JPH03223607A - レーザー干渉測長計 - Google Patents
レーザー干渉測長計Info
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- JPH03223607A JPH03223607A JP2235843A JP23584390A JPH03223607A JP H03223607 A JPH03223607 A JP H03223607A JP 2235843 A JP2235843 A JP 2235843A JP 23584390 A JP23584390 A JP 23584390A JP H03223607 A JPH03223607 A JP H03223607A
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- Japan
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- prism
- corner cube
- light
- cube prism
- laser
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、レーザー干渉測長計、特に外乱の影響を少な
くし、かつ安価で高精度なレーザー干渉測長計に関する
。
くし、かつ安価で高精度なレーザー干渉測長計に関する
。
〈従来の技術〉
従来の干渉測長計は、0.1μm以下の測長分解能を得
るため、光源にガスレーザーや半導体レーザー等を用い
、そのビーム光を参照光と測長光とに分けた後、被測長
物からの測長光の戻り光を再度参照光と一致させ、干渉
縞やビートを観測することによって測長(変位)情報を
得ている。
るため、光源にガスレーザーや半導体レーザー等を用い
、そのビーム光を参照光と測長光とに分けた後、被測長
物からの測長光の戻り光を再度参照光と一致させ、干渉
縞やビートを観測することによって測長(変位)情報を
得ている。
干渉計の構成は、いずれも第17図に示すマイケルソン
型干渉計を基本としている。すなわち、光源20からの
光束はビームスプリッタ21で参照光と測長光とに分け
られ、測長光は被測長物に取付けられた可動鏡22て反
射し、ビームスプリッタ21て参照先の固定鏡23から
の反射光と合成され、干渉縞を生じる。測長情報の検出
方法によって、戻り光により発生した干渉縞の動きをカ
ウントする干渉縞計数方式と、コヒーレントな複数の波
長を用いてビートを打たせ、被測長物の速度によって測
長光の周波数かドツプラーシフトすることを利用し、ビ
ートの周波数変化を検出するヘテロダイン方式とかある
。
型干渉計を基本としている。すなわち、光源20からの
光束はビームスプリッタ21で参照光と測長光とに分け
られ、測長光は被測長物に取付けられた可動鏡22て反
射し、ビームスプリッタ21て参照先の固定鏡23から
の反射光と合成され、干渉縞を生じる。測長情報の検出
方法によって、戻り光により発生した干渉縞の動きをカ
ウントする干渉縞計数方式と、コヒーレントな複数の波
長を用いてビートを打たせ、被測長物の速度によって測
長光の周波数かドツプラーシフトすることを利用し、ビ
ートの周波数変化を検出するヘテロダイン方式とかある
。
前者は、第18図に示す光学配置となっており、M、
J、 Dowhsとに、 W、 Ra1helによる公
知文献PFl’ECl5ION ENGINEERIN
G Vol I No、 1 (1979) 85に検
出信号処理を含めて詳しく記載されている。すなわち、
安定化レーザー2OAからの直線偏光はλ/4移相板2
4を通過して円偏光となり、偏光ビームスプリッタ21
によって参照光と測長光とに分けられる。
J、 Dowhsとに、 W、 Ra1helによる公
知文献PFl’ECl5ION ENGINEERIN
G Vol I No、 1 (1979) 85に検
出信号処理を含めて詳しく記載されている。すなわち、
安定化レーザー2OAからの直線偏光はλ/4移相板2
4を通過して円偏光となり、偏光ビームスプリッタ21
によって参照光と測長光とに分けられる。
測長光は、可動鏡22て反射され偏光ビームスプリッタ
21に戻るが、λ/4移相板25を2度通過することに
より偏光方向が直交するように変換され、偏光ビームス
プリッタ21て反射される。そして、固定鏡23て反射
されλ/4移相板25を2度通過して偏光方向か変換さ
れることにより偏光ビームスプリッタ21を透過した参
照光と合成される。ここでは参照光と測長光は偏光方向
か直交しているので干渉はしないが、ビームスプリッタ
26を介し、偏光子27.29によって共通偏光成分を
抽出することによって干渉縞を発生する。この干渉縞の
動きを検出器28.30で検出するが、可動鏡22の移
動方向を判別するため、偏光子27と29は互いに直交
する偏光を抽出するように配置されている。
21に戻るが、λ/4移相板25を2度通過することに
より偏光方向が直交するように変換され、偏光ビームス
プリッタ21て反射される。そして、固定鏡23て反射
されλ/4移相板25を2度通過して偏光方向か変換さ
れることにより偏光ビームスプリッタ21を透過した参
照光と合成される。ここでは参照光と測長光は偏光方向
か直交しているので干渉はしないが、ビームスプリッタ
26を介し、偏光子27.29によって共通偏光成分を
抽出することによって干渉縞を発生する。この干渉縞の
動きを検出器28.30で検出するが、可動鏡22の移
動方向を判別するため、偏光子27と29は互いに直交
する偏光を抽出するように配置されている。
後者は、第19図に示すような光学配置となっており、
L、 J、 WuerzとR,C,Quene l l
eによる公知文献PRECfSION ENGINEE
RING Vol、5 No、3 (1983) 11
1に詳しい。すなわち、互いに逆方向に回転する周波数
fl、 f2の2つの円偏光を発生する2周波ゼーマン
レーザー20Bからのビームは、λ/4移相板24によ
って互いに直角な偏光面を持つ直線偏光となる。ビーム
スプリッタ34.偏光子31を経て検出器32て周波数
fl、 f2のビート(fl−f2)が検出される。可
動鏡22からの反射光は、ドツプラー効果によって移動
速度に応じた周波数変化Δfを生じており、検出器33
て検出されるビートは(fl−f2±Δf)となり、雨
検出器32.33からのビート周波数を比較減算するこ
とによって物体の移動情報を得ることかできる。尚、偏
光ビームスプリッタ35により、fl光、f2光は別々
に検出器36.37で検出され、レーザー同調回路38
へ入力される。
L、 J、 WuerzとR,C,Quene l l
eによる公知文献PRECfSION ENGINEE
RING Vol、5 No、3 (1983) 11
1に詳しい。すなわち、互いに逆方向に回転する周波数
fl、 f2の2つの円偏光を発生する2周波ゼーマン
レーザー20Bからのビームは、λ/4移相板24によ
って互いに直角な偏光面を持つ直線偏光となる。ビーム
スプリッタ34.偏光子31を経て検出器32て周波数
fl、 f2のビート(fl−f2)が検出される。可
動鏡22からの反射光は、ドツプラー効果によって移動
速度に応じた周波数変化Δfを生じており、検出器33
て検出されるビートは(fl−f2±Δf)となり、雨
検出器32.33からのビート周波数を比較減算するこ
とによって物体の移動情報を得ることかできる。尚、偏
光ビームスプリッタ35により、fl光、f2光は別々
に検出器36.37で検出され、レーザー同調回路38
へ入力される。
いずれの例も、測長分解能は、電気的な処理も含めて、
0.01μmと極めて高く、この分解能を精度良く維持
するために、レーザー光源は、10−’〜10−’程度
の精度で周波数の安定化かなされている。
0.01μmと極めて高く、この分解能を精度良く維持
するために、レーザー光源は、10−’〜10−’程度
の精度で周波数の安定化かなされている。
