JPH0321849A - 半導体湿度センサ - Google Patents

半導体湿度センサ

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JPH0321849A
JPH0321849A JP15738389A JP15738389A JPH0321849A JP H0321849 A JPH0321849 A JP H0321849A JP 15738389 A JP15738389 A JP 15738389A JP 15738389 A JP15738389 A JP 15738389A JP H0321849 A JPH0321849 A JP H0321849A
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diaphragm
humidity
sensing body
side wall
humidity sensing
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JP15738389A
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Yoshio Miyai
宮井 良雄
Sadao Sakamoto
阪本 貞夫
Yasuhiro Takeda
安弘 武田
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Sanyo Electric Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、感湿体の湿度による体積変化を利用した湿度
センサに関する。
(ロ)従来の技術 従来、湿度センサとしては、高分子(以下ポリマーとい
う)やセラミック等の雰囲気湿度により抵抗,容量等の
電気的性質が変わることを利用したものが知られている
。しかし、これらの湿度センサは検出部を常に測定雰囲
気中にさらして使用するため、汚染等により電気的性質
の変化が避けがたく、長期安定性に欠ける。これに対し
、特開昭56−42126号公報に開示された毛髪やナ
イロンのような感湿体を用いた湿度計は、感湿体の伸縮
という機械的な性質を利用するため、上記電気的性質を
利用するものに比べて長期の安定性がある。しかし、こ
れまでこの感湿体の伸縮を容易に電気信号に変換し難く
、湿度センサ化されていなかった。
一方、本発明者らは実願昭60−120665,特願昭
61−245889で示したごとく感湿材の伸縮を半導
体のピエゾ抵抗効果を用いて検出する湿度センサを提案
している。
(ハ)発明が解決しようとする課題 前記感湿材の伸縮を利用する湿度センサは、感湿材が薄
膜化されており湿度による伸縮が面内方向のみであるた
め該感湿膜が被着されているシリコンダイアフラムを大
きく変形させることはできず、ピエゾ抵抗の抵抗変化が
小さく検出される出力電圧が小さいという課題があった
(二)課題を解決するための手段 シリコンベレットをエッチング加工してダイアフラム構
造とし、このダイアフラム部と側壁間に感湿体を被着し
湿度による体積変化でダイアプラムを変形させ、この変
形をダイアフラム上に形戊されたピエゾ抵抗体の抵抗変
化として検出する。
(ホ)作 用 本発明によれば、雰囲気湿度が変化すると感湿体は膨張
,収縮の体積変化を生じる。この時、感温体はダイアフ
ラム側壁にも十分被着されており、ダイアフラムの受感
部はこの側壁を基準に感湿体に引っ張られたり押された
りするので、ダイアフラム面に垂直な応力を大きく受け
ることになり大きな変形を生じる。このダイアフラムの
変形によりビエゾ抵抗領域の抵抗変化も大きくなり大き
な出力変化を得ることができる。
(へ)実施例 第1図は本発明の一実施例の平面図で、第2図は第1図
のa−b部分の断面図である。(1)はシフコン単結晶
からなる半導体ペレット,(2)は半導体ベレット(1
)をエッチング加工して設けたダイアプラム.(3),
(4).(5),(6)はダイアプラム部(2)表面に
形威されたビエゾ抵抗体である。(7)は液状高分子で
本実施例では紫外線硬化樹脂(以下,UVレジンという
)を用いた。このUVレジンをディスベンサー等により
一定量ダイアプラム裏面に滴下すると、表面張力により
第2図のように広がる。UVレジン(7)の硬化は乾燥
状態で行われるが、この硬化の際に(本実施例で用いた
ものは約19%)体積収縮があり、UVレジン(7)は
ダイアフラムの測壁(8)にも被着していることから、
その形状は第3図のようになる。また、雰囲気湿度が高
くなると、UVレジン(7)は吸湿しその体積が膨張す
