JPH03216546A - 酸素センサ素子の活性化処理方法 - Google Patents
酸素センサ素子の活性化処理方法Info
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- JPH03216546A JPH03216546A JP2013409A JP1340990A JPH03216546A JP H03216546 A JPH03216546 A JP H03216546A JP 2013409 A JP2013409 A JP 2013409A JP 1340990 A JP1340990 A JP 1340990A JP H03216546 A JPH03216546 A JP H03216546A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は酸素センサ素子の活性化処理方法に係り、更に
詳しくは、自動車などの内燃機関の排気カス温度か低い
領域においても正確に空燃比制御を行なうことかできる
、低温作動性に優れた酸素センサ素子の活性化処理方法
に関する。
詳しくは、自動車などの内燃機関の排気カス温度か低い
領域においても正確に空燃比制御を行なうことかできる
、低温作動性に優れた酸素センサ素子の活性化処理方法
に関する。
[従来の技術]
従来から、CaOまたはY20’s′″g=て安定化し
た酸化シルコニウム焼結体(ジルコニア磁器)等は、酸
素イオン導電性の固体電解質となることか知られており
、そしてこのシルコニア磁器等の酸素イオン導電性の固
体電解質を用いて、酸素濃淡電池の原理により、自動車
等の内燃機関より排出される被測定ガスとしての排気ガ
スの酸素濃度を検知しかかる内燃機関の空燃比を制御す
ることか知られている。
た酸化シルコニウム焼結体(ジルコニア磁器)等は、酸
素イオン導電性の固体電解質となることか知られており
、そしてこのシルコニア磁器等の酸素イオン導電性の固
体電解質を用いて、酸素濃淡電池の原理により、自動車
等の内燃機関より排出される被測定ガスとしての排気ガ
スの酸素濃度を検知しかかる内燃機関の空燃比を制御す
ることか知られている。
従来、この種の酸素濃度検出器たる酸素センサ素子とし
ては、有底円筒状の若しくは内部に通路を設けた平板状
のシルコニア固体電解質体の内外面に、所定の電極、例
えば多孔質の白金電極を設け、その内側の電極を大気に
接触させて基準酸素濃度の基準ガスに晒される基準電極
とする一方、外側の電極を被測定ガスである排気ガス中
に晒して、測定電極としている。そして、それら基準電
極と測定電極との間の酸素濃度の差に基く起電力を検知
することにより、かかる排気ガス中の酸素儂度を測定し
ている。
ては、有底円筒状の若しくは内部に通路を設けた平板状
のシルコニア固体電解質体の内外面に、所定の電極、例
えば多孔質の白金電極を設け、その内側の電極を大気に
接触させて基準酸素濃度の基準ガスに晒される基準電極
とする一方、外側の電極を被測定ガスである排気ガス中
に晒して、測定電極としている。そして、それら基準電
極と測定電極との間の酸素濃度の差に基く起電力を検知
することにより、かかる排気ガス中の酸素儂度を測定し
ている。
[発明か解決しようとする課題]
近年、内燃機関から排出される排気ガス規制の強化によ
り、エンジン始動直後及びアイトリング時の排ガス温度
の低い領域ての正確な空燃比制御が要求されている。ま
た、エンジンの高性能化に伴ない、エンジンルームスペ
ースの制約から、センサ素子取付位置が排気管後方の低
温部であっても正確な空燃比制御のてきる酸素センサ素
子か要求されている。
り、エンジン始動直後及びアイトリング時の排ガス温度
の低い領域ての正確な空燃比制御が要求されている。ま
た、エンジンの高性能化に伴ない、エンジンルームスペ
ースの制約から、センサ素子取付位置が排気管後方の低
温部であっても正確な空燃比制御のてきる酸素センサ素
子か要求されている。
しかしなから、従来の酸素センサ素子ては、低温度では
電極の触媒能か低下するため、起電力特性曲線か空気過
剰のりーン側ヘシフトし、排ガス温度400゜C以下て
は、理論空燃比を正確に感知することかできなかった。