更に、外乱に対する検出信号の安定化を図るために、干
渉縞計数方式の第18図の例では、検出干渉縞を0度、
90度、 180度と3種類変えた信号を取出し、それ
ぞれ差動出力をとることにより、90度位相の異なる2
つの安定した信号を得る公知例かある。これにより、計
数ビーム光の強度が90%程度外乱で変化しても、正確
な干渉縞の計数か実現されている。
渉縞計数方式の第18図の例では、検出干渉縞を0度、
90度、 180度と3種類変えた信号を取出し、それ
ぞれ差動出力をとることにより、90度位相の異なる2
つの安定した信号を得る公知例かある。これにより、計
数ビーム光の強度が90%程度外乱で変化しても、正確
な干渉縞の計数か実現されている。
また、ヘテロダイン方式の外乱に対する検出信号の安定
化の例として、第20図に示すような差動型の光路を持
った干渉測長計を持つ公知例かある。
化の例として、第20図に示すような差動型の光路を持
った干渉測長計を持つ公知例かある。
第20図において、測長光は、偏光ビームスプリッタ2
1→λ/4移相板25・可動鏡(プリズム)22→偏光
ビームスプリツタ21→プリズム40→偏光ビームスプ
リツタ21→λ/4移相板25・可動鏡22→偏光ビー
ムスプリツタ21→ミラー43→λ/4移相板25・プ
リズム41→ミラー43→偏光ビームスプリツタ21→
プリズム39→偏光ビームスプリツタ21−出射の実線
で示す経路をたどる。
1→λ/4移相板25・可動鏡(プリズム)22→偏光
ビームスプリツタ21→プリズム40→偏光ビームスプ
リツタ21→λ/4移相板25・可動鏡22→偏光ビー
ムスプリツタ21→ミラー43→λ/4移相板25・プ
リズム41→ミラー43→偏光ビームスプリツタ21→
プリズム39→偏光ビームスプリツタ21−出射の実線
で示す経路をたどる。
参照光は、偏光ビームスプリッタ21→プリズム39→
偏光ビームスプリツタ21→ミラー43→λ/4移相板
25・プリズム41→ミラー43→偏光ビームスプリツ
タ21→λ/4移相板25・固定鏡(反射鏡)42→偏
光ビームスプリツタ21→プリズム40→偏光ビームス
プリツタ21→λ/4移相板25・固定鏡42→偏光ビ
ームスプリツタ2I→出射の破線で示す経路をたどる。
偏光ビームスプリツタ21→ミラー43→λ/4移相板
25・プリズム41→ミラー43→偏光ビームスプリツ
タ21→λ/4移相板25・固定鏡(反射鏡)42→偏
光ビームスプリツタ21→プリズム40→偏光ビームス
プリツタ21→λ/4移相板25・固定鏡42→偏光ビ
ームスプリツタ2I→出射の破線で示す経路をたどる。
これは周波数安定化レーザーのビームを参照光と測長光
とに分けて再度一致させる干渉測長計内において、光路
長を参照光と測長光ともに同じにすることにより、温度
変化等の外乱か両方に等しく影響するため、検出信号の
安定化を大幅に向上することができる。
とに分けて再度一致させる干渉測長計内において、光路
長を参照光と測長光ともに同じにすることにより、温度
変化等の外乱か両方に等しく影響するため、検出信号の
安定化を大幅に向上することができる。
しかし、第20図から明らかなように、従来の差動型干
渉測長計は、極めて複雑で大きな構造となっており、測
長プリズム内の光路長も極めて長く、これらは、外乱か
らの安定性を高めるためにはマイナス要因として働く。
渉測長計は、極めて複雑で大きな構造となっており、測
長プリズム内の光路長も極めて長く、これらは、外乱か
らの安定性を高めるためにはマイナス要因として働く。
実際に第20図の例では測長分解能は5nmである。
また、第21図に示すように光学素子を減らし、干渉計
内部の光路長を短くすることによって差動型干渉計の持
つ高安定性を生かしたものもある。
内部の光路長を短くすることによって差動型干渉計の持
つ高安定性を生かしたものもある。
これは第20図のものと同様にヘテロダイン方式であっ
て、2つの互いに直交する直線偏光の周波数(又は波長
)の異なるレーザー光束を偏光シェアリング板50に入
射する。そしてS成分の直線偏光である光束は選択的に
繰り返し反射をし、P成分の光束の光路からシフトした
別の光路をとる。
て、2つの互いに直交する直線偏光の周波数(又は波長
)の異なるレーザー光束を偏光シェアリング板50に入
射する。そしてS成分の直線偏光である光束は選択的に
繰り返し反射をし、P成分の光束の光路からシフトした
別の光路をとる。
公知例では12mm程度のシフトをここで発生させてい
る。
る。
更にS成分の光束はλ/2移相板(λ/2波長板、λ/
2位相板)51を通ることによって偏光状態をP成分に
変換され、結局、両波長の光束共、P成分として偏光ビ
ームスプリッタ52に入射する。
2位相板)51を通ることによって偏光状態をP成分に
変換され、結局、両波長の光束共、P成分として偏光ビ
ームスプリッタ52に入射する。
そして、両波長の光束共、偏光ビームスプリッタ52を
透過して、λ/4移相板(λ/4位相板、λ/4波長板
)53により円偏光され、参照光は固定鏡(参照鏡)5
4によって、また測長光は可動鏡(平面鏡)55によっ
て、それぞれ同一の光路を戻る。
透過して、λ/4移相板(λ/4位相板、λ/4波長板
)53により円偏光され、参照光は固定鏡(参照鏡)5
4によって、また測長光は可動鏡(平面鏡)55によっ
て、それぞれ同一の光路を戻る。
両戻り光束はλ/4移相板53を再度通るため、S成分
の偏光状態に変換され、偏光ビームスプリッタの面52
Aで反射する。更にコーナーキューブプリズム(又はミ
ラー)56によって偏光ビームスプリッタの面52Aに
戻されて反射し、両光束はそれぞれ固定鏡54、可動鏡
55を往復して、λ/4移相板53による変換作用を受
けた後、P成分として偏光ビームスプリッタ52より出
射する。そして、方の波長の光束はλ/2移相板51′
で変換され、偏光シェアリング板50によって同一光
路にシフトされ、検出光学系へ導入される。
の偏光状態に変換され、偏光ビームスプリッタの面52
Aで反射する。更にコーナーキューブプリズム(又はミ
ラー)56によって偏光ビームスプリッタの面52Aに
戻されて反射し、両光束はそれぞれ固定鏡54、可動鏡
55を往復して、λ/4移相板53による変換作用を受
けた後、P成分として偏光ビームスプリッタ52より出
射する。そして、方の波長の光束はλ/2移相板51′
で変換され、偏光シェアリング板50によって同一光
路にシフトされ、検出光学系へ導入される。
第21図の例は第20図の例に比較して光学素子が少な
く、光路も比較的短くできるため、外乱に対する安定性
の向上も容易であり、副長の分解能力は1.25nmと
なっている。
く、光路も比較的短くできるため、外乱に対する安定性
の向上も容易であり、副長の分解能力は1.25nmと
なっている。
〈発明か解決しようとする課題〉
前記の第20図、第21図の従来例共、測長方向と参照
方向とを同一にすることで、差動型の干渉計として、外
乱に対する安定性と測長精度とを高めている。
方向とを同一にすることで、差動型の干渉計として、外
乱に対する安定性と測長精度とを高めている。
しかし、厳密にはどちらも完全な差動型とは言い難い。
それは参照光と測長光とは同一方向ではあるものの、い
ずれの従来例の場合でも、同軸ではなく、数叩程シフト
しているため、一般にコモンバスと呼ばれている入射部
から固定鏡までの部分でさえ、完全な共通光路となって
いないからである。すなわち、温度変化や空気のゆらぎ
のような外乱の影響も、参照光と測長光はこの共通光路
の部分でさえ、比較的差は小さいとはいえ、同一の影響
を受けることにはならないからである。
ずれの従来例の場合でも、同軸ではなく、数叩程シフト
しているため、一般にコモンバスと呼ばれている入射部
から固定鏡までの部分でさえ、完全な共通光路となって
いないからである。すなわち、温度変化や空気のゆらぎ
のような外乱の影響も、参照光と測長光はこの共通光路
の部分でさえ、比較的差は小さいとはいえ、同一の影響
を受けることにはならないからである。
従って、従来例のような差動型の干渉計においても、干
