JPH0321609A - 有機ホウ素含有ポリマー - Google Patents
有機ホウ素含有ポリマーInfo
- Publication number
- JPH0321609A JPH0321609A JP1157518A JP15751889A JPH0321609A JP H0321609 A JPH0321609 A JP H0321609A JP 1157518 A JP1157518 A JP 1157518A JP 15751889 A JP15751889 A JP 15751889A JP H0321609 A JPH0321609 A JP H0321609A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- reacted
- straight chain
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title abstract description 27
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 15
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 title abstract description 15
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 6
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 abstract description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000519695 Ilex integra Species 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- UKFXDFUAPNAMPJ-UHFFFAOYSA-N ethylmalonic acid Chemical compound CCC(C(O)=O)C(O)=O UKFXDFUAPNAMPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000006166 lysate Substances 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JABYJIQOLGWMQW-UHFFFAOYSA-N undec-4-ene Chemical compound CCCCCCC=CCCC JABYJIQOLGWMQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は側鎖に棒状の2−(p一置換フェニノレ)−
1. 3. 2−ジオキサポリナン骨格を有する有機ホ
ウ素含有ポリマーに関し,このボリマーはオプトエレク
トロニクス分野,特に光記録材料,偏光板,非線形光学
材料などへの応用が期待される0〔従来の技術〕 本発明の有機ホウ素含有ポリマーは文献未記載の化合物
である。
1. 3. 2−ジオキサポリナン骨格を有する有機ホ
ウ素含有ポリマーに関し,このボリマーはオプトエレク
トロニクス分野,特に光記録材料,偏光板,非線形光学
材料などへの応用が期待される0〔従来の技術〕 本発明の有機ホウ素含有ポリマーは文献未記載の化合物
である。
本発明は新規な有機ホウ素含有ポリマーを提供すること
を目的とする。
を目的とする。
本発明は,一般式CI)
(式中Rは炭素数l〜13個の直鎖アルキル基,炭素数
1〜l3個の直鎖アルコキシ基,2〜14個の直鎖アル
コキシ力ルポニル基,ハロゲン原子又はシアノ基を,X
は水素原子又はメチル基を,nは2〜15の整数をそれ
ぞれ示す)で表わされる繰返し単位を有する有機ホウ素
含有ボリマーである。
1〜l3個の直鎖アルコキシ基,2〜14個の直鎖アル
コキシ力ルポニル基,ハロゲン原子又はシアノ基を,X
は水素原子又はメチル基を,nは2〜15の整数をそれ
ぞれ示す)で表わされる繰返し単位を有する有機ホウ素
含有ボリマーである。
上記一般式〔■〕の繰返し単位を有するポリマーの重量
平均分子量は約3,000〜1,000,000 ,好
壕しくは5,000 − 1,000,000である。
平均分子量は約3,000〜1,000,000 ,好
壕しくは5,000 − 1,000,000である。
オプトエレクトロニクス分野に適用する場合には,上記
一般式〔■〕におけるR基の種類やnの値によって変化
するため特定できないが,特に好ましい重量平均分子量
の範囲は5,000〜400,000である。分子量が
3.000未満であると,物理的性質が一定せず実用上
