JPH03228367A - 集積回路 - Google Patents
集積回路Info
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- JPH03228367A JPH03228367A JP2417690A JP2417690A JPH03228367A JP H03228367 A JPH03228367 A JP H03228367A JP 2417690 A JP2417690 A JP 2417690A JP 2417690 A JP2417690 A JP 2417690A JP H03228367 A JPH03228367 A JP H03228367A
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- Japan
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- integrated circuit
- power supply
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- electronic circuit
- circuit board
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 12
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 9
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 244000144992 flock Species 0.000 description 1
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は半導体集積回路の電子回路形成手法に関する。
[従来の技術]
従来より半導体集積回路の電源供給を少しでも容易にす
べ(、半導体集積回路に電源用の電子回路を組み込むこ
とは考えられていた。例えば直流電源系の電圧が著しく
異なる集積回路を電子機器に組み込む場合には、電子機
器の他の電子回路用電源と共存が可能となり、かつでき
る限り外付けの部品点数を減らす目的で集積回路の電源
入口に直流安定化電源回路を組むなどの試みがその好例
である。
べ(、半導体集積回路に電源用の電子回路を組み込むこ
とは考えられていた。例えば直流電源系の電圧が著しく
異なる集積回路を電子機器に組み込む場合には、電子機
器の他の電子回路用電源と共存が可能となり、かつでき
る限り外付けの部品点数を減らす目的で集積回路の電源
入口に直流安定化電源回路を組むなどの試みがその好例
である。
[発明が解決しようとする課題]
現在ではチョッパ型電源技術の普及により商用電源から
所望の直流電源を作り出すことが容易になっているが、
電子機器への組み込みスペースは使めて大きいといわざ
るをえない。このような問題は軽薄短小化が好まれる今
日においてはますます無視できない状況にある。
所望の直流電源を作り出すことが容易になっているが、
電子機器への組み込みスペースは使めて大きいといわざ
るをえない。このような問題は軽薄短小化が好まれる今
日においてはますます無視できない状況にある。
本発明は、かかる技錆課題を大幅に緩和するための集檀
回路のあり方に目を向け、その課題の解決に有効な手法
を提供することを目的としている[課題を解決するため
の手段] 本発明では課題解決の具体的手段として、集積回路基板
、前記集積回路基板上に形成された電子回路、前記電子
回路の製造過程において形成される、前記集積回路基板
と配線層との絶縁分離薄膜前記薄膜上に形成されるpn
接合整流手段とを有し、前記pn接合整流手段は前記集
積回路基板上に形成された前記電子回路の電源配線に接
続され、かつ前記整流手段のカソードが前記電子回路の
高電位側電源配線に、アノードが前記電子回路の低電位
側電源配線に接続される。
回路のあり方に目を向け、その課題の解決に有効な手法
を提供することを目的としている[課題を解決するため
の手段] 本発明では課題解決の具体的手段として、集積回路基板
、前記集積回路基板上に形成された電子回路、前記電子
回路の製造過程において形成される、前記集積回路基板
と配線層との絶縁分離薄膜前記薄膜上に形成されるpn
接合整流手段とを有し、前記pn接合整流手段は前記集
積回路基板上に形成された前記電子回路の電源配線に接
続され、かつ前記整流手段のカソードが前記電子回路の
高電位側電源配線に、アノードが前記電子回路の低電位
側電源配線に接続される。
ように配置したことを特徴とする。
[実施例コ
以下具体的実施例をとおして本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の基本構成図である。図中1は整流手段
、2は薬種回路ブロック、3,4は商用電源(交流)入
力端子、5は集積回路ブロックの高電位電源線、6は集
檀回路ブロックの低電位電源線、7は外付はコンデンサ
である。
、2は薬種回路ブロック、3,4は商用電源(交流)入
力端子、5は集積回路ブロックの高電位電源線、6は集
檀回路ブロックの低電位電源線、7は外付はコンデンサ
である。
商用電源が3,40入力端子に印加されると、商用電源
は整流手段1によって整流され、商用電源の周波数もし
くはその2倍の周波数の変動を有する準直流電圧(脈流
)に変換される。そしてその準直流電圧は外付けされた
コンデンサ7に蓄えられ、平滑化される。
は整流手段1によって整流され、商用電源の周波数もし
くはその2倍の周波数の変動を有する準直流電圧(脈流
)に変換される。そしてその準直流電圧は外付けされた
コンデンサ7に蓄えられ、平滑化される。
一方集積回路ブロック2はコンデンサ7によって平滑化