渉計内の光路を短くすることが測長精度を安定・向上さ
せるために重要なポイントである。
渉計内の光路を短くすることが測長精度を安定・向上さ
せるために重要なポイントである。
しかし、従来は差動型であるために光路を複雑に折り曲
げねばならず、従って光路が長くなってしまうという矛
盾を生じていた。
げねばならず、従って光路が長くなってしまうという矛
盾を生じていた。
共通光路部分の光路長は第21図の例でさえ200画を
超えており、非差動型の干渉計の2倍近い長さとなって
いる等の問題点かある。
超えており、非差動型の干渉計の2倍近い長さとなって
いる等の問題点かある。
本発明は、このような実状に鑑み、レーザー干渉測長計
において、差動型の光学配置でありながら、干渉計内の
光路を最小とし、光学素子を削減して、外乱に対する測
長精度を安定に保つことで、安価で高精度なレーザー干
渉測長計を実現することを目的とする。
において、差動型の光学配置でありながら、干渉計内の
光路を最小とし、光学素子を削減して、外乱に対する測
長精度を安定に保つことで、安価で高精度なレーザー干
渉測長計を実現することを目的とする。
〈課題を解決するための手段〉
上記の目的を達成するため、本発明は、反射面の少なく
とも一面を偏光状態の異なる光束を選択的に透過又は反
射させるようにしたコーナーキューブプリズム又はミラ
ーを用いたことを特徴とするレーザー干渉測長計を提供
する。
とも一面を偏光状態の異なる光束を選択的に透過又は反
射させるようにしたコーナーキューブプリズム又はミラ
ーを用いたことを特徴とするレーザー干渉測長計を提供
する。
ここで、前記コーナーキューブプリズムの偏光状態の異
なる光束を選択的に透過又は反射させる面にプリズムを
接合し、更に前記偏光状態の異なる光束を選択的に透過
又は反射させる面を測長方向に45度の角度とするとよ
い。
なる光束を選択的に透過又は反射させる面にプリズムを
接合し、更に前記偏光状態の異なる光束を選択的に透過
又は反射させる面を測長方向に45度の角度とするとよ
い。
また、前記接合したプリズムが前記偏光状態の異なる光
束を選択的に透過又は反射させる面の法線方向を軸とし
て回転移動して、入出射方向を可変とするようにすると
よい。
束を選択的に透過又は反射させる面の法線方向を軸とし
て回転移動して、入出射方向を可変とするようにすると
よい。
また、前記コーナーキューブプリズムの透過面に入出射
する光束の方向を変える補償プリズムを用いるとよい。
する光束の方向を変える補償プリズムを用いるとよい。
また、前記接合したプリズムの透過面のうち一面を前記
コーナーキューブプリズムの透過面と平行にし、更に、
前記接合したプリズムの透過面のうち接合面でなくかつ
コーナーキューブプリズムの透過面に対し平行でない面
と、接合面とのなす角θ7、及び、コーナーキューブプ
リズムの透過面と、接合面とのなす角θが、 −cos (θ十〇z) =n sin (θ2−θ)
(但し、nはコーナーキューブプリズム及びこれに接合
したプリズムの屈折率) なる関係を満たすようにしてもよい。この場合、コーナ
ーキューブプリズムの反射面と透過面とのなす角度θを
cos−’ (v’ 3/3)とし、すなわち通常のコ
ーナーキューブプリズムを使用する。
コーナーキューブプリズムの透過面と平行にし、更に、
前記接合したプリズムの透過面のうち接合面でなくかつ
コーナーキューブプリズムの透過面に対し平行でない面
と、接合面とのなす角θ7、及び、コーナーキューブプ
リズムの透過面と、接合面とのなす角θが、 −cos (θ十〇z) =n sin (θ2−θ)
(但し、nはコーナーキューブプリズム及びこれに接合
したプリズムの屈折率) なる関係を満たすようにしてもよい。この場合、コーナ
ーキューブプリズムの反射面と透過面とのなす角度θを
cos−’ (v’ 3/3)とし、すなわち通常のコ
ーナーキューブプリズムを使用する。
また、参照光束及び測長光束のコーナーキューブプリズ
ムの透過面における入出射位置を一列に配置するとよい
。
ムの透過面における入出射位置を一列に配置するとよい
。
また、前記コーナーキューブプリズムの偏光状態の異な
る光束を選択的に透過又は反射させる面以外の反射面に
は誘電体反射膜を施すとよい。
る光束を選択的に透過又は反射させる面以外の反射面に
は誘電体反射膜を施すとよい。
〈作用〉
上記の構成においては、従来の偏光ビームスプリッタに
代えて、コーナーキューブプリズム又はミラーを使用す
ることにより、差動型の光学配置でありながら、干渉計
内の光路を短くし、光学素子も削減して外乱に対しても
強く、測定精度を向上させた安価で使い勝手のよい、レ
ーザー干渉測長計を得ることができる。
代えて、コーナーキューブプリズム又はミラーを使用す
ることにより、差動型の光学配置でありながら、干渉計
内の光路を短くし、光学素子も削減して外乱に対しても
強く、測定精度を向上させた安価で使い勝手のよい、レ
ーザー干渉測長計を得ることができる。
〈実施例〉
以下に本発明による実施例を図面に基づいて詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明によるヘテロダイン型のレーザー干渉測
長計の実施例の概要を示し、第2図(A)はコーナーキ
ューブプリズムの正面図、第2図(B)はその側面図で
ある。
長計の実施例の概要を示し、第2図(A)はコーナーキ
ューブプリズムの正面図、第2図(B)はその側面図で
ある。
互いに直交する直線偏光された2波長のレーザー光りを
レーザー干渉測長計へ入射すると、偏光シェアリング板
101によって、S成分の波長光かシフトされ、λ/2
移相板1(12)でP成分に変換される。
レーザー干渉測長計へ入射すると、偏光シェアリング板
101によって、S成分の波長光かシフトされ、λ/2
移相板1(12)でP成分に変換される。
ここに使用されているコーナーキューブプリズム103
は、第2図のようにコーナーキューブプリズム103の
反射面の1つをコーティング(真空蒸着膜)し、三角プ
リズム104を接合することによって偏光ビームスブリ
ット面103Aを形成しである。
は、第2図のようにコーナーキューブプリズム103の
反射面の1つをコーティング(真空蒸着膜)し、三角プ
リズム104を接合することによって偏光ビームスブリ
ット面103Aを形成しである。
尚、他の反射面はコート無しとして全反射面としてもよ
いが、金属反射膜又は誘電体反射膜を施すとよい。
いが、金属反射膜又は誘電体反射膜を施すとよい。
このコーナーキューブプリズム103に2つの波長の光
束が共にP成分として入射し透過する1、そして、λ/
4移相板105を通過し、固定鏡106と可動鏡107
によってそれぞれ一往復した参照光と測長光の偏光状態
はS成分に変換される。このため、入射時には透過可能
であった光束はここでは偏光ビームスブリット面103
Aで反射し、固定鏡106と可動鏡107をもう一度往
復する。そしてその戻り光はλ/4移相板+05により
偏光状態はP成分に変換されている。従ってこの光束は
今度は偏光ビームスブリット面103Aを透過する。そ
してこの透過光は入射時と同様にもう1つのλ/2移相
板108を経て偏光シェアリング板1.09等で互いに
直交する同軸の直線偏光された光束となる。この光束を
互いに45度をなす方向に検光素子等を用意し、既存の
検出光学系によって測長情報を検出することかできる。
束が共にP成分として入射し透過する1、そして、λ/
4移相板105を通過し、固定鏡106と可動鏡107
によってそれぞれ一往復した参照光と測長光の偏光状態
はS成分に変換される。このため、入射時には透過可能
であった光束はここでは偏光ビームスブリット面103
Aで反射し、固定鏡106と可動鏡107をもう一度往
復する。そしてその戻り光はλ/4移相板+05により
偏光状態はP成分に変換されている。従ってこの光束は
今度は偏光ビームスブリット面103Aを透過する。そ
してこの透過光は入射時と同様にもう1つのλ/2移相