好ましくない。
一般式〔■〕におけるR基の種類やnの値によって変化
するため特定できないが,特に好ましい重量平均分子量
の範囲は5,000〜400,000である。分子量が
3.000未満であると,物理的性質が一定せず実用上
好ましくない。
本発明の有機ホウ素含有ボリマーは,次の一般式〔■〕
(式中R.X及びnは上記と同意義を有する)で表わさ
れる有機ホウ素含有七ノマーを重合して得られ.これら
七ノマーは例えば,次のようにして製造できる。
れる有機ホウ素含有七ノマーを重合して得られ.これら
七ノマーは例えば,次のようにして製造できる。
Br(CHz)nCH(CO2CzHs), (
A:1〔C〕 X (上記式中n,fl及びXは上記と同意義を有し,DB
Uは1.8−ジアザビシクロ(5,4.0:) ウンデ
カ−7−エンを示す)。
A:1〔C〕 X (上記式中n,fl及びXは上記と同意義を有し,DB
Uは1.8−ジアザビシクロ(5,4.0:) ウンデ
カ−7−エンを示す)。
このようにして得られた一種又は二棟以上の七ノマーを
重合して,本発明の有機ホウ素含有ボリマーとすること
ができる。
重合して,本発明の有機ホウ素含有ボリマーとすること
ができる。
重合方法としては,例えば熱ラジカル重合,開始剤を用
いるラジカル重合,紫外線や放射線を用いるラジカル重
合,プチノレリチウムなどを開始剤とするアニオン重合
などの各方法を採用することができる。
いるラジカル重合,紫外線や放射線を用いるラジカル重
合,プチノレリチウムなどを開始剤とするアニオン重合
などの各方法を採用することができる。
ラジカル重合の開始剤として,過酸化物.ジアゾ化物な
ど各種のものが知られているが,過酸化ベンゾイル,ア
ゾビスイソブチロニトリノレなど比較的取扱いやすい化
合物が用いられる。
ど各種のものが知られているが,過酸化ベンゾイル,ア
ゾビスイソブチロニトリノレなど比較的取扱いやすい化
合物が用いられる。
また重合方法には,塊状重合,スラリー重合,溶液重合
などの種々の方法があるが,いずれの方法で重合しても
よい。
などの種々の方法があるが,いずれの方法で重合しても
よい。
重合時間は重合温度や開始剤の極類により一定しないが
,例えば過酸化ペンゾイノレやアゾビスイソプチロニト
リノレを使用する場合には,重合温度30〜90℃で1
〜20時間が適している。
,例えば過酸化ペンゾイノレやアゾビスイソプチロニト
リノレを使用する場合には,重合温度30〜90℃で1
〜20時間が適している。
ポリマー分子量の調節は,公知の方法,例えば分子量調
節剤の添加やモノマーに対する重合開始剤の濃度の調節
によシ任意に行うことができる。
節剤の添加やモノマーに対する重合開始剤の濃度の調節
によシ任意に行うことができる。
溶液重合法で行う場合の溶媒としては,公知の不活性溶
媒が用いられ,例えばジクロロメタン,テトラヒドロフ
ラン,ベンゼン,トノレエン,キシレンなどの溶媒が好
適である。
媒が用いられ,例えばジクロロメタン,テトラヒドロフ
ラン,ベンゼン,トノレエン,キシレンなどの溶媒が好
適である。
このように重合して得た本発明の有機ホウ素含有ポリマ
ーは例えばオフ゜トエレクトロニクス分野への利用が考
えられるが,各用途の必要に応じて,他のホウ素を含有
しない重合性モノマーとの共重合,異種の本発明有機ホ
ウ素含有ポリマー同志の混合,他のボリマーとの混合,
安定剤,可塑剤などの添加による本発明有機ホウ素含有
ポリマーの改良を行い適用できる。
ーは例えばオフ゜トエレクトロニクス分野への利用が考
えられるが,各用途の必要に応じて,他のホウ素を含有
しない重合性モノマーとの共重合,異種の本発明有機ホ
ウ素含有ポリマー同志の混合,他のボリマーとの混合,
安定剤,可塑剤などの添加による本発明有機ホウ素含有
ポリマーの改良を行い適用できる。
本発明の有機ホウ素含有ボリマーは新規な化合物であシ
,オフ゜トエレクトロニクス分野,特に光記録材料,偏
光板,非線形光学材料などへの応用が期待される。
,オフ゜トエレクトロニクス分野,特に光記録材料,偏
光板,非線形光学材料などへの応用が期待される。
以下に実施例を例示して,本発明を説明するが,実施例
中の%は重量%を示すものとする。
中の%は重量%を示すものとする。
攪拌器,滴下ロート及び還流冷却器を備えた200 C
Cの三ツ口フラスコに,ジプロモアノレカン76m m
o +と無水エタノー/l/ 5Q mlを仕込み,窒
素気流中テ,予めマロン酸ジエチノレ75 mmolと
ナトリウムエトキシド76 rnmolを無水エタノー
/L/ 50 mlに混合溶解させた溶液をエタノール
が還流するように加熱しながら滴下した。滴下は15分
間で終了し,エタノール還流下にl7時間攪拌反応させ
た。