電極の触媒能か低下するため、起電力特性曲線か空気過
剰のりーン側ヘシフトし、排ガス温度400゜C以下て
は、理論空燃比を正確に感知することかできなかった。
上記の如き酸素センサ素子の低温度領域ての触媒能の低
下を補うために、電極部をヒーターで加熱するセンサ素
子が考え出されている。しかし、ヒーターを設置しても
センサ素子の被測定ガス(排気ガス)に晒される側は、
排気ガス温か低い場合、そのガスにより冷却されて電極
の触媒活性か低下し、起電力曲線にずれか生じやすくな
る。
下を補うために、電極部をヒーターで加熱するセンサ素
子が考え出されている。しかし、ヒーターを設置しても
センサ素子の被測定ガス(排気ガス)に晒される側は、
排気ガス温か低い場合、そのガスにより冷却されて電極
の触媒活性か低下し、起電力曲線にずれか生じやすくな
る。
酸素センサ素子の電極として、長期間あるいは著しい高
温などの厳しい使用条件下ての耐久性を増すために、触
媒金属とセラミックス粉とを混合して、安定化あるいは
部分安定化ジルコニア等のセンサ素体に焼付け、もしく
は、下地と一体焼成したサーメット電極か知られている
。しかし、サーメット電極は耐久性を増すために、一般
に、1000℃、好ましくはI:l00’C以上の高温
で、焼付けもしくは一体焼成が行われるために、触媒活
性が著しく低下し、その使用範囲か限定されるという欠
点かある。
温などの厳しい使用条件下ての耐久性を増すために、触
媒金属とセラミックス粉とを混合して、安定化あるいは
部分安定化ジルコニア等のセンサ素体に焼付け、もしく
は、下地と一体焼成したサーメット電極か知られている
。しかし、サーメット電極は耐久性を増すために、一般
に、1000℃、好ましくはI:l00’C以上の高温
で、焼付けもしくは一体焼成が行われるために、触媒活
性が著しく低下し、その使用範囲か限定されるという欠
点かある。
一般に酸素センサ素子の電極はサーメット電極に限らず
、メッキ法、蒸着法などによるものも含めて、下地の固
体電解質体との付着強度の増加、電極内のガス透過性の
向上、すなわち多孔質化を目的として、800°C〜1
400”C温度下での熱処理か適宜行われている。しか
し、その多くは、大気中ての熱処理であり、電極表面の
酸化を伴ない、電極の触媒活性を低下させる。
、メッキ法、蒸着法などによるものも含めて、下地の固
体電解質体との付着強度の増加、電極内のガス透過性の
向上、すなわち多孔質化を目的として、800°C〜1
400”C温度下での熱処理か適宜行われている。しか
し、その多くは、大気中ての熱処理であり、電極表面の
酸化を伴ない、電極の触媒活性を低下させる。
また、水素もしくは一酸化炭素雰囲気で熱処理を行なっ
た場合ても、酸素センサ素子の組立、検査の工程中には
素子温か500〜700゜C程度まで上がる場合があり
、そのほとんどか大気中であるため、出荷時の酸素セン
サ素子の電極表面には、電極構成金属の酸化物か形成さ
れている可衡性が高い。この酸化物は低温度の排気ガス
中での酸素センサ素子の起電力曲線をリーン側へ大きく
シフトさせるという問題があった。
た場合ても、酸素センサ素子の組立、検査の工程中には
素子温か500〜700゜C程度まで上がる場合があり
、そのほとんどか大気中であるため、出荷時の酸素セン
サ素子の電極表面には、電極構成金属の酸化物か形成さ
れている可衡性が高い。この酸化物は低温度の排気ガス
中での酸素センサ素子の起電力曲線をリーン側へ大きく
シフトさせるという問題があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、その目的とするところは、酸素センサ素子を特定の
条件下において熱処理することにより、低温作動性が改
善され、かつその効果がその後の酸化雰囲気中の加熱に
よっても容易に消失しない酸素センサ素子を提供するこ
とにある。
て、その目的とするところは、酸素センサ素子を特定の
条件下において熱処理することにより、低温作動性が改
善され、かつその効果がその後の酸化雰囲気中の加熱に
よっても容易に消失しない酸素センサ素子を提供するこ
とにある。
[課題を解決するための千段]
即ち、本発明によれば、少なくとも酸素イオン導電性固
