JPH03218822A - 紫外線遮断ガラス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、紫外線遮断ガラスに関するものであり、特に
耐久性に優れ、且つ高い可視光線透過率と高い熱線反射
率を有する紫外線遮断ガラスに関するものである。

［従来の技術］ 紫外線遮断ガラスは、宇宙船用の太陽電池の保護ガラス
として用いられている他、自動車用の合せガラスとして
も用いられている。前者は、紫外線による太陽電池の劣
化、後者は内装材の退色防止、運転者の陽焼け防止など
を目的としている。すなわち可視光線に比べて高いエネ
ルギーを有する紫外線の強い化学作用を防止する狙いで
使われている、 宇宙船用の紫外線遮断ガラスとしては、ガラス自体に酸
化セリウムなどの紫外線を吸収する成分を添加した吸収
タイプのもの、あるいは紫外線に対して透明で且つ屈折
率の異なる２種類の薄膜を交互に積層した反射タイプの
ものかあ？。反射タイプのものに用いられる膜材料には
、低屈折率のもので、ＨｇＦｉなどのフツ化物あるいは
Ｓｔｏｗなどが、高屈折率としてはＺｒＯｇなどが一般
的に使われる。

合せガラスでは、ガラス自体ではな《、中間膜に紫外線
吸収材を添加して、この機能を有している。

［発明の解決しようとする問題点］ 紫外線吸収ガラスは、ガラスにＣｅＯ．，　ＴｉＯ■な
どの希土類や遷移金属酸化物を添加して、これによる紫
外線吸収を利用している。これらの元素は一般にいくつ
かの価数をとりえるためガラス中で特定の価数だけをと
るようにすることはできない。すなわち可視域に着色中
心が生じやすい。また、この価数も、ガラス製造中に酸
化還元雰囲気が変動するため、その比率を一定に制御す
ることも困難である。従って光学性能を一定にコントロ
ールすることが難しい。更にガラス中のこれらの吸収ス
ペクトルはブロードであり、波長による選択性に劣る。

これらのことから、紫外域の吸収の視野が可視域まで伸
び黄色味な帯びやすいなどの問題点がある。

一方、中間膜に紫外線吸収性能を持たせて合せガラスタ
イブの紫外線遮断ガラスでは、この点では有利であるが
、単板で使用したい用途には使えないこと、また、構成
上どうしても厚くなり薄型化が困難であるという問題が
ある。

ガラスに高い屈折率と低い屈折率の紫外線に対して透明
な膜を交互に積層した多層膜構成の紫外線遮断ガラスは
膜構成を適切に選ぶことにより、紫外線遮断領域や反射
率をある程度自由に選択できる利点がある。

この干渉を利用した紫外線遮断ガラスは、通常真空蒸着
法を用いて成膜される。真空蒸着法では、成膜速度が速
いため短時間で成膜できる利点を有するが、蒸発源が点
とみなされる程小さいため均一な膜分布を得るためには
基体を自公転させる必要がある。また基体が大きい場合
は、このようなことは不可能なため蒸着源を複数にして
、且つ膜厚補正板などを設置することが必要となる．更
に成膜速度を一定にするのが一般に困難であり、光学モ
ニターによる制御を併用しなければならず、また良好な
膜質を得るためには通常３００℃以上に基体を加熱しな
ければならない。このため実際上大面積ガラスに適用す
るのは極めて困難である。

一方、スパッタリング法は、ターゲットのコロージョン
領域が広い。この広い領域全面からスバッタされた粒子
が基体に付着するので原理的に真空蒸着法より膜厚の均
一性に優れている。また各粒子の持つエネルギーが真空
蒸着の場合に比べて極めて大きいため、膜の基体への密
着性に優れ、また基体加熱をしな《ても耐久性のある膜
が容易に得られるという特徴を有している。スパッタリ
ング法には高周波放電と直流放電を利用した２種類があ
る．前者は絶縁体ターゲットも使用可能で、成膜できる
材料の選択が広いという利点があるが、マッチング回路
が必要であり、自動車や建築用のような大面積ガラスの
コーティング装置゛としては適さない。