Cの三ツ口フラスコに,ジプロモアノレカン76m m
o +と無水エタノー/l/ 5Q mlを仕込み,窒
素気流中テ,予めマロン酸ジエチノレ75 mmolと
ナトリウムエトキシド76 rnmolを無水エタノー
/L/ 50 mlに混合溶解させた溶液をエタノール
が還流するように加熱しながら滴下した。滴下は15分
間で終了し,エタノール還流下にl7時間攪拌反応させ
た。
反応終了後は,エタノールを留去,残留物から工−テル
抽出した。エーテ/V溶液を10%水酸化ナトリウム水
溶液,水の順で洗浄し,無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。エーテル溶液から未反応のマロン酸シエチルとジプロ
モアルカンを減圧下留去し,次式〔A〕の化合物を得た
。
抽出した。エーテ/V溶液を10%水酸化ナトリウム水
溶液,水の順で洗浄し,無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。エーテル溶液から未反応のマロン酸シエチルとジプロ
モアルカンを減圧下留去し,次式〔A〕の化合物を得た
。
Br(CH2)。CH (CO2C2H6)2[A)例
.n=8の場合のプロトンNMRピークは30分間反応
させた。反応後は不溶物をガラスフィノレターで除き,
メタノール溶液を濃,縮した。濃縮物からエーテル抽出
し,エーテ/V溶峡を濃縮後,カラムクロマトグラフィ
ー( 200メンシュのシリカゲ/” 100 ? ,
展開溶媒:ベンセンから酢酸エチルの傾斜)により単離
M製し,2−プロモアノレキル−1.3−プロパンジオ
ールCB] ヲ得た。
.n=8の場合のプロトンNMRピークは30分間反応
させた。反応後は不溶物をガラスフィノレターで除き,
メタノール溶液を濃,縮した。濃縮物からエーテル抽出
し,エーテ/V溶峡を濃縮後,カラムクロマトグラフィ
ー( 200メンシュのシリカゲ/” 100 ? ,
展開溶媒:ベンセンから酢酸エチルの傾斜)により単離
M製し,2−プロモアノレキル−1.3−プロパンジオ
ールCB] ヲ得た。
得られた各化合物の性状と物性と共に結果を第1表に示
す。
す。
この化合物は,これ以上精製せずに次の反応に使用した
。
。
攪拌器,温度計及び還流冷却器を備えた2tの四ツ目フ
ラスコに,上記化合物[A] 4Q mmol ト)タ
ノー/L’ 500 mtを仕込み,溶解させた後,攪
拌しながらナトリウムボロハイドライド594mmol
を30分間かけて少しづつ投入した。投入開始直後
から発熱が始tb,やがてメタノールが還流し始めるが
.還流がゆるやかに続くように投入する。
ラスコに,上記化合物[A] 4Q mmol ト)タ
ノー/L’ 500 mtを仕込み,溶解させた後,攪
拌しながらナトリウムボロハイドライド594mmol
を30分間かけて少しづつ投入した。投入開始直後
から発熱が始tb,やがてメタノールが還流し始めるが
.還流がゆるやかに続くように投入する。
投入完了後もゆるやかに還流するように加熱し,第
1 表 B ’ ( CHz )n C H ( C H2 0
H )2攪拌器,温度計及び還流冷却器付共沸脱水器を
備えた200 CCの三ツ口フラスコに製造例lで得た
2−グロモアルキル−1.3−プロパンシオー/L/1
0mmo+ 4−置換フェニルホロン酸10mmo
l及びトノレエン5Q mlを仕込み,還流温度で共沸
脱水反応を行なった。FJ1〜2時間で反応を終了し,
トルエンヲ減圧下留去,カラムクロマトクラフィー(
200メッシュのシリカゲ/’60?,展開溶媒:シク
ロルエタン)により単離精製し2−(4一置換フェニ/
l’ ) − 4−プロモアルキ/l’−1.3.2−
ンオキサポリナン〔C〕を得た。
1 表 B ’ ( CHz )n C H ( C H2 0
H )2攪拌器,温度計及び還流冷却器付共沸脱水器を
備えた200 CCの三ツ口フラスコに製造例lで得た
2−グロモアルキル−1.3−プロパンシオー/L/1
0mmo+ 4−置換フェニルホロン酸10mmo
l及びトノレエン5Q mlを仕込み,還流温度で共沸
脱水反応を行なった。FJ1〜2時間で反応を終了し,
トルエンヲ減圧下留去,カラムクロマトクラフィー(
200メッシュのシリカゲ/’60?,展開溶媒:シク
ロルエタン)により単離精製し2−(4一置換フェニ/
l’ ) − 4−プロモアルキ/l’−1.3.2−
ンオキサポリナン〔C〕を得た。
得られた各化合物の性状と物性と共に結果を第2表に示
す。
す。
(4) マロン酸ジエチルからの収率。
(4)第2表中の記号は次のことを示す。
C:結晶相,S^:液晶相のスメクチックA相,■.等
方性液体相。
方性液体相。
攪拌器,温度計及び還流冷却器を備えた5Q cc置換
フェニ/L’ ) −4−プロモアルキル−1. 3.
