JPH03239565A - Ion flow control recording head - Google Patents
Ion flow control recording headInfo
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- JPH03239565A JPH03239565A JP3387890A JP3387890A JPH03239565A JP H03239565 A JPH03239565 A JP H03239565A JP 3387890 A JP3387890 A JP 3387890A JP 3387890 A JP3387890 A JP 3387890A JP H03239565 A JPH03239565 A JP H03239565A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はイオン流制御記録ヘッドに関するもので、更
に詳細には、イオン量を制御して静電潜像受容体に均一
に帯電させて、高画質の画像を得られるようにしたイオ
ン流制御記録ヘッドに関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an ion flow control recording head. This invention relates to an ion flow control recording head that can obtain high quality images.
[従来の技術〕
一般に、記録媒体上に静電潜像を形成するイオン流制御
記録ヘッドとして、特開昭61−263768号公報及
び特開昭62−292449号公報に示されるようなイ
オン流制御記録ヘッドが知られている。[Prior Art] In general, as an ion flow control recording head that forms an electrostatic latent image on a recording medium, ion flow control as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-263768 and Japanese Patent Laid-Open No. 62-292449 is used. A recording head is known.
このイオン流制御記録ヘッドは、第6図及び第7図に示
すように、接地された一対の導電性シールド1,2間に
円筒状のチャンバ3を形成し、このチャンバ3内におけ
る長手方向に沿って放電ワイヤ4を張設してイオン発生
手段5を形成し、方のシールド2の下部には絶縁層6及
び導電性基板7を介してシールド1,2を覆うように絶
縁性基板8を取り付けると共に、他方のシールド1にて
形成される基準電極9と絶縁性基板8との間にイオン発
生手段5に連通ずるスリット10にてイオン流導出部を
形成して成る。そして、絶縁性基板8のスリット側面上
に複数の制御電極IIを配設すると共に、この制御電極
11に制御回路12を接続して、イオン流の導出を制御
するイオン流制御手段13を構威する構造となっている
。As shown in FIGS. 6 and 7, this ion flow control recording head has a cylindrical chamber 3 formed between a pair of grounded conductive shields 1 and 2, and a longitudinal direction inside the chamber 3. A discharge wire 4 is stretched along the line to form an ion generating means 5, and an insulating substrate 8 is provided below the shield 2 so as to cover the shields 1 and 2 via an insulating layer 6 and a conductive substrate 7. At the same time, an ion flow leading portion is formed by a slit 10 communicating with the ion generating means 5 between the reference electrode 9 formed in the other shield 1 and the insulating substrate 8. A plurality of control electrodes II are arranged on the side surface of the slit of the insulating substrate 8, and a control circuit 12 is connected to the control electrode 11, thereby constructing an ion flow control means 13 for controlling the extraction of the ion flow. The structure is such that
また、このように構成されるイオン流制御記録ヘッドか
ら照射されるイオンを帯電する静電潜像受容体14は、
電荷リセプタ15の背面側すなわち電荷リセプタ15の
記録ヘッドと対向する面の反対側面に高電位源16に接
続する背面電極17を配設した構造となっている。Further, the electrostatic latent image receptor 14 that charges the ions irradiated from the ion flow control recording head configured as described above is
It has a structure in which a back electrode 17 connected to a high potential source 16 is provided on the back side of the charge receptor 15, that is, on the opposite side of the surface of the charge receptor 15 facing the recording head.
上記のように構成されるイオン流制御記録ヘッドにおい
て、ワイヤ電源18から放電ワイヤ4に高圧電圧を印加
することにより、チャンバ3内にイオンが発生され、そ
して、チャンバ3の上方からチャンバ3に空気流Aを吹
き込むことにより、チャンバ3内のイオンをチャンバ3
に連通して設けられたスリットIOを通して静電潜像受
容体I4に付着帯電することができる。このとき、制御
回路12から各制御電極11に画像信号に応じた電圧を
印加することにより、スリット10を通過するイオン流
を制御して静電潜像受容体14上に帯電させて静電潜像
を形成することができる。In the ion flow control recording head configured as described above, ions are generated in the chamber 3 by applying a high voltage from the wire power source 18 to the discharge wire 4, and then air is introduced into the chamber 3 from above the chamber 3. By blowing the flow A, the ions in the chamber 3 are transferred to the chamber 3.