体電解質体、測定電極、基準電極及び該測定電極を保護
する多孔質保護層とから構成されている酸素センサ素子
を、不飽和炭化水素及び/あるいは芳香族炭化水素を含
む還元性ガス中において熱処理することを特徴とする酸
素センサ素子の活性化処理方法、か提供される。
体電解質体、測定電極、基準電極及び該測定電極を保護
する多孔質保護層とから構成されている酸素センサ素子
を、不飽和炭化水素及び/あるいは芳香族炭化水素を含
む還元性ガス中において熱処理することを特徴とする酸
素センサ素子の活性化処理方法、か提供される。
本発明は、酸素センサ素子を、不飽和炭化水素および芳
香族炭化水素のうちの一つ、またはこれらの混合物を含
んだ還元性ガス中において、所定の条件で熱処理を行う
ことを特徴とし、これにより酸素センサ素子の低温ガス
中における理論空燃化制御か正確になり、また、大気中
における加熱処理後の起電力曲線のシフト量が減少する
ことを見出したものである。
香族炭化水素のうちの一つ、またはこれらの混合物を含
んだ還元性ガス中において、所定の条件で熱処理を行う
ことを特徴とし、これにより酸素センサ素子の低温ガス
中における理論空燃化制御か正確になり、また、大気中
における加熱処理後の起電力曲線のシフト量が減少する
ことを見出したものである。
本発明は公知の各種固体電解質に適用てきるか、特にジ
ルコニアに所定の安定化剤、例えばイットリア(Y2
0:l ) 、カルシア(CaO).マクネシア(Mg
O).イッテルビア(Yb203)等を配合せしめてな
る安定化もしくは部分安定化ジルコニア材料を用いて、
ラバープレス法の如き加圧成形法や厚膜法の如き積層法
や厚膜を円筒形に巻く等の公知手法から得た有底円筒状
や円筒状、板状等の形状の素子に好適に用いられること
になる。
ルコニアに所定の安定化剤、例えばイットリア(Y2
0:l ) 、カルシア(CaO).マクネシア(Mg
O).イッテルビア(Yb203)等を配合せしめてな
る安定化もしくは部分安定化ジルコニア材料を用いて、
ラバープレス法の如き加圧成形法や厚膜法の如き積層法
や厚膜を円筒形に巻く等の公知手法から得た有底円筒状
や円筒状、板状等の形状の素子に好適に用いられること
になる。
なお、それらの素子に電極を形成する方法としては、従
来から知られているメッキ法、スバツタリンク法、触媒
金属塩の熱分解による方法、電極金属とセラミックスと
のサーメットペーストを成形体表面に焼付けるペースト
焼付法、更にはそのようなサーメットペーストを素子木
体に印刷もしくは塗布した後、該素子本体と共に焼成す
るサーメットペーストの同時焼成法、等の種々の方法の
中から適宜採用する。
来から知られているメッキ法、スバツタリンク法、触媒
金属塩の熱分解による方法、電極金属とセラミックスと
のサーメットペーストを成形体表面に焼付けるペースト
焼付法、更にはそのようなサーメットペーストを素子木
体に印刷もしくは塗布した後、該素子本体と共に焼成す
るサーメットペーストの同時焼成法、等の種々の方法の
中から適宜採用する。
それらの方法て形成された電極は、触媒金属として公知
のPt,Pd.Rh等の白金族金属、もしくはこれら白
金族金属を主体とする導電性材料からなるものて、この
場合、白金族金属は1種類であっても2種類以上であっ
てもよい。
のPt,Pd.Rh等の白金族金属、もしくはこれら白
金族金属を主体とする導電性材料からなるものて、この
場合、白金族金属は1種類であっても2種類以上であっ
てもよい。
被測定ガスに晒される測定電極上に形成される多孔質の
セラミックコーティンク層は、種々の公知の手段に従っ
て形成することか可能てあり、例えば、スピネル(Mg
O−Aリ−03).シルコニア、アルミナ等のセラミッ
クス材料を用いて、それらをプラズマ溶射法やフレーム
溶射法によって溶射して所定厚さのコーティンク層を形
成したり、セラミックス粉末スラリーとして電極上への
印刷、あるいはスラリーへのティッピンクの後に焼付け
たり、またはサーメット1に適用して一体焼成すること
等によって形成されるものであり、その多孔質コーティ
ンク層の構成は単層のみならず、2層以上の多層構造て
あっても何等差支えない。
