JPH03229855A - 黒色めっき鋼板およびその製造方法 - Google Patents
黒色めっき鋼板およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH03229855A JPH03229855A JP2227790A JP2227790A JPH03229855A JP H03229855 A JPH03229855 A JP H03229855A JP 2227790 A JP2227790 A JP 2227790A JP 2227790 A JP2227790 A JP 2227790A JP H03229855 A JPH03229855 A JP H03229855A
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- Japan
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- steel sheet
- layer
- thickness
- plated steel
- copper
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は硬く、美しい黒色を有する黒色めっき鋼板およ
びその製造方法に関するもので、得られた黒色めっき鋼
板は、建材、家電、時計ケース、メガネフレーム、太陽
熱集熱板等の用途に利用される。
びその製造方法に関するもので、得られた黒色めっき鋼
板は、建材、家電、時計ケース、メガネフレーム、太陽
熱集熱板等の用途に利用される。
［従来の技術］
従来、黒色めっき鋼板は、Ｔｉの酸化物、窒化物、炭化
物およびこれら複合化合物皮膜をＰＶＤにより形成して
得られている。例えば特開昭６２−２１８５５０号は、
３Ｘ１０−５〜ｌＸｌ０−２Ｔｏｒｒの酸素ガス導入下
で反応性イオンプレーティングを行って、黒色Ｔ ｉ
ＯＴ ｉ ０２皮膜を得る方法を開示している。特開昭
６２−１４６２５５号はＴｉの炭化物−窒化物複合皮膜
を、特開昭６３−１６１５５号はＴｉとＮの組成を変化
させて黒紫色のＴｉＮ皮膜を得る方法を開示している。
物およびこれら複合化合物皮膜をＰＶＤにより形成して
得られている。例えば特開昭６２−２１８５５０号は、
３Ｘ１０−５〜ｌＸｌ０−２Ｔｏｒｒの酸素ガス導入下
で反応性イオンプレーティングを行って、黒色Ｔ ｉ
ＯＴ ｉ ０２皮膜を得る方法を開示している。特開昭
６２−１４６２５５号はＴｉの炭化物−窒化物複合皮膜
を、特開昭６３−１６１５５号はＴｉとＮの組成を変化
させて黒紫色のＴｉＮ皮膜を得る方法を開示している。
さらに特開昭６２−２１８５４９号は、Ｔｉ等のＩＶａ
、Ｖａ族元素の炭化物層、窒化物層を積層化させて黒色
高耐摩耗性の皮膜を得る方法を開示している。
、Ｖａ族元素の炭化物層、窒化物層を積層化させて黒色
高耐摩耗性の皮膜を得る方法を開示している。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、従来のＴｉ系の黒色めっき皮膜は、原料
となるＴｉが高価である。
となるＴｉが高価である。
また、Ｔｉ化合物皮膜の製造方法も制御が難しいという
問題がある。
問題がある。
本発明の目的とするところは、安価な原料を用いて製造
コストを低くすることができる゛とともに、制御も容易
な黒色めっき鋼板及びその製造方法を提供することにあ
る。
コストを低くすることができる゛とともに、制御も容易
な黒色めっき鋼板及びその製造方法を提供することにあ
る。
［課題を解決する手段］
この目的を達成するために、本発明の黒色めっき鋼板は
、鋼板と、この鋼板の少なくとも片面に形成された厚さ
０．１〜５μｍの銅また５は銅合金層と、この層上に形
成された厚さ０．５μｍ以上のアモルファス状、マイク
ロクリスタル状またはこれらの混合状態のＦｅ−３ｉ−
０層化合物皮膜とを具備している。
、鋼板と、この鋼板の少なくとも片面に形成された厚さ
０．１〜５μｍの銅また５は銅合金層と、この層上に形
成された厚さ０．５μｍ以上のアモルファス状、マイク
ロクリスタル状またはこれらの混合状態のＦｅ−３ｉ−
０層化合物皮膜とを具備している。
また本発明の黒色めっき鋼板の製造方法は、鋼板の少な
くとも片面に厚さ０．１〜５μｍの銅または銅合金層を
真空蒸着法、イオンプレーティング法、及び湿式めっき
法から選択された方法で形成する工程と、この層上に厚
さ０．５μｍ以上のアモルファス状、マイクロクリスタ
ル状、またはこれらの混合状態のＦｅ−Ｓｉ−０層化合
物皮膜を、５ Ｘ １０−’ 〜２ Ｘ １０−２Ｔｏ
ｒｒの雰囲気ガス中で、反応性真空蒸着法または反応性
イオンプレーティング法により形成する工程とを具備し
ている。
くとも片面に厚さ０．１〜５μｍの銅または銅合金層を
真空蒸着法、イオンプレーティング法、及び湿式めっき