後者はマッチング回路が不要であり、大面積のコーティ
ング装置として数多《用いられているが、導電性のター
ゲットが必要であり成膜できる膜材料に制約がある。干
渉を利用した紫外線遮断ガラスをつくる場合、紫外線領
域で透明で屈折率の高いもの低いものの２種類が必要不
可欠であり、現在のところ低屈折率で安定に直流スパッ
タできる材料は見当たらない。このようなことから大面
積で紫外線遮断性能に優れたものは得られていない。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の問題点を解決すべくなされたものであり
、透明基体上に高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多層積
１してなる紫外線遮断ガラスであって、空気側最外層と
なっている高屈折率膜又は低屈折率膜が、Ｚｒ，　Ｔｉ
，Ｈｆ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｂｉ．Ｚｎ，　Ｉｎのうち少な《
とも１種とＢ，　Ｓｔ，　Ｐのうち少なくとも１種を含
む酸化物を主成分とする非晶質膜であることを特徴とす
る紫外線遮断ガラスを提供するものである。

第１図は、本発明の実施例を示す断面図である。１は透
明基体であり、ガラス、プラスチックなどからなる．基
体は、通常のソーダライムガラスの他、ブルー、ブロン
ズ、グレー、グリーンなどに着色し、可視光線透過率を
落としたガラスでも良い。特に自動車用などに応用する
場合、紫外線領域のエネルギーは、干渉膜でかなり遮断
できるが、可視光線透過率ＴＶや太陽エネルギー透過率
Ｔ７は高めなので、これらの吸収ガラスを用いて熱線遮
断性能の向上を図ることは好ましい。また、同様に紫外
線吸収ガラスを用いてトータルとしての紫外線遮断性能
を向上させることも好ましい。あるいは透明膜２〜７以
外に紫外線、可視光線又は赤外線に対して、吸収性の膜
を基体上、或いは眉間に形成して全体の紫外線、可視光
線又は太陽エネルギー透過率を調整しても良い。２，４
．６は高屈折率膜であり、Ｚｒ，　Ｔｉ，　Ｈｆ，　Ｓ
ｎ，　Ｔａ　　のうち少なくとも１種とＢ，　ＳＬ，　
Ｐのうち少な《とも１種を含む酸化物を主成分とする高
屈折率膜からなるの？好ましいが、高屈折率膜が空気側
最外層でない場合はこの他にＺｒＯ■，　ＹｔＯｓで安
定化したＺ　ｒ　Ｏ　＊　＋ＴｉＯｚ，　ＨｆＯａ，　
ＳｎＯ＊，　Ｔａｓｋｓ，　ＢＬＯｓなどからなってい
ても良く、特に限定されない。高屈折率膜としてＢ，　
Ｓｔ，　Ｐのうち少なくとも１種を含む酸化物を用いる
場合、あまりＢ，　ＳＬ，　Ｐの含有量が多いと屈折率
が低くなりすぎるため好ましくない．通常ＺｒＯａ，Ｔ
ｉＯａ．ＨｆＯ＊，　Ｓｎｏｗ，ＴａｓＯｓ，Ｂｉ＊Ｏ
ｓなどの１種以上からなる酸化物を主成分とする膜にお
いてＺｒ（ｈ．　ＴｉＯａ．　ＨｆＯｚ．　Ｓｎｏｗ，
　Ｔａｘｅｓ，　Ｂｉ２０ｓから選ばれた酸化物の合計
１００部に対してＢａｓｓ，ＳｉＯ■、酸化リン（Ｐｕ
ｐｓ．　ｐｔｏ４，　ＰＪｓ　）から選ばれた酸化物の
合計がモル比でＯから１００部、好まし《はＯ〜７０部
、特にＯ〜５０部の範囲にあるのが良い。

