JPH0323055A - 回転対称の物体を製造する方法ならびにその装置 - Google Patents
回転対称の物体を製造する方法ならびにその装置Info
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- JPH0323055A JPH0323055A JP2126525A JP12652590A JPH0323055A JP H0323055 A JPH0323055 A JP H0323055A JP 2126525 A JP2126525 A JP 2126525A JP 12652590 A JP12652590 A JP 12652590A JP H0323055 A JPH0323055 A JP H0323055A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
- C23C4/185—Separation of the coating from the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/123—Spraying molten metal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ａ． 産業上の利用分野
本発明は、金属融解物、とりわけ鋼融解物を噴霧させる
ことにより回転対称の物体を製造する方法および装置に
関する。
ことにより回転対称の物体を製造する方法および装置に
関する。
ｂ． 従来の技術
噴霧加圧成形による円形製品の製造は、例えばＥＰ ・
ＡＩ ０ ２２５ ７３２， ＥＰ − ＡＩ ０ １
８８ ９４４あるいは英国特許第１ ５９９ ３９２
号明細書がら公知である。融解物がノズルにより噴霧さ
れ、こうして生み出された金属のしずくは、回転する基
体に、これが垂直な回転軸を持つ基体であれ斜めもしく
は水平な回転軸を持つ基体であれ集められることが、こ
れら全ての方法に共通している。
ＡＩ ０ ２２５ ７３２， ＥＰ − ＡＩ ０ １
８８ ９４４あるいは英国特許第１ ５９９ ３９２
号明細書がら公知である。融解物がノズルにより噴霧さ
れ、こうして生み出された金属のしずくは、回転する基
体に、これが垂直な回転軸を持つ基体であれ斜めもしく
は水平な回転軸を持つ基体であれ集められることが、こ
れら全ての方法に共通している。
生産される製品の幾何学的な外形とサイズは、ここでは
、単位時間ごとに使われる融解物の量ノズルの振れ角度
．基体からのノズルの距離ならびに基体がノズルから離
れるように、またはノズルの方へ近づくように案内され
る速度と依存関係にある。ここでは、金属の大量の流れ
および基体のプリセントした動作速度を持続しながら製
品について企図したサイズを一定に保つべく努力されて
いる。
、単位時間ごとに使われる融解物の量ノズルの振れ角度
．基体からのノズルの距離ならびに基体がノズルから離
れるように、またはノズルの方へ近づくように案内され
る速度と依存関係にある。ここでは、金属の大量の流れ
および基体のプリセントした動作速度を持続しながら製
品について企図したサイズを一定に保つべく努力されて
いる。
しかしこれは満足のゆくほど或功をおさめていない．
有限の長さの円形棒を製造するため、垂直軸を中心に回
転ずる水平な皿の上へ金属のしずくを噴霧し、この皿を
垂直に下げる方法が特によい．Ｃ． 発明が解決しよう
とする課題 本発明の目的は、生産された物体がその全長にわたり、
なるべく一定の直径を有するように公知となっている方
法を改良することにある．ｄ， 課題を解決するための
手段 本発明は、金属融解物の噴霧、この頃霧により生み出さ
れた金属のしずくの基体への収集、特に完全に１回転し
た後のこの基体には一面に金属のしずくが吹きつけられ
、さらに収集位置（噴霧レヘル）に基づき回転を持続し
ながら基体をさらに回転させることによる回転対称の物
体の製造方法を出発点にしており、又、本発明によると
、噴霧レベルの位置は金属のしずくの供給中に連続して
突き止められ、基体の回転速度及び／又は金属のしずく
の大量の流れが噴霧レベルのプリセットされた目標・位
置が保持され得るように制御されることを特徴としてい
る。
転ずる水平な皿の上へ金属のしずくを噴霧し、この皿を
垂直に下げる方法が特によい．Ｃ． 発明が解決しよう
とする課題 本発明の目的は、生産された物体がその全長にわたり、
なるべく一定の直径を有するように公知となっている方
法を改良することにある．ｄ， 課題を解決するための
手段 本発明は、金属融解物の噴霧、この頃霧により生み出さ
れた金属のしずくの基体への収集、特に完全に１回転し
た後のこの基体には一面に金属のしずくが吹きつけられ
、さらに収集位置（噴霧レヘル）に基づき回転を持続し
ながら基体をさらに回転させることによる回転対称の物
体の製造方法を出発点にしており、又、本発明によると
