JPH0321805A - 光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方法 - Google Patents
光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方法Info
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- JPH0321805A JPH0321805A JP15727289A JP15727289A JPH0321805A JP H0321805 A JPH0321805 A JP H0321805A JP 15727289 A JP15727289 A JP 15727289A JP 15727289 A JP15727289 A JP 15727289A JP H0321805 A JPH0321805 A JP H0321805A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利川分野]
この発明は、光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方法
に関し、詳しくは光ディスクの原盤より転写されたレプ
リカを対象とし、またこの発明における凹部は光ディス
クに設定または穿孔されたグルーブまたはピットを,a
味するものとし、その凹部の深さを光ディスク検査装置
により測定された干渉波のデータにより求めるものであ
る。
に関し、詳しくは光ディスクの原盤より転写されたレプ
リカを対象とし、またこの発明における凹部は光ディス
クに設定または穿孔されたグルーブまたはピットを,a
味するものとし、その凹部の深さを光ディスク検査装置
により測定された干渉波のデータにより求めるものであ
る。
[従来の技術コ
最近開允が進展しいる光ディスクには谷種の形式がある
が、いずれも極めて微小なピ.ソトにより情報データが
高密度で記録されるものである。その製造過程を述べる
と、まず制御情報に対するグルーブと、記録データに対
するピ・ントを穿孔した原盤が製作され、スタンパと称
される過程を経て、プラスチックベースに転写されてレ
プリカが複製される。
が、いずれも極めて微小なピ.ソトにより情報データが
高密度で記録されるものである。その製造過程を述べる
と、まず制御情報に対するグルーブと、記録データに対
するピ・ントを穿孔した原盤が製作され、スタンパと称
される過程を経て、プラスチックベースに転写されてレ
プリカが複製される。
第4図(a),(b)および(C)により、光ディスク
のグルーブとピットの概念、およびそれらの検出方法を
説明する。図(a)において、光ディスク1には読み出
しヘッドの拉置制御のために細かいピッチで同心円のグ
ルーブgが刻まれ、これに沿ってデータを示すピットp
が穿孔される。IXI(b)はグルーブgとピットpの
断面を示すもので、(イ)の場合はピットpはグルーブ
gのム7置に穿孔され、《ロ)の場合はグルーブgの間
に穿孔される。いずれの場合も、グルーブgに比べてピ
ノトpは2倍の深さである。なお形式によってはグルー
ブなしでピットのみが穿孔される場合もある。後記する
ように、ピットpの読み出しは反射したレーザの1渉現
象を利用して行われ、ピッl−pの深さはレーザの波長
λの4 n分の1が適tである。ここでnはディスクl
のk1{折率である。原盤、スタンパまたはレプリカの
ピットに欠陥があるときは読み出されたデータにエラー
が生ずるので光ディスク検査装置により検査される。原
盤、スタンパは金属製であるので表面側に対して、また
レプリカの場合は透明なプラスチックベース側よりレー
ザスポットを投射して検査が行われる。
のグルーブとピットの概念、およびそれらの検出方法を
説明する。図(a)において、光ディスク1には読み出
しヘッドの拉置制御のために細かいピッチで同心円のグ
ルーブgが刻まれ、これに沿ってデータを示すピットp
が穿孔される。IXI(b)はグルーブgとピットpの
断面を示すもので、(イ)の場合はピットpはグルーブ
gのム7置に穿孔され、《ロ)の場合はグルーブgの間
に穿孔される。いずれの場合も、グルーブgに比べてピ