セラミックコーティンク層は、種々の公知の手段に従っ
て形成することか可能てあり、例えば、スピネル(Mg
O−Aリ−03).シルコニア、アルミナ等のセラミッ
クス材料を用いて、それらをプラズマ溶射法やフレーム
溶射法によって溶射して所定厚さのコーティンク層を形
成したり、セラミックス粉末スラリーとして電極上への
印刷、あるいはスラリーへのティッピンクの後に焼付け
たり、またはサーメット1に適用して一体焼成すること
等によって形成されるものであり、その多孔質コーティ
ンク層の構成は単層のみならず、2層以上の多層構造て
あっても何等差支えない。
本発明て用いる不飽和炭化水素としては、室温で気体状
態であるエチレン(C2H4).プロピレン(C:l
Hs ) 、フチレン(C4H8)、ベンテン(CsI
{+o)等の二重結合を有する炭化水素やアセチレン(
C2H2)等の三重結合を有する炭化水素が代表的なも
のとして挙げられる。
態であるエチレン(C2H4).プロピレン(C:l
Hs ) 、フチレン(C4H8)、ベンテン(CsI
{+o)等の二重結合を有する炭化水素やアセチレン(
C2H2)等の三重結合を有する炭化水素が代表的なも
のとして挙げられる。
また、芳香族炭化水素としては、室温ての蒸気圧か4m
mtlg以上であるベンゼン、トルエン、キシレン等が
代表的なものとして挙げられる。
mtlg以上であるベンゼン、トルエン、キシレン等が
代表的なものとして挙げられる。
還元性ガスとしては、H2、COもしくはこれらの混合
ガスをN2・C02もしくはこれらの混合ガスにて希釈
したものか、天然ガスやLPG等を不完全燃焼させて得
られるガスが用いられるか、特にH2かIn〜40vo
l%、N2か10〜40vol%C O 2か0.1
〜5vol%、COが5 〜40vol%の範囲の組成
のガスを用いることが好ましい。
ガスをN2・C02もしくはこれらの混合ガスにて希釈
したものか、天然ガスやLPG等を不完全燃焼させて得
られるガスが用いられるか、特にH2かIn〜40vo
l%、N2か10〜40vol%C O 2か0.1
〜5vol%、COが5 〜40vol%の範囲の組成
のガスを用いることが好ましい。
不位和炭化水素及び/あるいは芳香族炭化水素の還元性
ガス中の含有量は、100 ppm〜10vol%の範
囲か好ましく、500 ppm〜5vol%か特に好ま
しい。さらに、不飽和炭化水素、芳香族炭化水素の主鎖
をなす炭素の数か6を超える場合は、処理中のカーボン
析出量か著しく増加するため、還元性ガス中の含有量は
500 ppm〜l vol%か好ましい。不飽和炭化
水素及び/あるいは芳香族炭化水素の含有凝か100
ppl1よりも少なくなると酸素センサ素子の上記した
活性化効果か弱く、得られる製品のばらつきが大きくな
る。また、10vol%を超えると熱処理中にカーボン
か析出し、電極を劣化する場合かある。
ガス中の含有量は、100 ppm〜10vol%の範
囲か好ましく、500 ppm〜5vol%か特に好ま
しい。さらに、不飽和炭化水素、芳香族炭化水素の主鎖
をなす炭素の数か6を超える場合は、処理中のカーボン
析出量か著しく増加するため、還元性ガス中の含有量は
500 ppm〜l vol%か好ましい。不飽和炭化
水素及び/あるいは芳香族炭化水素の含有凝か100
ppl1よりも少なくなると酸素センサ素子の上記した
活性化効果か弱く、得られる製品のばらつきが大きくな
る。また、10vol%を超えると熱処理中にカーボン
か析出し、電極を劣化する場合かある。
=一方、熱処理温度は300〜1100゜C(7)範囲
か好ましく、500〜850°Cかより好ましい。処理
中の温度は一定てある必要はなく、300〜1100°
Cの間の熱サイクルをかけても良い。熱処理温度か30
0℃?りも低くなると、酸素センサ素子の上記した活性
化効果か弱ぐ、得られる製品のばらつきか大きくなる可
能性がある。又、熱処理温度が1100゜Cを超えると
、電極に使用した金属の焼結、減耗か急激に進行し、素
子の導通不良が発生する場合かある。
か好ましく、500〜850°Cかより好ましい。処理
中の温度は一定てある必要はなく、300〜1100°
Cの間の熱サイクルをかけても良い。熱処理温度か30