板108を経て偏光シェアリング板1.09等で互いに
直交する同軸の直線偏光された光束となる。この光束を
互いに45度をなす方向に検光素子等を用意し、既存の
検出光学系によって測長情報を検出することかできる。
第3図はコーナーキューブミラーの断面図である。これ
は、コーナーキューブプリズム103と三角プリズムi
04による構成の代わりに、互いに直交する2枚のミラ
ー103B、 103Cを組合わせたものである。
は、コーナーキューブプリズム103と三角プリズムi
04による構成の代わりに、互いに直交する2枚のミラ
ー103B、 103Cを組合わせたものである。
第4図は本発明によるレーザー干渉測長計の第2の実施
例を示す光学系の構成図である。
例を示す光学系の構成図である。
入射光と出射光を反射プリズム203を用いて同一方向
とし、使い勝手を良くしたもので、干渉縞計数型測長計
として、入射部にλ/4移相板2(12)を入れた実施
例であり、反射プリズム203は勿論ミラーでも代替え
できる。
とし、使い勝手を良くしたもので、干渉縞計数型測長計
として、入射部にλ/4移相板2(12)を入れた実施
例であり、反射プリズム203は勿論ミラーでも代替え
できる。
周波数安定化レーザー201から出射した単一周波数で
直線偏光のレーザー光りは最初のλ/4移相板2(12
)によって円偏光され、その後はヘテロダイン型と全(
同様にP成分、S成分の変換を繰り返しながら、最終的
には参照光と測長光は互いに直交する直線偏光された光
束となって検出される。
直線偏光のレーザー光りは最初のλ/4移相板2(12
)によって円偏光され、その後はヘテロダイン型と全(
同様にP成分、S成分の変換を繰り返しながら、最終的
には参照光と測長光は互いに直交する直線偏光された光
束となって検出される。
この実施例では、λ/4移相板204Aや45度旋光板
204Bを組合わせかつ偏光ビームスブリット面204
Cを形成した複合プリズム(位相分離プリズム)204
によって、3相の偏光方向による干渉縞検出を行ってい
る。
204Bを組合わせかつ偏光ビームスブリット面204
Cを形成した複合プリズム(位相分離プリズム)204
によって、3相の偏光方向による干渉縞検出を行ってい
る。
これまで第1図、第4図の実施例では紙面に対し平行な
方向に参照光と測長光とを偏光シェアリング板で分離し
、シフトさせていた状況を示していた。しかし、これに
限るものではない。
方向に参照光と測長光とを偏光シェアリング板で分離し
、シフトさせていた状況を示していた。しかし、これに
限るものではない。
第3の実施例を示す第5図は、紙面に対し垂直方向に分
離し、シフトさせた場合の可動鏡側から見たコーナーキ
ューブプリズム(ミラー) 103内の反射光を示した
ものである。各構成部の番号は第1図、第4図のものと
対応している。このような方向に光束を分離し、シフト
すると、コーナーキューブプリズムや固定鏡・可動鏡を
小型にすることかできる。
離し、シフトさせた場合の可動鏡側から見たコーナーキ
ューブプリズム(ミラー) 103内の反射光を示した
ものである。各構成部の番号は第1図、第4図のものと
対応している。このような方向に光束を分離し、シフト
すると、コーナーキューブプリズムや固定鏡・可動鏡を
小型にすることかできる。
以上、第1図、第4図、第5図に示した本発明では、第
20図、第21図のような従来のキュービックプリズム
を使用した偏光ビームスプリッタ21を一切使用せずに
、干渉計内の光路長を50In[[lより短くすること
かできる。更にコーナーキューブプリズムと組合わせた
本体プリズム部(固定鏡、可動鏡、ビームシフターを除
く)に関しても、従来は反射面か4面、透過面か5面あ
ったものが、本発明の光学系では反射プリズムを含めて
反射面か同様に4面、透過面か3面となり、この反射プ
リズムをミラーを使用すれば2面となる。
20図、第21図のような従来のキュービックプリズム
を使用した偏光ビームスプリッタ21を一切使用せずに
、干渉計内の光路長を50In[[lより短くすること
かできる。更にコーナーキューブプリズムと組合わせた
本体プリズム部(固定鏡、可動鏡、ビームシフターを除
く)に関しても、従来は反射面か4面、透過面か5面あ
ったものが、本発明の光学系では反射プリズムを含めて
反射面か同様に4面、透過面か3面となり、この反射プ
リズムをミラーを使用すれば2面となる。
このことは反射防止コーティングを含めて、光学面の加
工工数が大幅に削減でき、また本体プリズム部に用いら
れる光学素子に関しても、高価で場所をとる従来のキュ
ービックプリズムを用いた偏光ビームスプリッタを使用
しないため、安価で小型化か可能になる。このように小
型化ができると、温度変化等による外乱の影響を受けて
も、短時間に−様な安定状態になり易く、光路長を短く
できることと相乗して、測長精度の向上、安定化か可能
となる。
工工数が大幅に削減でき、また本体プリズム部に用いら
れる光学素子に関しても、高価で場所をとる従来のキュ
ービックプリズムを用いた偏光ビームスプリッタを使用
しないため、安価で小型化か可能になる。このように小
型化ができると、温度変化等による外乱の影響を受けて
も、短時間に−様な安定状態になり易く、光路長を短く
できることと相乗して、測長精度の向上、安定化か可能
となる。
また、透過面数の大幅な減少は、透過面での反射光か少
なくなるため、検出信号に重畳するこれら迷光の強度変
調成分を著しく削減でき、たとえ透過面に反射防止コー
ティングをしてあったとしても、測長値の直線性か大幅
に向上できる。
なくなるため、検出信号に重畳するこれら迷光の強度変
調成分を著しく削減でき、たとえ透過面に反射防止コー
ティングをしてあったとしても、測長値の直線性か大幅
に向上できる。
また、測長針のセツティングに際し、本体プリズム部分
のコーナーキューブプリズム(又はミラー) +03か
直接、参照光と測長光とを反射しているため、光軸合わ
せの調整か極めて容易になる。
のコーナーキューブプリズム(又はミラー) +03か
直接、参照光と測長光とを反射しているため、光軸合わ
せの調整か極めて容易になる。
従来の偏光ビームスプリッタとしてのキュービックプリ
ズムの使用方法では光束を折り曲げた先端にコーナーキ
ューブプリズムを設置しているため、本体プリズム部の
セツティングに際しては、ティルト成分とシフト成分と
が混在した調整を必要としていた。しかし、本発明では
、コーナーキューブプリズムの頂点を調整軸にすること
で、本体プリズムのセツティング調整は固定鏡と可動鏡
のシフト調整のみで済み、ティルトの調整は必要ない。
ズムの使用方法では光束を折り曲げた先端にコーナーキ
ューブプリズムを設置しているため、本体プリズム部の
セツティングに際しては、ティルト成分とシフト成分と
が混在した調整を必要としていた。しかし、本発明では
、コーナーキューブプリズムの頂点を調整軸にすること
で、本体プリズムのセツティング調整は固定鏡と可動鏡
のシフト調整のみで済み、ティルトの調整は必要ない。
このことは、特に固定鏡と可動鏡が平面鏡のときに使い
勝手がよりよくなる。
勝手がよりよくなる。
第4の実施例を示す第6図は、コーナーキューブプリズ
ム103の偏光ビームスブリット面103Aを測長方向
に45度の角度にセットし、反射プリズム203をこの
面に垂直な軸の回りに回転できるようにしたものである
。
ム103の偏光ビームスブリット面103Aを測長方向
に45度の角度にセットし、反射プリズム203をこの
面に垂直な軸の回りに回転できるようにしたものである
。
第7図のようにビームシフト部300と反射プリズム2
03を180度回転することで、他の光学素子を一切使
用せずに、測長方向と入出射方向を90度にすることが
できる。勿論、回転機構を用いずに、反射プリズム20
3を着脱して180度方向を変えて、入出射方向を変え
てもよい。
03を180度回転することで、他の光学素子を一切使
用せずに、測長方向と入出射方向を90度にすることが
できる。勿論、回転機構を用いずに、反射プリズム20