2 −ジオキサポリナン[:C:] 2 mmo+
及びアクリノレ酸3mmo+の無水ベンゼン溶液IQm
lと1,8−ジアザジシクロ(5,4,0〕ウンデカ−
7−エン(DBU)3m mo +の無水ベンゼン溶液
5 mlを窒素気流下に仕込み,攪拌溶解した。反応温
度60℃で2時間攪拌し,反応終了後は室温に戻し,ベ
ンゼンを留去,カラムクロマトグラフィー(200メッ
シュのシリカゲ/L’20yl展開溶媒;ジクロルメタ
ン)とヘキサンからの再結晶によシ単離精製し,2−(
4−置換フェニ/L/ ) − 4−アクリルオキシア
ルキル−1. 3. 2−ジオキサボリナン〔■〕を得
た。
フェニ/L’ ) −4−プロモアルキル−1. 3.
2 −ジオキサポリナン[:C:] 2 mmo+
及びアクリノレ酸3mmo+の無水ベンゼン溶液IQm
lと1,8−ジアザジシクロ(5,4,0〕ウンデカ−
7−エン(DBU)3m mo +の無水ベンゼン溶液
5 mlを窒素気流下に仕込み,攪拌溶解した。反応温
度60℃で2時間攪拌し,反応終了後は室温に戻し,ベ
ンゼンを留去,カラムクロマトグラフィー(200メッ
シュのシリカゲ/L’20yl展開溶媒;ジクロルメタ
ン)とヘキサンからの再結晶によシ単離精製し,2−(
4−置換フェニ/L/ ) − 4−アクリルオキシア
ルキル−1. 3. 2−ジオキサボリナン〔■〕を得
た。
製造例4 2−(4一置換フェニ)II/) −
4−メタアクリノレアクリル酸の代シにメタアクリノレ
酸を使/fiする以外は製造例3と向一の条件で合成し
.2−(4一置換フェニA/ ) − 4一メタアクリ
ルオキシアルキyLy−1.3.2−ジオキサボリナン
〔■〕を得た。
4−メタアクリノレアクリル酸の代シにメタアクリノレ
酸を使/fiする以外は製造例3と向一の条件で合成し
.2−(4一置換フェニA/ ) − 4一メタアクリ
ルオキシアルキyLy−1.3.2−ジオキサボリナン
〔■〕を得た。
製造例3及び4で得られた各化合物の性状と物性と共に
結果を第3表に示す。
結果を第3表に示す。
(ニ) 第3表中の記号は次のことを示す。
C:結d%相,S^:液晶相のスメクチックA相,■:
等方性液体相,※,塩素(cgの元素分析値。
等方性液体相,※,塩素(cgの元素分析値。
の合戊
IQ mlのガラヌアンフ゜ルに製造例3及び4で得ら
れた各化合物〔■〕,アゾビヌイソブチロニトリル及び
乾燥トノレエンの所定量を入れ,凍結脱気した後,アン
プルの口を封じ,第4表における重合条件で反応させた
。反応後,アンプルの口を切り,メタノー)V 100
ml中へ注ぎ込み,析出した不溶物を遠心分離,固形
物をペンセンに溶解,凍結乾燥,精製して有機ホウ素含
有ポリマーを得た。
れた各化合物〔■〕,アゾビヌイソブチロニトリル及び
乾燥トノレエンの所定量を入れ,凍結脱気した後,アン
プルの口を封じ,第4表における重合条件で反応させた
。反応後,アンプルの口を切り,メタノー)V 100
ml中へ注ぎ込み,析出した不溶物を遠心分離,固形
物をペンセンに溶解,凍結乾燥,精製して有機ホウ素含
有ポリマーを得た。
重合条件及ひボリマーの収量は第4表に,ボリマーの分
析結果及び性質は第5表にそれぞれ示す。
析結果及び性質は第5表にそれぞれ示す。
実施例2 有機ホウ素含有ボリマー(相互のIR
ス ペ ク ト ノレ 10 mlのガラスアンプルに製造例3で得られた七ノ
マーm5を0.359及び七ノマーN+17を0.3!
