》 本発明者らはこの臭気の原因について研究したところ、
この臭気が残存した2EHAによることがわかった,2
EHAは重合性の高いモノマーであるが、放射線加硫の
過程で完全に100%重合することが困難で、微量の2
EHAがラテックス中に残存し、この2EHAの蒸気圧
が低いため、ラテックスから手段などを製造する過程で
100%完全に除去することが困龍で、W!1jLの2
EHAが手袋などに残存するのであった.FR量とはい
え2EHAが手袋などに残存することは、単に臭気の点
からだけではなく、皮膚刺激などの点からも好ましくな
いことは明らかであり、より安全な放射線加硫法の確立
が望まれていた.このため、本発明者らは、さらに研究
を続け、今回の発明を完成するに至った. (課趙を解決するための手段) 本発明の目的は、経済的かつ安全な放射線加硫方法を提
供することにある.更に詳しくは、少ない照射線量で天
然ゴムラテックスを放射線加硫し、しかも使用した促進
剤が手袋等に残存しない放射線加硫方法を提供すること
にある.課題を解決するための手段として本発明者らが
とった手段は、蒸気圧の高いアクリル酸エステルの泗択
であった.すでに本発明者らは、各種アクリル酸エステ
ルの放射線加硫効率について研究し、2EHAの他にア
クリル酸ローブチル(BA)がすぐれた放射線加硫促進
剤となることを見い出していた(特願昭60−1811
32)  L.かじ、BAを添加すると天然ゴムラテッ
クスの粘度が上昇し、時には凝固する傾向があり、使用
しにくいという問題があった.そこで本発明者は、この
粘度上昇の原因と防止法について検討し、天然ゴムラテ
ックスに水酸化カリウム水溶液あるいはカゼイン水溶液
を添加するという天然ゴムラテックスの一般的な安定化
の方法が有効であることを見い出した.これによって、
BAを添加しても凝固しない天然ゴムラテックスが得ら
れ、本発明を完成するに至った.以下に本発明の詳細を
述べる.本発明にしたがってラテックスへ配合されるし
ドロパーオキサイドは、t−ブチルヒドロパーオキサイ
ド、クミルハイドロパーオキサイド、ジーイソグロピル
ベンゼンヒドロパーオキサイド、p−メンタンヒドロパ
ーオキサイド、1,1,3.3−テトラメチルブチルヒ
ドロパーオキサイド及びそれらの混合物から成る群から
選択される.配合される割合は、ゴム固形分100重量
部当り0.05〜2重量部(以下0.05〜2 phr
と略記する場合がある)であり、好ましくは0.1〜1
 phrである、ヒドロパーオキサイドが0.05 p
hr以下の場合は加硫促進効果が少なく、2phr以上
では経済性を低くするため好ましくない.これらしドロ
バーオキサイドは液状であるため、天然ゴムラテックス
への添加法は、特殊な添加法を必要とせず、天然ゴムラ
テックスをゆるやかにかき混ぜながら直接添加すればよ
い、ヒドロパーオキサイドをアンモニア水と混合してか
ら添加してもよい、ヒドロパーオキサイドによる天然ゴ
ムラテックスの前処理効果を高めるため、添加後少なく
とも30分間天然ゴムラテックスをかき混ぜ、2時間以
上放置することが望ましい.この放置の過程でヒドロパ
ーオキサイドがラテックス中でなんらかの反応を引起こ
し、加硫線量の低減をもたらす、ヒドロパーオキサイド
の前処理中の反応の詳細については不明であるが、加硫
線量の低減に極めて効果的である事実と前処理だけでは
前加硫に至らない事実から推定すると、ラテックスの水
中には天然のラジカル捕捉剤が存在し、これが放射線加
硫を抑制しているが、親水性で液状のヒドロパーオキサ
イドがこの天然のラジカル捕捉剤を分解し、放射線加硫
の抑制因子を除去すると考えられる. 本発明にしたがってラテックスへ配合されるBAの割合
は、0.5〜10 phrであり、好ましくは1 〜2
0 phrである.BAが0.5 phr以下の場合は
加硫促進効果が少な( 、30 phr以上では経済性
を低くするばかりかゴムの引張強さが低下し好ましくな
い,BAのラテックスの添加法は、特殊な添加法を必要
としない.ただし、ラテックスへの急激なBAの添加は
ゴムの凝固をまねく恐れがあるので避けなければならず
、ラテックスをゆるやかにかき混ぜながら徐々に添加す
ることが好ましい.添加にあたってあらかじめ界面活性
剤を用いてBAを乳化して添加してもよい.ゴム粒子は
BAを吸収して膨潤するため、固形分体積が増加し、ラ
テックスの粘度が上昇するが、これはあらかじめラテッ
クスをアンモニア水などにより希釈して固形分濃度を下
げておくことにより防止できる,BAを均一にゴム粒子
中に溶解させるため、添加後少なくとも30分間ラテッ
クスをかき混ぜ、少なくとも10時間〜24時間程度放
置することが望ましい.放置時間が24時間以上になる
とBAの加水分解などが起るので好ましくない。
ヒドロパーオキサイドとBAを添加したラテツクスに照
射する電離性放射線としては、種類を限定する必要はな
いが、γ線、電子線、電子線などが工業的意義を有して
いる. しドロパーオキサイドとBAを添加したラテックスを加
硫するに必要な線量は、BAとしドロパオキサイドの添
加量に依存して決定されるが、通常1〜30κGl/で
あり、好ましくは5〜20 KGyである.線量率は特
に限定する必要がない.照射にあたってはラテックスが
安定に存在しうる温度であれば特に限定する必要はない
が、温度が高いほど必要線量は少なくなる.照射中の雰
囲気についても特に限定する必要はない.本発明によっ
て得られる放射線加硫ラテックスのコロイド的性質は、
照射前と変りがなく、当該技術分野で通常行われている
各種配合技術を適用でき、さらに浸漬その他の方法によ
って各種ゴム製品を製造することができる. 以下に本発明の実施例及び比較例にしたがって説明する
.なお、天然物であるラテックスは、産地によって、ま
た産地の天候、季節によって性質が異なることがあるた
め本実施例及び比較例と異なる物性値となることもある
が、それは本発明の本質的意義をそこなうものではない
. (実施例》 K胤旦ユ かき混ぜ棒をとりつけたガラスフラスコに高アンモニア
天然ゴムラテックス(マレイシア産、ゴム固形分60.