0℃?りも低くなると、酸素センサ素子の上記した活性
化効果か弱ぐ、得られる製品のばらつきか大きくなる可
能性がある。又、熱処理温度が1100゜Cを超えると
、電極に使用した金属の焼結、減耗か急激に進行し、素
子の導通不良が発生する場合かある。
また、熱処理時間は1〜48時間か好ましく、5〜16
時間かより好ましい。熱処理時間か1時間未満の場合、
活性化効果か弱く、得られる製品のばらつきが大きくな
り、熱処理時間か48時間を超えると、電極に使用した
金属の焼結、減耗が急激に進行し、素子の導通不良か発
生する場合がある。
時間かより好ましい。熱処理時間か1時間未満の場合、
活性化効果か弱く、得られる製品のばらつきが大きくな
り、熱処理時間か48時間を超えると、電極に使用した
金属の焼結、減耗が急激に進行し、素子の導通不良か発
生する場合がある。
本発明の処理を酸素センサ組立品(完成品)の被測定ガ
スに晒される部分にのみ行なっても、素子単体の段階て
素子全体に本処理を行なった場合と同様の効果を得るこ
とかできる。
スに晒される部分にのみ行なっても、素子単体の段階て
素子全体に本処理を行なった場合と同様の効果を得るこ
とかできる。
本発明の処理は断続的に行なっても良く、処理炉内の雰
囲気を不飽和炭化水素を用いた還元性ガスとN2,Co
■等のガスもしくは大気等を交互に置換し、雰囲気のリ
ッチφリーンのサイクルをかけても良い。
囲気を不飽和炭化水素を用いた還元性ガスとN2,Co
■等のガスもしくは大気等を交互に置換し、雰囲気のリ
ッチφリーンのサイクルをかけても良い。
また、本発明においては、電極部加熱用のヒーターを併
用することにより、電極の性能向上とあわせて、さらに
広範囲の温度で使用か可能となり,本発明の効果を増大
させることかできる。
用することにより、電極の性能向上とあわせて、さらに
広範囲の温度で使用か可能となり,本発明の効果を増大
させることかできる。
[実施例]
以下、本発明を図示の実施例に基き更に詳細に説明する
か、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない
。
か、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない
。
(実施例l)
第1図は酸素センサ素子の一例を示す断面説明図てある
。
。
第1図において、10は4モル%Y203−96モル%
ZrO2に対し、焼結助剤としてl.2wt%AM20
.及び0.9wt%SiO2を含んた固体電解質たる平
板状シルコニア磁器であり、その内外両面にはP t
85wt%及び上記組成の固体電解質15wt%の割合
からなるサーメットの電極素材を素子閉塞先端から9■
まて部分塗布してなる外側の測?電極l6と内側の基準
電極l4か夫々設けられている。そして、測定電極l6
のさらに外側には多孔質保護層18か形成されている。
ZrO2に対し、焼結助剤としてl.2wt%AM20
.及び0.9wt%SiO2を含んた固体電解質たる平
板状シルコニア磁器であり、その内外両面にはP t
85wt%及び上記組成の固体電解質15wt%の割合
からなるサーメットの電極素材を素子閉塞先端から9■
まて部分塗布してなる外側の測?電極l6と内側の基準
電極l4か夫々設けられている。そして、測定電極l6
のさらに外側には多孔質保護層18か形成されている。
一方シルコニア磁器lOの内部にはヒーター22をはさ
んだ絶縁層20が形成され、これらは一体焼成されて酸
素センサ素子が作製されている。なお、l2は基準ガス
導入孔であり、基準電極l4はここを通して導かれる空
気に接触するようになっている。
んだ絶縁層20が形成され、これらは一体焼成されて酸
素センサ素子が作製されている。なお、l2は基準ガス
導入孔であり、基準電極l4はここを通して導かれる空
気に接触するようになっている。
第2図は本発明の酸素センサ素子の活性化処理装置の一
例を示すフロー図である。N 2 . H 2およびC
O■ガスを触媒変換炉30に送入し、ここてC O/C
O■/H2 /N2=10/2/50/38の割合に
変換してベースガスを作成し、次いて、不飽和炭化水素
としてプロピレン( C :I H 6)をベースガス