3を着脱して180度方向を変えて、入出射方向を変え
てもよい。
しかし、この際に通常のコーナーキューブプリズムでは
3つの反射面の中心軸〔各反射面の法線ベクトルに対し
、θ= cor’ ((3/ 3 )の角度をなす直線
〕に対して透過面はほぼ垂直となるように作られている
。このため、厳密には偏光状態によって選択的に透過、
反射をする偏光ビームスブリット面を(第6図、第7図
のように)中心軸Zに対し45度に配置すると、コーナ
ーキューブプリズム103の入射光が第8図のような9
0度とならず、このままでは使い勝手かよくない。
3つの反射面の中心軸〔各反射面の法線ベクトルに対し
、θ= cor’ ((3/ 3 )の角度をなす直線
〕に対して透過面はほぼ垂直となるように作られている
。このため、厳密には偏光状態によって選択的に透過、
反射をする偏光ビームスブリット面を(第6図、第7図
のように)中心軸Zに対し45度に配置すると、コーナ
ーキューブプリズム103の入射光が第8図のような9
0度とならず、このままでは使い勝手かよくない。
そこで、コーナーキューブプリズム103の透過面30
4を第9図のように、 θ’ = cos−’ (&−3/ 3 ) −45゜
(#9.73561”) たけ傾けて、偏光ビームスブリット面103 、Aに対
し、45°となるように設けると、コーナーキューブプ
リズム103への人出射光は(第6図、第7図のように
)角度が90度となる。勿論、コーナーキューブプリズ
ムの外周も中心軸Zに対して、同軸度をとるのではない
。従って、頂点を通り偏光ビームスブリット面103A
と45度の角度をなす軸回りに芯取りをした方か使い勝
手かよくなる。
4を第9図のように、 θ’ = cos−’ (&−3/ 3 ) −45゜
(#9.73561”) たけ傾けて、偏光ビームスブリット面103 、Aに対
し、45°となるように設けると、コーナーキューブプ
リズム103への人出射光は(第6図、第7図のように
)角度が90度となる。勿論、コーナーキューブプリズ
ムの外周も中心軸Zに対して、同軸度をとるのではない
。従って、頂点を通り偏光ビームスブリット面103A
と45度の角度をなす軸回りに芯取りをした方か使い勝
手かよくなる。
偏光ビームスブリット面を真空蒸着膜で処理をした一般
のコーナーキューブプリズムを使用すれば、第10図の
ように頂角θ′の補償プリズム303を設置したのと等
価となる。しかし、平行平面間の繰り返し反射を避ける
ため、できれば補償プリズム303はコーナーキューブ
プリズム103に接合した方かよい。いずれにしても、
第6図〜第10図の光学系は光束をコーナーキューブプ
リズム内でほぼ45度の入射角で使用するため、屈折率
の低い硝種(例えば石英など)を用いる場合には、反射
面に真空蒸着膜を施した方がよい。
のコーナーキューブプリズムを使用すれば、第10図の
ように頂角θ′の補償プリズム303を設置したのと等
価となる。しかし、平行平面間の繰り返し反射を避ける
ため、できれば補償プリズム303はコーナーキューブ
プリズム103に接合した方かよい。いずれにしても、
第6図〜第10図の光学系は光束をコーナーキューブプ
リズム内でほぼ45度の入射角で使用するため、屈折率
の低い硝種(例えば石英など)を用いる場合には、反射
面に真空蒸着膜を施した方がよい。
前述の第9図の例は、コーナーキューブプリズムの透過
面と反射面とのなす角度を変えることで、人出射光の9
0度と、入射光と測長光との同軸性とを維持した例であ
るが、第11図のようにしてもよい。
面と反射面とのなす角度を変えることで、人出射光の9
0度と、入射光と測長光との同軸性とを維持した例であ
るが、第11図のようにしてもよい。
第11図では、通常のコーナーキューブプリズム(透過
面が中心軸に対して垂直)103を用い、これに接合し
たプリズム104の透過面のうち一面104Aをコーナ
ーキューブプリズム103の透過面と平行としである。
面が中心軸に対して垂直)103を用い、これに接合し
たプリズム104の透過面のうち一面104Aをコーナ
ーキューブプリズム103の透過面と平行としである。
すなわち、θ、二〇としである。
また、前記接合したプリズム104の透過面のうち接合
面でなくかつコーナーキューブプリズム103の透過面
に対し平行でない面104Bと、接合面とのなす角θ2
、及び、コーナーキューブプリズム103の透過面と、
接合面とのなす角θが、 −COS(θ十(12)) =n sin (θ2−θ
)(但し、nはコーナーキューブプリズム及びこれに接
合したプリズムの屈折率) なる関係を満たすようにしである。
面でなくかつコーナーキューブプリズム103の透過面
に対し平行でない面104Bと、接合面とのなす角θ2
、及び、コーナーキューブプリズム103の透過面と、
接合面とのなす角θが、 −COS(θ十(12)) =n sin (θ2−θ
)(但し、nはコーナーキューブプリズム及びこれに接
合したプリズムの屈折率) なる関係を満たすようにしである。
尚、通常のコーナーキューブプリズム103を用いてい
るので、コーナーキューブプリズムの反射面と透過面と
のなす角度θはcos−’ (v’ 3 / 3 )で
ある。
るので、コーナーキューブプリズムの反射面と透過面と
のなす角度θはcos−’ (v’ 3 / 3 )で
ある。
第11図の例は、接合するプリズムの頂角を変えること
で従来のコーナーキューブプリズムを使用しなから、不
用反射光を非同軸にできる利点かある。
で従来のコーナーキューブプリズムを使用しなから、不
用反射光を非同軸にできる利点かある。
また、第9図の例では、コーナーキューブプリズムの反
射面は全反射とならないため、増反射コートが必要であ
る。光束か2往復する間に反射回数は4回で、増反射コ
ートなしでは、戻り光は最初の1/2以下に強度で低下
してしまうからである。
射面は全反射とならないため、増反射コートが必要であ
る。光束か2往復する間に反射回数は4回で、増反射コ
ートなしでは、戻り光は最初の1/2以下に強度で低下
してしまうからである。
これに対し、第11図の例では、臨界角で反射するため
、全反射となって増反射コートは不要となる。
、全反射となって増反射コートは不要となる。
以上をまとめた実施例を112図に示すが、ビームシフ
ト方向は第5図の光学系の方が小型になる。
ト方向は第5図の光学系の方が小型になる。
また、メンテナンスはやや良くないが、プリズムをミラ
ーに置き換えると迷光は減少する。第13図は可動鏡1
07のみコーナーキューブプリズム107にしたもので
あり、第14図は固定鏡106と可動鏡107共にコー
ナーキューブプリズム106’、 107’にした例を
示す。
ーに置き換えると迷光は減少する。第13図は可動鏡1
07のみコーナーキューブプリズム107にしたもので
あり、第14図は固定鏡106と可動鏡107共にコー
ナーキューブプリズム106’、 107’にした例を
示す。
いずれもセツティングの際のアライメント調整は容易に
なり、平面ミラーを使用した場合のように本体プリズム
と固定鏡106や可動鏡107の距離が長くなるにつれ
、アライメントの精度が厳しくなることがないため、比
較的長い距離の測長に効果を発揮する。また、入射部に
λ/4移相板2(12)を入れることで干渉縞計数型の
干渉測長計を構成することができる。
なり、平面ミラーを使用した場合のように本体プリズム
と固定鏡106や可動鏡107の距離が長くなるにつれ
、アライメントの精度が厳しくなることがないため、比
較的長い距離の測長に効果を発揮する。また、入射部に
λ/4移相板2(12)を入れることで干渉縞計数型の
干渉測長計を構成することができる。
次に、参照光束及び測長光束のコーナーキューブプリズ
ムの透過面における入出射位置を一列に配置した115
図に示す実施例について説明する。
ムの透過面における入出射位置を一列に配置した115
図に示す実施例について説明する。
第15図において、偏光ビームスプリッタ401は、平
行板状プリズム4(12)と三角プリズム405とから