ノトpは2倍の深さである。なお形式によってはグルー
ブなしでピットのみが穿孔される場合もある。後記する
ように、ピットpの読み出しは反射したレーザの1渉現
象を利用して行われ、ピッl−pの深さはレーザの波長
λの4 n分の1が適tである。ここでnはディスクl
のk1{折率である。原盤、スタンパまたはレプリカの
ピットに欠陥があるときは読み出されたデータにエラー
が生ずるので光ディスク検査装置により検査される。原
盤、スタンパは金属製であるので表面側に対して、また
レプリカの場合は透明なプラスチックベース側よりレー
ザスポットを投射して検査が行われる。
第4図(c)は、光ディスク検合装置における、レプリ
カに対するピットの検出方法を説明するもので、対物レ
ンズ2によりレーザビームLをピノトの大きさに見合っ
た直径のスポットに集東し、プラスチックベース1′を
通してピノトpを含む近傍に照射する。ピットの深さを
dとしベース1′の届折率をnとするとき、ピントpの
反射光とピット以外の面よりの反射光には光路差2 n
dがあり、両反射光は干渉する。深さdが前記したよ
うに波長λの4n分の1であるときは、両反射光の位相
差がπとなって′F渉波は消滅する。−1渉彼を対物レ
ンズ2により受光し、受光隨の変化によりピットpが検
出される。また、グルーブgはその深さがdの2分の1
であるが、必要な制御情報は読み出しnJ能である。
カに対するピットの検出方法を説明するもので、対物レ
ンズ2によりレーザビームLをピノトの大きさに見合っ
た直径のスポットに集東し、プラスチックベース1′を
通してピノトpを含む近傍に照射する。ピットの深さを
dとしベース1′の届折率をnとするとき、ピントpの
反射光とピット以外の面よりの反射光には光路差2 n
dがあり、両反射光は干渉する。深さdが前記したよ
うに波長λの4n分の1であるときは、両反射光の位相
差がπとなって′F渉波は消滅する。−1渉彼を対物レ
ンズ2により受光し、受光隨の変化によりピットpが検
出される。また、グルーブgはその深さがdの2分の1
であるが、必要な制御情報は読み出しnJ能である。
[解決しようとする課題1
上記により判明するように、グルーブおよびピットの深
さはそれらの検出に対して[Eな役割を持つので、原盤
の段階で検査が行われている。その方法は顕微鏡により
観察するもので、高精度ではあるが検査時間が長くかか
り、レプリカに適用するには不能率である。しかし、レ
プリカに対して凹部の深さを測定し、もし不適正であれ
ばこのデータを前の−[程にフィードバックして作業な
どを改善することができるので有用である。一方、原盤
、スタンパまたはレプリカに対して光ディスク検査装置
により行われる検合においては、lFI1部に関しては
、第5図に示すように、゛ト行した多数のグルーブgに
対して直径の大きいレーザスボノトSを賄射し、グルー
ブ群が構成する同折格rによる回折光により、いわばマ
クロにグルーブの欠陥を検査する方法が行われているが
、個々のグルーブおよびピットの深さに対する検査は行
われていない。これに対して検査装置にはグルーブおよ
びピットに対する前記の検出機能があるので、これを利
用して深さ測定ができるならば、顕微鏡による方法より
効率の高い測定が可能となりf+’効である。しかしな
がら従来においては、このような検出機能により深さを
測定する原pllないしは方法は知られていない。
さはそれらの検出に対して[Eな役割を持つので、原盤
の段階で検査が行われている。その方法は顕微鏡により
観察するもので、高精度ではあるが検査時間が長くかか
り、レプリカに適用するには不能率である。しかし、レ
プリカに対して凹部の深さを測定し、もし不適正であれ
ばこのデータを前の−[程にフィードバックして作業な
どを改善することができるので有用である。一方、原盤
、スタンパまたはレプリカに対して光ディスク検査装置
により行われる検合においては、lFI1部に関しては
、第5図に示すように、゛ト行した多数のグルーブgに
対して直径の大きいレーザスボノトSを賄射し、グルー
ブ群が構成する同折格rによる回折光により、いわばマ
クロにグルーブの欠陥を検査する方法が行われているが
、個々のグルーブおよびピットの深さに対する検査は行
