JPH0322275Y2 - - Google Patents
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- JPH0322275Y2 JPH0322275Y2 JP1989054532U JP5453289U JPH0322275Y2 JP H0322275 Y2 JPH0322275 Y2 JP H0322275Y2 JP 1989054532 U JP1989054532 U JP 1989054532U JP 5453289 U JP5453289 U JP 5453289U JP H0322275 Y2 JPH0322275 Y2 JP H0322275Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- current path
- partial
- voltage
- partial current
- current paths
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F1/00—Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
- G05F1/10—Regulating voltage or current
- G05F1/46—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is DC
- G05F1/56—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is DC using semiconductor devices in series with the load as final control devices
- G05F1/561—Voltage to current converters
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Rectifiers (AREA)
- Measurement Of Current Or Voltage (AREA)
- Control Of Voltage And Current In General (AREA)
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、電気めつき浴に用いる整流器の部分
電流路の強さを自動的に制御する装置に関する。
電流路の強さを自動的に制御する装置に関する。
従来の技術
周知のように、１つの電気めつき浴中で複数個
の加工物を同時にめつき処理する場合、フレーム
に懸架されている、それ自体は同種の複数個の加
工物に流れる電流密度は、例えば各部材と陽極と
の間隔が必ずしもすべて等しくないという事実に
より、定められる。さらに比較的大きいフレーム
を使用する場合には、中心部に懸架される加工物
に流れる電流密度はフレームの縁部に懸架される
加工物に流れる電流密度よりも小さいという周知
の事実が加わる。このような現象は、加工物の運
動が必ずしも完全に対象でない場合には一層顕著
になる。
の加工物を同時にめつき処理する場合、フレーム
に懸架されている、それ自体は同種の複数個の加
工物に流れる電流密度は、例えば各部材と陽極と
の間隔が必ずしもすべて等しくないという事実に
より、定められる。さらに比較的大きいフレーム
を使用する場合には、中心部に懸架される加工物
に流れる電流密度はフレームの縁部に懸架される
加工物に流れる電流密度よりも小さいという周知
の事実が加わる。このような現象は、加工物の運
動が必ずしも完全に対象でない場合には一層顕著
になる。
電流密度の差は、フレームにおける加工物の取
付け接触接続または陽極への接触接続が一様に良
好にはないと言う事実によつても生じ得る。場合
により陽極ケージの内部に現れる抵抗も、電流密
度の相違原因となり得る。すべての場合におい
て、なんらかの原因で電気めつき浴内に異なる値
の電流密度が生ずると、異なる析出速度を生ぜさ
せて、それにより個々の加工物へのめつき層の厚
さが異なるようになるか、または板状の加工物の
表側および裏側で層厚が異なつてくる。このこと
は実際の場合に著しい障害となり特に貴金属を被
着する場合には経済上の観点からも極めて不利で
ある。
付け接触接続または陽極への接触接続が一様に良
好にはないと言う事実によつても生じ得る。場合
により陽極ケージの内部に現れる抵抗も、電流密
度の相違原因となり得る。すべての場合におい
て、なんらかの原因で電気めつき浴内に異なる値
の電流密度が生ずると、異なる析出速度を生ぜさ
せて、それにより個々の加工物へのめつき層の厚
さが異なるようになるか、または板状の加工物の
表側および裏側で層厚が異なつてくる。このこと
は実際の場合に著しい障害となり特に貴金属を被
着する場合には経済上の観点からも極めて不利で
ある。
考案が解決すべき問題点