構成されている。
行板状プリズム4(12)と三角プリズム405とから
構成されている。
前記平行板状プリズム4(12)は、横断面が台形に形
成されており、平行に対峙する両端面4(12)A、
4(12)Bのうち一方の端面4(12)Bへ対して挟
角αが共に45゜になるように形成されている。前記端
面4(12)Aには、略全面に反射面(全反射面)4o
3を形成してあり、また、前記端面4(12)Bの略半
面に偏光ビームスブリットコート404を施しである。
成されており、平行に対峙する両端面4(12)A、
4(12)Bのうち一方の端面4(12)Bへ対して挟
角αが共に45゜になるように形成されている。前記端
面4(12)Aには、略全面に反射面(全反射面)4o
3を形成してあり、また、前記端面4(12)Bの略半
面に偏光ビームスブリットコート404を施しである。
このように、反射面403及び偏光ビームスブリットコ
ート404か設けられた平行板状プリズム4(12)に
対して三角プリズム405か接合されるが、該三角プリ
ズム405は頂角を直角どする二等辺直角三角形の横断
面に形成されており、前記直角の頂角に対峙する底面が
、前記平行板状プリズム4(12)の端面4(12)B
に接着剤によって接合されている。
ート404か設けられた平行板状プリズム4(12)に
対して三角プリズム405か接合されるが、該三角プリ
ズム405は頂角を直角どする二等辺直角三角形の横断
面に形成されており、前記直角の頂角に対峙する底面が
、前記平行板状プリズム4(12)の端面4(12)B
に接着剤によって接合されている。
ここで、図示しない光源からのレーザ光が、互いに直角
な偏光面をもつ直線偏光として偏光ビームスプリッタ4
01に入射され、該偏光ビームスプリッタ401て偏光
ビームスブリットコート404を通過する測長光M(偏
光方向を図中で苧としである)と、偏光ビームスブリッ
トコート404及び反射面403て反射し前記測長光M
と平行な光線として得られる参照光R(偏光方向を図中
で◎としである)とに分離される。
な偏光面をもつ直線偏光として偏光ビームスプリッタ4
01に入射され、該偏光ビームスプリッタ401て偏光
ビームスブリットコート404を通過する測長光M(偏
光方向を図中で苧としである)と、偏光ビームスブリッ
トコート404及び反射面403て反射し前記測長光M
と平行な光線として得られる参照光R(偏光方向を図中
で◎としである)とに分離される。
偏光ビームスブリットコート404及び反射面403で
反射し、平板状プリズム4(12)の偏光ビームスプノ
ットコート404か施されていない透過部分を通過して
出射される参照光Rは、偏光ビームスプリッタ401の
三角プリズム405に接合されているλ/′2位相板(
90°旋光板)411によって偏光方向か直交するよう
に(図中の砦方向に)変換された後、プリズム104を
介し、コーナキューブプリズム103に入射する。該コ
ーナキューブプリズム103の偏光ビームスブリット面
1.03Aは、図中に曽て示す偏光方向と、これに直交
する◎の偏光方向とのうち、く)で示される偏光方向の
光のみを通過させるようにしであるので、前記参照光R
はそのまま偏光ビームスブリット面103Aを通過し、
λ/4位相板105を通過することで円偏光に変換され
る。
反射し、平板状プリズム4(12)の偏光ビームスプノ
ットコート404か施されていない透過部分を通過して
出射される参照光Rは、偏光ビームスプリッタ401の
三角プリズム405に接合されているλ/′2位相板(
90°旋光板)411によって偏光方向か直交するよう
に(図中の砦方向に)変換された後、プリズム104を
介し、コーナキューブプリズム103に入射する。該コ
ーナキューブプリズム103の偏光ビームスブリット面
1.03Aは、図中に曽て示す偏光方向と、これに直交
する◎の偏光方向とのうち、く)で示される偏光方向の
光のみを通過させるようにしであるので、前記参照光R
はそのまま偏光ビームスブリット面103Aを通過し、
λ/4位相板105を通過することで円偏光に変換され
る。
円偏光に変換された参照光Rは、固定鏡106で直角に
反射し、再びλ/4位相板105を通過することで、今
度は偏光ビームスブリット而103Aで反射する偏光方
向である図中に示す◎の偏光方向に変換される。従って
、固定鏡106から戻される参照光Rは、偏光ビームス
ブリット面103Aで反射し、コーナキューブプリズム
103の反射面(又は全反射面)によって再び固定鏡1
06方向に進む。
反射し、再びλ/4位相板105を通過することで、今
度は偏光ビームスブリット而103Aで反射する偏光方
向である図中に示す◎の偏光方向に変換される。従って
、固定鏡106から戻される参照光Rは、偏光ビームス
ブリット面103Aで反射し、コーナキューブプリズム
103の反射面(又は全反射面)によって再び固定鏡1
06方向に進む。
このとき、再びλ/4位相板105によって円偏光に変
換され、固定鏡106で反射し、円偏光である反射光か
λ/4位相板105を戻り通過するときに偏光ビームス
ブリット面103Aの透過偏光方向である曽で示される
偏光方向に変換される。このため、固定鏡106で2回
反射されてコーナキューブプリズム103に戻された参
照光Rは、偏光ビームスブリット面103Aを偏光ビー
ムスプリッタ401の出射時と直交する方向にそのまま
通過し、プリズム415の反射面(又は全反射面’)
415Aで偏光ビームスプリッタ401の出射時と平行
する方向に屈曲反射されて、再び偏光ビームスプリッタ
401に戻される。
換され、固定鏡106で反射し、円偏光である反射光か
λ/4位相板105を戻り通過するときに偏光ビームス
ブリット面103Aの透過偏光方向である曽で示される
偏光方向に変換される。このため、固定鏡106で2回
反射されてコーナキューブプリズム103に戻された参
照光Rは、偏光ビームスブリット面103Aを偏光ビー
ムスプリッタ401の出射時と直交する方向にそのまま
通過し、プリズム415の反射面(又は全反射面’)
415Aで偏光ビームスプリッタ401の出射時と平行
する方向に屈曲反射されて、再び偏光ビームスプリッタ
401に戻される。
偏光ビームスプリッタ401に戻された参照光Rは、偏
光ビームスブリットフート404を通過してそのまま直
進し、光源からの光束と平行な形で偏光ビームスプリッ
タ401から出射される。
光ビームスブリットフート404を通過してそのまま直
進し、光源からの光束と平行な形で偏光ビームスプリッ
タ401から出射される。
一方、偏光ビームスブリットコート404を通過する偏
光方向が中で示される測長光Mは、前記プリズム旧5で
直角に方向を転じ、コーナキューブプリズム103の偏
光ビームスブリット面103Aを通過し、コーナキュー
ブプリズム+03の反射面で反射される。
光方向が中で示される測長光Mは、前記プリズム旧5で
直角に方向を転じ、コーナキューブプリズム103の偏
光ビームスブリット面103Aを通過し、コーナキュー
ブプリズム+03の反射面で反射される。
かかる測長光Mは、前記λ/4位相板105を通過して
円偏光に変換されて測長物に取付けられた可動鏡107
て直角に反射し、再びλ/4位相板105を通過するこ
とによって図中に◎て示される偏光方向に変換されるか
ら、偏光ビームスプリ・ント面103Aで反射されるよ
うになり、再び可動鏡107方向に進む。
円偏光に変換されて測長物に取付けられた可動鏡107
て直角に反射し、再びλ/4位相板105を通過するこ
とによって図中に◎て示される偏光方向に変換されるか
ら、偏光ビームスプリ・ント面103Aで反射されるよ
うになり、再び可動鏡107方向に進む。
このとき、λ/4位相板105を通過して円偏光に変換
されるが、可動鏡107から戻されるときに再びλ/4
位相板105を通過することにより、今度は図中に仲で
示される偏光方向に変換されるから、コーナキューブプ
リズム103の偏光ビームスブリット面103Aを通過
するようになって、λ/2位相板(90°旋光板)41