100に対してQ.5vol%の割合で添加し、活性化
処理炉3lに送入した。
例を示すフロー図である。N 2 . H 2およびC
O■ガスを触媒変換炉30に送入し、ここてC O/C
O■/H2 /N2=10/2/50/38の割合に
変換してベースガスを作成し、次いて、不飽和炭化水素
としてプロピレン( C :I H 6)をベースガス
100に対してQ.5vol%の割合で添加し、活性化
処理炉3lに送入した。
一方、前記したように作製された酸素センサ素子を活性
化処理炉3lに送り込み、下記条件にて活性化処理を行
なった。
化処理炉3lに送り込み、下記条件にて活性化処理を行
なった。
(処理時間・5咋IX1)
上記のようにして活性化処理を行なった酸素センサ素子
について、以下のように評価した。
について、以下のように評価した。
評価方法:センサ素子を400℃に保ち、co、H2、
N2、空気からなるガス中の空 気過剰率入を, 0.950〜1.150まで変化させ
、その間のセンサ起電力を測定 し、センサ起電力か0.45Vとなった時点の空気過剰
率を入,として低温作動 性の尺度とした。
N2、空気からなるガス中の空 気過剰率入を, 0.950〜1.150まで変化させ
、その間のセンサ起電力を測定 し、センサ起電力か0.45Vとなった時点の空気過剰
率を入,として低温作動 性の尺度とした。
また、活性化処理を行なった後に大気
中て700゜C、5時間の熱処理を行なったサンプルに
対しても、同様の評価 を行なった。
対しても、同様の評価 を行なった。
以上のように評価を行なった各サンプルの入、を第3図
に示す。
に示す。
第3図の結果から明らかなように、No. 1−9の未
処理品に比し、No.1−1 〜15およびNo.l7
、18の活性化処理品は、より理論空燃比点(入,=1
.000 )に近い入、を示した。これに対して、NO
.1−6は測定不能てあった。
処理品に比し、No.1−1 〜15およびNo.l7
、18の活性化処理品は、より理論空燃比点(入,=1
.000 )に近い入、を示した。これに対して、NO
.1−6は測定不能てあった。
更に、No.1−1〜l−5およびNo.1−7、l−
8の各活性化処理品を、大気中700゜Cて5蒔間の熱
処理を行なったところ、No.1−1のプロピレン添加
200℃処理品とNo. 1−7 , l−8のプロピ
レン未添加処理品の入、は未処理品と同レベルまで劣化
してしまい、活性化処理の効果か安定していないことが
わかった。
8の各活性化処理品を、大気中700゜Cて5蒔間の熱
処理を行なったところ、No.1−1のプロピレン添加
200℃処理品とNo. 1−7 , l−8のプロピ
レン未添加処理品の入、は未処理品と同レベルまで劣化
してしまい、活性化処理の効果か安定していないことが
わかった。
一方、No.1−2〜l−5の各サンプルは依然として
未処理品及びプロピレン未添加の還元処理品よりも良好
な入,を示し、活性化処理の効果か安定していることが
判明した。
未処理品及びプロピレン未添加の還元処理品よりも良好
な入,を示し、活性化処理の効果か安定していることが
判明した。
(実施例2)
実施例lと同一の方法で第1図の構造を有する酸素セン
サ素子を作製し、この素子を用いて第4図に示す活性化
処理装置のフロー図に従い、下記の方法て酸素センサ素
子の活性化処理を行なった。
サ素子を作製し、この素子を用いて第4図に示す活性化
処理装置のフロー図に従い、下記の方法て酸素センサ素
子の活性化処理を行なった。
実施例lと同様に、N2、H2およびco2ガスを触媒
変換炉30に送入し、ここで実施例1と同一組成のベー
スガスを作成し、これに15°Cの恒温槽32の中に設
置されたパブリンク容器33を介し芳香族炭化水素とし
てベンゼン(CGH6)を、ベースガス100に対して
8vol%の割合て添加し、活性化処理炉31に送入し
た。
変換炉30に送入し、ここで実施例1と同一組成のベー
スガスを作成し、これに15°Cの恒温槽32の中に設
置されたパブリンク容器33を介し芳香族炭化水素とし
てベンゼン(CGH6)を、ベースガス100に対して
8vol%の割合て添加し、活性化処理炉31に送入し