法から選択された方法で形成する工程と、この層上に厚
さ０．５μｍ以上のアモルファス状、マイクロクリスタ
ル状、またはこれらの混合状態のＦｅ−Ｓｉ−０層化合
物皮膜を、５ Ｘ １０−’ 〜２ Ｘ １０−２Ｔｏ
ｒｒの雰囲気ガス中で、反応性真空蒸着法または反応性
イオンプレーティング法により形成する工程とを具備し
ている。
［作 用コ
本発明の黒色皮膜は、Ｃｕ層とＦｅ−Ｓｉ−０化合物皮
膜との組合わせで構成されている。その理由は、鋼板上
に設けたＣｕ層の色調と、アモルファス状もしくはマイ
クロクリスタル状のＦｅＳｉ−０化合物皮膜中に存在す
る欠陥の光吸収によって黒色が得られるためである。
膜との組合わせで構成されている。その理由は、鋼板上
に設けたＣｕ層の色調と、アモルファス状もしくはマイ
クロクリスタル状のＦｅＳｉ−０化合物皮膜中に存在す
る欠陥の光吸収によって黒色が得られるためである。
Ｃｕ層を０．１μｍ以上とした理由は、鋼板にＣｕの色
調を得るためであり、５μｍ以下としたのは、それ以上
厚くする必要はないためである。
調を得るためであり、５μｍ以下としたのは、それ以上
厚くする必要はないためである。
Ｃｕ層の形成方法は、湿式めっき法、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法のいずれで成膜しても差しつかえな
い。
ンプレーティング法のいずれで成膜しても差しつかえな
い。
Ｃｕ層の上に形成する皮膜をＦｅ−Ｓｉ−０化合物皮膜
にした理由は、Ｆｅ、ＳＬ・が原料として安価であるこ
とと、Ｓｉを原料とすることによって、皮膜のアモルフ
ァス化、マイクロクリスタル化が起りやすいためである
。Ｆｅ−Ｓｉ−０化合物皮膜の厚さを０．５μｍ以上と
した理由は、この厚さより薄いと膜中の欠陥による光吸
収が充分でないため、黒色が得られないためである。Ｆ
ｅ−Ｓｉ−０化合物皮膜の形成方法は、酸素ガス、空気
などの５ Ｘ １０−’ 〜２ Ｘ １０−２Ｔｏｒｒ
の雰囲気圧力下での反応性真空蒸着法または反応性イオ
ンプレーティング法によりおこなう。雰囲気圧力を限定
した理由は、５ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒよりも高い真空
度では充分な黒色が得られない。また２Ｘ１０−２Ｔｏ
ｒｒよりも悪い真空では皮膜の密着性が悪くなるためで
ある。
にした理由は、Ｆｅ、ＳＬ・が原料として安価であるこ
とと、Ｓｉを原料とすることによって、皮膜のアモルフ
ァス化、マイクロクリスタル化が起りやすいためである
。Ｆｅ−Ｓｉ−０化合物皮膜の厚さを０．５μｍ以上と
した理由は、この厚さより薄いと膜中の欠陥による光吸
収が充分でないため、黒色が得られないためである。Ｆ
ｅ−Ｓｉ−０化合物皮膜の形成方法は、酸素ガス、空気
などの５ Ｘ １０−’ 〜２ Ｘ １０−２Ｔｏｒｒ
の雰囲気圧力下での反応性真空蒸着法または反応性イオ
ンプレーティング法によりおこなう。雰囲気圧力を限定
した理由は、５ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒよりも高い真空
度では充分な黒色が得られない。また２Ｘ１０−２Ｔｏ
ｒｒよりも悪い真空では皮膜の密着性が悪くなるためで
ある。
［実施例コ
以下、本発明の実施例を示す。
溶剤脱脂したリムド鋼板をイオンプレーティング装置の
基板ホルダーに取り付け、真空室内をＩＸ １０−５Ｔ
ｏｒｒに排気し、・基板を２００℃に加熱した。その４
後、Ａｒガ各、をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ導入し、基
板に一１０００Ｖ、、の電圧を印加して１０分間Ａ「イ
オンボンバードによる放電洗浄を行った。
基板ホルダーに取り付け、真空室内をＩＸ １０−５Ｔ
ｏｒｒに排気し、・基板を２００℃に加熱した。その４
後、Ａｒガ各、をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ導入し、基
板に一１０００Ｖ、、の電圧を印加して１０分間Ａ「イ
オンボンバードによる放電洗浄を行った。
再びＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに排気した後、基板にＣ
ｕを０．５μｍ真空蒸着した。つぎに、酸素ガスをＩＸ
１０−’Ｔｏｒｒ導入し、ついでＦｅ−５０ｖｔ％Ｓ
ｉ合金を蒸発させて、反応性真空蒸着法によって、Ｃｕ
層上にマイクロクリスタル状のＦｅ−Ｓｉ−Ｏ化合物皮
膜を５μｍ形成した。得られた皮膜は美しい色調の黒色
を呈していた。皮膜の組成はＦｅ３５ｗｔ％、Ｓｉ５０
ｖｔ％、０Ｌ５ｖｔ％であった。ヌープ硬さ試験では１
５００ ｋｇｆ／ｍｍ ２の硬さを示した。これは反応
性イオンプレーティング法で一般的に得られるＴｉＮ膜
に匹敵する値であった。
ｕを０．５μｍ真空蒸着した。つぎに、酸素ガスをＩＸ