われていない。これに対して検査装置にはグルーブおよ
びピットに対する前記の検出機能があるので、これを利
用して深さ測定ができるならば、顕微鏡による方法より
効率の高い測定が可能となりf+’効である。しかしな
がら従来においては、このような検出機能により深さを
測定する原pllないしは方法は知られていない。
この発明は以−Lに鑑みてなされたもので、光ディスク
レプリカを対象とし、光ディスク検査装置により検出さ
れたグルーブまたはピントの検出イ警号より深さを測定
する方法を提供することを1−1的とするものである。
レプリカを対象とし、光ディスク検査装置により検出さ
れたグルーブまたはピントの検出イ警号より深さを測定
する方法を提供することを1−1的とするものである。
[課題を解決するためのP段]
この発明は、光ディスクに対してレーザスポットを投射
し、光ディスクに設定されたグルーブと、グルーブに沿
って穿孔されたテストデータに対するピットを請み出し
て11己録性能を検査する光ディスク検査装置における
、光ディスクレプリカの凹部(グルーブまたはピント)
の深さ測定方法である。
し、光ディスクに設定されたグルーブと、グルーブに沿
って穿孔されたテストデータに対するピットを請み出し
て11己録性能を検査する光ディスク検査装置における
、光ディスクレプリカの凹部(グルーブまたはピント)
の深さ測定方法である。
光ディスクの原盤の凹部を透明なプラスチックベースの
表面に転写した被検査のレプリカに対して、レーザスポ
ットをプラスチックベース側、および反対の空気側より
それぞれ投射する。凹部のH作しない箇所におけるそれ
ぞれの反射光の強度II ( 0),I2 ( 0)
、および凹部を含む近傍における凹部の深さdによる光
路差により生ずるそれぞれの干渉波の強度1i ( d
). I2 (d)を測定し、測定された強度デー
タより、次式=Mt = [ II (0)−I1 (
d) ] / If (0)・・・(1)M2 =
[ I2 (0)−I2 (d) コ /12
(0) ・・・(2)RIM=M2/Mt
・・・(3)により、各干ル波に対する
変調度Ml + M2お上び両変調波の比数Rmを求め
る。これに対して、光ディスクの凹部の深さdを変数と
する変調度の比数Rmの理論曲線を参照して、被測定レ
プリカの凹部の深さを求めるものである。
表面に転写した被検査のレプリカに対して、レーザスポ
ットをプラスチックベース側、および反対の空気側より
それぞれ投射する。凹部のH作しない箇所におけるそれ
ぞれの反射光の強度II ( 0),I2 ( 0)
、および凹部を含む近傍における凹部の深さdによる光
路差により生ずるそれぞれの干渉波の強度1i ( d
). I2 (d)を測定し、測定された強度デー
タより、次式=Mt = [ II (0)−I1 (
d) ] / If (0)・・・(1)M2 =
[ I2 (0)−I2 (d) コ /12
(0) ・・・(2)RIM=M2/Mt
・・・(3)により、各干ル波に対する
変調度Ml + M2お上び両変調波の比数Rmを求め
る。これに対して、光ディスクの凹部の深さdを変数と
する変調度の比数Rmの理論曲線を参照して、被測定レ
プリカの凹部の深さを求めるものである。
上記における空気側よりのレーザスポットの投射におい
て、レーザスポットを投受光する対物レンズとレプリカ
の被投射而との間に、上記のプラスチックベースと同等
の屈折率および厚さをイ『する透明板を押入する。
て、レーザスポットを投受光する対物レンズとレプリカ
の被投射而との間に、上記のプラスチックベースと同等
の屈折率および厚さをイ『する透明板を押入する。
[作用]
第1図および第2図(a),(b)を併用して、」二記
のレプリカのグルーブまたはピットの深さの潤定原理を
説明する。
のレプリカのグルーブまたはピットの深さの潤定原理を
説明する。
一般に、干渉性のある同一波長λの2つのレーザを次式
: A=ao exp(jωt) ={4)B
=b(1 exp(j(IJt+φ) −(5
)で表すと、A.Bを合成してえられる干渉波の強度■
は、 I=a0 2+b0 2+2aobO cosφ −(
6)?なる。φは2つのレーザの位相差で、これがOま