したがつて本考案の課題は電気めつき浴に用い
られる整流器の部分電流路の強さを簡単な方法で
自動的に制御することを可能にし、かつ電流密度
の相異が浴内に生ずるのを十分に阻止する装置を
提供することである。
られる整流器の部分電流路の強さを簡単な方法で
自動的に制御することを可能にし、かつ電流密度
の相異が浴内に生ずるのを十分に阻止する装置を
提供することである。
問題点を解決するための手段
本考案の上の課題は、次のように解決されてい
る。即ち全部の部分電流路に設けられている測定
抵抗を用いて、設けられている複数個の部分電流
路のうちから任意に選択された基準電流路におけ
る電圧をその他の部分電流路の電圧の各々と個別
に比較するようにし、生じ得る電圧差を各導体対
に配属されている差動増幅器により増幅するよう
にし、この増幅された電圧を用いて前記基準電流
路以外の全部の部分電流路に設けられている所属
の制御トランジスタのベース電圧をしたがつてそ
の抵抗値を変化して、前記基準電流路ならびにそ
の他の部分電流路に再び同じ電流が現れるように
構成するために、各々の部分電流路に測定用抵抗
を有し、これらの測定抵抗のうち、設けられてい
る複数個の部分電流路のうちから任意に選択され
る基準電流路中の測定抵抗をその他の各測定用抵
抗と差動増幅器を介して対となるように組合わせ
接続し、該差動増幅器の出力端を前記基準電流路
以外の全部の部分電流路に設けられている制御ト
ランジスタのベースと接続し、さらに前記基準電
流路中に前記制御トランジスタの制御範囲の中心
における抵抗値と同じ抵抗値を有する前置抵抗を
設けたことにより解決されている。
る。即ち全部の部分電流路に設けられている測定
抵抗を用いて、設けられている複数個の部分電流
路のうちから任意に選択された基準電流路におけ
る電圧をその他の部分電流路の電圧の各々と個別
に比較するようにし、生じ得る電圧差を各導体対
に配属されている差動増幅器により増幅するよう
にし、この増幅された電圧を用いて前記基準電流
路以外の全部の部分電流路に設けられている所属
の制御トランジスタのベース電圧をしたがつてそ
の抵抗値を変化して、前記基準電流路ならびにそ
の他の部分電流路に再び同じ電流が現れるように
構成するために、各々の部分電流路に測定用抵抗
を有し、これらの測定抵抗のうち、設けられてい
る複数個の部分電流路のうちから任意に選択され
る基準電流路中の測定抵抗をその他の各測定用抵
抗と差動増幅器を介して対となるように組合わせ
接続し、該差動増幅器の出力端を前記基準電流路
以外の全部の部分電流路に設けられている制御ト
ランジスタのベースと接続し、さらに前記基準電
流路中に前記制御トランジスタの制御範囲の中心
における抵抗値と同じ抵抗値を有する前置抵抗を
設けたことにより解決されている。
本考案により、浴内で個々の電極に到る給電線
路の電流密度を、作業中に不所望の変動が生じる
ように制御することが可能となる。個々の電極の
電流路における抵抗値に変化が生じた場合は、こ
の抵抗値変化は、給電路中に設けられている制御
トランジスタの抵抗値変化により自動的に補償さ
れる。
路の電流密度を、作業中に不所望の変動が生じる
ように制御することが可能となる。個々の電極の
電流路における抵抗値に変化が生じた場合は、こ
の抵抗値変化は、給電路中に設けられている制御
トランジスタの抵抗値変化により自動的に補償さ
れる。
本考案の自動制御は、陰極電流に対しても、陽
極電流に対しても行なうことができる。さらにこ
れら両電流を同時に制御することも可能である。
極電流に対しても行なうことができる。さらにこ
れら両電流を同時に制御することも可能である。
実施例の説明
次に図面を参照して本考案を詳細に説明する。
図面は３つの部分電流路を自動的に制御するた
めの回路の原理を示す。３つより多くの部分電流
路が設けられている場合には、この回路は図面に
示唆されているような仕方でそのまま拡張するこ
とができる。異なる複数個の部分電流路における
電流の強さを測定できるようにするために、各線
路には測定用抵抗が挿入接続されている。これら
の測定用抵抗における電圧が、所属の線路におけ
る電流の強さの尺度となる。
めの回路の原理を示す。３つより多くの部分電流
路が設けられている場合には、この回路は図面に
示唆されているような仕方でそのまま拡張するこ
とができる。異なる複数個の部分電流路における
電流の強さを測定できるようにするために、各線
路には測定用抵抗が挿入接続されている。これら
の測定用抵抗における電圧が、所属の線路におけ
る電流の強さの尺度となる。
設けられている複数個の部分電流路のうちの任
意１つの電流路が、制御の際の基準として用いら
れる基準電流路として選択される（図においては
測定用抵抗MOを有する電流路が選択される。）こ
の基準電流路に現れる電圧がその他の電流路にお
ける電圧と比較される。この電圧比較は差動増幅
器を用いて行なわれる。各差動増幅器の入力側に
基準電流路の測定用抵抗MOは他の部分電流路の