The electrostatic latent image receptor I4 can be attached and charged through the slit IO provided in communication with the electrostatic latent image receptor I4. At this time, by applying a voltage according to the image signal from the control circuit 12 to each control electrode 11, the ion flow passing through the slit 10 is controlled, and the electrostatic latent image receptor 14 is charged and the electrostatic latent image receptor 14 is charged. image can be formed.
この場合、第8図に示すように、基準電極9はアース部
I9に接地されており、イオン流の制御は制御回路のス
イッチング素子20の切換動作により印加される電圧に
よって行われる。すなわち、イオンを通過させるときC
ON時、データ゛1”)は制御電極を接地し、イオンを
遮断する時(OFF時、データ“0”)はイオン非導出
領域の制御電極11にイオン非導出電圧V2を印加して
スリット10間に発生する電界によりイオンを遮断する
。In this case, as shown in FIG. 8, the reference electrode 9 is grounded to the earth part I9, and the ion flow is controlled by the voltage applied by the switching operation of the switching element 20 of the control circuit. That is, when passing ions, C
When ON, the control electrode is grounded (data "1"), and when ions are cut off (when OFF, data "0"), the ion non-deriving voltage V2 is applied to the control electrode 11 in the ion non-deriving region, and the ion non-deriving voltage V2 is applied between the slits 10. Ions are blocked by the electric field generated in the
ここで、データパターンを“00100”とすると、制
御電極11a 、 llb 、 lid 、 lleに
はイオン非導出電圧v2が印加され、制御電極11cは
接地する。ここで、制御電極11cのみが一定時間連続
的に接地されると、静電潜像受容体14の電荷リセプタ
15上にこの幅で直線に相当する静電潜像が形成される
(1ビツト線)。Here, if the data pattern is "00100", the ion non-deriving voltage v2 is applied to the control electrodes 11a, llb, lid, and lle, and the control electrode 11c is grounded. Here, when only the control electrode 11c is grounded continuously for a certain period of time, an electrostatic latent image corresponding to a straight line with this width is formed on the charge receptor 15 of the electrostatic latent image receptor 14 (one bit line ).
なお、イオン非導出電圧v2はスリット10の幅やイオ
ンのスリット通過時間により設定される。Note that the ion non-lead voltage v2 is set based on the width of the slit 10 and the slit passage time of ions.
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来のこの種のイオン流制御記録ヘッド
においては、イオンを取り出したい制御電極11cのみ
0■にし、他の制御電極11a 、 llb 。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional ion flow control recording head of this type, only the control electrode 11c from which ions are to be extracted is set to 0■, and the other control electrodes 11a, llb are set to 0.
11d 、 Ilaには一律にイオン非導出電圧V2が
印加されるため、制御電極11cと隣接する制御電極1
1b 、 lidとの間にイオンの導出を妨害する電界
Bが発生してイオン導出領域が侵され、その結果、イオ
ン量が減少すると共に、現像が十分に行われなくなり、
線の再現性が悪く、十分な幅と濃度が確保できないとい
う問題点があった。Since the ion non-deriving voltage V2 is uniformly applied to 11d and Ila, the control electrode 1 adjacent to the control electrode 11c
1b, an electric field B that obstructs the extraction of ions is generated between the lid and the ion extraction region, and as a result, the amount of ions decreases and development is not performed sufficiently.
There were problems in that line reproducibility was poor and sufficient width and density could not be secured.
この発明は上記事情に鑑みなされたもので、上記問題を
解決するために、イオン導出領域をイオン非導出領域の
制御用電界による妨害を防止して、イオン量の増大を図
ると共に、画質の向上を図れるようにしたイオン流制御
記録ヘッドを提供しようとするものである。This invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and in order to solve the above-mentioned problems, it is possible to prevent the ion derivation region from being disturbed by the control electric field of the ion non-derivation region, increase the amount of ions, and improve the image quality. It is an object of the present invention to provide an ion flow control recording head that can achieve the following.
