JPH03226386A - 電子ビーム加工機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、真空室を有し、その中で溶接等の加工を行
なう電子ビーム加工機に関するものである。

〔従来の技術〕

第２図は従来の電子ビーム加工機の側面図であり、図に
おいて、（１）は電子ビームを発生する電子銃、（２）
は電子銃（１）に高電圧を印加して電力を供給する高電
圧電源、Ｂ）は内部を真空に保って被加工物（図示せず
）を収容する真空室、に）は真空室Ｂ）に接続されてこ
れを真空にする真空排気装置、（５は被加工物を保持す
る後述の回転テーブルを回転させる回転機構、（６）は
電子銃を移動させる電子銃移動機構である。

第３図は第２図の電子ビーム加工機の正面図であり、電
子銃移動機ｉ　（６］およびその周辺を示し、また、一
部を断面で示している。第４図は第３図のＩＶ−ＩＶ線
に沿った断面図である。これらの図において、（至）は
真空室Ｂ）の上部でこれにボルト（図示せず）で固定し
て設けられた基盤で、電子ビームを通すために円形の窓
（８１が形成されている。（９）は基盤口上に設けられ
たスライドベースで、電子銃（１）を積載して第３図に
おいて左右方向に移動可能になっており、また、中央部
には電子ビームを通すための開口００）が形成されてい
る。（１１）は基盤（７）の窓（８）に沿って設けられ
た円形のスライドシールフランジで、基盤（７）にボル
ト（図示せず）で固定されると共に、基盤ｍおよびスラ
イドベース（９）と接する部分には気密を保ためにそれ
ぞれシール材（１２）が設けられている。（＋３）はハ
ンドル（第３図では図示を省略）　、（＋４）はハンド
ル（＋３）に駆動されて回転するスクリュー軸で、その
回転によりスライドベース（９）が移動するようになっ
ている。

（１５）はスライドベース（９）の移動を滑らかにする
ローラーガイドで、ハンドル（１３）、スクリュー軸（
１４）、スライドベース（９）、ローラーガイド（１５
）等により電子銃移動機構（６）を構成している。（１
６）は真空室（３）に収容された回転テーブル、（１７
）は真空室（３）中で回転テーブル（１６）に保持され
た被加工物、（１８）は電子銃（１）から被加工！ＰＩ
Ｊ（１７）に照射される電子ビーム、（１９）は回転テ
ーブルの回転軸で、電子ビーム（１８）の照射方向と平
行になっており、回転テーブル（１６）は電子ビーム（
１８）の照射方向と垂直な面内で、被加工物（１７）と
共に回転する６次に動作について説明する。被加工物（
１７）の中心に対して加工半径Ｒの円形の溶接を行なう
場合、まず、被加工物（１７）の中心を回転テーブル（
１６）の回転軸（１９）に位置させ、真空排気装置＋４
）により真空室（３１内を真空にする。回転機構（句に
より回転テーブル（＋６）を回転させると共に、ハンド
ル（１３）を回転させてスクリュー軸（１４）を駆動し
、電子銃（１）を積載したスライドベース（９）を移動
させて、回転テーブル（１６）の回転軸（１９）から電
子ビーム照射位置までの距離りがＲになるよう調整し、
電子ビーム（１８）を照射する。被加工物（１７）は回
転テーブル（１６）上に載置されて共に回転しているの
で、半径Ｌ　（Ｌ＝Ｒ）の円形の溶接加工が行なわれる
。

なお、電子ビーム照射位置はＬ＝Ｏの位置から、一つの
向きに、即ち、第３図において左方へ、最大加工半径Ｌ
０までカバーするようスライドベース（９）が移動でき
るようになっており、また、スライドシールフランジ（
＋１）の内径は上記電子ビーム照射範囲において電子ビ
ーム（＋７）が通過できるよう大きな寸法になっている
。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の電子ビーム加工機は以上のように構成されている
ので、最大加工半径を大きくするためにはスライドシー
ルフランジの寸法は大きくする必要があり、このスライ
ドシールフランジの形状を円形にすれば、幅（電子銃移
動方向）、奥行き（電子銃移動方向に対して垂直の方向
）の二方向共に大きくなって、そのため、真空室の容積
が大きくなって真空排気時間が長くかがり、また、スラ
イドシールフランジの形状を、電子銃移動方向を長径と
する小判形にすれば、奥行方向く上記小判形の短径方向
）には真空室を大きくしなくて済むが、スライドシール
フランジや基盤などの加工が小判形で難しくなって製作
コストが高くなるなどの問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、真空室の奥行方向の寸法を大きくすることな
く加工半径を大きくすることができ、かつ、製作コスト
が低い電子ビーム加工機を得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明に係る電子ビーム加工機は、電子ビームを通す
と共に電子銃の移動による摺動部分の気密を保つ円形の
スライドシールフランジを二つ設けて、被加工物への電
子ビームの照射を、回転テーブルの回転軸に近い部分へ
は一方のスライドシールフランジを通して行ない、遠い
部分へは他方のスライドシールフランジを通して行なう
ようにしたものである。