、噴霧レベルの位置は金属のしずくの供給中に連続して
突き止められ、基体の回転速度及び／又は金属のしずく
の大量の流れが噴霧レベルのプリセットされた目標・位
置が保持され得るように制御されることを特徴としてい
る。
本発明のその他の形態において、噴霧レヘルの位置は光
学的に作動する送信機・受信機・ユニノトにより把握さ
れる。本発明のその他の形態は、送信機から放射される
光線の帯が回転対称の物体を引き抜く方向のレベルに平
行しているという特徴が見られる．本発明によると、光
線の帯が噴霧レベルの金属のしずくが吹きつけられてい
る面の外側で物体を切断することは重要とされる。
学的に作動する送信機・受信機・ユニノトにより把握さ
れる。本発明のその他の形態は、送信機から放射される
光線の帯が回転対称の物体を引き抜く方向のレベルに平
行しているという特徴が見られる．本発明によると、光
線の帯が噴霧レベルの金属のしずくが吹きつけられてい
る面の外側で物体を切断することは重要とされる。
本発明は検出用の磁気波長フロントを備えるシステムと
理解される光学的に作動する送信機・受信機・ユニント
の代わりに、噴霧レベルの上部の空間に任意にセットさ
れており、しかも音響ベースに基づいて作動するこの種
のものを利用することにより．、変形可能とされる． 本発明は、本方法を実施するため貯蔵容器と、噴霧され
る融解物用のノズルと、このノズルから距離をとって配
置され、回転し、このノズルから輸送装置を用いてさら
に回転自在とされる、噴霧された融解物を集める受け皿
とで構成される装置を出発点にしており、特にそのノズ
ルと基体は１つの部屋の中に配置されている．本発明に
よると、基体の横の噴霧レベルの範囲内には、基体ない
し噴霧レベルが送信機の光束の中にあり、又受信機がこ
の受信機の測定値を処理する制御器と、又、制御器が輸
送装置及び／又は融解物の流れｆ調整装置とつながれる
ように送信機と受信機が配置されることにより、この装
置に変形が加えられる．ｅ． 発明の効果 本発明はｌ実施例に基づき一層詳細に説明される。図面
によると噴霧される融解物は貯蔵容器１中にある。融解
物は貯蔵容器ｌの底にあいている開口から出るとノズル
２の中で噴霧されて細かいしずくになる．ノズル２は振
り子式に懸垂されており、その振れの範囲は振れ角度α
として表示される。従って、調整自在の範囲を基体３上
にねらいさだめることも可能である．こうして、スター
トポジションでは噴霧レベル４の配置が特定される。
理解される光学的に作動する送信機・受信機・ユニント
の代わりに、噴霧レベルの上部の空間に任意にセットさ
れており、しかも音響ベースに基づいて作動するこの種
のものを利用することにより．、変形可能とされる． 本発明は、本方法を実施するため貯蔵容器と、噴霧され
る融解物用のノズルと、このノズルから距離をとって配
置され、回転し、このノズルから輸送装置を用いてさら
に回転自在とされる、噴霧された融解物を集める受け皿
とで構成される装置を出発点にしており、特にそのノズ
ルと基体は１つの部屋の中に配置されている．本発明に
よると、基体の横の噴霧レベルの範囲内には、基体ない
し噴霧レベルが送信機の光束の中にあり、又受信機がこ
の受信機の測定値を処理する制御器と、又、制御器が輸
送装置及び／又は融解物の流れｆ調整装置とつながれる
ように送信機と受信機が配置されることにより、この装
置に変形が加えられる．ｅ． 発明の効果 本発明はｌ実施例に基づき一層詳細に説明される。図面
によると噴霧される融解物は貯蔵容器１中にある。融解
物は貯蔵容器ｌの底にあいている開口から出るとノズル
２の中で噴霧されて細かいしずくになる．ノズル２は振
り子式に懸垂されており、その振れの範囲は振れ角度α
として表示される。従って、調整自在の範囲を基体３上
にねらいさだめることも可能である．こうして、スター
トポジションでは噴霧レベル４の配置が特定される。
図面は下がったポジションの基体３を示しており、噴霧
レベル４は、すでに製造された物体５の自由な正面によ
り形戒される．基体３を棒６が支えている。この棒６を
輸送装置７が把持しており、この輸送装置は棒６ならび
に基体３を下げることができる．製造された物体５は案
内装置８により望ましい配置に保たれる． ノズル２と基体３は、不活性ガスの充填された部屋９の
中に置かれている． 本発明によると、手段１０． １１は部屋９中の側壁中
またはこれらに沿って噴霧レベル４の高さに取り付けら
れ、噴霧レベル４の位置を把握するため一つまり、基体
３の噴霧過程がスタートする際かあるいは物体５の自由
な正面の噴霧プロセス中に一製造される物体５に並べて
配置されている。
レベル４は、すでに製造された物体５の自由な正面によ
り形戒される．基体３を棒６が支えている。この棒６を
輸送装置７が把持しており、この輸送装置は棒６ならび
に基体３を下げることができる．製造された物体５は案
内装置８により望ましい配置に保たれる． ノズル２と基体３は、不活性ガスの充填された部屋９の