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するために、この発明のイオン流制御記
録ヘッドは、イオン発生手段と、このイオン発生手段に
連通すると共にイオン発生手段にて発生したイオン流を
導出するためのイオン流導出部と、イオン流の導出を制
御するイオン流制御手段とを具備するイオン流制御記録
ヘッドを前提とし、上記イオン流導出部を、スリットを
形成すべく対向配置される基準電極面と、絶縁性基板と
で構成し、上記イオン流制御手段を、上記絶縁性基板の
スリット側面に配設される複数の制御電極と、画像情報
に基いて各制御電極に電圧を印加する制御回路とで構威
し、この際、イオンを導出しない領域の制御電極にイオ
ン非導出電圧(V2)を印加すると共に、イオンを導出
する領域の制御電極を上記基準電極と同電位にし、かつ
、イオンを導出する領域の制御電極に隣接する制御電極
にイオン非導出電圧(V2)よりも低い電圧(Vl ’
)を印加することを特徴とするものである。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the ion flow control recording head of the present invention includes an ion generation means, an ion flow that communicates with the ion generation means, and an ion flow generated by the ion generation means. The ion flow control recording head is provided with an ion flow control recording head that includes an ion flow derivation section for deriving the ion flow, and an ion flow control means for controlling the derivation of the ion flow, and the ion flow derivation sections are arranged facing each other to form a slit. The ion flow control means is composed of a reference electrode surface and an insulating substrate, and the ion flow control means includes a plurality of control electrodes arranged on the side surface of the slit of the insulating substrate, and a voltage is applied to each control electrode based on image information. At this time, an ion non-deriving voltage (V2) is applied to the control electrode in the region from which ions are not derived, and the control electrode in the region from which ions are derived is set to the same potential as the reference electrode, In addition, a voltage (Vl '
).
この発明において、上記イオン非導出電圧(V2)は連
続したビットをOFFする時の電圧であって、その値は
スリット幅と、イオンのスリット通過時間によって決定
される。この場合、■ビットのイオンのON時の分布の
ピーク値はスリット幅と大きな相関関係があり、スリッ
ト幅を狭くすればイオンのピーク値は相対的に確保され
るが、反面、スリット幅を狭くすると、イオンの絶対量
が減少するので、これら両者を勘案してスリット幅を決
定する方が好ましい。In the present invention, the ion non-deriving voltage (V2) is a voltage when successive bits are turned off, and its value is determined by the slit width and the slit passage time. In this case, ■The peak value of the distribution of bit ions when they are turned on has a strong correlation with the slit width, and if the slit width is narrowed, the ion peak value can be relatively secured, but on the other hand, if the slit width is narrowed, As a result, the absolute amount of ions decreases, so it is preferable to take both of these factors into account when determining the slit width.
また、イオン非導出領域の電極と隣接する制御電極に印
加される電圧(Vl)は、
0<Vl <V2
の範囲内の任意の値に設定でき、各々の要求に応じて決
定することができる。In addition, the voltage (Vl) applied to the control electrode adjacent to the electrode in the ion non-deriving region can be set to any value within the range of 0<Vl<V2, and can be determined according to each request. .
[作用コ 上記技術的手段は以下のように作用する。[Action Co. The above technical means works as follows.
上記のように構成することにより、イオン発生手段で発
生されたイオンが空気流によってスリットを通る際に制
御手段にて所定の画像信号に応じて制御されて、静電潜
像受容体上に帯電される。With the above configuration, when the ions generated by the ion generating means pass through the slit by the air flow, they are controlled by the control means in accordance with a predetermined image signal, and the electrostatic latent image receptor is charged. be done.
この際、イオンを導出しない領域の制御電極にイオン非
導出電圧(V2)を印加すると共に、イオンを導出する
領域の制御電極を基準電極と同電位にし、かつ、イオン
を導出する領域の制御電極に隣接する制御電極にイオン
非導出電圧(V2)よりも低い電圧(Vl )を印加す
ることにより、イオン導出領域がイオン非導出領域の制
御用電界によって妨害されることがなく、十分なイオン
量を静電潜像受容体に照射して、画質の向上を図ること
ができる。At this time, an ion non-deriving voltage (V2) is applied to the control electrode in the region from which ions are not derived, and the control electrode in the region from which ions are derived is set to the same potential as the reference electrode, and the control electrode in the region from which ions are derived is set to the same potential as the reference electrode. By applying a voltage (Vl) lower than the ion non-deriving voltage (V2) to the control electrode adjacent to the ion deriving region, the ion deriving region is not disturbed by the control electric field of the ion non-deriving region, and a sufficient amount of ions can be obtained. can be applied to an electrostatic latent image receptor to improve image quality.
[実施例]
以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細に説明する
。[Examples] Examples of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図はこの発明のイオン流制御記録ヘッドにおける制
御手段の説明図が示されている。FIG. 1 is an explanatory diagram of the control means in the ion flow control recording head of the present invention.