た。
一方、酸素センサ素子を活性化処理炉31に送り込み、
下記条件にて活性化処理を行なった。
下記条件にて活性化処理を行なった。
(処理峙1川・sn!%rI)
得られた各活性化処理品および未処理品につぃて、実施
例lと同一の方法で評価を行なった。結果を第5図に示
す。
例lと同一の方法で評価を行なった。結果を第5図に示
す。
その結果、No.2−6の未処理品に比べてNo. 2
− 1〜2−5の活性化処理品はより理論空燃比に近い
入,を示した。
− 1〜2−5の活性化処理品はより理論空燃比に近い
入,を示した。
更に、No. 2− 1〜2−5の各活性化処理品を、
大気中700゜Cで5時間の熱処理を行なった場合、ベ
ンゼン添加品は、未添加品、および未処理品に比べて良
好な特性を保っており、活性化処理の効果か安定してい
ることかわかった。
大気中700゜Cで5時間の熱処理を行なった場合、ベ
ンゼン添加品は、未添加品、および未処理品に比べて良
好な特性を保っており、活性化処理の効果か安定してい
ることかわかった。
[発明の効果]
以上説明した通り、本発明の方法によれば、酸素センサ
素子を不悠和炭化水素及び/あるいは芳香族炭化水素を
含む還元性ガス中において熱処理するため、酸素センサ
素子の低温ガス中における理論空燃化制御か正確になる
ほか、大気中における加熱処理後の起電力曲線のシフト
量が減少するという効果を奏する。
素子を不悠和炭化水素及び/あるいは芳香族炭化水素を
含む還元性ガス中において熱処理するため、酸素センサ
素子の低温ガス中における理論空燃化制御か正確になる
ほか、大気中における加熱処理後の起電力曲線のシフト
量が減少するという効果を奏する。
第1図は酸素センサ素子の−例を示す断面説明図、第2
図は本発明の酸素センサ素子の活性化処理装置の一例を
示すフロー図、第3図は実施例lにおける酸素センサ素
子の活性化処理結果を示すクラブ、第4図は本発明の酸
素センサ素子の活性化処理装置の他の例を示すフロー図
、第5図は実施例2における酸素センサ素子の活性化処
理結果を示すクラフである。 lO・・・固体電解質たるシルコニア磁器、12・・・
基準ガス導入孔、14・・・基準電極、16・・・測定
電極、l8・・・多孔質保護層、20・・・絶縁層、2
2・・・ヒーター、30・・・触媒変換炉、31・・・
活性化処理炉、32・・・恒温槽、33・・・ハフリン
ク容器。
図は本発明の酸素センサ素子の活性化処理装置の一例を
示すフロー図、第3図は実施例lにおける酸素センサ素
子の活性化処理結果を示すクラブ、第4図は本発明の酸
素センサ素子の活性化処理装置の他の例を示すフロー図
、第5図は実施例2における酸素センサ素子の活性化処
理結果を示すクラフである。 lO・・・固体電解質たるシルコニア磁器、12・・・
基準ガス導入孔、14・・・基準電極、16・・・測定
電極、l8・・・多孔質保護層、20・・・絶縁層、2
2・・・ヒーター、30・・・触媒変換炉、31・・・
活性化処理炉、32・・・恒温槽、33・・・ハフリン
ク容器。
Claims (1)
- (1)少なくとも酸素イオン導電性固体電解質体、測定
電極、基準電極及び該測定電極を保護する多孔質保護層
とから構成されている酸素センサ素子を、不飽和炭化水
素及び/あるいは芳香族炭化水素を含む還元性ガス中に
おいて熱処理することを特徴とする酸素センサ素子の活
性化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013409A JP2637593B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 酸素センサ素子の活性化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013409A JP2637593B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 酸素センサ素子の活性化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03216546A true JPH03216546A (ja) | 1991-09-24 |