るので、ダイアフラム(2)は第4図のような形状に変
わる。.この様に雰囲気湿度によりUVレジン(7)の
体積が変わることに対応してダイアフラム(2)の変形
状態が変わり、これに伴う応力変化でビエゾ抵抗(3 
)(4 )(5 )(6)の抵抗値も変化する。
第5図は、本発明者らが実願昭56−42126等で示
した感湿材の薄膜を用いた構造の湿度センサの断面図で
ある。温度変化に応じて感湿膜(7)は伸縮するが、薄
膜であるため面内の2次元的な応力が主となる。この感
湿膜(7)はダイアフラム(2)に被着されているため
、感湿膜(7)の2次元的な応力で結果的にダイアフラ
ムは3次元的に変形するが、その変形量は小さい。これ
に対し本発明では、固定された側壁をベースにダイアプ
ラム受感部に垂直な応力を加えるので、大きなダイアプ
ラムの変形を得ることができる。その応力がダイアフラ
ム(2)に加えられるが、この時の応力は2次元的に加
わるだけで、第3図,第4図に示した様なダイアプラム
変形は伴わない。これに対し本発明では上記のごとくダ
イアフラムの垂直方向(3次元的)な応力が働くのでダ
イアプラムの大きな変形が生じる。
第6図は、ビエゾ抵抗領域(3).(4).(5).(
6)の抵抗変化を電圧変化として検出するためのホイー
トストンブリッジで、定電流源(9)を用いて1mAの
定電流をブリッジに流し、出力電圧Vo u t (1
0)を検出するものである。この電圧VOu−t (1
0)は次式で計算される。
感湿体を被着しない状態においては、4個の抵抗値はほ
ぼ等しいのでVout+’=0となる。表1に本実施例
に基づいて試作したセンサの各ピエゾ抵抗(3).(4
),(5).(6)の低湿30〜40%RH,高温90
〜100%RH雰囲気中での抵抗値と式(1)より計算
されるVoutの値を示した。
以下余白 表 l こf V o u t (10)の値は実際に第5図の
ようにブ}ノジ接続して検出される電圧値ともほぼ等し
いことを確認している。また、ペレ7ト(1)に感湿体
(7)そ被着しない状態でダイアフラム部に圧力を印加
して第3図及び第4図の様なダイアプラムの変形状態を
つくり、その時の各ピエゾ抵抗値の変化全測定すること
で、感湿体(7)の膨張、収縮による体積変化で第3図
、第4図のようにダイアフラムが変形していることを確
認している。
分流式湿度発生装置を用いて本実施例で試作したセンサ
の感湿特性を第7図に示す。
〈ト)発明の効果 本発明によれば、感湿体の膨張、収縮による体積変化と
いう機械的性質を利用するので、電気的性質などに比べ
て測定雰囲気からの汚染等による経時変化が少なく、長
期安定な湿度センサが可能である。
また、ダイアプラム側壁を受感部に感湿体を被着しその
体積変化を利用するのでダイアフラムを大きく変形する
ことができ、出力電圧も大きくとh s ,.,’X比
等も改善させる。
さらに、前述の従来タイプのものに比べて感湿体をシリ
コンベレットに被着する方法が容易であるという製作,
Eの利点もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示すシリコンペレットの平面
図、第2図は第1図におけるa−b断面図、WS3図は
感湿体が収縮したときの断面図、第4図は感湿体が膨潤
した時の断面図、第5図は従来夕・fブの湿度センサー
の断面図、第6図はホf−}ストンブリッジ回路、第7
図は本発明による試作センサの感湿特性図である。 (1)・・・半導体ペレット、(2〉・・・ダイアフラ
ム、(3 )(4 )(5 )(6 )・・・ビエゾ抵
抗体、(7)・・・感湿体第2図 6 7 第3図 第4図 7 4度 (%RH)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シリコンダイアフラムの裏面と側壁の間に被着したポリ
    マ等感湿体の湿度による体積変化で、該ダイアフラムに
    垂直な方向の応力を加えることでダイアフラムを変形さ
    せ、該ダイアフラム表面に設けられているピエゾ抵抗領
    域の抵抗変化を検出することで、雰囲気湿度を検出する
    湿度センサ。
JP15738389A 1989-06-20 1989-06-20 半導体湿度センサ Expired - Fee Related JP2654184B2 (ja)

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JP2654184B2 (ja) 1997-09-17

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