制御電極11は、第6図及び第7図に示したイオン流制
御記録ヘッドの絶縁性基板8のスリット側面に配設され
る複数の制御電極11(具体的には11a 、 llb
、 1lclld、 1ie−=)と、画像情報に基
いて各制御電極11に電圧を印加する制御回路12とで
構成されている。The control electrode 11 includes a plurality of control electrodes 11 (specifically, 11a, llb) disposed on the side surface of the slit of the insulating substrate 8 of the ion flow control recording head shown in FIGS. 6 and 7.
, 1lclld, 1ie-=), and a control circuit 12 that applies a voltage to each control electrode 11 based on image information.
制御電極11は、例えば64本×40ブロックの計2.
560本から成るマトリックス配線とされ、また、絶縁
性基板8の表面上に、例えばステンレスやニッケル等の
薄板をエツチング処理して形成したり、タングステンや
金等から威るペースト状のインクによって電極パターン
にしたがって印刷することにより、画素密度に応じて分
離されるべく互いに平行な直線状に連続して形成されて
いる。The control electrodes 11 include, for example, 2.64 electrodes x 40 blocks in total.
The matrix wiring is made up of 560 wires, and electrode patterns are formed on the surface of the insulating substrate 8 by etching a thin plate of stainless steel, nickel, etc., or by using paste-like ink made of tungsten, gold, etc. By printing according to the method, the pixels are continuously formed in parallel straight lines so as to be separated according to the pixel density.
この場合、各制御電極11のピッチCはスリット10の
幅と略同程度に設定されており、制御電極11の電極幅
りは電極ピッチCに対して25,75%程度に設定され
ている(第3図参照)。また、イオンのピーク値はスリ
ット幅と大きな相関関係があり、第3図に示すような関
係にある。したがって、スリット幅を狭くすればイオン
のピーク値は確保されることが解るが、一方、スリット
幅を狭くすると、イオンの絶対量が減少するので好まし
くない。In this case, the pitch C of each control electrode 11 is set to be approximately the same as the width of the slit 10, and the electrode width of the control electrode 11 is set to be approximately 25.75% of the electrode pitch C ( (See Figure 3). Furthermore, the peak value of ions has a large correlation with the slit width, as shown in FIG. Therefore, it can be seen that if the slit width is narrowed, the peak value of ions can be secured, but on the other hand, if the slit width is narrowed, the absolute amount of ions decreases, which is not preferable.
制御回路1zは、各制御電極11と第1の電源21とを
第1のスイッチング素子20aを介して選択的に接続す
る第1の制御回路12aと、各制御電極11と第2の電
源22とを第2のスイッチング素子20bを介して選択
的に接続する第2の制御回路12bと、各制御回路12
とアース部23とを第3のスイッチング素子20cを介
して選択的に接続する第3の制御回路12cとで構成さ
れている。この場合、第1の電源21は+V2ff)に
設定され、第2の電源22は+vl (V)に設定さ
れている。The control circuit 1z includes a first control circuit 12a that selectively connects each control electrode 11 and a first power source 21 via a first switching element 20a, and a first control circuit 12a that selectively connects each control electrode 11 and a first power source 21 to each other via a first switching element 20a. a second control circuit 12b that selectively connects each control circuit 12 via a second switching element 20b;
and a third control circuit 12c that selectively connects the ground section 23 and the ground section 23 via a third switching element 20c. In this case, the first power supply 21 is set to +V2ff), and the second power supply 22 is set to +vl (V).
ここで、V2 >Vl >0である。Here, V2>Vl>0.
次に、上記のように構成されるイオン流制御手段13に
おいて、例えばデータパターンを“00100”とした
場合のイオン流の制御について第2図を参照して説明す
る。Next, in the ion flow control means 13 configured as described above, control of the ion flow when the data pattern is set to "00100", for example, will be explained with reference to FIG.
イオンを通過させる時(ON時、データ“1”)は、第
3のスイッチング素子20cをアース部23に接続して
イオンを通過させたい制御電極11cを接地し、第2の
スイッチング素子20bを第2の電源22に接続して制
御電極11cに隣接する制御電極1+11 、 Ild
に電圧v1を印加し、そして、第1のスイッチング素子
20aを第1の電源に接続して制御電極11a 、 l
ieに電圧V2を印加すると、イオンを取り出したいイ
オン導出領域の両側の部分の電圧が低い状態となってい
るので、イオン導出領域に隣接するイオン非導出領域に
おける制御電界によってイオン流が遮断されることがな
く、イオン量の増大を図ることができる。When passing ions (data "1" when ON), the third switching element 20c is connected to the ground part 23, the control electrode 11c through which ions are to pass is grounded, and the second switching element 20b is connected to the ground part 23. Control electrodes 1+11 and Ild connected to the power source 22 of No. 2 and adjacent to the control electrode 11c
A voltage v1 is applied to the control electrodes 11a, l by connecting the first switching element 20a to the first power source.
