JPH03231244A - 水現像でエア遮断した感光材料処理装置 - Google Patents
水現像でエア遮断した感光材料処理装置Info
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- JPH03231244A JPH03231244A JP2637490A JP2637490A JPH03231244A JP H03231244 A JPH03231244 A JP H03231244A JP 2637490 A JP2637490 A JP 2637490A JP 2637490 A JP2637490 A JP 2637490A JP H03231244 A JPH03231244 A JP H03231244A
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、銀塩感材の自動現像処理に関し、運転初期に
処理液器こ触れる空気のうち酸素を吸着消耗し、以後の
現像処理の安定をはかる技術に関するものである。
処理液器こ触れる空気のうち酸素を吸着消耗し、以後の
現像処理の安定をはかる技術に関するものである。
銀塩感光材料を現像処理する処理液は、酸素に触れて劣
化するので、従来より、処理液槽の液面を極力少なくす
る蓋を設けて、空気による処理液酸化を軽減する工夫が
なされてきI;。
化するので、従来より、処理液槽の液面を極力少なくす
る蓋を設けて、空気による処理液酸化を軽減する工夫が
なされてきI;。
処理液が酸化して劣化することが明かであるから、処理
液を空気に触れさせないため、開口面積を限りなくゼロ
に近づける特許出願もなされているが、これらは現象の
事実を述べ、その解決を願望するのみで、必ずしも具体
的に新規技術を開示するものではなかった。
液を空気に触れさせないため、開口面積を限りなくゼロ
に近づける特許出願もなされているが、これらは現象の
事実を述べ、その解決を願望するのみで、必ずしも具体
的に新規技術を開示するものではなかった。
処理液槽の液面開口面積を小さくしても、感光材料の通
過を許さなければならないから、固定の開口部を設ける
ものにあっては、必ず液面が空気にさらされる。しかも
、感光材料の断面形状に合わせてスリット状の開口とす
れば、毛管現象で、該スリット部の液面位が上がり、感
光材料の突入にともなって下降する際に、スリット壁面
に薄膜状に処理液が残り、空気との接触面積か急増する
から、むしろ、この部分での酸化が促進され、処理液の
酸化による固形成分が、このスリット壁に付着し、結果
として処理に思影響する。このように従来より言われて
いる開口面積の低減による酸化防止策は矛盾があって実
用的でない。
過を許さなければならないから、固定の開口部を設ける
ものにあっては、必ず液面が空気にさらされる。しかも
、感光材料の断面形状に合わせてスリット状の開口とす
れば、毛管現象で、該スリット部の液面位が上がり、感
光材料の突入にともなって下降する際に、スリット壁面
に薄膜状に処理液が残り、空気との接触面積か急増する
から、むしろ、この部分での酸化が促進され、処理液の
酸化による固形成分が、このスリット壁に付着し、結果
として処理に思影響する。このように従来より言われて
いる開口面積の低減による酸化防止策は矛盾があって実
用的でない。
本発明は従来技術の欠点を除去し、運転の初期に処理液
に触れる空気の酸素を消耗し、その後の処理の安定をは
かることを目的とするものである。
に触れる空気の酸素を消耗し、その後の処理の安定をは
かることを目的とするものである。
この目的は、銀塩感材を自動的に搬送しながら、現像処
理する感光材料処理装置に於て、最初の水処理部と、最
後の水洗又は安定処理部と、途中の各処理槽の外縁部と
の間に設けた空気遮へい部材を開閉可能に設けたことを
特徴とする水現像でエア遮断した感光材料処理装置によ
って達成される。
理する感光材料処理装置に於て、最初の水処理部と、最
後の水洗又は安定処理部と、途中の各処理槽の外縁部と
の間に設けた空気遮へい部材を開閉可能に設けたことを
特徴とする水現像でエア遮断した感光材料処理装置によ
って達成される。
自動的に銀塩感光材料を搬送しなから連続して複数枚の
感光材料を現像処理する感光材料処理装置であるため、
肌理の安定をはかるため、処理の進行に伴う処理液の劣
化を補足するために、処理液補充と、循環及び、オー/
・−フロー排出を行なっているが、処理液槽に於て、処
理液上面が、つねに外気に触れて酸化されるため、単に
感光材料の処理tこよる劣化の他に、空気酸化による劣
化も考慮しなければならない。しかし、空気酸化の度合
は処理液面に触れる空気の状態で大きく異なるもので、
空気が流動する場合は、つねに新しく酸素が補充される
から処理液の酸化劣化も早めることになり、逆に空気の
流動がない場合は処理液の酸化による劣化の進行がおそ
い。
感光材料を現像処理する感光材料処理装置であるため、
肌理の安定をはかるため、処理の進行に伴う処理液の劣
化を補足するために、処理液補充と、循環及び、オー/
・−フロー排出を行なっているが、処理液槽に於て、処
理液上面が、つねに外気に触れて酸化されるため、単に
感光材料の処理tこよる劣化の他に、空気酸化による劣
化も考慮しなければならない。しかし、空気酸化の度合
は処理液面に触れる空気の状態で大きく異なるもので、
空気が流動する場合は、つねに新しく酸素が補充される
から処理液の酸化劣化も早めることになり、逆に空気の
流動がない場合は処理液の酸化による劣化の進行がおそ
い。
特に処理液が触れる空気が、小さな限られた空間内に閉
