JPH03215706A - Pattern inspecting device - Google Patents
Pattern inspecting deviceInfo
- Publication number
- JPH03215706A JPH03215706A JP2008457A JP845790A JPH03215706A JP H03215706 A JPH03215706 A JP H03215706A JP 2008457 A JP2008457 A JP 2008457A JP 845790 A JP845790 A JP 845790A JP H03215706 A JPH03215706 A JP H03215706A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- signal
- inspected
- defects
- signal strength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要]
パターン検査装置、特に、プリント基板の配線パターン
における欠陥の有無を検査する技術に関し、
検査対象画素と同じ程度の大きさの微小欠陥をも検出可
能にし、ひいては検査の信鎖度を高めることを目的とし
、
プリント基板に光を照射して該基板からの反射光を所定
の位置に結像し、該結像された画像の光量に応じてパタ
ーン信号を出力する画像検知光学系と、該出力されたパ
ターン信号をディジタル化する手段と、該ディジタル化
されたパターン信号に対し所定数の検査対象画素単位で
、特定画素の信号強度に対して他の画素の信号強度がど
のように変化しているかを表す信号強度分布を所定の規
準に従いコード化する手段と、該コード化された検査対
象画素単位の信号強度分布を予め作成および登録されて
いる辞書コードと照合して二値化を行う手段とを具備し
、該二値化されたパターンに基づき配線パターンの欠陥
の有無を検査するように構成する。[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention relates to a pattern inspection device, particularly a technique for inspecting the presence or absence of defects in the wiring pattern of a printed circuit board, which makes it possible to detect even minute defects of the same size as the pixels to be inspected, and furthermore. The purpose is to increase the reliability of inspection by irradiating light onto a printed circuit board, forming an image of the reflected light from the board at a predetermined position, and outputting a pattern signal according to the amount of light in the formed image. an image detection optical system for digitizing the output pattern signal; and a means for digitizing the output pattern signal; A means for encoding a signal strength distribution representing how the signal strength is changing according to a predetermined standard, and a dictionary code in which the coded signal strength distribution for each pixel to be inspected is created and registered in advance. and a means for performing comparison and binarization, and is configured to inspect the presence or absence of defects in the wiring pattern based on the binarized pattern.
本発明は、パターン検査装置に関し、特に、プリント基
板の配線パターンにおける欠陥(欠け、突起、断線、シ
ョート、凹み等)の有無を検査する技術に関する。The present invention relates to a pattern inspection device, and particularly to a technique for inspecting the presence or absence of defects (chips, protrusions, disconnections, shorts, dents, etc.) in wiring patterns of printed circuit boards.
電子計算機の高速化および高密度化が進むと共に、これ
に使用されるプリント基板の配線パターンの幅と間隔が
100μm以下に狭くなってきており、さらに外形も6
00n+n+角と太き《なってきている。この配線パタ
ーンには、断線、ショート等の欠陥が発生している可能
性があるので、そのような欠陥の有無を検査する必要が
ある。ところがこの検査は、検査の信顛度および検査速
度の点から人間の目視では不可能となってきている。こ
のため、パターンを自動的に検査する方式の開発が要望
されている。As electronic computers become faster and more dense, the width and spacing of the wiring patterns on the printed circuit boards used for them are becoming narrower to 100 μm or less, and the outer diameter is also becoming smaller.
00n+n+ The angle is getting thicker. This wiring pattern may have defects such as disconnections and short circuits, so it is necessary to inspect the presence or absence of such defects. However, this inspection is no longer possible with human eyes due to the reliability and speed of the inspection. Therefore, there is a demand for the development of a method for automatically inspecting patterns.
これまでのパターン検査方式では、例えばその一例とし
て、検出されたパターン信号に対し、振幅の50%程度
のレベルをしきい値(スレッショルドレベル)として設
定し、そのスレッショルドレベルを該検出パターン信号
のレベルと比較して二値化を行い、その結果に基づきパ
ターンの欠陥の有無を検査していた。In conventional pattern inspection methods, for example, a level of approximately 50% of the amplitude of a detected pattern signal is set as a threshold level, and the threshold level is set as the level of the detected pattern signal. The pattern was binarized and inspected for defects based on the results.
