JPH03237717A - 半導体基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置の製造工程、とりわけ、シリコン基
板洗浄工程で、水量を制御することにより水質を制御す
る半導体基板洗浄装置に関するものである。

従来の技術 従来より半導体装置の製造工程ではシリコン基板の洗浄
に良質な水を用いている。

第２図で従来のシリコン基板洗浄装置の構成を説明する
。

１はシリコン基板、２は内水槽、３は外水槽、４は比抵
抗計、５は給水配管、６は排水配管、７はバルブ、８は
流量計である。

まず、給水配管５よりシリコン基板１の入った内水槽２
に水が供給され、外水槽３に溢れ、排水配管６を通り排
出される。この一連の作業を続けることにより、シリコ
ン基板上の異物が水流により洗い流される。内水槽２内
の水質を、比抵抗計４でその比抵抗値を測定することに
より管理し、水質悪化による洗浄効果の低下を防止して
いる。

なお、７は水量を調整するバルブで、８は水流量を示す
流量計で、９は比抵抗測定部である。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の構成では内水槽の比抵抗値〈
水質〉を表示するだけであったので、水質が変動低下し
ていても、そのまま、シリコン基板の洗浄を行ってしま
う可能性があり、洗浄効果を低下させて、半導体装置の
良品取れ率を低下させる問題があった。

本発明は上記従来の問題点を解決することのできる半導
体基板洗浄装置を提供することを目的とするものである
。

課題を解決するための手段 この目的を達成するために、本発明の半導体基板洗浄装
置は、水質を測定するための比抵抗計と水量制御回路を
もつ水量制御装置とを備えている。

作用 この構成によって、内水槽内の比抵抗計の数値を水量制
御回路へ入力し、その入力数値に対応した制御信号によ
り給水量を調整するように水量制御装置へ出力する。

内水槽内の比抵抗値（水質）が低下すれば供給水量を多
くして、その水質を回復させることができる。

これにより、内水槽内の比抵抗値（水質〉を−定にし、
水質低下によるシリコン基板洗浄効果に変動が起こらな
いようにする。

実施例 以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。

第１図は本発明の一実施例における半導体基板洗浄装置
を示すものである。

第１図において、１はシリコン基板で、２は内水槽、３
は外水槽、４は比抵抗計、５は給水配管、６は排水配管
、７はバルブ、８は流量計、９は抵抗検出部、１０は水
量制御装置、１１は水量制御回路である。

つぎに、本実施例のシリコン基板洗浄装置について、そ
の動作を説明する。

まず、給水配管５から水量制御装置１０で水量を調整さ
れたのち、内水槽２に供給される。内水槽内のシリコン
基板１上の異物は水により洗い流される。その水が内水
槽内で滞流すると異物が多くなり内水槽内の比抵抗値（
水質）が低下するので、水を連続で供給して内水槽から
外水槽３へ溢れさせ、排水配管６を通り排水する。その
時、内水槽２内の抵抗検出部９の数値が変動すると、水
量制御回路１１が水量調整装置１０へ信号を送り、内水
槽への水の供給量を調整する。

このように本実施例によれば、シリコン基板１の入った
内水槽２内の水の比抵抗値を水量制御回路１１を介して
水量制御装置１０で調整することにより、内水槽内の比
抵抗値（水質）を一定にすることができる。

内水槽２内の比抵抗値（水質）が低下すれば、水量を多
くして、その比抵抗値（水質）を回復させることができ
る。

発明の効果 本発明によれば、シリコン基板洗浄装置に比抵抗計と水
量制御回路をもつ水量制御装置とを設けることにより、
内水槽内の水の比抵抗値（水質〉を一定にし、シリコン
基板洗浄効果を一定にすることができる優れた半導体基
板洗浄装置を実現できる。

比抵抗検出部、１０・・・・・・水量制御装置、１１・
・・・・・水量制御回路。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 水質を測定するための比抵抗計と、水流量制御回路をも
   つ水流量制御装置とを備えた半導体基板洗浄装置。