中に置かれている． 本発明によると、手段１０． １１は部屋９中の側壁中
またはこれらに沿って噴霧レベル４の高さに取り付けら
れ、噴霧レベル４の位置を把握するため一つまり、基体
３の噴霧過程がスタートする際かあるいは物体５の自由
な正面の噴霧プロセス中に一製造される物体５に並べて
配置されている。
手段１０． １１はそれ自体公知のタイプのｌ台の送信
機１０と受信機１１で構成されている。送信機１０は、
レーザー光線であると特に好ましいが、帯１２状の非散
乱性の測定光線を発する，８１２は送信機から放射され
る光線の＠１２が噴霧レベル４の金属のしすくの吹き付
けられた面の外側で本体５を切断する範囲内でその基体
の下がる方向に平行している或るレベルにある。この送
信機１０は受信機１１と適当に割り当てられた光に反応
するセルにより向き合っている。この光に反応するセル
の光学的な配置に基づき基体３ないし噴霧レベル４の位
置を直接突きとめることができる。受信機１ｌの測定値
は制御器１３まで送られる．この制御器は測定値の解釈
ならびに噴霧レベル４の位置の目標値との比較を行う．
目標値との差異は、棒６の下がるスピードを高めるか、
または下げるべく輸送装置を然るべクｉＩｉｌＩ？１ｌ
することによって修正される．融解物の゛流出量をｔｌ
ｉＩ節するために使われる然るべき調整手段への制御器
１３を制御することによる介入を通して噴霧レベル４を
貯蔵容器ｌから一定に保つこともできる．調整手段は、
ここではすべり弁のジョイント・もしくは貯蔵容器の棒
状の栓の作動であり、あるいは、流れ量に関し貯蔵容器
１の開口の流出横断面が一定であるために充填高さが基
準になっている場合には貯蔵容器中へ後から案内される
融解物量の然るべき変更が調整手段となる。
機１０と受信機１１で構成されている。送信機１０は、
レーザー光線であると特に好ましいが、帯１２状の非散
乱性の測定光線を発する，８１２は送信機から放射され
る光線の＠１２が噴霧レベル４の金属のしすくの吹き付
けられた面の外側で本体５を切断する範囲内でその基体
の下がる方向に平行している或るレベルにある。この送
信機１０は受信機１１と適当に割り当てられた光に反応
するセルにより向き合っている。この光に反応するセル
の光学的な配置に基づき基体３ないし噴霧レベル４の位
置を直接突きとめることができる。受信機１ｌの測定値
は制御器１３まで送られる．この制御器は測定値の解釈
ならびに噴霧レベル４の位置の目標値との比較を行う．
目標値との差異は、棒６の下がるスピードを高めるか、
または下げるべく輸送装置を然るべクｉＩｉｌＩ？１ｌ
することによって修正される．融解物の゛流出量をｔｌ
ｉＩ節するために使われる然るべき調整手段への制御器
１３を制御することによる介入を通して噴霧レベル４を
貯蔵容器ｌから一定に保つこともできる．調整手段は、
ここではすべり弁のジョイント・もしくは貯蔵容器の棒
状の栓の作動であり、あるいは、流れ量に関し貯蔵容器
１の開口の流出横断面が一定であるために充填高さが基
準になっている場合には貯蔵容器中へ後から案内される
融解物量の然るべき変更が調整手段となる。
従って本発明の場合には、金属のしず《の大屡の流れの
速度を不規則に下げたり、あるいはその大量の流れを支
えることにより、噴霧レベルがそのプリセットされた位
置から反れると同時に、ブリセントされた直径の縮小も
しくは拡大される結果になることが回避される．
速度を不規則に下げたり、あるいはその大量の流れを支
えることにより、噴霧レベルがそのプリセットされた位
置から反れると同時に、ブリセントされた直径の縮小も
しくは拡大される結果になることが回避される．
図面は本発明にかかる回転対称の物体を製造する装置の
概念的断面図である。 １・・・貯蔵容器、 ３・・・基体、 ５・・・製造された物体、 ７・・・輸送装置、 ９・・・部屋、 １１・・・受信機、 ｌ３・・・制御器． ２・・・ノズル、 ４・・・噴霧レベル、 ６・・・棒、 ８・・・案内装置、 １０・・・送信機、 ｌ２・・・帯、
概念的断面図である。 １・・・貯蔵容器、 ３・・・基体、 ５・・・製造された物体、 ７・・・輸送装置、 ９・・・部屋、 １１・・・受信機、 ｌ３・・・制御器． ２・・・ノズル、 ４・・・噴霧レベル、 ６・・・棒、 ８・・・案内装置、 １０・・・送信機、 ｌ２・・・帯、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）金属融解物の噴霧、この噴霧により生み出された金
属のしずくの基体への収集、特に、完全に１回転した後
のこの基体には一面に金属のしずくが吹きつけられ、収
集位置ないし噴霧レベルに基づくこの回転を持続しなが
らこの基体をさらに回転させることにより回転対称の物
体を製造する方法において、 前記噴霧レベルの位置は、前記金属のしずくの供給中に
連続して求められ、前記基体の回転速度及び／又は前記
金属のしずくの大量の流れが前記噴霧レベルのプリセッ