つまり、二値化を行うための基準レベル(スレッショル
ドレベル)が1つであるため、検査対象画素と同じ程度
の大きさの微小欠陥、例えば第6図(a) , (b)
に示されるようなショート欠陥あるいは断線欠陥に対し
ては、同図(c) , (d)に示されるように、検出
された信号の強度がそのスレッショルドレベルvthを
(″H″レベルから“L″レベルに、あるいはその逆に
)横切る程度にまで変化しない場合がある。そのため、
本来欠陥であるにもかかわらず、その欠陥を検出できな
いという問題が生じる。これは、検出精度の低下、ひい
てはパターン検査の信軌度低下につながるので、好まし
くない。In other words, since there is only one reference level (threshold level) for binarization, micro defects of the same size as the pixel to be inspected, for example, Fig. 6 (a) and (b).
As shown in (c) and (d) of the same figure, for short-circuit defects or disconnection defects, the intensity of the detected signal increases its threshold level vth (from "H" level to "L" level). level or vice versa). Therefore,
A problem arises in that the defect cannot be detected even though it is originally a defect. This is undesirable because it leads to a decrease in detection accuracy and, in turn, to a decrease in reliability of pattern inspection.
また、他の技術としては、スレッショルドレベルを複数
個設定し、それぞれが特定の欠陥を検出するのに利用さ
れるようにした方法がある。ところがこの方法では、3
種類の二値化画像が得られるため、検査に必要な回路の
規模が増大し、また、本来欠陥とはならない塵や傷でさ
え欠陥として過剰に(誤って)検出してしまうという欠
点がある.この形態も、前記方式と同様、検査の信転度
という観点から好ましいとは言えない。Another technique is to set a plurality of threshold levels, each of which is used to detect a specific defect. However, with this method, 3
Since different types of binary images are obtained, the scale of the circuit required for inspection increases, and there is also the disadvantage that even dust and scratches that are not originally defects are excessively (erroneously) detected as defects. .. Like the above-mentioned method, this form is also not preferable from the viewpoint of reliability of the test.
本発明は、かかる従来技術における課題に鑑み創作され
たもので、検査対象画素と同じ程度の大きさの微小欠陥
をも検出可能にし、ひいては検査の信軌度を高めること
ができるパターン検査装置を提供することを目的として
いる。The present invention was created in view of the problems in the prior art, and provides a pattern inspection device that can detect even minute defects of the same size as the pixel to be inspected, and that can further improve the accuracy of inspection. is intended to provide.
上記課題を解決するため、本発明によれば、プリント基
板の配線パターンにおける欠陥の有無を検査する装置で
あって、前記プリント基板に光を照射して該基板からの
反射光を所定の位置に結像し、該結像された画像の光量
に応じてパターン信号を出力する画像検知光学系と、該
出力されたパターン信号をディジタル化する手段と、該
ディジタル化されたパターン信号に対し所定数の検査対
象画素単位で、特定画素の信号強度に対して他の画素の
信号強度がどのように変化しているかを表す信号強度分
布を所定の規準に従いコード化する手段と、該コード化
された検査対象画素単位の信号強度分布を予め作成およ
び登録されている辞書コードと照合して二値化を行う手
段とを具備し、該二硫化されたパターンに基づき配線パ
ターンの欠陥の有無を検査するようにしたことを特徴と
するパターン検査装置が提供される。In order to solve the above problems, the present invention provides an apparatus for inspecting the presence or absence of defects in the wiring pattern of a printed circuit board, which irradiates the printed circuit board with light and directs the reflected light from the board to a predetermined position. an image detection optical system that forms an image and outputs a pattern signal according to the amount of light of the formed image; a means for digitizing the output pattern signal; and a predetermined number of digits for the digitized pattern signal. means for encoding a signal strength distribution representing how the signal strength of other pixels changes with respect to the signal strength of a specific pixel in accordance with a predetermined standard in units of pixels to be inspected; A means for performing binarization by comparing the signal intensity distribution of each pixel to be inspected with a dictionary code created and registered in advance, and inspecting the presence or absence of defects in the wiring pattern based on the disulfide pattern. There is provided a pattern inspection device characterized by the following features.