じこめられて、その他との流通を断たれているときには
、処理液による酸素吸着が進むと、この空間内は酸素含
有の少ない気体となり、更に処理液を酸化することを続
けなくなる。一方、上記の酸素を吸着して、酸化劣化し
た処理液は、上記の如き新液補充と、循環と、オーバー
フローとによって徐々に、処理液槽外に排出され、結果
として、酸化劣化の少ない処理液で維持されることにな
る。
じこめられて、その他との流通を断たれているときには
、処理液による酸素吸着が進むと、この空間内は酸素含
有の少ない気体となり、更に処理液を酸化することを続
けなくなる。一方、上記の酸素を吸着して、酸化劣化し
た処理液は、上記の如き新液補充と、循環と、オーバー
フローとによって徐々に、処理液槽外に排出され、結果
として、酸化劣化の少ない処理液で維持されることにな
る。
このように、処理液に触れる空気を有限の空気室として
外界と隔離する手段として、本発明では、処理プロセス
の最初に水処理部を設け、最後の水洗又は安定処理との
間に設けた空気遮へい部材とによって、処理液面に接す
る空気を有限の空気室にとじこめる形とした。処理プロ
セスの構成は水処理、現像処理、定着処理、水洗又は安
定処理の順lコ並べてあり、各処理液槽の間には渡り部
を形喫してあり、本発明にいう有限の空気室は、水処理
の出口から水洗又は安定処理の入口までの区間の、各処
理槽の処理液面と、その上方の空気遮へい部材とで囲ま
れた空間である。この空間の入口と出口を水で遮へいし
た理由は、感光材料が入り又は出る開口部を通して、空
気の流入を防止することと、加えて、入口と出′口にお
いて外界との接触部か、水であるから、その界面におし
1て、酸化による固形物の発生がなく従って、汚れを防
止することかできるからである。次に、処理液槽間を空
気遮へ1/1性よく連結し、複数の処理液槽を略−体1
こ形唆し、この上方に、同しく空気遮ヘレ・性のよい蓋
体を、その内包する空気室を極力小さくする形状にして
設けた。この構成によって、水以外の処理液が触れる空
気は有限となり、処理液がこの=気宇の酸素を吸着する
と、空気中の酸素が減少し、それ以降は処理液に悪影響
する酸素は無い。
外界と隔離する手段として、本発明では、処理プロセス
の最初に水処理部を設け、最後の水洗又は安定処理との
間に設けた空気遮へい部材とによって、処理液面に接す
る空気を有限の空気室にとじこめる形とした。処理プロ
セスの構成は水処理、現像処理、定着処理、水洗又は安
定処理の順lコ並べてあり、各処理液槽の間には渡り部
を形喫してあり、本発明にいう有限の空気室は、水処理
の出口から水洗又は安定処理の入口までの区間の、各処
理槽の処理液面と、その上方の空気遮へい部材とで囲ま
れた空間である。この空間の入口と出口を水で遮へいし
た理由は、感光材料が入り又は出る開口部を通して、空
気の流入を防止することと、加えて、入口と出′口にお
いて外界との接触部か、水であるから、その界面におし
1て、酸化による固形物の発生がなく従って、汚れを防
止することかできるからである。次に、処理液槽間を空
気遮へ1/1性よく連結し、複数の処理液槽を略−体1
こ形唆し、この上方に、同しく空気遮ヘレ・性のよい蓋
体を、その内包する空気室を極力小さくする形状にして
設けた。この構成によって、水以外の処理液が触れる空
気は有限となり、処理液がこの=気宇の酸素を吸着する
と、空気中の酸素が減少し、それ以降は処理液に悪影響
する酸素は無い。
一方、処理液の活性度は初期には高く、現像結果の画像
濃度が高めに仕上がり、時間とともに、又は、処理枚数
とともに活性度は低下して現像結果の画像濃度が低下す
る傾向にあるため、一般には活性度低下分を補うための
新液補充や、添加剤の添加などを行なっているが、いず
れも充分な対策にはならず、好」ニジ<は、継続的には
空気酸化されない方がよい。本発明はこの点に着目し、
初期に、空気酸化を許容し、初期の活性度が高い分を、
これによって若干低下し、なおかつ、その後は実質的に
酸素供給分を絶って、酸化劣化を防止することによって
、平均的に、活性度を安定に保つことができるものであ
る。
濃度が高めに仕上がり、時間とともに、又は、処理枚数
とともに活性度は低下して現像結果の画像濃度が低下す
る傾向にあるため、一般には活性度低下分を補うための
新液補充や、添加剤の添加などを行なっているが、いず
れも充分な対策にはならず、好」ニジ<は、継続的には
空気酸化されない方がよい。本発明はこの点に着目し、
初期に、空気酸化を許容し、初期の活性度が高い分を、
これによって若干低下し、なおかつ、その後は実質的に
酸素供給分を絶って、酸化劣化を防止することによって
、平均的に、活性度を安定に保つことができるものであ
る。
次に図によって本発明の詳細な説明する。第1図は、感
光材料処理装置の側断面図で感光材料は左方の入口1か
ら入り水処理部lで水でぬらされたのち現像処理液槽3
に入り、渡り部6.7を通って順に定着液槽4および水
洗又は安定化処理液槽5に入り、処理を終えて排出口8
から出でいく。そして前記遮へい部材9がかぶせられる
と、各液槽外縁部と該遮へい部材9との間も気密が保た
れるようにしである。
光材料処理装置の側断面図で感光材料は左方の入口1か
ら入り水処理部lで水でぬらされたのち現像処理液槽3
に入り、渡り部6.7を通って順に定着液槽4および水
洗又は安定化処理液槽5に入り、処理を終えて排出口8
から出でいく。そして前記遮へい部材9がかぶせられる
と、各液槽外縁部と該遮へい部材9との間も気密が保た
れるようにしである。
第1図では最初の水処理液槽を密閉タイプにしたが、こ
れに限定するものではない。外界と空気の流通をなくす