M.アゾビヌインプチロニトリル5.3η及び乾燥トノ
レエン8mlを入れ,凍結脱気した後,アンプルの口を
封じ. 60℃で10時間反応させた。アンプルの口を
切り,メタノー/” 100 rnt中へ注ぎ込み,析
出した不溶物を遠心分離した後,ベンセンに溶解,凍結
乾燥させて精製し,有機ホウ素含有ボリマーを得た。こ
のポリマーを窒素(N)分析した結果,0659%の窒
素を含有していた。 計算した結果,ボリマーはモノマ
ー醜5とモノマーNa7がモp比で83.3対16.7
の割合で共重合していることが判明した。
ス ペ ク ト ノレ 10 mlのガラスアンプルに製造例3で得られた七ノ
マーm5を0.359及び七ノマーN+17を0.3!
M.アゾビヌインプチロニトリル5.3η及び乾燥トノ
レエン8mlを入れ,凍結脱気した後,アンプルの口を
封じ. 60℃で10時間反応させた。アンプルの口を
切り,メタノー/” 100 rnt中へ注ぎ込み,析
出した不溶物を遠心分離した後,ベンセンに溶解,凍結
乾燥させて精製し,有機ホウ素含有ボリマーを得た。こ
のポリマーを窒素(N)分析した結果,0659%の窒
素を含有していた。 計算した結果,ボリマーはモノマ
ー醜5とモノマーNa7がモp比で83.3対16.7
の割合で共重合していることが判明した。
得られたボリマーの分析結果及び性質を次に示す。
元素分析
ν=′:杢o1(田一’) : 2210(C=N).
1745(C=0). 1320(C−0)。
1745(C=0). 1320(C−0)。
NMR ヌ ベ ク ト ノレ
δ’i&’f3(ppm) : 7.83〜7.81(
In), 7.66(d.J=8Hz) ,7、59〜
7.57(m), 7.15〜7.13(In). 4
.12〜3.71(In).2.57(b). 2.0
1〜1.12(m), 0.87(t, J=7Hz)
。
In), 7.66(d.J=8Hz) ,7、59〜
7.57(m), 7.15〜7.13(In). 4
.12〜3.71(In).2.57(b). 2.0
1〜1.12(m), 0.87(t, J=7Hz)
。
材1
= 250 000
(ポリスチレン標準
(注二G,
S^及び■は第5表の記号と同意義を示す)。
第1図は実施例1で得られたホリマーmlの赤外吸収ス
ベク}/レであり.第2図は同じボリマ−(7)7’l
ffl−ンNMRスペクトルである。
ベク}/レであり.第2図は同じボリマ−(7)7’l
ffl−ンNMRスペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中Rは炭素数1〜13個の直鎖アルキル基、炭素数
1〜13個の直鎖アルコキシ基、2〜14個の直鎖アル
コキシカルボニル基、ハロゲン原子又はシアノ基を、X
は水素原子又はメチル基を、nは2〜15の整数をそれ
ぞれ示す)で表わされる繰返し単位を有する有機ホウ素
含有ポリマー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157518A JP2691300B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 有機ホウ素含有ポリマー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157518A JP2691300B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 有機ホウ素含有ポリマー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0321609A true JPH0321609A (ja) | 1991-01-30 |
| JP2691300B2 JP2691300B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=15651427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1157518A Expired - Fee Related JP2691300B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 有機ホウ素含有ポリマー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691300B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07261209A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-13 | Hitachi Ltd | 非線形光学素子 |
| JP2008518054A (ja) * | 2004-10-22 | 2008-05-29 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 共有結合性有機骨格及び多面体 |
| JP2018525498A (ja) * | 2015-08-20 | 2018-09-06 | エコール・シュペリュール・ドゥ・フィシック・エ・シミー・アンデュストリエル・ドゥ・ラ・ヴィル・ドゥ・パリ | 交換反応を可能にするボロン酸エステル官能基を含む架橋ポリマーを含むポリマー組成物、その調製方法及びその使用 |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP1157518A patent/JP2691300B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07261209A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-13 | Hitachi Ltd | 非線形光学素子 |