しかしながら、膜の屈折率はＢｔｕｓ，　Ｓｔｙｘ、酸
化リンの含有量が増加するにつれ低下するので、光学的
に必要な屈折率を基にして硼素や珪素、リンの含有量を
選択すれば良い。

高屈折率膜が空気側最外層であり、且つ単板？使用する
場合は、膜の非晶質化に伴う耐擦傷性向上のために少な
くともＢ，　Ｓｔ，　Ｐのうち１種以上の合計は、Ｚｒ
Ｏｉ，　ＴｉＯ＊，　ＨｆＯｚ，　Ｓｎｏｗ，　Ｔａｉ
Ｏｓ＋Ｂｉｓｏｎなどの酸化物を主成分とする膜におい
て、ＺｒＯ＊．　Ｔｉｏｔ，　ＨｆＯ２，　ＳｎＯ■ｌ
Ｔａｉｌｓ，　Ｂｉ２’ｇから選ばれた酸化物の合計１
００部に対してＢａｌｍ，ＳｉＯ■、酸化リン（Ｐ＊Ｏ
ｉ．　Ｐ２ｄ４，　Ｐ２０ｓ　）から選ばれた酸化物の
合計がモル比で５〜１００部、好まし《はｌＯ〜７０部
、特に２０〜５０部含まれているのが良い。またベース
酸化膜としては、上述のＺｒＯ■，　ＴｉＯ■等のうち
、ＺｒＯ■が成膜速度、擦傷性の点で特に好ましく、非
晶質化のための添加物としてはＳＬ，Ｂ、特にＳｉが耐
久性の点で良い。

しかしながら、膜の屈折率はＢ２０．，　ＳｉＯ■の含
有量が増加するにつれ低下するので、光学的に必要な屈
折率を基にして硼素や珪素の含有量を選択すれば良い。

高屈折率膜の屈折率としては２．０以上がよい。

第１図の３．５．７は、低屈折率膜であり、特に材料は
限定されないが、特に空気側最外層？については、Ｚｒ
，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｂｉのうち少なくとも１種
とＢ，　Ｓｉ，　Ｐのうち少な《とも１種を含む低屈折
率酸化膜よりなるのが好ましい。Ｂ，Ｂｉ，Ｐの含有量
はあまり少なすぎると低屈折率酸化膜にならず、また、
逆に多すぎると反応性直流スパッタリングが困難になり
、且つ膜自体の化学的耐久性も低下するため好ましくな
い。このような理由で、通常ＺｒＯｉ．　ｙ！ｏｌで安
定化したＺｒＯ＊，　ＴｔＯ＊，　ＨｆＯｚ．　ＳｎＯ
ａ，　Ｔａｘｅｓ，　ＢＬＯｓ＋等のうち１種以上の酸
化物を含む膜において、ＺｒＯｔ＋Ｔｉｌｔ，　ＨｆＯ
ｘ，　Ｓｎｏｗ，　Ｔａｇ’ｓ，　Ｂｉｔ’ｓから選ば
れた酸化物の合計１００部に対してＢｇＯｘ，　Ｓｉｎ
ｓ、酸化リン（ＰＪｓ．　ＰＪ４，　Ｐ２０１１　）か
ら選ばれた酸化物の合計がモル比で１００部から１９０
０部、好ましくは２００部から１９００部、特に３００
部から１９００部が良い。このような組成であれば、Ｂ
，　ＳＬ等のガラス構成元素が十分含まれているために
膜は非晶質になっているため耐擦傷性に優れ、空気側最
外層としても十分な耐久性を有している。耐久性が特に
要求される用途には、ＺｒＯ■，　ＴｉＯ■，？ａｘｅ
ｓのうちから少な《とも１種とＳｉＯ■の組み合せが良
《、この中でもＺｒＯｉとＳｉＯ■の組み合せが特に好
ましい。低屈折率膜の屈折率としては１．７以下、特に
１．６以下が好ましい。