たは2mπ(m:整数)のとき、■は最大値I wax
となる。
: A=ao exp(jωt) ={4)B
=b(1 exp(j(IJt+φ) −(5
)で表すと、A.Bを合成してえられる干渉波の強度■
は、 I=a0 2+b0 2+2aobO cosφ −(
6)?なる。φは2つのレーザの位相差で、これがOま
たは2mπ(m:整数)のとき、■は最大値I wax
となる。
Imax = (ao +bo ) 2−(7)いま、
光ディスクレプリカのプラスチックベース側よりレーザ
を投射した場合について考えると、位相角φlは凹部の
深さをd1プラスチックベースの屈折率をnとして次式
で示される。
光ディスクレプリカのプラスチックベース側よりレーザ
を投射した場合について考えると、位相角φlは凹部の
深さをd1プラスチックベースの屈折率をnとして次式
で示される。
φ1 =2nd●2π/λ −(ill)
またこの場合の−「渉波強度I1 は、II ( d)
=ag 2 +b0 2+2a■ b■ cosφl
・・・(3)で
あり、その最大値は式(7)である。
またこの場合の−「渉波強度I1 は、II ( d)
=ag 2 +b0 2+2a■ b■ cosφl
・・・(3)で
あり、その最大値は式(7)である。
式(9)により、I1は深さdに関してcos inで
変化する。いま、Ilとl waxが測定されるとこれ
らの式よりφlがえられ、従ってCリ部の深さdが求め
られる苦である。しかしながら、このような方法ではφ
lの解として2個または2個以トが成宿してdの植が確
定しない。これを第1図により説明する。
変化する。いま、Ilとl waxが測定されるとこれ
らの式よりφlがえられ、従ってCリ部の深さdが求め
られる苦である。しかしながら、このような方法ではφ
lの解として2個または2個以トが成宿してdの植が確
定しない。これを第1図により説明する。
第1図の聞線は式(9)によるもので、いまI!の測定
値をII’すると、これに対応する曲線の点はrとSの
2点であり、従って位相角はφrまたはφSとなり、式
(8)による深さはdrとdsのいずれか確定しない。
値をII’すると、これに対応する曲線の点はrとSの
2点であり、従って位相角はφrまたはφSとなり、式
(8)による深さはdrとdsのいずれか確定しない。
以ヒに対してこの発明においては、さらにレプリカの空
気に接する側よりレーザを投射して、干渉波の強度I2
とその最大値i2maxを求める。
気に接する側よりレーザを投射して、干渉波の強度I2
とその最大値i2maxを求める。
ただし、この場合は屈折率nを1とし、位相角φ2は次
式: φ2=2d●2π/λ ・・・(II)
により計算する。なお、以ドにおいては、Iはdを変数
とするのでI (d)で表し、Imaxはdが0とき生
ずるのでI(0)と記す。
式: φ2=2d●2π/λ ・・・(II)
により計算する。なお、以ドにおいては、Iはdを変数
とするのでI (d)で表し、Imaxはdが0とき生
ずるのでI(0)と記す。
次に、I (d)とI (0)を用いて次式によりF渉
波の変調度Mt + M2と、それらの比数Rmを求め
る。
波の変調度Mt + M2と、それらの比数Rmを求め
る。
Ml= [ It (0)−It (d) ] / I
t (0)・・・0)M2 = [ I2 (0)−1
2 (d) ] / I2 (0)・・・(2)R+s
: M2 / Ml ・”(
3)以.ヒに対して、第2図(a)は横軸をλ/4nを
単位とした深さdとして、上記の各式により計算したM
1、M2の理論曲線を示し、図(b)にRmの即論曲線
を示す。これに対して、上記によりレプリカの両側より
凹部を含む近傍と、凹部以外の而におけるそれぞれの干
渉波または反射光の強度I l(d), I t (0
)およびI 2 (d). I 2 (0)の値を測定
して、式0)〜(3)により変調度の比数Rmを計算す
る。図(b)に示すように、この場合は比数R+aと深
さdが1対1に対応しているので、dの値は−義的に定
まる。なお、図(a)には基明化された干渉波強度、I
t / II (0),12 / I2 (0)を、ま
た図(b)には強度の比数I1/12をRlで参考に記