| JP2637593B2 JP2637593B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=11832337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013409A Expired - Lifetime JP2637593B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 酸素センサ素子の活性化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2637593B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5948966A (en) * | 1996-12-10 | 1999-09-07 | Ngk Insulators, Ltd. | Gas sensor, method of measuring gas component by utilizing gas sensor, and method of diagnosing malfunction of exhaust gas purifying apparatus |
| JP2006275513A (ja) * | 2004-03-29 | 2006-10-12 | Ngk Insulators Ltd | ガスセンサ素子の処理方法 |
| US7527718B2 (en) | 2004-03-29 | 2009-05-05 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of treating gas sensor element |
| WO2015194362A1 (ja) * | 2014-06-16 | 2015-12-23 | 株式会社デンソー | 粒子状物質検出センサ素子及びこれを用いた粒子状物検出センサ |
-
1990
- 1990-01-23 JP JP2013409A patent/JP2637593B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5948966A (en) * | 1996-12-10 | 1999-09-07 | Ngk Insulators, Ltd. | Gas sensor, method of measuring gas component by utilizing gas sensor, and method of diagnosing malfunction of exhaust gas purifying apparatus |
| JP2006275513A (ja) * | 2004-03-29 | 2006-10-12 | Ngk Insulators Ltd | ガスセンサ素子の処理方法 |
| US7527718B2 (en) | 2004-03-29 | 2009-05-05 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of treating gas sensor element |
| WO2015194362A1 (ja) * | 2014-06-16 | 2015-12-23 | 株式会社デンソー | 粒子状物質検出センサ素子及びこれを用いた粒子状物検出センサ |
| JP2016003932A (ja) * | 2014-06-16 | 2016-01-12 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 粒子状物質検出センサ素子及びこれを用いた粒子状物検出センサ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2637593B2 (ja) | 1997-08-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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