表１は、具体的に本発明の高屈折率膜や低屈折率膜に最
適な各種非晶質酸化物膜の性質を示したものである。そ
れぞれ表に挙げた組成のターゲット゜を用いて、反応性
スパッタリングにより製膜したものである。結晶性は、
薄膜Ｘ線回折により観測した。又、耐擦傷性は、砂消し
ゴムによる擦り試験の結果で、○は傷が殆どつかなかっ
たもの、×は容易に傷が生じたものである。

耐摩耗性は、テーバー試験（摩耗輪ＣＳ−１叶、加重５
００ｇ、１０００回転）の結果、ヘイズ４％以内のもの
をＯ、ヘイズ４％超のものを×とした。耐酸性は０．１
Ｎ　　Ｈ２ＳＯＪ中に２４０時間浸漬した結果、ＴＶ　
　（可視光透過率）、Ｒｖ　（可視光反射率）の浸漬前
に対する変化率が１％以内のものを○、１〜４％のもの
を△、膜が溶解して消滅してしまったものを×とした。

耐アルカリ性は０．ＩＮ　ＮａＯＨ中に２４０時間浸漬
した結果、ＴＶ，Ｒｖの浸漬前に対する変化率が１％以
内のものをＯ、膜が溶解してしまったものを×とした。

煮沸テストは、１気圧下、１００℃の水に２時間浸漬し
た後、ＴＶ，Ｒｖの浸漬前に対する変化率が１％以内で
あるとき○、１％超のとき×とした。

ＺｒＢｘＯｙ膜に関しては、表１から明らかなように、
膜中のＢが少ないと結晶性の膜ができ、Ｂが多いと非晶
質の膜ができる傾向があることがわかる。そして、結晶
性の膜は耐擦傷性及び耐摩耗性が劣るのに対して非晶質
の膜は優れていることがわかる。これは非晶質の膜は、
表面が平滑である為であると考えられる。従って、Ｚｒ
ＢｘＯｙ膜（膜中のＺｒに対するＢの原子比Ｘが０．　
１０＜　ｘ　）の膜は耐擦傷性、耐摩耗性に優れている
。Ｂ２０３膜は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けて
しまうので、ＺｒＢｘＯｙ膜においてＸ≦３程度が好ま
しい。

？ｒＢウＯｙ膜中のＺｒに対するＯ（酸素）の原子比は
特に限定されないが、多すぎると膜構造が粗になりボソ
ボソの膜になってしまうこと、又、あまり少ないと膜が
金属的になり透過率が低下したり膜の耐擦傷性が低下す
る傾向があることなどの理由によりＺｒＯ■とＢ２０３
の複合系となる量程度であることが好ましい。即ち、複
合酸化物をＺｒＬ＋　Ｘ　ＢＯ＋．　ｓと表すと、Ｂが
Ｚｒに対して原子比でＸ含まれる時に、ｙ＝２＋１．５
ｘ程度であることが好ましい。

又、表１より、ＺｒＢウ０，膜中のＢの量が増えるにつ
れ、膜の屈折率が低下する傾向があることがわかる。膜
の組成と屈折率ｎとの関係を第２図（ａ）に示す。膜中
のＢを増やすことにより、屈折率ｎは２，０ぐらいから
１．５程度まで低下する。

従って０．１０＜ｘ≦３．２＜ｙ≦６．５のＺｒＢｘＯ
ｙ膜は良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、かつ、Ｂの
量によって自由に屈折率を選択できる本発明の目的に好
適な非晶質酸化物膜である。

？らに、表１に示したように、膜中のＢの含有量が増え
るにつれ、耐酸性、耐アルカリ性が劣化する傾向がある
。Ｘ≧２．３で耐酸性が悪くなり、ｘ＞４で耐アルカリ
性の低下及び煮沸テストで劣化を示すようになる。従っ
て、空気中で露出した状態で使用される用途には、Ｚｒ
Ｂ．０，（ｘ＜２．３）の非晶質酸化物膜が好ましい。