測定用抵抗M1，M2とそれぞれ対になるように接
続されている。各々の導線路対に対して、１つの
差動増幅器が設けられる。
意１つの電流路が、制御の際の基準として用いら
れる基準電流路として選択される（図においては
測定用抵抗MOを有する電流路が選択される。）こ
の基準電流路に現れる電圧がその他の電流路にお
ける電圧と比較される。この電圧比較は差動増幅
器を用いて行なわれる。各差動増幅器の入力側に
基準電流路の測定用抵抗MOは他の部分電流路の
測定用抵抗M1，M2とそれぞれ対になるように接
続されている。各々の導線路対に対して、１つの
差動増幅器が設けられる。
個々の差動増幅器の出力電圧はPNP形の制御
トランジスタＴのベースへ導かれる。これらの制
御トランジスタは、基準電流路以外の全部の部分
電流路に設けられている。基準電流路は、制御ト
ランジスタではなく前置抵抗Ｖを備えている。こ
の前置抵抗は、制御トランジスタがその制御領域
の中心で動作する時に、制御トランジスタと大体
同じ抵抗値を有する。
トランジスタＴのベースへ導かれる。これらの制
御トランジスタは、基準電流路以外の全部の部分
電流路に設けられている。基準電流路は、制御ト
ランジスタではなく前置抵抗Ｖを備えている。こ
の前置抵抗は、制御トランジスタがその制御領域
の中心で動作する時に、制御トランジスタと大体
同じ抵抗値を有する。
制御トランジスタの、その作動点への設定は、
所属の差動増幅器において設定される、トランジ
スタの動作点におけるベース電圧に相応する給電
電圧を用いて行なわれる。
所属の差動増幅器において設定される、トランジ
スタの動作点におけるベース電圧に相応する給電
電圧を用いて行なわれる。
作 用
動作に障害のない場合は、個々の部分電流路に
おける電流の強さは同じ大きさであり、測定抵抗
MO，M1，M2には同じ値の電圧が現れる。した
がつて差動増幅器D1，D2においては電圧差が測
定されず、したがつてその出力電圧は零レベルに
ありトランジスタT1，T2のベース電圧は変化し
ない。
おける電流の強さは同じ大きさであり、測定抵抗
MO，M1，M2には同じ値の電圧が現れる。した
がつて差動増幅器D1，D2においては電圧差が測
定されず、したがつてその出力電圧は零レベルに
ありトランジスタT1，T2のベース電圧は変化し
ない。
何等かの原因で、部分電流路のうちの１つにお
ける電流の強さが変化すると、相応の測定用抵抗
における電圧も変化する。そのため所属の差動増
幅器には電圧差が現れ、この電圧差はこの差動増
幅器により増幅されて、当該の制御トランジスタ
のベースへ伝達される。ベースにおける電圧変化
によりこの制御トランジスタの抵抗値も変化し
て、自動的に電流の強さが再び目標値に達する。
ける電流の強さが変化すると、相応の測定用抵抗
における電圧も変化する。そのため所属の差動増
幅器には電圧差が現れ、この電圧差はこの差動増
幅器により増幅されて、当該の制御トランジスタ
のベースへ伝達される。ベースにおける電圧変化
によりこの制御トランジスタの抵抗値も変化し
て、自動的に電流の強さが再び目標値に達する。
異なる部分電流路に異なる強さの電流を流すこ
とが必要とされる場合は、このことは本発明によ
る装置において、測定用抵抗をポテンシヨメータ
で置き換えることにより達成することができる。
これらの異なる電流の強さの自動制御は上述のよ
うに行なわれる。
とが必要とされる場合は、このことは本発明によ
る装置において、測定用抵抗をポテンシヨメータ
で置き換えることにより達成することができる。
これらの異なる電流の強さの自動制御は上述のよ
うに行なわれる。
動作の説明
本考案による装置の動作を次の実施例により説
明する。
明する。
１つの電気めつき浴で３つの同種の加工物１を
一様に被覆するものとする。加工物の各々に対す
る所要電流は100Aとする。
一様に被覆するものとする。加工物の各々に対す
る所要電流は100Aとする。
電気めつきを行なうために、３つの加工物を絶
縁性フレームに懸架し、そして個々に加工物を細
い線路を有するそれぞれのクリツプ装置により本
発明の装置に接続する。他方、本発明の装置は整
流器のマイナス極に接続する。
縁性フレームに懸架し、そして個々に加工物を細
い線路を有するそれぞれのクリツプ装置により本
発明の装置に接続する。他方、本発明の装置は整
流器のマイナス極に接続する。
整流器は300Aの電流を供給し、この電流は３
つの導体に均等に配分される。そのため各線路に
は必要とされる100Aの電流が通常モードにおい
て供給される。
つの導体に均等に配分される。そのため各線路に
は必要とされる100Aの電流が通常モードにおい
て供給される。
線路の各々には1mΩの測定用抵抗Ｍが接続さ
れているため測定電圧はそれぞれ100mVの値を
有する。
れているため測定電圧はそれぞれ100mVの値を
有する。
制御の際の基準電流路として、電池のプラス極
から測定抵抗MO、前置抵抗Ｖ、加工物を経て電
池のマイナス極へ経過する電流ループが用いられ