上述した構成によれば、画像検知光学系において検出さ
れたパターン信号は、直ちに二値化されるのではなく、
いったんディジタル化された後、所定数の画素単位で信
号強度分布を表す信号としてコード化され、予め決めた
辞書コードとの照合に基づき二値化されるようになって
いる。そしてこの二値化されたパターンに基づき、配線
パターンに欠陥が有るか否かが判別されるようになって
いる。According to the above-described configuration, the pattern signal detected by the image detection optical system is not immediately binarized;
Once digitized, it is coded as a signal representing the signal intensity distribution in units of a predetermined number of pixels, and then binarized based on comparison with a predetermined dictionary code. Based on this binarized pattern, it is determined whether or not there is a defect in the wiring pattern.
つまり、各画素毎の信号強度の分布を分析してから欠陥
の有無を検査するようにしているので、検査対象画素と
同じ程度の大きさの微小欠陥でも高精度に検出すること
ができる。これは、検査の信顛度向上に寄与するもので
ある。In other words, since the presence or absence of defects is inspected after analyzing the distribution of signal intensity for each pixel, even minute defects of the same size as the pixel to be inspected can be detected with high precision. This contributes to improving the reliability of the test.
なお、本発明の他の構成上の特徴および作用の詳細につ
いては、添付図面を参照しつつ以下に記述される実施例
を用いて説明する。Note that other structural features and details of the operation of the present invention will be explained using the embodiments described below with reference to the accompanying drawings.
第1図には本発明の一実施例としてのパターン検査装置
の構成が一部模式的に示される。FIG. 1 schematically shows a part of the configuration of a pattern inspection apparatus as an embodiment of the present invention.
同図において、1は配線パターンを含むプリント基板、
2は該プリント基板を載置し、パターン検査の際に駆動
機構(後述)によりXY方向に移動調整されるテーブル
、3は光源(例えばハロゲンランプ)、4は該光源から
の光を導いてプリント基板1上に照射する光ファイバ、
5はプリント基板lからの反射光を所定の位置に結像す
るレンズ、6は該所定の位置に配置された画像検知器を
示す。この画像検知器6は例えばCCD (電荷結合素
子)を有し、該所定の位置に結像された画像の光量を計
測して該光量に応じたパターン信号を出力する。In the figure, 1 is a printed circuit board including a wiring pattern;
2 is a table on which the printed circuit board is placed and is moved and adjusted in the X and Y directions by a drive mechanism (described later) during pattern inspection; 3 is a light source (for example, a halogen lamp); 4 is a table that guides the light from the light source for printing. an optical fiber that illuminates onto the substrate 1;
Reference numeral 5 denotes a lens that forms an image of reflected light from the printed circuit board 1 at a predetermined position, and 6 represents an image detector disposed at the predetermined position. The image detector 6 includes, for example, a CCD (charge-coupled device), measures the amount of light of an image formed at the predetermined position, and outputs a pattern signal corresponding to the amount of light.
また、10は検出されたパターン信号を増幅する増幅器
、11は該増幅されたパターン信号をディジタル化する
アナログ/ディジタル(A/D)コンバータ、12は該
A/Dコンバータによりディジタル化されたパターン信
号をいったん格納しておくためのフレームメモリ、l3
は該フレームメモリに格納されたディジタル化パターン
信号に対し所定数の検査対象画素(本実施例では3×3
画素)単位で信号強度分布を所定の規準に従いコード化
するコード化回路を示す。この信号強度分布は、後で詳
述するが、検査対象画素の中の特定画素の信号強度に対
して他の画素の信号強度がどのように変化しているかを
表している。14は予め作成および登録された辞書コー
ドを格納しているルックアップテーブル(LUT) 、
15はコード化回路13の出力をLUT14の内容と照
合して1または0のいずれを出力するかを判定する二値
化回路を示す。Further, 10 is an amplifier that amplifies the detected pattern signal, 11 is an analog/digital (A/D) converter that digitizes the amplified pattern signal, and 12 is a pattern signal digitized by the A/D converter. Frame memory, l3, for temporarily storing
is a predetermined number of pixels to be inspected (in this example, 3×3 pixels) for the digitized pattern signal stored in the frame memory.