以上のように、ＺｒＯ■膜に酸化硼素Ｂ２０３を加えた
ことにより、膜が非晶質化し、表面が平滑化し、これが
耐摩耗性及び耐擦傷性の向上に寄与していると考えられ
る。又、Ｂの量で屈折率の調節が可能となり、さらに、
ＺｒＯ■膜と比べて、内部応力が小さいため、接する膜
との密着性の点で有利である。これは特に厚い膜を形成
する場合に有利である。

次に、ＺｒＳｚｉＯｙ膜に関しては、やはりアモルファ
スであり、耐擦傷性、耐摩耗性の高い膜が得られる。

屈折率については、Ｚｒ（ｈ　（　ｎ　＝　２．　１５
）とＳｉ０２（　ｎ　＝　１．４６）の間でその組成割
合によって上下する（第２図（ｂ）　参照）。さらに詳
しくは、ＺｒＳｉＩｌＯｙ膜において、０．０５≦２（
膜中のＺｒに対するＳＬの原子比）≦１９であることが
好ましい。

ｚ＜０．０５だと、膜が非晶質化せず、十分な物理的耐
久性が得られない。又、ｚ＞１９だと、耐アルカリ性が
悪くなる。又、ｙ　（ＺｒＳｉｚＯｙ膜中のＺｒに対す
るＯの原子比）は、ＺｒＢ．Ｏ，膜について述べたのと
同様の理由により、ＳｉがＺｒに対して原子比でＺ含ま
れる時に、ｙ＝２＋２ｚ程度であることが好ましい。

又、Ｚ　ｒ　Ｂ　ＫＳ　１　ｘ　Ｏ　ｙ膜も本発明の目
的に合った膜である。かかる膜中のＺｒに対するＢの原
子比ｘ．Ｓｉの原子比ｚ．Ｏの原子比ｙは、ｘ＋ｚ≧０
．０５であれば膜が非晶質化し、耐擦傷性及び耐摩耗性
の高い膜となるので好ましい。

又、ｘ＋ｚ≦１９であれば耐アルカリ性も良好であるの
で、ＺｒＢｘＳｉｚＯｙ膜においては、０．０５≦ｘ＋
ｚ≦１９であるのが好ましい。ただし、上述のように、
Ｂ２０，は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしま
うため、ＺｒＢｘＳｉｘＯｙ膜中にあま？多《含有され
ない方がよい。具体的には、膜中において、Ｚｒ（ｈ＜
　２５ｍｏ１％かつＳｔｏｗ＜　２５ｍｏ１％で残りが
Ｂ２０，となる程Ｂ２０，が含まれていると化学的耐久
性が不十分となる。即ち、ＺｒＢｘＳｉｘＯｙ膜中のＺ
ｒ：Ｂ：Ｓｔ（原子比）を１：ｘ：ｚとすると、１／　
（１　＋ｘ＋ｚ）＜０．２５かつＺ／（１＋ｘ＋ｚ）　
＜０．２５、即ち、ｘ＋ｚ−３＞０かつｘ−３ｚ＋１＞
Ｏの組成は化学的耐久性が好ましくない。ｙは、ＺｒＢ
ｘＯｙの場合に述べたのと同様の理由によりこの膜をＺ
ｒＯ■＋ＢｘＯａ＋　ＳｉＯ■の複合系と考えて、ｙは
２＋１．５　ｘ＋　２ｚ程度であることが好ましい。よ
ってほぼ２＜ｙ＜４０程度であることが好ましい。Ｂｅ
ｓｔの含有量が多い程ＺｒＢｘＳｉｉＯｙ膜の屈折率は
低下する。