ト済みの目標・位置に保持されるように制御されること
を特徴とする方法。 ２）光学的に作動する送信機・受信機・ユニットが前記
噴霧レベルの配置を把握することを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の回転対称の物体を製造する方法。 ３）前記送信機から放射された光線の帯は引抜き方向に
鉛直に拡散方向へ向かっており、この光線の帯の幅は前
記回転対称の物体の該引抜き方向のレベルに平行してい
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の回転
対称の物体を製造する方法。 ４）前記光線の帯は、前記噴霧レベルの前記金属のしず
くが吹きつけられている面の外側で前記物体を切断する
ことを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の回転対
称の物体を製造する方法。 ５）貯蔵容器と、噴霧される融解物用のノズルと、この
噴霧された融解物を収集するため、このノズルから距離
をおいて配置され、回転自在であって、このノズルから
輸送手段によりさらに回転自在となっている基体とで構
成され、このノズルと基体が１室の中に配置されている
特許請求の範囲第１項に記載の方法を遂行する装置にお
いて、前記噴霧レベル（４）の範囲もしくは該噴霧レベ
ルの上部には、前記基体（３）または該噴霧レベル（４
）が前記送信機（１０）の光束中に位置し、前記受信機
（１１）の測定値を処理する制御器（１３）とこの受信
機（１１）がつなげられるように、又、この制御器（１
３）が前記輸送手段（７）及び／又は前記融解物の流れ
量を調整する装置とつなげられるようにこの送信機（１
０）と受信機（１１）が配置されていることを特徴とす
る回転対称の物体を製造する装置。 ６）前記送信機（１０）と前記受信機（１１）は光線の
帯を生み出したり、あるいは処理し、前記噴霧レベル（
４）の範囲内では前記基体（３）ないし該噴霧レベルの
サイドにおいて向かい合わせに配置されていることを特
徴とする特許請求の範囲第５項に記載の回転対称の物体
を製造する装置。 ７）前記噴霧レベル（４）は前記送信機（１０）の光束
の中で該光線の反射面として役立っていることを特徴と
する特許請求の範囲第（５）項に記載の回転対称の物体
を製造する装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3916115.3 | 1989-05-16 | ||
| DE3916115A DE3916115A1 (de) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | Verfahren und einrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer koerper |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0323055A true JPH0323055A (ja) | 1991-01-31 |
Family
ID=6380842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2126525A Pending JPH0323055A (ja) | 1989-05-16 | 1990-05-16 | 回転対称の物体を製造する方法ならびにその装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5054539A (ja) |
| EP (1) | EP0398455B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0323055A (ja) |
| AT (1) | ATE100500T1 (ja) |
| DE (1) | DE3916115A1 (ja) |
| DK (1) | DK0398455T3 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5794503A (en) * | 1994-08-25 | 1998-08-18 | Tenryu Seikyo Kabushiki Kaisha | Disc cutter |
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| DE4135194C1 (ja) * | 1991-10-22 | 1993-01-28 | Mannesmann Ag, 4000 Duesseldorf, De | |
| US5176874A (en) * | 1991-11-05 | 1993-01-05 | General Electric Company | Controlled process for the production of a spray of atomized metal droplets |