1 shows an encoding circuit that encodes a signal intensity distribution in units of pixels (pixel) according to a predetermined standard. This signal strength distribution will be described in detail later, but it represents how the signal strength of other pixels changes with respect to the signal strength of a specific pixel among the pixels to be inspected. 14 is a lookup table (LUT) storing dictionary codes created and registered in advance;
Reference numeral 15 denotes a binarization circuit that compares the output of the encoding circuit 13 with the contents of the LUT 14 to determine whether to output 1 or 0.
16は二値化されたパターンに基づいて例えばラジアル
マッチング論理等によりパターンの欠陥の有無を判別す
る欠陥判別回路、17は該欠陥判別の結果を出力する装
置(例えばCRT)、18はテーブル2をXY方向に移
動させるための駆動機構、19は画像検知器6の位置が
結像レンズ5の焦点位置に合致するように移動調整を行
う駆動機構、そして、20はコントローラを示す。この
コントローラ20は、欠陥判別回路16に対してはパタ
ーン欠陥の有無判別の制御を行い、出力装置17に対し
ては欠陥指示の出力制御を行い、駆動機構18. 19
に対してはそれぞれテーブル2、画像検知器6の位置調
整の制御を行う機能を有している。Reference numeral 16 indicates a defect discrimination circuit that discriminates whether or not there is a defect in the pattern based on the binarized pattern using, for example, radial matching logic; 17 indicates a device (for example, a CRT) that outputs the result of the defect discrimination; and 18 indicates a table 2. A drive mechanism for moving in the XY directions, 19 a drive mechanism for adjusting the movement so that the position of the image detector 6 matches the focal position of the imaging lens 5, and 20 a controller. The controller 20 controls the defect discrimination circuit 16 to determine the presence or absence of a pattern defect, controls the output device 17 to output a defect instruction, and controls the drive mechanism 18 . 19
have the function of controlling the position adjustment of the table 2 and image detector 6, respectively.
次に、信号強度分布のコード化について第2図および第
3図を参照しながら説明する。Next, encoding of the signal strength distribution will be explained with reference to FIGS. 2 and 3.
第2図(a)〜(e)は信号強度曲面の各種形状を示し
、本実施例では、信号強度分布の特性は、検査対象画素
(3×3画素)の中の特定画素周囲の曲面特性と信号強
度の組合せにより分類されている。図中、(a)は単独
突起頂上部、(b)は連続尾根の一部、(c)は連続谷
の一部、(d) , (e)は連続斜面の一部を示して
いる。FIGS. 2(a) to (e) show various shapes of signal intensity curved surfaces. In this example, the characteristics of the signal intensity distribution are the curved surface characteristics around a specific pixel among the pixels to be inspected (3 x 3 pixels). It is classified based on the combination of signal strength and signal strength. In the figure, (a) shows the top of a single protrusion, (b) shows a part of a continuous ridge, (c) shows a part of a continuous valley, and (d) and (e) show parts of a continuous slope.
上述した二値化回路l5は、曲面の形状と信号強度の組
合せに応じて、パターンが正常か、あるいは欠陥を有し
ているかを判別し、二値化を行う。The binarization circuit 15 described above determines whether the pattern is normal or has a defect according to the combination of the shape of the curved surface and the signal intensity, and performs binarization.
この際、曲面の特性をコードとして表し、信号の強度も
複数の頷域(本実施例では3つ)に分割しておく。曲面
特性と信号強度の組合せのうち、どの組合せが1もしく
はOであるかを決定するには、上述したようにLUT1
4を参照する。At this time, the characteristics of the curved surface are expressed as codes, and the signal strength is also divided into a plurality of nodal regions (three in this embodiment). To determine which combination of surface characteristics and signal strength is 1 or O, use LUT1 as described above.
See 4.
例えば、第5図(a)に示すような単独突起の形態で強
度が低い場合は0(パターン無し)を出力し、同じ強度
でも同図(b)に示すような連続突起の形態では1(パ
ターン有り)を出力する。For example, if the strength is low in the form of a single protrusion as shown in Figure 5(a), 0 (no pattern) is output, and if the strength is the same but in the form of continuous protrusions as shown in Figure 5(b), 1 ( (with pattern) is output.