された電圧が印加され、動作する。
された電圧が印加され、動作する。
以上のように整流手段を集積化することにより、薬種回
路全体に商用電源を印加することが可能になる。
路全体に商用電源を印加することが可能になる。
第2図は本発明の具体的構成例を示す。1′は整流手段
、2は薬種回路ブロック、3/、4/は商用電源入力端
子、5は薬種回路ブロック2の高電位電源線、6は薬種
回路ブロック2の低電位電源線、7はコンデンサ、8,
9,10,11は薬種回路ブロックと同一基盤上に形成
されたpn接合ダイオードである。ここで整流手段1′
はpn接合ダイオード8〜11によって構成され、両波
整流、即ち3′ 4′の入力端子に印加された商用電
源の電圧極性が時間と共に正電圧、負電圧に入れ替わる
周期に同期して整流動作を行う。まず商用電源が6′に
正電圧、4′に負電圧という状態で印加された場合を考
えると、3′から入った正電圧はダイオード8のアノー
ドに加わる。そしてダイオード8のカソードから流出し
た電流は薬種回路ブロック2の高電位側電源線5−〉集
権回路ブロック内部−〉集積回路ブロック2の低電位側
電源線6 の経路を経てダイオード10のアノードに入
る。ダイオード10はこのとき順方向(即ち電流を流す
方向)に電圧印加されるため、導通し、ダイオード10
0カソードから4′の商用電源(負電圧)へと流れ込む
。
、2は薬種回路ブロック、3/、4/は商用電源入力端
子、5は薬種回路ブロック2の高電位電源線、6は薬種
回路ブロック2の低電位電源線、7はコンデンサ、8,
9,10,11は薬種回路ブロックと同一基盤上に形成
されたpn接合ダイオードである。ここで整流手段1′
はpn接合ダイオード8〜11によって構成され、両波
整流、即ち3′ 4′の入力端子に印加された商用電
源の電圧極性が時間と共に正電圧、負電圧に入れ替わる
周期に同期して整流動作を行う。まず商用電源が6′に
正電圧、4′に負電圧という状態で印加された場合を考
えると、3′から入った正電圧はダイオード8のアノー
ドに加わる。そしてダイオード8のカソードから流出し
た電流は薬種回路ブロック2の高電位側電源線5−〉集
権回路ブロック内部−〉集積回路ブロック2の低電位側
電源線6 の経路を経てダイオード10のアノードに入
る。ダイオード10はこのとき順方向(即ち電流を流す
方向)に電圧印加されるため、導通し、ダイオード10
0カソードから4′の商用電源(負電圧)へと流れ込む
。
次に逆の動作を考える。即ち商用電源が4′に正電圧、
5′に負電圧という状態で印加された場合を考えると、
4′か、ら入った正電圧はダイオード9のアノードに加
わる。そしてダイオード90カソードから流出した電流
は集積回路ブロック2の高電位側電源線5−〉集積回路
ブロック内部−〉集積回路ブロック2の低電位側電源線
6 の経路を経てダイオード11のアノードに入る。ダ
イオード11はこのとき順方向(即ち電流を流す方向)
に電圧印加されるため、導通し、ダイオード11のカソ
ードから3′の商用電源(負電圧)へと流れ込む。以上
の説明から明らかなよ5に商用電源の電圧極性の交番動
作に合わせ、ダイオード8〜11で構成される整流手段
が薬種回路ブロック2にかかる電源の慣性を一方向に揃
えるため、薬種回路ブロック2は正常に動作することが
可能になる。
5′に負電圧という状態で印加された場合を考えると、
4′か、ら入った正電圧はダイオード9のアノードに加
わる。そしてダイオード90カソードから流出した電流
は集積回路ブロック2の高電位側電源線5−〉集積回路
ブロック内部−〉集積回路ブロック2の低電位側電源線
6 の経路を経てダイオード11のアノードに入る。ダ
イオード11はこのとき順方向(即ち電流を流す方向)
に電圧印加されるため、導通し、ダイオード11のカソ
ードから3′の商用電源(負電圧)へと流れ込む。以上
の説明から明らかなよ5に商用電源の電圧極性の交番動
作に合わせ、ダイオード8〜11で構成される整流手段
が薬種回路ブロック2にかかる電源の慣性を一方向に揃
えるため、薬種回路ブロック2は正常に動作することが
可能になる。
第3図は第2図に示した整流手段の集積平面図である。
図中5“、4“は商用電源入力用金属配線、5′は集積
回路ブロックの高電位供給用金属配線、6′は集積回路
ブロックの低電位供給用金属配線、31.52は絶縁層
上に形成された半導体領域、53,54,55.56は
31.32の半導体領域に形成されたpn接合境界、3
7,3s、39,4o、41.42は電源用金属配線(
S // 、 4“ 5 /’ 、 、s / )と半
導体領域61,32とを電気的に接続するためのコンタ
クトホール(絶縁層の穴)である。
回路ブロックの高電位供給用金属配線、6′は集積回路
ブロックの低電位供給用金属配線、31.52は絶縁層
上に形成された半導体領域、53,54,55.56は
31.32の半導体領域に形成されたpn接合境界、3
7,3s、39,4o、41.42は電源用金属配線(
S // 、 4“ 5 /’ 、 、s / )と半
導体領域61,32とを電気的に接続するためのコンタ
クトホール(絶縁層の穴)である。
第4図は整流手段集積部の断面図である。図中4“は商
用電源人力用金属層、5′は集積回路フロックの高電位
供給用金属配線、6′は集積回路ブロックの低電位供給
用金属配線、51は集積回路形成用半導体基板、52は
シリコン酸化絶縁膜45.44は絶縁膜42の上に形成
された半導体領域、45,46,47.48は金属配線
層との電気的接続のためのコンタクトホール、49は半
導体領域43.44と金属配線層を電気的に分離するた
めの絶縁膜、50は半導体集積回路の最終工程で形成さ
れる不活性化膜(パシベーション膜)である。
用電源人力用金属層、5′は集積回路フロックの高電位
供給用金属配線、6′は集積回路ブロックの低電位供給