1に入射され、ここで図中に◎で示される偏光方向に変
換される。
されるが、可動鏡107から戻されるときに再びλ/4
位相板105を通過することにより、今度は図中に仲で
示される偏光方向に変換されるから、コーナキューブプ
リズム103の偏光ビームスブリット面103Aを通過
するようになって、λ/2位相板(90°旋光板)41
1に入射され、ここで図中に◎で示される偏光方向に変
換される。
そして、偏光ビームスプリッタ401の平行板状プリズ
ム4(12)の偏光ビームスブリットコート404か施
されない透過部分を通過して反射面403で反射され、
かかる反射光が偏光ビームスプリットコ−)404に入
射するが、偏光方向が反射方向であるために反射され、
前記戻り参照光Rと合成されて偏光ビームスプリッタ4
01から出射され図示しない検出器に入射する。
ム4(12)の偏光ビームスブリットコート404か施
されない透過部分を通過して反射面403で反射され、
かかる反射光が偏光ビームスプリットコ−)404に入
射するが、偏光方向が反射方向であるために反射され、
前記戻り参照光Rと合成されて偏光ビームスプリッタ4
01から出射され図示しない検出器に入射する。
かかる構成においては、第15図を矢印り方向から見た
場合に、第16図に示すように、測長光束(・)及び参
照光束(○)がコーナーキューブプリズム103の透過
面出射時において一列配置となり、コーナーキューブプ
リズム103等を薄型コンパクトにできるという効果か
得られる。また、各光束が接近し、差動型の効果か大で
、ゆらぎ等に対しても高安定化を図ることができる。更
に、上記のように小型化できることによって光路も短く
なるために、温度変化などの外乱の影響が小さくなり、
測長の安定度が向上する。
場合に、第16図に示すように、測長光束(・)及び参
照光束(○)がコーナーキューブプリズム103の透過
面出射時において一列配置となり、コーナーキューブプ
リズム103等を薄型コンパクトにできるという効果か
得られる。また、各光束が接近し、差動型の効果か大で
、ゆらぎ等に対しても高安定化を図ることができる。更
に、上記のように小型化できることによって光路も短く
なるために、温度変化などの外乱の影響が小さくなり、
測長の安定度が向上する。
尚、前記コーナーキューブプリズムの偏光状態の異なる
光束を選択的に透過又は反射させる面以外の反射面は前
述したようにコート無しとして全反射を利用してもよい
が、S偏光、P偏光の位相ズレを生じるので、金属反射
膜又は誘電体反射膜を施すとよい。金属反射膜(例えば
AlやAgの蒸着膜)は、位相ズレかなく実用上十分で
はあるが、反射率が90%前後で光量がやや落ちる欠点
かある。この点、誘電体反射膜(例えばチタニアやジル
コニア等の積層膜)は、価格的には高いものの反射率か
100%で、性能的に優れる。
光束を選択的に透過又は反射させる面以外の反射面は前
述したようにコート無しとして全反射を利用してもよい
が、S偏光、P偏光の位相ズレを生じるので、金属反射
膜又は誘電体反射膜を施すとよい。金属反射膜(例えば
AlやAgの蒸着膜)は、位相ズレかなく実用上十分で
はあるが、反射率が90%前後で光量がやや落ちる欠点
かある。この点、誘電体反射膜(例えばチタニアやジル
コニア等の積層膜)は、価格的には高いものの反射率か
100%で、性能的に優れる。
〈発明の効果〉
以上説明したように、従来、差動型のレーザー干渉測長
計は、長い光路と偏光ビームスプリッタによる複雑な光
学系を組合わせていたため、温度変化等の外乱に影響さ
れて測定が不安定となったり、測定精度が向上しない等
の問題点があったが、本発明によって、差動型の光学配
置でありながら、干渉計内の光路を短くし、光学素子も
削減して外乱に対しても強く、測定精度を向上させた安
価で使い勝手のよい、レーザー干渉測長計を提供するこ
とができるようになった。
計は、長い光路と偏光ビームスプリッタによる複雑な光
学系を組合わせていたため、温度変化等の外乱に影響さ
れて測定が不安定となったり、測定精度が向上しない等
の問題点があったが、本発明によって、差動型の光学配
置でありながら、干渉計内の光路を短くし、光学素子も
削減して外乱に対しても強く、測定精度を向上させた安
価で使い勝手のよい、レーザー干渉測長計を提供するこ
とができるようになった。
第1図は本発明のレーザー干渉測長針の基本構成を示す
図、第2図(A)はコーナーキューブプリズムの正面図
、第2図(B)は側面図、第3図はコーナーキューブミ
ラーの断面図、第4図は本発明の第2の実施例の図、第
5図は紙面に対し垂直方向に分離し、シフトさせた場合
の可動鏡から見たコーナーキューブプリズムの図である
。第6図は本発明の第4の実施例を示したもので、コー
ナーキューブプリズムを45度にし、反射プリズムを回
転可能としたものの図、第7図はそのプリズムを180
度回転し、測長方向と入射方向を90度としたものの図
、第8図と第9図はこの測長方向と入射方向を厳密に9
0度にするための説明図である。 また、第10図は補償プリズムを使用した場合の実施例
の図、第11図は接合したプリズムの形状に関する実施
例の図、第12図は本発明をまとめた実施例を示した図
であり、第13図は可動鏡のみコーナーキューブプリズ
ムを使用した例の図、第14図は固定鏡と可動鏡共にコ
ーナーキューブプリズムを使用した例の図である。第1
5図は参照光束及び測長光束をコーナーキューブプリズ
ムの透過面出射時において一列配置した実施例の図、第
16図は第15図を矢印り方向から見た図である。 第17図は従来のマイケルソン型干渉計の図であり、第
18図は干渉縞計数方式の干渉計の図、第19図はヘテ
ロダイン方式の干渉計の基本図、第20図、第21図は
差動方式の干渉計の図である。 20、201.201’ ・・・安定化レーザー21、
35.52・・・偏光ビームスプリッタ22、55.1
07.107’ ・・・可動鏡23 42、54.10
6.106’ ・・・固定鏡24、25.51.51’
、 53.1(12).105.108・・・移相板2
6、34・・・ビームスプリッタ27、29.31・・
・偏光子 28、30.32.33.36.37・・・検出器38
・・・レーザー同調回路 50、101.109・・・偏光シェアリング板39、
40.41.56.103・・・コーナーキューブプリ
ズム 103A・・・偏光ビームスブリット面104・・・三
角プリズム 203・・・反射プリズム 204・・・位相分離プリズム 300・・・ビームシフト部 303・・・補償プリズム 304・・・透過面 401・・・偏光ビームスプリッタ
図、第2図(A)はコーナーキューブプリズムの正面図
、第2図(B)は側面図、第3図はコーナーキューブミ
ラーの断面図、第4図は本発明の第2の実施例の図、第
5図は紙面に対し垂直方向に分離し、シフトさせた場合
の可動鏡から見たコーナーキューブプリズムの図である
。第6図は本発明の第4の実施例を示したもので、コー
ナーキューブプリズムを45度にし、反射プリズムを回
転可能としたものの図、第7図はそのプリズムを180
度回転し、測長方向と入射方向を90度としたものの図
、第8図と第9図はこの測長方向と入射方向を厳密に9
0度にするための説明図である。 また、第10図は補償プリズムを使用した場合の実施例
の図、第11図は接合したプリズムの形状に関する実施
例の図、第12図は本発明をまとめた実施例を示した図
であり、第13図は可動鏡のみコーナーキューブプリズ
ムを使用した例の図、第14図は固定鏡と可動鏡共にコ
ーナーキューブプリズムを使用した例の図である。第1
5図は参照光束及び測長光束をコーナーキューブプリズ
ムの透過面出射時において一列配置した実施例の図、第
16図は第15図を矢印り方向から見た図である。 第17図は従来のマイケルソン型干渉計の図であり、第
18図は干渉縞計数方式の干渉計の図、第19図はヘテ
ロダイン方式の干渉計の基本図、第20図、第21図は
差動方式の干渉計の図である。 20、201.201’ ・・・安定化レーザー21、