第3図(a)〜(c)は信号強度分布のコード化の一例
を示す。FIGS. 3(a) to 3(c) show an example of encoding the signal strength distribution.
本実施例では検査対象画素は3×3画素(p+〜P,)
であるため、まず。同図(a)に示されるように■〜■
の4種類の方向をとり、それぞれの画素の信号強度が中
央画素(図示の例ではps)の信号強度に対してどのよ
うに変化しているかを判別する。変化の形態としては、
中央が高い(ピーク)、中央が低い(バレー)、平坦(
フラット)、漸次隆起(アップ)、漸次下降(ダウン)
、の5つがある。In this example, the pixels to be inspected are 3×3 pixels (p+~P,)
So, first of all. As shown in figure (a),
It is determined how the signal strength of each pixel changes with respect to the signal strength of the central pixel (ps in the illustrated example). The form of change is
High in the center (peak), low in the center (valley), flat (
flat), gradual rise (up), gradual decline (down)
There are five.
また同図(b)に示されるように、中央画素P,の信号
強度としては、比較的高い(H)レベルの断線検出レベ
ル(第6図(d)参照)と、比較的低い(L)レベルの
ショート検出レベル(第6図(C)参照)と、その間の
中間レベル(M)のパターン幅計測レベルの3つに分類
される。Furthermore, as shown in FIG. 6(b), the signal strength of the central pixel P is a relatively high (H) level disconnection detection level (see FIG. 6(d)) and a relatively low (L) level. It is classified into three levels: a short detection level (see FIG. 6(C)) and a pattern width measurement level (M) intermediate therebetween.
以上を合わせると、信号強度分布の型としては、方向が
4種類、形状が5種類、中央画素の信号強震が3種類で
、その組合せの数は、
5’ x3=1875種類である。Combining the above, there are 4 types of signal intensity distribution types, 5 types of shapes, and 3 types of signal strong motions at the center pixel, and the number of combinations thereof is 5' x 3 = 1875 types.
第4図には第1図装置が行うパターン検査処理のフロー
チャートが示される。FIG. 4 shows a flowchart of pattern inspection processing performed by the apparatus shown in FIG.
まずステップS1において、画像検知器6により光量計
測が行われ、該光量に応じてパターン信号が出力される
。このパターン信号は、増幅器1oおよびA/Dコンバ
ータ11を介して、フレームメモ1月2にいったん格納
される。ステップs2では、コード化回路13により検
査対象画素(3×3画素)単位で信号強度分布がコード
化される。First, in step S1, the image detector 6 measures the amount of light, and a pattern signal is output in accordance with the amount of light. This pattern signal is temporarily stored in the frame memo 2 via the amplifier 1o and the A/D converter 11. In step s2, the encoding circuit 13 encodes the signal intensity distribution for each pixel to be inspected (3×3 pixels).
ステップS3では、二値化回路l5により、コード化さ
れた信号強度分布がLUT.14の内容と照合され、さ
らにステップS4ではパターンの有無(1またはO)が
判別される。つまり、二値化パターンが作成される。ス
テップS5では、欠陥判別回路16により、該二値化さ
れたパターンに基づいてパターンの欠陥の有無が検査さ
れる。In step S3, the binarization circuit 15 converts the coded signal strength distribution into LUT. 14, and further, in step S4, it is determined whether there is a pattern (1 or O). In other words, a binarized pattern is created. In step S5, the defect determination circuit 16 inspects the pattern for defects based on the binarized pattern.
最後にステップS6では、全ての画素について検査が終
了した(YES)か否(NO)かが判定され、判定がY
ESの場合にはこのフローは「エンド」となり、判定が
NOの場合にはステップS1に戻り、上述の処理を繰り
返す。Finally, in step S6, it is determined whether the inspection has been completed for all pixels (YES) or not (NO), and the determination is Y.
In the case of ES, this flow becomes "end", and if the determination is NO, the process returns to step S1 and the above-described process is repeated.