ＺｒＢ＋ＳｔｚＯｙ膜の例を第２図（ｃ）に示す。

Ｚｒ以外の金属、即ち、Ｔｉ，　Ｈｆ，　Ｓｎ，　Ｔａ
，　Ｉｎ　　と、ＢとＳＬのうち少な《とも１種とを含
む酸化物も同様に非晶質となり、十分な耐擦傷性、及び
耐摩耗性が得られる。Ｔ　Ｉ　Ｓ　１　！　Ｏ　ｙ膜を
表１のサンプル１５に一例として示した。

以上、ＺｒＢｘＯｙ系、ＺｒＳｔｘＯｙ系、ＺｒＢｘＳ
ｉｘＯ，系等の膜において、上述の高屈折率膜、低屈折
率膜として必要な屈折率を有するように、ＢやＳｉの添
加量を調節すれば良い。

高屈折率及び低屈折率膜の膜厚は、光学的膜厚で設計波
長λ。に対してん。／４にするのが好ましい。空気側最
外層は、可視光線に対する反射を調節するために変更し
ても良い。

最外層は、高屈折率膜、低屈折率膜どちらでも良いが、
可視光線反射率をより下げたい場合は、低屈折率膜のほ
うが好ましい。従って基体にソーダライムガラスなどの
ように低屈折率膜を用いる場合は、基体側に高屈折率膜
を形成し、その上に低／高／低／高の順に膜を積層し、
最後は低屈折率膜を形成する。

設計波長λ。は必要な紫外線遮断性能に応じて選択すれ
ばよい。

膜の暦数は特に限定されないが、あまり少ないと紫外線
領域での反射が小さくなること、またこの立ち上がりが
なだらかになり、紫外線反射性能が低下するので好まし
《ない。通常は４層以上、好ましくは６層以上が良い。

暦数の多い方は特に限定はなく、必要な性能から決めれ
ば良い。

成膜方法としては、特に限定はない。蒸着法、イオンブ
レーティング法、スパッタリング法いずれでも良いが、
大面積の用途には低屈折率用のターゲットとしてＺｒと
Ｓｉの合金ターゲットを用いた直流反応性スパッタリン
グが好ましい。蒸着法、イオンブレーティングの場合は
、蒸発源として混合酸化物をベレット化したものなどを
用いれば良い。

［作　用］ 高屈折率膜と低屈折率膜の光学的な干渉を用いることで
可視光線には高透過で低反射、紫外線には高い反射特性
を持つ紫外遮断ガラスを可能にする。設計波長ん。を適
当に選択することでこの反射の立ち上がり波長を選べる
。膜の暦数は少ないとこの立ち上がりがなだらかになり
、又、紫外域の反射率自体も小さくなるので紫外線遮蔽
性能は低下する。暦数を増加すると紫外域の反射率も高
くなり反射の立ち上がりも急峻になり、又可視域の反射
も小さくなるので好ましい。

空気側の最外眉は、可視域の反射を下げるために膜厚を
調節したりする。また、この目的のために低屈折率層が
、最外層にくるようにした方が効果的である。

［実施例］ ガラス基板を真空槽にセットし、Ｉ　Ｘ　１０−’Ｔｏ
ｒｒまで排気した。アルゴンと酸素の混合ガスを導入し
て２　Ｘ　１０−”Ｔｏｒｒに調節した後、ジルコニウ
ムと硼素の合金ターゲット（原子比でＺｒ７０％、８　
３０％）をスパッタリングして高屈折率膜としてＺｒＢ
ｘＯｙ膜を４１０人（Ａ層）形成した。

次にジルコニウムと珪素の合金ターゲット（原子比でＺ
ｒｌＯ％，　Ｓｔ　９０％）をスパッタリングして低屈
折率膜としてＺｒＳｉ．０，膜を５６０人（Ｂ層）形成
した。引き続いてＡ層，Ｂ層，Ａ層，Ｂ層と交互に成膜
し、最後にＺｒＳｉｘＯｙ膜を？０００人形成して、計
１２層の紫外線遮断ガラスを作った。