には必ずしも第1図の如き密閉タイプでなくてもよく、
第1図の水洗又は安定化処理液槽5の如く水面と空気遮
へい部材9とで、その機能をもたせることもできる。
れに限定するものではない。外界と空気の流通をなくす
には必ずしも第1図の如き密閉タイプでなくてもよく、
第1図の水洗又は安定化処理液槽5の如く水面と空気遮
へい部材9とで、その機能をもたせることもできる。
次に、最初に水処理を設けることの効果について言うな
らば、感光材料の乳剤層にまず水を供給し均一に膨潤し
てのち、現像処理液を供給することにより、現像処理液
が均一に銀塩粒子に触れることを促すので、均一な現像
かできて、良好な処理結果が得られるものである。
らば、感光材料の乳剤層にまず水を供給し均一に膨潤し
てのち、現像処理液を供給することにより、現像処理液
が均一に銀塩粒子に触れることを促すので、均一な現像
かできて、良好な処理結果が得られるものである。
このように構成したから、処理の安定が出来るし、処理
液の寿命を増し、補充液も低減することが出来る。
液の寿命を増し、補充液も低減することが出来る。
第1図は感光材料処理装置の側断面図である。
1・・・入口部 2・・・水処理液槽3・・・
現像処理液ff4・・・定着処理液槽5・・・水洗又は
安定化処理液槽
現像処理液ff4・・・定着処理液槽5・・・水洗又は
安定化処理液槽
Claims (1)
- 銀塩感材を自動的に搬送しながら、現像処理する感光材
料処理装置に於て、最初の水処理部と、最後の水洗又は
安定処理部と、途中の各処理槽の外縁部との間に空気遮
へい部材を開閉可能に設けたことを特徴とする水現像で
エア遮断した感光材料処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2637490A JP2759294B2 (ja) | 1990-02-06 | 1990-02-06 | 水現像でエア遮断した感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2637490A JP2759294B2 (ja) | 1990-02-06 | 1990-02-06 | 水現像でエア遮断した感光材料処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03231244A true JPH03231244A (ja) | 1991-10-15 |
| JP2759294B2 JP2759294B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=12191736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2637490A Expired - Lifetime JP2759294B2 (ja) | 1990-02-06 | 1990-02-06 | 水現像でエア遮断した感光材料処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2759294B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0908769A3 (en) * | 1997-10-09 | 1999-04-28 | Eastman Kodak Company | Processing photographic material |
| EP0908771A3 (en) * | 1997-10-09 | 1999-06-09 | Eastman Kodak Company | Processing photographic material |
| US7378757B2 (en) | 2003-06-09 | 2008-05-27 | Kyosemi Corporation | Power generation system |
| US8237045B2 (en) | 2004-03-12 | 2012-08-07 | Kyosemi Corporation | Laminated solar battery |
-
1990
- 1990-02-06 JP JP2637490A patent/JP2759294B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0908769A3 (en) * | 1997-10-09 | 1999-04-28 | Eastman Kodak Company | Processing photographic material |
| EP0908771A3 (en) * | 1997-10-09 | 1999-06-09 | Eastman Kodak Company | Processing photographic material |
| US7378757B2 (en) | 2003-06-09 | 2008-05-27 | Kyosemi Corporation | Power generation system |
| US8237045B2 (en) | 2004-03-12 | 2012-08-07 | Kyosemi Corporation | Laminated solar battery |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2759294B2 (ja) | 1998-05-28 |
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