1%》を750g取り、毎分40回転の速度でかき混ぜ
ながら1%のアンモニア水を230mlと10%の水酸
化カリウム水溶液を9ml加えた.このラテックスに0
.15 phrのt−ブチルヒドロパーオキサイド(日
本油脂株式会社製、バーブチルH、純度69%)を添加
し、30分間かき混ぜた.一昼夜放置した後、5 ph
rのBAを添加し、30分間かき混ぜた.一昼夜放置し
た.これを100 mlのガラス製容器に移し、室温で
コバルト60からのγ線を線量率10 KGV/時で所
定の時間照射した.照射後ラテックスを水平なガラス板
の上に流延し、室温で透明になるまで乾燥した後ガラス
板から剥離し、80′″で1時間乾燥し、厚さ0. 4
5mのフィルムを得た.これをJIS 2−6301の
方法にしたがって引張強さを測定した.結果を表−1に
示した.L帆勇ユ かき混ぜ棒をとりつけたガラスフラスコに高アンモニア
天然ゴムラテックス(マレイシア産、ゴム固形分60.
1%)を750g取り、毎分40回転の速度でかき混ぜ
ながら1%のアンモニア水を230mlと10%の水酸
化カリウム水溶液を9 ml加えた.これに5 phr
のBAを添加し実施例1と同様にして照射し、乾燥して
引張強さを測定した.結果を表−1に示した. K止■ユ かき混ぜ棒をとりつけたカラスフラスコに高アンモニア
天然ゴムラテックス(マレイシア産、ゴム固形分60.
3%)を750g取り、毎分40回転の速度でかき混ぜ
ながら1%のアンモニア水を230mlと10%のミル
クカゼイン水溶液を90]1加えた.このラテックスに
O. Iphrのt−ブチルヒドロパーオキサイド(日
本油脂株式会社製、パーブチルH、純度69%)を添加
し、30分間かき混ぜた.一昼夜放置した後100ml
のガラス製容器に移し、室温で加速電圧が3 my,電
流が25mAの電子加速器からの電子線を線量率2.3
3κGy/秒で所定の時間照射した.照射後ラテックス
を水平なガラス板の上に流延し、室温で透明になるまで
乾燥した後ガラス板から剥離し、80゜で1時間乾燥し
、厚さ0.45mのフィルムを得た.これを JIS 
7− 6301の方法にしたがって引張強さを測定した
.結果を表−2に示した. 匿敷!ユ かき混ぜ棒とりつけたガラスフラスコに高アンモニア天
然ゴムラテックス(マレイシア産、ゴム固形分60.3
%)を750g取り、毎分40回転の速度でかき混ぜな
がら1%のアンモニア水を230mlと10%のカゼイ
ン水溶液を9ml加えた.これに5phrのBAを添加
し実施例2と同様にして照射し、乾燥して引張強さを測
定した.結果を表−2に示した。
実施例と比較例を対比させると、本発明の有為なことが
明白である.

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、天然ゴムラテックスにヒドロパーオキサイドを添加
    し、しかる後にアクリル酸n−ブチルを添加し、電離性
    放射線を照射することを特徴とする天然ゴムラテックス
    の放射線加硫方法。 2、アクリル酸n−ブチルを添加しても、粘度が著しく
    上昇しないよう水酸化カリウム等で安定化された天然ゴ
    ムラテックスを用いることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の方法。 3、ヒドロパーオキサイドの添加量がゴム固形分100
    重量部当り0.05〜2.0重量部であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、ヒドロパーオキサイドを添加した天然ゴムラテック
    スを2時間以上放置した後、アクリル酸n−ブチルを添
    加することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方
    法。 5、アクリル酸n−ブチルをゴム固形分100重量部当
    り0.5〜20重量部添加する特許請求の範囲第1項記
    載の方法。 6、ヒドロパーオキサイドがt−ブチルヒドロパーオキ
    サイド、クミルハイドロパーオキサイド、ジ−イソプロ
    ピルベンゼンヒドロパーオキサイド、p−メンタンヒド
    ロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチ
    ルヒドロパーオキサイド及びそれらの混合物から成る群
    から選択されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の方法。 7、電離性放射線5〜30KGY照射することを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の方法。 8、電離性放射線がγ線である特許請求の範囲第1項記
    載の方法。 9、電離性放射線が電子線である特許請求の範囲第1項
    記載の方法。 10、電離性放射線がX線である特許請求の範囲第1項
    記載の方法。
JP25756189A 1989-10-02 1989-10-02 天然ゴムラテックスの放射線加硫方法 Pending JPH03215528A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008535998A (ja) * 2005-04-13 2008-09-04 アール.ティー. ヴァンダービルト カンパニー インコーポレーティッド ラテックスコンパウンドを硬化するための組成物および方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008535998A (ja) * 2005-04-13 2008-09-04 アール.ティー. ヴァンダービルト カンパニー インコーポレーティッド ラテックスコンパウンドを硬化するための組成物および方法

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