このようにして作った紫外線遮断ガラスの可視光線透過
率Ｔｖ．可視光線反射率Ｒｖ、３３５ｎｍでの反射率は
それぞれ９２％、７％、９４％を示し、可視域での透過
率が高く、且つ紫外線反射性能の優れた紫外線遮断ガラ
スが得られた。

［発明の効果］ 干渉フィルター型多層膜を用いた紫外糸泉遮断ガラスは
、可視域の透過率を下げることなく、紫外域の反射を飛
躍的に高《できる。また層数と設計波長、各膜厚を適切
に選ぶことにより可視の反射を抑えることができる。

低屈折率膜として本発明のＺｒＯ■，　Ｙ．０．で安定
化したＺｒ０２，ＴａａＯｓ，ＳｎＯ．ＢｉｔＯｓなど
の１種とＳＬ，Ｂ，Ｐなどの酸化物の１種からなる複合
酸化膜を用いることで機械的にも化学的にも耐久性のあ
る紫外線反射ガラスが可能となる。

高屈折率膜と・して低屈折率膜と同一元素な含む酸化膜
を用いることで各層間の密着力を高め、また膜の非晶質
化により耐擦傷性の優れたものが得られる。

紫外線遮断膜と熱線反射膜を組み合わせれば熱さだけで
なく、人間の陽焼けや室内の内装材料の紫外線劣化、退
色などを防げる。

大面積ガラスのコーティングなどでは直流スパッタリン
グが適するが、このとき特にＳＬにＺｒ，　Ｔａ，　Ｔ
ｉなどを含む合金ターゲットを用いることでスパッタリ
ングの安定性、成膜速度向上も同時に達成できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の紫外線遮断ガラスの一例の断面図であ
る。 第２図（ａ）はＺｒＢｘＯｙ膜中のＢの含有量と膜の屈
折率ｎとの関係を示した図である。第２図（ｂ）はＺｒ
Ｓｉよ０，膜中のＳｉの含有量とｎとの関係？、第２図
（Ｃ）はＺ　ｒ　Ｂ　■Ｓ　ｉ　ｚ　Ｏ　，膜中のＳｉ
の含゛′１・１　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　・．有量とｎとの関係を示した図、第２図（ｄ
）はＴｉＳｉｚＯｙ膜中のＳｉの含有量とｎとの関係図
である。 １：透明基体 ２，　４，　６，　８，　１０，　１２：高屈折率膜３
，　５，　７，　９，　１１，　１３：低屈折率膜ｌ３
：空気側最外層 ゛−コー−） 第 １ 図 Ｂ２０３ Ｅｒ　ＢｘＯｙ，ＦｊＴ’４”）　　　　　　　　　　
　　　（ｌｒレ７−っＺγＱ２十Ｂｘ０３ 第 ２ 図 （ａ） ？・５゛・Ｏ才月貫中の■，。２，５、。２（＋−Ｈｙ
γ・ノ第２図Ｃｂ） ２ｒ　ｅｌｌＳ；　ｘ　０１　ｐｆ　ノＳｉＯλ 三ｒｏＬ＋　Ｓ；Ｏ２ （モルブ・） 第 ２ 図 （Ｃ） 第 ２ 図 （ｄ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基体上に高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多
   層積層してなる紫外線遮断ガラスで あって、空気側最外層となっている高屈折率膜又は低屈
   折率膜が、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｂｉのうち
   少なくとも１種とＢ、Ｓｉ、Ｐのうち少なくとも１種を
   含む酸化物を主成分とする非晶質膜であることを特徴と
   する紫外線遮断ガラ ス。
2. （２）透明基体上に高屈折率膜と低屈折率膜を交互に多
   層積層してなる紫外線遮断ガラスで あって、空気側最外層が低屈折率膜であってかつ、Ｚｒ
   、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｂｉのうち少なくとも１種
   とＢ、Ｓｉ、Ｐのうち少なくとも１種を含む酸化物を主
   成分とする非晶質膜であることを特徴とする紫外線遮断
   ガラス。