以上説明したように本実施例によれば、画像検知系にお
いて検出されたパターン信号は、いったんディジタル化
された後、所定数の画素単位で信号強度分布を表す信号
としてコード化され、LUT14の内容との照合に基づ
き二値化されるようになっている。そしてこの二値化さ
れたパターンに基づき、配線パターンに欠陥が有るが否
がが検査されるようになっている。As explained above, according to this embodiment, the pattern signal detected by the image detection system is once digitized and then coded as a signal representing the signal intensity distribution in units of a predetermined number of pixels. It is now binarized based on comparison with Based on this binarized pattern, the wiring pattern is inspected to see if there is a defect.
例えば、第5図(a)に示されるように、二値化された
パターンが或る信号強度を有していても、該パターンが
単独突起の形態を有している場合には、回路の動作に影
響を与えないので、正常と判別される。つまり、欠陥と
はならない塵あるいは傷と見なされる。For example, as shown in FIG. 5(a), even if the binarized pattern has a certain signal strength, if the pattern has the form of a single protrusion, the circuit Since it does not affect operation, it is determined to be normal. In other words, they are considered dust or scratches that are not defects.
これに対し、第5図(b)に示されるように、信号強度
は(a)の単独突起のパターンと同じでもそれが連続し
ている場合(連続突起の形態を有している場合)には、
ショート欠陥が存在しているものと判別される(第6図
(a)参照)。On the other hand, as shown in Fig. 5(b), the signal intensity is the same as the pattern of single protrusions in (a), but when the pattern is continuous (when it has the form of continuous protrusions), teeth,
It is determined that a short-circuit defect exists (see FIG. 6(a)).
このように、各画素毎の信号強度の分布を分析してから
欠陥の有無を検査するようにしているので、従来形に比
して検出感度および精度を増大させることが可能となる
。そのため、検査対象画素と同じ程度の大きさの微小欠
陥でも高精度に検出することができ、ひいては検査の信
鯨度を高めることができる。In this way, since the presence or absence of defects is inspected after analyzing the distribution of signal intensity for each pixel, it is possible to increase detection sensitivity and accuracy compared to the conventional type. Therefore, even minute defects of the same size as the pixel to be inspected can be detected with high precision, and the reliability of the inspection can be increased.
以上説明したように本発明によれば、塵等のパターンを
過剰に欠陥とすることなく、ショート、断線等の実際的
な欠陥だけを欠陥として高精度に検出することができる
。これは、検査の信転度向上につながり、極めて有用で
ある。As described above, according to the present invention, only practical defects such as short circuits and disconnections can be detected with high precision as defects, without excessively treating patterns such as dust as defects. This leads to improved reliability of the test and is extremely useful.
第1図は本発明の一実施例としてのパターン検査装置の
構成を一部模式的に示したブロック図、第2図(a)〜
(e)は信号強度曲面の各種形状を示す図、
第3図(a)〜(c)は信号強度分布のコード化を説明
するための図、
第4図は第1図装置が行うパターン検査処理を表すフロ
ーチャート、
第5図(a)および(b)は第1図装置の作用を説明す
るための信号強度分布図、
第6図(a)〜(d)は従来のパターン検査方式におけ
る問題点を説明するための図、
である。
(符号の説明)
1・・・プリント基板、2・・・テーブル、3・・・光
源、4・・・光ファイバ、5・・・結像レンズ、6・・
・画像検知器、10・・・増幅器、l1・・・A/Dコ
ンバータ、l2・・・フレームメモリ、13・・・コー
ド化回路、l4・・・ルックアップテーブル(LUT)
、15・・・二値化回路、16・・・欠陥判別回路、1
7・・・出力装置、18,l9・・・駆動機構、20・
・・コントローラ。FIG. 1 is a block diagram partially schematically showing the configuration of a pattern inspection device as an embodiment of the present invention, and FIG.
(e) is a diagram showing various shapes of the signal strength curved surface, Figures 3 (a) to (c) are diagrams for explaining coding of signal strength distribution, and Figure 4 is a pattern inspection performed by the equipment in Figure 1. Flowchart showing the process; Figures 5(a) and (b) are signal intensity distribution diagrams to explain the operation of the apparatus in Figure 1; Figures 6(a) to (d) illustrate problems in the conventional pattern inspection method. This is a diagram for explaining the points. (Explanation of symbols) 1... Printed circuit board, 2... Table, 3... Light source, 4... Optical fiber, 5... Imaging lens, 6...
- Image detector, 10... Amplifier, l1... A/D converter, l2... Frame memory, 13... Encoding circuit, l4... Lookup table (LUT)
, 15... Binarization circuit, 16... Defect discrimination circuit, 1
7... Output device, 18, l9... Drive mechanism, 20.
··controller.
Claims (1)
を検査する装置であって、 前記プリント基板に光を照射して該基板からの反射光を
所定の位置に結像し、該結像された画像の光量に応じて
パターン信号を出力する画像検知光学系(5、6)と、 該出力されたパターン信号をディジタル化する手段(1
1)と、 該ディジタル化されたパターン信号に対し所定数の検査
対象画素単位で、特定画素の信号強度に対して他の画素
の信号強度がどのように変化しているかを表す信号強度
分布を所定の規準に従いコード化する手段(13)と、 該コード化された検査対象画素単位の信号強度分布を予
め作成および登録されている辞書コード(14)と照合
して二値化を行う手段(15)とを具備し、該二値化さ
れたパターンに基づき配線パターンの欠陥の有無を検査
するようにしたことを特徴とするパターン検査装置。[Scope of Claims] An apparatus for inspecting the presence or absence of defects in the wiring pattern of a printed circuit board (1), comprising: irradiating the printed circuit board with light and focusing the reflected light from the circuit board on a predetermined position; An image detection optical system (5, 6) that outputs a pattern signal according to the light intensity of the formed image; and a means (1) that digitizes the output pattern signal.
1), and the signal strength distribution representing how the signal strength of other pixels changes with respect to the signal strength of a specific pixel in units of a predetermined number of pixels to be inspected for the digitized pattern signal. A means (13) for encoding according to a predetermined standard; and a means (13) for comparing the coded signal intensity distribution of each pixel to be inspected with a dictionary code (14) created and registered in advance to perform binarization. 15) A pattern inspection apparatus characterized in that the pattern inspection apparatus is characterized in that it inspects the presence or absence of defects in a wiring pattern based on the binarized pattern.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008457A JP2768368B2 (en) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | Pattern inspection equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008457A JP2768368B2 (en) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | Pattern inspection equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03215706A true JPH03215706A (en) | 1991-09-20 |
| JP2768368B2 JP2768368B2 (en) | 1998-06-25 |
Family
ID=11693659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008457A Expired - Lifetime JP2768368B2 (en) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | Pattern inspection equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2768368B2 (en) |
-
1990
- 1990-01-19 JP JP2008457A patent/JP2768368B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2768368B2 (en) | 1998-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8472697B2 (en) | Method and apparatus for visual inspection | |
| GB2262339A (en) | Method of inspecting the surface of a workpiece | |
| JPH0575062B2 (en) | ||
| JPH11218499A (en) | Appearance inspection device and image processing method thereof | |
| JPH03215706A (en) | Pattern inspecting device | |
| JPH04270951A (en) | Method for inspecting bottle | |
| JP4474006B2 (en) | Inspection device | |
| JP2765338B2 (en) | Chip component mounting inspection equipment | |
| JPH043820B2 (en) | ||
| JPS63196980A (en) | Device for inspecting soldering external appearance for printed circuit board | |
| JPH10160426A (en) | Method and equipment for inspecting object to be inspected | |
| JP2005189167A (en) | Bridge inspection device of cap | |
| JP3751389B2 (en) | Wiring pattern inspection method and apparatus | |
| JP3198105B2 (en) | Automatic visual inspection device | |
| JP2756738B2 (en) | Apparatus for visual inspection of semiconductor devices | |
| JPH05332950A (en) | Defect inspection instrument | |
| JPH01214743A (en) | optical inspection equipment | |
| JPH0694646A (en) | Circular container inner surface inspecting device | |
| JPH07229842A (en) | Method and equipment for inspecting dust particle in ic | |
| JPH02278105A (en) | Inspecting apparatus for soldering | |
| JPS58744A (en) | Inspecting method of bottle or the like | |
| JPH0712530A (en) | Soldering inspection apparatus | |
| JPH0720060A (en) | Pattern defect and particle inspection system | |
| JPH0221209A (en) | Apparatus and method for inspecting soldering of printed wiring board | |
| JPH04311053A (en) | Defect judging device |