る。基準電流路として選択された、測定用抵抗
MOを有する線路には100mΩの前置抵抗が設けら
れている。その目的は、測定用抵抗M1，M2を有
する線路中に設けられている制御トランジスタ
T1，T2が通常の導通接続状態でその動作点にお
いて約100mΩの実効抵抗値になるように調整す
るためである。障害が現れない限り即ち通常モー
ドにおいては、３つの電流路の各々には必要とさ
れる100Aの電流が流れる。そのため３つの測定
用抵抗MO，M1およびM2における測定電圧はそ
れぞれ100mVとなる。測定用抵抗MOとM2の測定
電圧は差動増幅器D1ならびにD2において比較さ
れる。電圧差が存在しないので、これら差動増幅
器の出力電圧は0mVであり、そのため制御トラ
ンジスタT1およびT2のベース電圧に影響を与え
ず、したがつてトランジスタT1，T2の動作点は
変わらない。
から測定抵抗MO、前置抵抗Ｖ、加工物を経て電
池のマイナス極へ経過する電流ループが用いられ
る。基準電流路として選択された、測定用抵抗
MOを有する線路には100mΩの前置抵抗が設けら
れている。その目的は、測定用抵抗M1，M2を有
する線路中に設けられている制御トランジスタ
T1，T2が通常の導通接続状態でその動作点にお
いて約100mΩの実効抵抗値になるように調整す
るためである。障害が現れない限り即ち通常モー
ドにおいては、３つの電流路の各々には必要とさ
れる100Aの電流が流れる。そのため３つの測定
用抵抗MO，M1およびM2における測定電圧はそ
れぞれ100mVとなる。測定用抵抗MOとM2の測定
電圧は差動増幅器D1ならびにD2において比較さ
れる。電圧差が存在しないので、これら差動増幅
器の出力電圧は0mVであり、そのため制御トラ
ンジスタT1およびT2のベース電圧に影響を与え
ず、したがつてトランジスタT1，T2の動作点は
変わらない。
しかしながら何らかの原因で、部分電流路のう
ちの一つにおいて例えば測定用抵抗M2を有する
線路の電流の強さが99Aに変わると、この測定用
抵抗における測定電圧は99mVに低下する。この
測定電圧は差動増幅器D2において、測定用抵抗
MOにおける100mVと比較されて1mVの差電圧を
発生する。この差電圧はこの差動増幅器で増幅さ
れ（例えば50倍に）、そのため差動増幅器D2の出
力電圧は50mVとなる。そのため制御トランジス
タT2のベース電圧も同様に50mVだけ自動的に上
昇し、それによりこのトランジスタの抵抗値が減
少し、電流の強さが直ちに再び100Aの所望値へ
上昇する。
ちの一つにおいて例えば測定用抵抗M2を有する
線路の電流の強さが99Aに変わると、この測定用
抵抗における測定電圧は99mVに低下する。この
測定電圧は差動増幅器D2において、測定用抵抗
MOにおける100mVと比較されて1mVの差電圧を
発生する。この差電圧はこの差動増幅器で増幅さ
れ（例えば50倍に）、そのため差動増幅器D2の出
力電圧は50mVとなる。そのため制御トランジス
タT2のベース電圧も同様に50mVだけ自動的に上
昇し、それによりこのトランジスタの抵抗値が減
少し、電流の強さが直ちに再び100Aの所望値へ
上昇する。
考案の効果
本考案により複数個の加工物に常に一様な大き
さの電流が流れるようになり、そのため製品むら
が回避される。
さの電流が流れるようになり、そのため製品むら
が回避される。
図は本考案による電気めつき浴に供給される部
分電流の強さを自動制御するための回路例を示
す。 MO，M1，M2……測定用抵抗、Ｄ……差動増
幅、Ｖ……前置抵抗、Ｔ……トランジスタ。
分電流の強さを自動制御するための回路例を示
す。 MO，M1，M2……測定用抵抗、Ｄ……差動増
幅、Ｖ……前置抵抗、Ｔ……トランジスタ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 電気めつき浴に用いる整流器の部分電流の強
さを自動的に制御する装置であつて、この場
合、全部の部分電流路に設けられている測定抵
抗を用いて、設けられている複数個の部分電流
路のうちから任意に選択された基準電流路にお
ける電圧をその他の部分電流路の電圧の各々と
個別に比較するようにし、生じ得る電圧差を各
導体対に配属されている差動増幅器により増幅
するようにし、この増幅された電圧を用いて前
記基準電流路以外の全部の部分電流路に設けら
れている所属の制御トランズスタのベース電圧
をしたがつてその抵抗値を変化して、前記基準
電流路ならびにその他の部分電流路に再び同じ
電流が現れるようにするために電気めつき浴に
用いられる整流器の部分電流路の強さを自動的
に制御する装置において、 各々の部分電流路に測定用抵抗Ｍを設け、こ
れらの測定抵抗のうち、設けられている複数個
の部分電流路のうちから任意に選択される基準
電流路中の測定用抵抗をその他の各測定抵抗と
差動増幅器Ｄを介して対となるように組合わせ
接続し、該差動増幅器の出力端を前記基準電流
路以外の全部の部分電流路に設けられている制