１０−’Ｔｏｒｒ導入し、ついでＦｅ−５０ｖｔ％Ｓ
ｉ合金を蒸発させて、反応性真空蒸着法によって、Ｃｕ
層上にマイクロクリスタル状のＦｅ−Ｓｉ−Ｏ化合物皮
膜を５μｍ形成した。得られた皮膜は美しい色調の黒色
を呈していた。皮膜の組成はＦｅ３５ｗｔ％、Ｓｉ５０
ｖｔ％、０Ｌ５ｖｔ％であった。ヌープ硬さ試験では１
５００ ｋｇｆ／ｍｍ ２の硬さを示した。これは反応
性イオンプレーティング法で一般的に得られるＴｉＮ膜
に匹敵する値であった。
［発明の効果コ
以上の様に本発明によれば、鋼板の少なくとも片面にＣ
ｕ層をコーティングした後、５Ｘ１０４≦シ 〜２ Ｘ １０−２Ｔｏｒｒの酸素ガスまたは空気雰囲
気圧力下で反応性真空蒸着または反応性イオンプレーテ
ィングによって、アモルファス状もしくはマイクロクリ
スタル状のＦｅ−３ｉ−０層化合物皮膜を形成したので
、従来のＴｌ系化合物皮膜とは異った成分元素の皮膜か
ら成る黒色めっき鋼板を安価に得ることができる。しか
もＣｕ層やＦｅ−Ｓｉ−０層化合物皮膜の形成方法は、
制御性がよいなと顕著な効果を発揮する。
ｕ層をコーティングした後、５Ｘ１０４≦シ 〜２ Ｘ １０−２Ｔｏｒｒの酸素ガスまたは空気雰囲
気圧力下で反応性真空蒸着または反応性イオンプレーテ
ィングによって、アモルファス状もしくはマイクロクリ
スタル状のＦｅ−３ｉ−０層化合物皮膜を形成したので
、従来のＴｌ系化合物皮膜とは異った成分元素の皮膜か
ら成る黒色めっき鋼板を安価に得ることができる。しか
もＣｕ層やＦｅ−Ｓｉ−０層化合物皮膜の形成方法は、
制御性がよいなと顕著な効果を発揮する。
Claims (2)
- （１）鋼板と、この鋼板の少なくとも片面に形成された
厚さ０．１〜５μｍの銅または銅合金層と、この層上に
形成された厚さ０．５μｍ以上のアモルファス状、マイ
クロクリスタル状またはこれらの混合状態のＦｅ−Ｓｉ
−Ｏ系化合物皮膜とを具備してなる黒色めっき鋼板。 - （２）鋼板の少なくとも片面に厚さ０．１〜５μｍの銅
または銅合金層を真空蒸着法、イオンプレーティング法
、又は湿式めっき法から選択された方法で形成する工程
と、この層上に厚さ０．５μｍ以上のアモルファス状、
マイクロクリスタル状、またはこれらの混合状態のＦｅ
−Ｓｉ−Ｏ系化合物皮膜を、５×１０＾−＾４〜２×１
０＾−＾２Ｔｏｒｒの雰囲気ガス中で、反応性真空蒸着
法または反応性イオンプレーティング法により形成する
工程とを具備してなる黒色めっき鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2227790A JPH03229855A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 黒色めっき鋼板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2227790A JPH03229855A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 黒色めっき鋼板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03229855A true JPH03229855A (ja) | 1991-10-11 |
Family
ID=12078267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2227790A Pending JPH03229855A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 黒色めっき鋼板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03229855A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012204154A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Seiko Instruments Inc | ボタン型アルカリ電池用負極缶及びボタン型アルカリ電池 |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP2227790A patent/JPH03229855A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012204154A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Seiko Instruments Inc | ボタン型アルカリ電池用負極缶及びボタン型アルカリ電池 |
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