| JP2008518054A (ja) * | 2004-10-22 | 2008-05-29 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ ミシガン | 共有結合性有機骨格及び多面体 |
| JP2018525498A (ja) * | 2015-08-20 | 2018-09-06 | エコール・シュペリュール・ドゥ・フィシック・エ・シミー・アンデュストリエル・ドゥ・ラ・ヴィル・ドゥ・パリ | 交換反応を可能にするボロン酸エステル官能基を含む架橋ポリマーを含むポリマー組成物、その調製方法及びその使用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2691300B2 (ja) | 1997-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5493088B2 (ja) | ジベンゾチオフェン骨格を有する化合物における屈折率付与効果を増大させる方法 | |
| Ueda et al. | Synthesis and homopolymerization kinetics of α-methylene-δ-valerolactone, an exo-methylene cyclic monomer with a nonplanar ring system spanning the radical center | |
| CN109553568B (zh) | 共轭炔基蒽衍生物及其作为可见光光敏剂调控原子转移自由基聚合的方法 | |
| JPH0321609A (ja) | 有機ホウ素含有ポリマー | |
| Shiohara et al. | Asymmetric anionic polymerization of alkyl-substituted N, N-diphenylacrylamide derivatives | |
| JPS62215608A (ja) | アルケニルシリル基含有高分子化合物の製法 | |
| Qin et al. | Radical polymerization of styrene initiate with a new multifunctional iniferter | |
| JP2021147518A (ja) | オレフィン重合用触媒、遷移金属錯体およびオレフィン共重合体の製造方法 | |
| JPH04173812A (ja) | 新規なメタクリル酸誘導体及びそのポリマー | |
| JP4325097B2 (ja) | 光学活性ポリ(n−メチルベンジルマレイミド)及びその製造法 | |
| US4163014A (en) | 3,4,5,6-Tetrahydropyromellitdiimides | |
| SU869290A1 (ru) | Бис-арил-о-карборан в качестве промежуточного продукта в синтезе полимеров полифениленового типа | |
| JPS6124588A (ja) | 重合性を有するクラウンエ−テル化合物 | |
| JPH0149717B2 (ja) | ||
| Matsumoto et al. | Synthesis and Characterization of Poly (N-trialkylsilylmaleimide) s through Radical and Anionic Polymerizations. | |
| US4125536A (en) | Pyrolysis product of N-substituted-1-cyclohexene-1,2-dicarboximides | |
| Liu et al. | Synthesis of chiral polymers containing the acetoxybornyl group and their applications on the asymmetric induction | |
| JPH0317085A (ja) | ジオキサボリナン化合物 | |
| JPH04332705A (ja) | 新規なマレイミド重合体 | |
| JPH01233252A (ja) | 多環式フェノキシアレン化合物ならびにその製法 | |
| US4225505A (en) | Pyrolysis of N-substituted-1-cyclohexene-1,2-dicarboximides and hydrolysis of product to pyromellitic anhydride | |
| Mathias et al. | Superfast Methacrylate Photomonomers: Ester Derivatives of Ethyl. alpha.-Hydroxymethacrylates | |
| JP2022106267A (ja) | 置換ポリアセチレン類の製造に使用するための新規精密重合触媒 | |
| JPS63115832A (ja) | 4−(9−トリプチセニル)スチレン | |
| JPH0670003B2 (ja) | 4―4′―ビス(メタクリロイルチオ)ジフェニルスルフィドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |