JPH03230946A - 積層フィルム - Google Patents
積層フィルムInfo
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- JPH03230946A JPH03230946A JP2025277A JP2527790A JPH03230946A JP H03230946 A JPH03230946 A JP H03230946A JP 2025277 A JP2025277 A JP 2025277A JP 2527790 A JP2527790 A JP 2527790A JP H03230946 A JPH03230946 A JP H03230946A
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- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 7
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 7
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 abstract description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 abstract description 2
- NEIHULKJZQTQKJ-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Ag] Chemical compound [Cu].[Ag] NEIHULKJZQTQKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 abstract 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 2
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- WPUJEWVVTKLMQI-UHFFFAOYSA-N benzene;ethoxyethane Chemical compound CCOCC.C1=CC=CC=C1 WPUJEWVVTKLMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
透明導電性フィルムは液晶用、−啄パネル用透明電極と
して利用されている6本発明は、透明性・導電性・耐久
性に優れた透明導電性積層フィルムに関するものである
。
して利用されている6本発明は、透明性・導電性・耐久
性に優れた透明導電性積層フィルムに関するものである
。
(従来の技術〕
高分子フィルム上に形成された透明導電被膜として従来
から知られているものは ■ 金、銀、銅、パラジウム等の金属薄膜■ 酸化イン
ジウム、酸化錫、ヨウ化銅等の化合物半導体および ■ 金、銀、銅、パラジウム等の導電性金属膜を可視光
領域において透明になるよう透明導電体膜と組み合せた
積層膜が知られている。
から知られているものは ■ 金、銀、銅、パラジウム等の金属薄膜■ 酸化イン
ジウム、酸化錫、ヨウ化銅等の化合物半導体および ■ 金、銀、銅、パラジウム等の導電性金属膜を可視光
領域において透明になるよう透明導電体膜と組み合せた
積層膜が知られている。
しかしながら、液晶電極、タッチパネルに応用できる性
能を有する透明導電性膜が工業的に安価に製造されるに
至っていない。
能を有する透明導電性膜が工業的に安価に製造されるに
至っていない。
即ち、上記■の金属薄膜は、金属が広い波長領域にわた
り反射能又は吸収能が高いため、光線透過率の高めると
、膜が薄くなり、導電性、耐久性の高いものが得られ難
い。
り反射能又は吸収能が高いため、光線透過率の高めると
、膜が薄くなり、導電性、耐久性の高いものが得られ難
い。
上記■の化合物半導体薄膜は、例えば、真空蒸着法、ス
パンタリング法等の真空中における薄膜形成法で高分子
フィルム上に形成することができる。透明で導電性の高
い膜は通常400°C以上の高温下では得られる。しか
し、高分子フィルムはガラス基板に比べて耐熱性がなく
高温で薄膜を形成することが不可能である。そのため導
電性を高めるため数千オングストローム積層すると高分
子フィルムのカール、薄膜の割れの問題が発生する。
パンタリング法等の真空中における薄膜形成法で高分子
フィルム上に形成することができる。透明で導電性の高
い膜は通常400°C以上の高温下では得られる。しか
し、高分子フィルムはガラス基板に比べて耐熱性がなく
高温で薄膜を形成することが不可能である。そのため導
電性を高めるため数千オングストローム積層すると高分
子フィルムのカール、薄膜の割れの問題が発生する。
また被覆膜特性を均一に制御するためには膜形成速度を
遅くする必要があり生産性が悪く、製造コストが著しく
高くなる。
遅くする必要があり生産性が悪く、製造コストが著しく
高くなる。
上記■の透明導電性フィルムの代表的な構成は金属膜を
高屈折率薄膜ではさんだものを高分子フィルム上に形成
させた積層フィルムが挙げられる。
高屈折率薄膜ではさんだものを高分子フィルム上に形成
させた積層フィルムが挙げられる。
例えば、真空蒸着、反応性蒸着又は反応性スパッタリン
グで形成させたB iz 03/Au/B 1z03/
高分子フィルム、Z n S / A g / Z n
S /高分子フィルム又はT i 02 /Ag/T
i Oz /高分子フィルム等サンドイッチ構造の積
層フィルムが提案されている。特に金属層として金、銀
を用いたものは、金、銀自身が持つ光学特性により可視
光領域における透明性が特に優れていること、導電性に
おいても好ましい特性を有していること等の点から材料
として特に優れている。
グで形成させたB iz 03/Au/B 1z03/
高分子フィルム、Z n S / A g / Z n
S /高分子フィルム又はT i 02 /Ag/T
i Oz /高分子フィルム等サンドイッチ構造の積
層フィルムが提案されている。特に金属層として金、銀
を用いたものは、金、銀自身が持つ光学特性により可視
光領域における透明性が特に優れていること、導電性に
おいても好ましい特性を有していること等の点から材料
として特に優れている。
しかし、高分子フィルム上に前記のサンドインチ構造を
有する積層薄膜を直接形成するとフィルムがフレキシブ
ルなことにより割れ等の耐久性、高分子フィルムの表面
と積層薄膜との密着力の不足等の問題があった。
有する積層薄膜を直接形成するとフィルムがフレキシブ
ルなことにより割れ等の耐久性、高分子フィルムの表面
と積層薄膜との密着力の不足等の問題があった。
その目的とする所は積層フィルムのそり、透明性、1導
電性、耐久性等、フィルム特有の緒特性も含めて優れた
透明導電性フィルムを提供することにある。
電性、耐久性等、フィルム特有の緒特性も含めて優れた
透明導電性フィルムを提供することにある。
〔課題を解決するための手段]
少なくとも片面にシランカップリング剤を含むエポキシ
アクリレート紫外線硬化樹脂のコーティング層を有する
高分子フィルム(A)上に金属酸化物薄膜層(B)、金
属薄膜層(C)、金属酸化物薄膜(D)を順詩形層した
ことを特徴とする積層フィルムである。
アクリレート紫外線硬化樹脂のコーティング層を有する
高分子フィルム(A)上に金属酸化物薄膜層(B)、金
属薄膜層(C)、金属酸化物薄膜(D)を順詩形層した
ことを特徴とする積層フィルムである。
本発明は、従来技術における前述のような欠点のない優
れた透明性、導電性、平坦性、耐久性を存し、密着力の
強い積層体について研究した結果以下に示す構成の積層
フィルムを得るにいたった。
れた透明性、導電性、平坦性、耐久性を存し、密着力の
強い積層体について研究した結果以下に示す構成の積層
フィルムを得るにいたった。
以下、本発明の詳細について述べる。
本発明において用いられる高分子フィルムは、可撓性を
有する透明フィルムもしくはシートであり例えばポリエ
チレンテレフタレート等ポリエステル系フィルム、ポリ
サルフォンボリエーテルサルフォン等すルフォン系フィ
ルムが使用可能である。上記フィルムに塗膜を形成する
有機コーティング層の樹脂としては、高分子フィルム金
属酸化物の双方に対して密着力が必要であり、エポキシ
アクリレートプレポリマーにシランカップリング剤を添
加した時達成されることを見い出した。シランカップリ
ング剤の添加量は0.5〜1重量%が好ましい。シラン
カップリング剤としては、たとえば信越化学■のKMB
−503、KMB−603、KMB−803日本ユニカ
ー−のA−187が用いられるが、特にエポキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基を有するものが好ましい。エポキ
シアクリレートプレポリマーは融点が50°C以上のも
のが好ましい。
有する透明フィルムもしくはシートであり例えばポリエ
チレンテレフタレート等ポリエステル系フィルム、ポリ
サルフォンボリエーテルサルフォン等すルフォン系フィ
ルムが使用可能である。上記フィルムに塗膜を形成する
有機コーティング層の樹脂としては、高分子フィルム金
属酸化物の双方に対して密着力が必要であり、エポキシ
アクリレートプレポリマーにシランカップリング剤を添
加した時達成されることを見い出した。シランカップリ
ング剤の添加量は0.5〜1重量%が好ましい。シラン
カップリング剤としては、たとえば信越化学■のKMB
−503、KMB−603、KMB−803日本ユニカ
ー−のA−187が用いられるが、特にエポキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基を有するものが好ましい。エポキ
シアクリレートプレポリマーは融点が50°C以上のも
のが好ましい。
本発明の積層フィルムは前記有機コーティング上に前記
のごとく、金属酸化物薄膜層、金属薄膜層、金属酸化物
薄膜層を順時積層したものであるが、かかる金属薄膜層
は、金、銀、銅およびプラチナのうちの複数の混合物あ
るいは単体からなることが望ましい。金属薄膜の膜厚は
、透明導電性としての要求特性をもてば別に限定される
ものでないが、導電性を持つためには、少なくともある
程度の領域で連続性を持つことが必要である。島状構造
より、連続構造に移る膜厚として50Å以上又、透明性
の点から500Å以下が好ましい。
のごとく、金属酸化物薄膜層、金属薄膜層、金属酸化物
薄膜層を順時積層したものであるが、かかる金属薄膜層
は、金、銀、銅およびプラチナのうちの複数の混合物あ
るいは単体からなることが望ましい。金属薄膜の膜厚は
、透明導電性としての要求特性をもてば別に限定される
ものでないが、導電性を持つためには、少なくともある
程度の領域で連続性を持つことが必要である。島状構造
より、連続構造に移る膜厚として50Å以上又、透明性
の点から500Å以下が好ましい。
金属酸化物層を構成するものとしては、透明高屈折率、
低比抵抗のものであれば特に限定されるものでないが、
屈折率は可視光に対して1.6以上好ましくは1.7以
上の屈折率を有し、シート抵抗値が300Ω以下、光線
透過率80%以上、好ましくは90%以上であるのが効
果的である。これらの条件を満たすものとしては、イン
ジウム・錫合金の酸化物、酸化錫が上げられる。
低比抵抗のものであれば特に限定されるものでないが、
屈折率は可視光に対して1.6以上好ましくは1.7以
上の屈折率を有し、シート抵抗値が300Ω以下、光線
透過率80%以上、好ましくは90%以上であるのが効
果的である。これらの条件を満たすものとしては、イン
ジウム・錫合金の酸化物、酸化錫が上げられる。
本発明は金属層として銀銅合金の薄膜層を用いその両側
を酸化錫薄膜で覆った積層物をエポキシアクリレ−I・
プレポリマーを塗布樹脂としコーティングしたポリエチ
レンテレフタレート上に設けた積層フィルムとして使用
される。
を酸化錫薄膜で覆った積層物をエポキシアクリレ−I・
プレポリマーを塗布樹脂としコーティングしたポリエチ
レンテレフタレート上に設けた積層フィルムとして使用
される。
即ち、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の高分子
フィルムは酸化金属薄膜との密着力が低(それに起因し
て、積層フィルムの耐久性が乏しいという欠点があった
が、高分子フィルム、酸化金属の双方に密着力の優れた
有機コーティングを施すことにより面]久性を上げるこ
とができた。
フィルムは酸化金属薄膜との密着力が低(それに起因し
て、積層フィルムの耐久性が乏しいという欠点があった
が、高分子フィルム、酸化金属の双方に密着力の優れた
有機コーティングを施すことにより面]久性を上げるこ
とができた。
本発明による積層フィルムを液晶等に用いる場合には、
フィルム側からの空気の透過を防がなければならない。
フィルム側からの空気の透過を防がなければならない。
空気が透過した場合は液晶内に気泡が生し外観上致命的
な障害となる。
な障害となる。
光学特性上、液晶用途には、無定形液高分子であるポリ
エーテルサルフォンが適している。しかし、無定形高分
子フィルムは一般的に空気の透過率が大きく、液晶劣化
の防止をすることは困難である。よってこの様な場合ガ
スバリヤ−性、耐熱性、耐塩酸性、ポリエーテルサルフ
ォンに対して強固な密着力を有する有機コーティング層
を有するポリサルフォンフィルムを用いることができる
。
エーテルサルフォンが適している。しかし、無定形高分
子フィルムは一般的に空気の透過率が大きく、液晶劣化
の防止をすることは困難である。よってこの様な場合ガ
スバリヤ−性、耐熱性、耐塩酸性、ポリエーテルサルフ
ォンに対して強固な密着力を有する有機コーティング層
を有するポリサルフォンフィルムを用いることができる
。
有機コーティング層としては例えばポリサルフメン上に
ウレタンfd1層、ポリビニルアルコール樹脂層、エポ
キシ系熱硬化樹脂層を順時積層したものが上げられる。
ウレタンfd1層、ポリビニルアルコール樹脂層、エポ
キシ系熱硬化樹脂層を順時積層したものが上げられる。
尚、特に指定していなければ光線透過率は波長600
(r+m)の値を示している。
(r+m)の値を示している。
(実施例]
高分子フィルムに光線透過率86%厚さ75(μm)の
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、
その上に第1層として、分子量約1040、融点55°
Cのエポキシアクリレートプレポリマー(昭和高分子株
式会社製UR−90)100重量部、ジエチレングリコ
ール200重量部、酢酸エチル100重量部、ベンゼン
エチルエーテル2重量部、シランカップリング剤1重量
部を50°Cにて撹はん溶解して均一な溶液をデイツプ
法により両面塗布し80°CIO分加熱して紫外線を照
射して有機コーティング層を形成した後、第2層として
リアクテブマグネトロンスバソタリング法により厚さ3
00人のITO膜を形成、第3層としてAgをスパッタ
法により厚さ150人形成し、第4層としてITO膜を
厚さ300人第2層と同様にリアクテブスバッタ法で形
成して積層フィルムを得た。
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、
その上に第1層として、分子量約1040、融点55°
Cのエポキシアクリレートプレポリマー(昭和高分子株
式会社製UR−90)100重量部、ジエチレングリコ
ール200重量部、酢酸エチル100重量部、ベンゼン
エチルエーテル2重量部、シランカップリング剤1重量
部を50°Cにて撹はん溶解して均一な溶液をデイツプ
法により両面塗布し80°CIO分加熱して紫外線を照
射して有機コーティング層を形成した後、第2層として
リアクテブマグネトロンスバソタリング法により厚さ3
00人のITO膜を形成、第3層としてAgをスパッタ
法により厚さ150人形成し、第4層としてITO膜を
厚さ300人第2層と同様にリアクテブスバッタ法で形
成して積層フィルムを得た。
この積層フィルムの光線透過率は72%シート抵抗値2