載したが、Rlに対してdは、d=1の付近で2値をと
るので前記と同様に確定せず、利用することはできない
。
t (0)・・・0)M2 = [ I2 (0)−1
2 (d) ] / I2 (0)・・・(2)R+s
: M2 / Ml ・”(
3)以.ヒに対して、第2図(a)は横軸をλ/4nを
単位とした深さdとして、上記の各式により計算したM
1、M2の理論曲線を示し、図(b)にRmの即論曲線
を示す。これに対して、上記によりレプリカの両側より
凹部を含む近傍と、凹部以外の而におけるそれぞれの干
渉波または反射光の強度I l(d), I t (0
)およびI 2 (d). I 2 (0)の値を測定
して、式0)〜(3)により変調度の比数Rmを計算す
る。図(b)に示すように、この場合は比数R+aと深
さdが1対1に対応しているので、dの値は−義的に定
まる。なお、図(a)には基明化された干渉波強度、I
t / II (0),12 / I2 (0)を、ま
た図(b)には強度の比数I1/12をRlで参考に記
載したが、Rlに対してdは、d=1の付近で2値をと
るので前記と同様に確定せず、利用することはできない
。
以Lにおいては深さdを一般化しているので、ピットお
よびグルーブのいずれに対しても適用できるものである
。
よびグルーブのいずれに対しても適用できるものである
。
第31’4(a).(b),(c)および(d)により
、上記の測定における窄気側よりレーザスポットを投射
する場合に、対物レンズと被投射面との間に神入される
透明板の作用を説明する。図(a)は、レプリカに対し
てプラスチックベース側より投射する場合を示し、対物
レンズ2により集束されたレーザは、プラスチックベー
ス1′により屈折するので、これがない場合に比較して
焦点が移動して収差を生じ、焦点がボケる可能外がある
。対物レンズ2はこれを考慮して精度のよいスポットを
生ずるように設計されている。一方、空気側から同じ対
物レンズ2により投射するときは、プラスチ、ックベー
ス1′がないので、図(b)に示すように、これと同一
の屈折率nと厚さDを有する透明板3を、対物レンズ2
とプラスチックベースl′の間に挿入して同等のスポッ
トに集束させる。ただし、透明板3はレプリカの而に接
触しないので、深さdによる光路差は空気側に対しては
n=1として2dとなる。図(C)は透明板3の作用を
さらに補足説明するもので、入射角0で透明板3に入射
した光は屈折するが元と平行に進み、焦点而Fにおいて
外方に移動する。移動酸δSは入射角θが大きいほど、
また板厚Dが大きいほど太きい。一方、図(d)におい
て通常の凸レンズでは球面収差があり、入射角θ′が大
きいほど焦点而Fにおける移動]辻δS′が大きい。た
だし、移動方向は透明板のδSと反対であるので、透明
板を挿入することにより全く完全ではないが、収X5が
ある程度消表される。以−Lにより、透明板3により同
等のスポットが形成されるものである。
、上記の測定における窄気側よりレーザスポットを投射
する場合に、対物レンズと被投射面との間に神入される
透明板の作用を説明する。図(a)は、レプリカに対し
てプラスチックベース側より投射する場合を示し、対物
レンズ2により集束されたレーザは、プラスチックベー
ス1′により屈折するので、これがない場合に比較して
焦点が移動して収差を生じ、焦点がボケる可能外がある
。対物レンズ2はこれを考慮して精度のよいスポットを
生ずるように設計されている。一方、空気側から同じ対
物レンズ2により投射するときは、プラスチ、ックベー
ス1′がないので、図(b)に示すように、これと同一
の屈折率nと厚さDを有する透明板3を、対物レンズ2
とプラスチックベースl′の間に挿入して同等のスポッ
トに集束させる。ただし、透明板3はレプリカの而に接
触しないので、深さdによる光路差は空気側に対しては
n=1として2dとなる。図(C)は透明板3の作用を
さらに補足説明するもので、入射角0で透明板3に入射
した光は屈折するが元と平行に進み、焦点而Fにおいて
外方に移動する。移動酸δSは入射角θが大きいほど、
また板厚Dが大きいほど太きい。一方、図(d)におい
て通常の凸レンズでは球面収差があり、入射角θ′が大