〔作用〕

この発明における電子ビーム加工機は、二つのスライド
シールフランジを有しているので、その内径寸法を最大
加工半径のほぼ半分にすることができる６ 〔発明の実施例〕 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例による電子ビーム加工機の正面
図であり、全体の構成は第２図と同様になっている。第
１図において、（２１）は第３図の■と同様の基盤であ
るが、窓（２２）が二つ形成されている。（２３）、　
（２４１は基盤（２１）の窓（２２）に沿って設けられ
た円形のそれぞれ第１および第２のスライドシールフラ
ンジで、基盤（２１）に固定されると共に、基盤（２１
）およびスライドベース（９）と接する部分には気密を
保つためにそれぞれシール材（１２）が設けられている
。最大加工半径をＬ２とし、Ｌ、＝１／２Ｌ２として、
第１．第２のスライドシールフランジ（２３）、　（２
４）の内径寸法をり、より少し大きくすると共に、それ
ぞれの中心位置が回転テーブル（１６）の回転軸（１９
）から図において右方へ１／２ＬＩ、および、左方へ３
／２Ｌｌになるように配置している。他は第３図の場合
と同様であるので説明を省略する。ただし、スライドベ
ース（９）は、電子ビーム照射位置が回転テーブル（１
６）の回転軸（１９）と一致する位置から、図において
右方へＬｌ、左方へＬ２と、両側へ移動可能になってい
る。

次に動作について説明する。第２図の場合と同様にして
電子銃（１）から被加工物（１７）へ電子ビーム（１８
）を照射するが、加工半径Ｒが０〜Ｌ８のときは第１の
スライドシールフランジ（２３）を通して電子ビーム（
１８）を被加工物（１７）へ照射し、また、加工半径Ｒ
がこれより大きく、Ｌ１〜Ｌ２のときはスライドベース
（９）を図において左方へ移動させ、第２のスライドシ
ールフランジ（２４）を通して照射する。このようにし
て加工半径ＲがＯ〜Ｌ２の範囲の溶接を行なうことがで
きる。

なお、上記実施例では電子ビーム（１８）を上方から下
方へ照射したが、例えば、水平方向に照射する場合など
でも同様の効果があり、また、電子銃移動機構（６）は
手動のハンドル（１３）によるものを示したが電動のも
のでもよい。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば円形のスライドシール
フランジを二つ設けて、回転テーブルの回転軸に近い部
分および遠い部分への電子ビームの照射をそれぞれのス
ライドシールフランジを通して行なうようにしたので、
真空室の奥行方向の寸法を大きくすることなく加工半径
を大きくすることができ、また、スライドシールフラン
ジが円形であるので製作コストが低いという効果がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による電子ビーム加工機の
正面図、第２図は従来の電子ビーム加工機の側面図、第
３図は第２図の電子ビーム加工機の正面図、第４図は第
３図のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図である。 図において、（１）は電子銃、（３１は真空室、（１６
）は回転テーブル、（１７）は被加工物、（１８）は電
子ビーム、（１９）は回転テーブルの回転軸、（２３）
、　（２４）はそれぞれ第１、第２のスライドシールフ
ランジである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電子ビームを被加工物に照射すると共に上記電子ビーム
   の照射方向に対してほぼ垂直な方向に移動可能な電子銃
   、上記電子ビームの照射方向に対してほぼ垂直な面内で
   回転可能に設けられて上記被加工物を保持する回転テー
   ブル、および内部を真空に保って上記回転テーブルと被
   加工物を収容する真空室を有するものにおいて、上記電
   子銃と真空室の間に配置されて上記電子ビームを通すと
   共に上記電子銃の移動による摺動部分の気密を保つ円形
   のスライドシールフランジを二つ設けて、上記回転テー
   ブルの回転軸に近い部分および遠い部分への上記電子ビ
   ームの照射を上記二つのスライドシールフランジのそれ
   ぞれを通して行なうようにしたことを特徴とする電子ビ
   ーム加工機。