用金属配線、51は集積回路形成用半導体基板、52は
シリコン酸化絶縁膜45.44は絶縁膜42の上に形成
された半導体領域、45,46,47.48は金属配線
層との電気的接続のためのコンタクトホール、49は半
導体領域43.44と金属配線層を電気的に分離するた
めの絶縁膜、50は半導体集積回路の最終工程で形成さ
れる不活性化膜(パシベーション膜)である。
このように絶縁層の上に整流手段を形成するのは、整流
用の半導体素子を基板41がも完全に絶縁分離し、寄生
夕゛イオードを排除するためである従って例えばS O
S (5ilicon on 5aphire)、SO
工(5ilicon On 工n5ulator )S
I P OX (5ilicon工mplanted
0xidation ) などと呼ばれる絶縁分離技
術においてはさらに簡便な構造で実現することができる
。なぜならそれらはpn接合の逆方向バイアスによるA
予分離ではなく、電気的に完全独立した素子群を絶縁性
の基板上に形成できるからである。
用の半導体素子を基板41がも完全に絶縁分離し、寄生
夕゛イオードを排除するためである従って例えばS O
S (5ilicon on 5aphire)、SO
工(5ilicon On 工n5ulator )S
I P OX (5ilicon工mplanted
0xidation ) などと呼ばれる絶縁分離技
術においてはさらに簡便な構造で実現することができる
。なぜならそれらはpn接合の逆方向バイアスによるA
予分離ではなく、電気的に完全独立した素子群を絶縁性
の基板上に形成できるからである。
[発明の効果コ
以上説明してきたように本発明を実施すれば、直流電源
を電子機器に組み込む必要性が極めて低くなり、電子機
器の高密度組立が容易になる。
を電子機器に組み込む必要性が極めて低くなり、電子機
器の高密度組立が容易になる。
また本発明によれば従来の集積回路のように、電源のW
FE印加方法を誤って集積回路を破壊させることを防止
することができる。
FE印加方法を誤って集積回路を破壊させることを防止
することができる。
本発明は広範囲に応用できる。例えば自動車に搭載する
電子機器ではエンジンの動力で発電された交流電圧を直
接利用することが可能になる。またその他電気釜、電気
掃除機、電気洗濯機等など日常の家庭電化製品について
はそのほとんどに応用がきく。
電子機器ではエンジンの動力で発電された交流電圧を直
接利用することが可能になる。またその他電気釜、電気
掃除機、電気洗濯機等など日常の家庭電化製品について
はそのほとんどに応用がきく。
第1図は本発明の基本構成図、第2図は本発明の具体的
構成例の図、第3図は本発明の集積回路平面図、第4図
は本発明の薬種回路断面図。 図中 1.1′・・・・・・・・・・・・・・・整流手段2.
2’、2“・・・・・・集積回路ブロック3 、3 /
、 3 //・・・・・・商用電源入力端子4.4
′ 4″・・・・・・商用電源入力端子5、s’、s
“・・・・・・集積回路ブロック高電位線6&6’v6
“・・・・・・集積回路ブロック低電位線31.32・
・・・・・・・・・・・絶縁膜上の半導体領域43.4
4・・・・・・・・・・・・絶縁膜上の半導体領域第2
図
構成例の図、第3図は本発明の集積回路平面図、第4図
は本発明の薬種回路断面図。 図中 1.1′・・・・・・・・・・・・・・・整流手段2.
2’、2“・・・・・・集積回路ブロック3 、3 /
、 3 //・・・・・・商用電源入力端子4.4
′ 4″・・・・・・商用電源入力端子5、s’、s
“・・・・・・集積回路ブロック高電位線6&6’v6
“・・・・・・集積回路ブロック低電位線31.32・
・・・・・・・・・・・絶縁膜上の半導体領域43.4
4・・・・・・・・・・・・絶縁膜上の半導体領域第2
図
Claims (1)
- 集積回路基板、前記集積回路基板上に形成された電子回
路、前記電子回路の製造過程において形成される、前記
集積回路基板と配線層との絶縁分離薄膜、前記薄膜上に
形成されるpn接合整流手段とを有し、前記pn接合整
流手段は前記集積回路基板上に形成された前記電子回路
の電源配線に接続され、かつ前記整流手段のカソードが
前記電子回路の高電位側電源配線に、アノードが前記電
子回路の低電位側電源配線に接続されることを特徴とす
る集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2417690A JPH03228367A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2417690A JPH03228367A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 集積回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03228367A true JPH03228367A (ja) | 1991-10-09 |
Family
ID=12131045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2417690A Pending JPH03228367A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 集積回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03228367A (ja) |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP2417690A patent/JPH03228367A/ja active Pending
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