きいほど焦点而Fにおける移動]辻δS′が大きい。た
だし、移動方向は透明板のδSと反対であるので、透明
板を挿入することにより全く完全ではないが、収X5が
ある程度消表される。以−Lにより、透明板3により同
等のスポットが形成されるものである。
[実施例コ
この発明による光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方
法の実施例においては、光ディスク検査装置(図示省略
)においてレプリカを適当な位置に停1ヒし、両面に対
してレーザを投射して凹部を含む近傍におけるそれぞれ
の干渉波の強度h,I2と、凹部の存イ[しない箇所に
おけるII(0),12(0)とをそれぞれ測定する。
法の実施例においては、光ディスク検査装置(図示省略
)においてレプリカを適当な位置に停1ヒし、両面に対
してレーザを投射して凹部を含む近傍におけるそれぞれ
の干渉波の強度h,I2と、凹部の存イ[しない箇所に
おけるII(0),12(0)とをそれぞれ測定する。
マイクロプロセッサなどにより、前記の式(1) ,(
2) および(3)によりそれぞれに対する変調度M
l+ M2とその比数R+sを計算し、前記した第2図
(b)の押論曲線Rmを参照して計算値に対する深さd
を求める。
2) および(3)によりそれぞれに対する変調度M
l+ M2とその比数R+sを計算し、前記した第2図
(b)の押論曲線Rmを参照して計算値に対する深さd
を求める。
−なお、光ディスク検査装置の対物レンズ2と被投射而
との間に、適当な支持具により透明板3を着脱可能とし
て取り付け、空気側の測定の場合に透明板3を光路に挿
入するものである。
との間に、適当な支持具により透明板3を着脱可能とし
て取り付け、空気側の測定の場合に透明板3を光路に挿
入するものである。
[発明の効果]
以ヒの説明により明らかなように、この発明による光デ
ィスクレプリカの凹部の深さ測定方法によれば、レプリ
カのグルーブまたはピットの凹部の深さは、光ディスク
装置においてレプリカに対して両側からレーザを投射し
てそれぞれの干渉波強度が測定され、測定データよりそ
れぞれの変調度Ml ,M2と両変調度の比数RII1
が計算され、理論{11I線を参F.({ Lて計算さ
れた比数Rmに対するI’l1部の深さdが一義的にえ
られるもので、従来の顕微鏡による方法に比較して尾速
、容易に測定され、深さデータをレプリカの複製[楳な
どにフィードバックして作業改身に資することができる
効果には大きいものがある。
ィスクレプリカの凹部の深さ測定方法によれば、レプリ
カのグルーブまたはピットの凹部の深さは、光ディスク
装置においてレプリカに対して両側からレーザを投射し
てそれぞれの干渉波強度が測定され、測定データよりそ
れぞれの変調度Ml ,M2と両変調度の比数RII1
が計算され、理論{11I線を参F.({ Lて計算さ
れた比数Rmに対するI’l1部の深さdが一義的にえ
られるもので、従来の顕微鏡による方法に比較して尾速
、容易に測定され、深さデータをレプリカの複製[楳な
どにフィードバックして作業改身に資することができる
効果には大きいものがある。
第1図は、光ディスクレプリカの凹部の深さを測定する
1万法とその欠点の説明図、第2図l(a)および(b
)はこの発明による光ディスクレプリカの凹部の深さ測
定方法における干渉波に対する変調度Ml+ M2のE
II!,論IIh線および変調度の比数Rmの理論曲線
図、第3図(a).(b).(c)および(d)は、こ
の允明による光ディスクレプリカの1!q部の深さ測定
方法における透明板の作用の説明図、第4図(a),(
b)および(c)は、光ディスクのグルーブとピット、
およびそれらの検出方法の説明図、力5図は光ディスク
検合装置によるグルーブ欠陥の検査方法の説明図である
。 1・・・光ディスクまたはレプリカ、 1′・・・プラスチックベース、 2・・・対物レンズ、 3・・・透明板、g・・・
グルーブ、 p・・・ビノト、L・・・レーザ
、 S・・・レーザスポ,ト、I,Il,I
2・・・1一渉波の強度、d・・・凹部の深さ、
φ・・・ム7相角、M・・・変調度、 Rn
+・・・変調度の比数、D・・・プラスチンクベースと