0Ω/口であった。直径15φの柱状物に導電層が外側
になるようにこの積層フィルムを巻きつけ、巻きだす動
作を50回繰り返し、シート抵抗値の変化、クラック発
生の有無を調べた。その結果、シート抵抗値の変化は1
.3倍以内、クラックの発生は、認められなかった。
0Ω/口であった。直径15φの柱状物に導電層が外側
になるようにこの積層フィルムを巻きつけ、巻きだす動
作を50回繰り返し、シート抵抗値の変化、クラック発
生の有無を調べた。その結果、シート抵抗値の変化は1
.3倍以内、クラックの発生は、認められなかった。
〔比較例]
有機コーティングをしていない以外は実施例と同様な積
層フィルムについて同じく15φの柱状物に導電層が外
側になるように巻き付け、巻き出し動作を行った後のシ
ート抵抗値の変化は2倍以上であり、目視でクラックが
発生しているのが認められた。
層フィルムについて同じく15φの柱状物に導電層が外
側になるように巻き付け、巻き出し動作を行った後のシ
ート抵抗値の変化は2倍以上であり、目視でクラックが
発生しているのが認められた。
本発明の透明導電性を有する積層フィルムは層間の密着
力が強く、 透明性、 導電性良好でかつ耐久 性のすくれたものである。
力が強く、 透明性、 導電性良好でかつ耐久 性のすくれたものである。
Claims (1)
- (1)少なくとも片面にシランカップリング剤を含むエ
ポキシアクリレート紫外線硬化樹脂のコーティング層を
有する高分子フィルム上に金属酸化物薄膜層、金属薄膜
層、金属酸化物薄膜層を順次積層したシート抵抗値50
Ω以下、光線透過率70%以上であることを特徴とする
積層フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2025277A JPH03230946A (ja) | 1990-02-06 | 1990-02-06 | 積層フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2025277A JPH03230946A (ja) | 1990-02-06 | 1990-02-06 | 積層フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230946A true JPH03230946A (ja) | 1991-10-14 |
Family
ID=12161528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025277A Pending JPH03230946A (ja) | 1990-02-06 | 1990-02-06 | 積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03230946A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06116425A (ja) * | 1992-10-09 | 1994-04-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明導電性フィルムの製造方法 |
| JPH0740498A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明導電性フィルムの製造方法 |
| JPH11138685A (ja) * | 1997-11-14 | 1999-05-25 | Fujimori Kogyo Kk | 透明導電性シートの製造法 |
| JP2006216266A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Kitagawa Ind Co Ltd | 透明導電フィルム |
| WO2015141068A1 (ja) * | 2014-03-17 | 2015-09-24 | コニカミノルタ株式会社 | タッチパネル |
-
1990
- 1990-02-06 JP JP2025277A patent/JPH03230946A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06116425A (ja) * | 1992-10-09 | 1994-04-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明導電性フィルムの製造方法 |
| JPH0740498A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明導電性フィルムの製造方法 |
| JPH11138685A (ja) * | 1997-11-14 | 1999-05-25 | Fujimori Kogyo Kk | 透明導電性シートの製造法 |
| JP2006216266A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Kitagawa Ind Co Ltd | 透明導電フィルム |
| WO2015141068A1 (ja) * | 2014-03-17 | 2015-09-24 | コニカミノルタ株式会社 | タッチパネル |
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