| US5718951A (en) * | 1995-09-08 | 1998-02-17 | Aeroquip Corporation | Method and apparatus for creating a free-form three-dimensional article using a layer-by-layer deposition of a molten metal and deposition of a powdered metal as a support material |
| US5746844A (en) * | 1995-09-08 | 1998-05-05 | Aeroquip Corporation | Method and apparatus for creating a free-form three-dimensional article using a layer-by-layer deposition of molten metal and using a stress-reducing annealing process on the deposited metal |
| US5669433A (en) * | 1995-09-08 | 1997-09-23 | Aeroquip Corporation | Method for creating a free-form metal three-dimensional article using a layer-by-layer deposition of a molten metal |
| US5787965A (en) * | 1995-09-08 | 1998-08-04 | Aeroquip Corporation | Apparatus for creating a free-form metal three-dimensional article using a layer-by-layer deposition of a molten metal in an evacuation chamber with inert environment |
| US5617911A (en) * | 1995-09-08 | 1997-04-08 | Aeroquip Corporation | Method and apparatus for creating a free-form three-dimensional article using a layer-by-layer deposition of a support material and a deposition material |
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| CN103243324B (zh) * | 2013-05-23 | 2015-08-26 | 沈阳航空航天大学 | 一种多自由度数控冶金射流直接成形的制备方法和设备 |
| CN103737002B (zh) * | 2014-01-24 | 2016-05-18 | 江苏理工学院 | 金属坯斜喷雾化移动装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE225732C (ja) * | ||||
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-
1989
- 1989-05-16 DE DE3916115A patent/DE3916115A1/de active Granted
-
1990
- 1990-05-02 AT AT90250111T patent/ATE100500T1/de not_active IP Right Cessation
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5794503A (en) * | 1994-08-25 | 1998-08-18 | Tenryu Seikyo Kabushiki Kaisha | Disc cutter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0398455A1 (de) | 1990-11-22 |
| EP0398455B1 (de) | 1994-01-19 |
| US5054539A (en) | 1991-10-08 |
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| DE3916115C2 (ja) | 1992-12-10 |
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