透明板のrtl、F・・・焦点而。
1万法とその欠点の説明図、第2図l(a)および(b
)はこの発明による光ディスクレプリカの凹部の深さ測
定方法における干渉波に対する変調度Ml+ M2のE
II!,論IIh線および変調度の比数Rmの理論曲線
図、第3図(a).(b).(c)および(d)は、こ
の允明による光ディスクレプリカの1!q部の深さ測定
方法における透明板の作用の説明図、第4図(a),(
b)および(c)は、光ディスクのグルーブとピット、
およびそれらの検出方法の説明図、力5図は光ディスク
検合装置によるグルーブ欠陥の検査方法の説明図である
。 1・・・光ディスクまたはレプリカ、 1′・・・プラスチックベース、 2・・・対物レンズ、 3・・・透明板、g・・・
グルーブ、 p・・・ビノト、L・・・レーザ
、 S・・・レーザスポ,ト、I,Il,I
2・・・1一渉波の強度、d・・・凹部の深さ、
φ・・・ム7相角、M・・・変調度、 Rn
+・・・変調度の比数、D・・・プラスチンクベースと
透明板のrtl、F・・・焦点而。
Claims (2)
- (1)光ディスクに対してレーザスポットを投射し、該
光ディスクに設定されたグルーブと、該グルーブに沿っ
て穿孔されたテストデータに対するピットを読み出して
記録性能を検査する光ディスク検査装置において、 上記光ディスクの原盤の凹部を透明なプラスチックベー
スの表面に転写した被検査のレプリカに対して、上記レ
ーザスポットを上記プラスチックベース側、および反対
の空気側よりそれぞれ投射し、上記凹部の存在しない箇
所におけるそれぞれの反射光の強度I_1(0)、I_
2(0)、および上記凹部を含む近傍における該凹部の
深さdによる光路差により生ずるそれぞれの干渉波の強
度I_1(d)、I_2(d)を測定し、該測定された
強度データより、次式: M_1=[I_1(0)−I_1(d)]/I_1(0
)・・・(1)M_2=[I_2(0)−I_2(d)
]/I_2(0)・・・(2)R_m=M_2/M_1
・・・(3) により、各上記干渉波に対する変調度M_1、M_2、
および両変調度の比数R_mを求め、上記凹部の深さd
を変数とする上記比数R_mの理論曲線を参照して、被
測定レプリカの凹部の深さdを求めることを特徴とする
、光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方法。 - (2)上記における空気側よりのレーザスポットの投射
において、該レーザスポットを投受光する対物レンズと
上記レプリカの被投射面との間に、上記プラスチックベ
ースと同等の屈折率および厚さを有する透明板を挿入す
る、請求項1記載の光ディスクレプリカの凹部の深さ測
定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15727289A JPH0321805A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15727289A JPH0321805A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0321805A true JPH0321805A (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=15646030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15727289A Pending JPH0321805A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光ディスクレプリカの凹部の深さ測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0321805A (ja) |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP15727289A patent/JPH0321805A/ja active Pending
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