御トランジスタＴのベースと接続し、さらに前
記基準電流路中に前記制御トランジスタの制御
範囲の中心における抵抗値と同じ抵抗値を有す
る前置抵抗Ｖを設けて成る、電気めつき浴に用
いる整流器の部分電流路を自動的に制御する装
置。 ２ 測定抵抗としてポテンシヨメータを備えてい
る実用新案登録請求の範囲第１項記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19792951708 DE2951708A1 (de) | 1979-12-19 | 1979-12-19 | Verfahren und vorrichtung zur automatischen regelung von teilstromstaerken eines gleichrichters |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0233267U JPH0233267U (ja) | 1990-03-01 |
| JPH0322275Y2 true JPH0322275Y2 (ja) | 1991-05-15 |
Family
ID=6089256
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17664680A Pending JPS5693900A (en) | 1979-12-19 | 1980-12-16 | Method and apparatus for automatically controlling split current intensity of rectifier for electroplating bath |
| JP1989054532U Expired JPH0322275Y2 (ja) | 1979-12-19 | 1989-05-15 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17664680A Pending JPS5693900A (en) | 1979-12-19 | 1980-12-16 | Method and apparatus for automatically controlling split current intensity of rectifier for electroplating bath |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4461690A (ja) |
| JP (2) | JPS5693900A (ja) |
| CA (1) | CA1164942A (ja) |
| DE (1) | DE2951708A1 (ja) |
| FR (1) | FR2472299A1 (ja) |
| GB (1) | GB2069003B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020032476A1 (ko) * | 2018-08-09 | 2020-02-13 | (주)선우하이테크 | 정전류 제어기능을 갖는 전기 도금 시스템 및 방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE3410875A1 (de) * | 1984-03-22 | 1985-10-03 | Schering AG, Berlin und Bergkamen, 1000 Berlin | Verfahren zur messung der stromdichte in galvanikbaedern |
| US4545876A (en) * | 1984-05-02 | 1985-10-08 | United Technologies Corporation | Method and apparatus for surface treating |
| US4659941A (en) * | 1985-07-19 | 1987-04-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Power sensing device |
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| JP3196719B2 (ja) | 1998-03-31 | 2001-08-06 | 日本電気株式会社 | 汚染防御用隔離ラインを有する半導体製造ライン、ウエハ搬送機構および半導体の製造方法 |
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| FR2472299A1 (fr) | 1981-06-26 |
| JPH0233267U (ja) | 1990-03-01 |
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