35.52・・・偏光ビームスプリッタ22、55.1
07.107’ ・・・可動鏡23 42、54.10
6.106’ ・・・固定鏡24、25.51.51’
、 53.1(12).105.108・・・移相板2
6、34・・・ビームスプリッタ27、29.31・・
・偏光子 28、30.32.33.36.37・・・検出器38
・・・レーザー同調回路 50、101.109・・・偏光シェアリング板39、
40.41.56.103・・・コーナーキューブプリ
ズム 103A・・・偏光ビームスブリット面104・・・三
角プリズム 203・・・反射プリズム 204・・・位相分離プリズム 300・・・ビームシフト部 303・・・補償プリズム 304・・・透過面 401・・・偏光ビームスプリッタ
Claims (12)
- (1)反射面の少なくとも一面を偏光状態の異なる光束
を選択的に透過又は反射させるようにしたコーナーキュ
ーブプリズムを用いたことを特徴とするレーザー干渉測
長計。 - (2)前記コーナーキューブプリズムの偏光状態の異な
る光束を選択的に透過又は反射させる面にプリズムを接
合したことを特徴とする請求項1記載のレーザー干渉測
長計。 - (3)前記コーナーキューブプリズムの偏光状態の異な
る光束を選択的に透過又は反射させる面を測長方向に4
5度の角度としたことを特徴とする請求項2記載のレー
ザー干渉測長計。 - (4)前記接合したプリズムが前記偏光状態の異なる光
束を選択的に透過又は反射させる面の法線方向を軸とし
て回転移動して入出射方向を可変とするものであること
を特徴とする請求項2又は請求項3記載のレーザー干渉
測長計。 - (5)前記コーナーキューブプリズムの透過面に入出射
する光束の方向を変える補償プリズムを用いたことを特
徴とする請求項2〜請求項4のいずれか1つに記載のレ
ーザー干渉測長計。 - (6)前記接合したプリズムの透過面のうち一面を前記
コーナーキューブプリズムの透過面と平行にしたことを
特徴とする請求項2〜請求項4のいずれか1つに記載の
レーザー干渉測長計。 - (7)前記接合したプリズムの透過面のうち接合面でな
くかつコーナーキューブプリズムの透過面に対し平行で
ない面と、接合面とのなす角θ_2、及び、コーナーキ
ューブプリズムの透過面と、接合面とのなす角θが、 −cos(θ+θ_2)=nsin(θ_2−θ)(但
し、nはコーナーキューブプリズム及びこれに接合した
プリズムの屈折率) なる関係を満たすことを特徴とする請求項6記載のレー
ザー干渉測長計。 - (8)コーナーキューブプリズムの反射面と透過面との
なす角度θをcos^−^1(√3/3)としたことを
特徴とする請求項7記載のレーザー干渉測長計。 - (9)参照光束及び測長光束のコーナーキューブプリズ
ムの透過面における入出射位置を一列に配置したことを
特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1つに記載の
レーザー干渉測長計。 - (10)前記コーナーキューブプリズムの偏光状態の異
なる光束を選択的に透過又は反射させる面以外の反射面
に金属反射膜を施したことを特徴とする請求項1〜請求
項9のいずれか1つに記載のレーザー干渉測長計。 - (11)前記コーナーキューブプリズムの偏光状態の異
なる光束を選択的に透過又は反射させる面以外の反射面
に誘電体反射膜を施したことを特徴とする請求項1〜請
求項9のいずれか1つに記載のレーザー干渉測長計。 - (12)前記コーナーキューブプリズムに代えて、反射
面の少なくとも一面を偏光状態の異なる光束を選択的に
透過又は反射させるようにしたコーナーキューブミラー
を用いたことを特徴とする請求項1〜請求項11のいず
れか1つに記載のレーザー干渉測長計。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32093989 | 1989-12-11 | ||
| JP1-320939 | 1989-12-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03223607A true JPH03223607A (ja) | 1991-10-02 |
| JP2757072B2 JP2757072B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=18126969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2235843A Expired - Lifetime JP2757072B2 (ja) | 1989-12-11 | 1990-09-07 | レーザー干渉測長計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2757072B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5444532A (en) * | 1992-02-25 | 1995-08-22 | Nikon Corporation | Interferometer apparatus for detecting relative movement between reflecting members |
| US5677768A (en) * | 1996-07-03 | 1997-10-14 | Hewlett-Packard Company | Method and interferometric apparatus for measuring changes in displacement of an object in a rotating reference frame |
| CN108534688A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-09-14 | 北方民族大学 | 可提高放大倍数的位移传感器及其测量方法 |
| CN116520208A (zh) * | 2023-04-28 | 2023-08-01 | 西安交通大学 | 具有时间和空间分辨能力的等离子体磁场光学测量装置及方法 |
-
1990
- 1990-09-07 JP JP2235843A patent/JP2757072B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5444532A (en) * | 1992-02-25 | 1995-08-22 | Nikon Corporation | Interferometer apparatus for detecting relative movement between reflecting members |
| US5677768A (en) * | 1996-07-03 | 1997-10-14 | Hewlett-Packard Company | Method and interferometric apparatus for measuring changes in displacement of an object in a rotating reference frame |
| CN108534688A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-09-14 | 北方民族大学 | 可提高放大倍数的位移传感器及其测量方法 |
| CN116520208A (zh) * | 2023-04-28 | 2023-08-01 | 西安交通大学 | 具有时间和空间分辨能力的等离子体磁场光学测量装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2757072B2 (ja) | 1998-05-25 |
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