When voltage V2 is applied to ie, since the voltage on both sides of the ion extraction region from which ions are to be extracted is low, the ion flow is blocked by the control electric field in the ion non-extraction region adjacent to the ion extraction region. It is possible to increase the amount of ions without causing any problems.
ここで、印加電圧V2.Vlを任意に設定することによ
り、線幅を任意の値に制御することができ、特に、1ビ
ツト線においては、その再現の不十分さを改善すること
ができる。Here, the applied voltage V2. By arbitrarily setting Vl, the line width can be controlled to an arbitrary value, and in particular, the insufficiency of reproduction of a 1-bit line can be improved.
次に、この発明のイオン流記録ヘッドと従来のイオン流
記録ヘッドにおけるイオン量の比較テストについて第5
図を参照して説明する。Next, a fifth comparison test of the amount of ions between the ion flow recording head of the present invention and the conventional ion flow recording head will be explained.
This will be explained with reference to the figures.
第5図(a)は第8図に示した従来のイオン流制御記録
ヘッドのイオン流制御電極を示し、第5図(b)は第2
図に示したこの発明のイオン流制御記録ヘッドのイオン
流制御電極を示すもので、データパターンが“0010
0″の場合の電圧印加状態を示す。この場合、従来の制
御手段では制御電極11a 、 llb 、 lid
、 ll!にはイオン非導出電圧v2が印加され、制御
電極ticは接地される。FIG. 5(a) shows the ion flow control electrode of the conventional ion flow control recording head shown in FIG.
This figure shows the ion flow control electrode of the ion flow control recording head of the present invention, and the data pattern is "0010".
0''. In this case, in the conventional control means, the control electrodes 11a, llb, lid
, ll! An ion non-deriving voltage v2 is applied to the control electrode tic, and the control electrode tic is grounded.
これに対し、この発明の制御手段では、イオンを通過さ
せたい制御電極11cが接地され、この制御電極11c
に隣接する制御電極11b 、 lidには電圧Vlが
印加され、そして、それ以外の制御電極11a 、 l
ieに電圧v2が印加される。この条件の下でイオン量
を調べたところ、第5図(C)に示すような結果が得ら
れた。すなわち、従来の制御手段ではイオン分布のピー
ク値はソリッドレベルに比べ低い値となり、分布幅も小
さいため、現像が十分行われず、線の再現性が悪く、十
分な幅と濃度が得られなかったが、この発明においては
イオン量を多く得ることができ、特に、1ビツト線にお
いては、その再現の不十分さを改善することができた。On the other hand, in the control means of the present invention, the control electrode 11c through which ions are to pass is grounded, and the control electrode 11c
A voltage Vl is applied to the control electrode 11b, lid adjacent to the control electrode 11b, and the other control electrodes 11a, l
A voltage v2 is applied to ie. When the amount of ions was investigated under these conditions, the results shown in FIG. 5(C) were obtained. In other words, with conventional control means, the peak value of the ion distribution is lower than the solid level, and the distribution width is also small, resulting in insufficient development, poor line reproducibility, and insufficient width and density. However, in the present invention, a large amount of ions can be obtained, and in particular, in the case of a 1-bit line, the insufficient reproduction can be improved.
[発明の効果]
以上に説明したように、この発明のイオン流制御記録ヘ
ッドによれば、上記のように構成されているので、以下
のような効果が得られる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the ion flow control recording head of the present invention, which is configured as described above, the following effects can be obtained.
イオン導出領域をイオン非導出領域の制御用電界によっ
て妨害されることがないので、イオン量の増大を図るこ
とができると共に、線の再現性を良好にすることができ
、十分な幅と濃度を確保して画質の向上を図ることがで
きる。Since the ion derivation region is not disturbed by the control electric field of the ion non-derivation region, it is possible to increase the amount of ions, improve line reproducibility, and maintain sufficient width and concentration. It is possible to improve image quality by ensuring that
第1図はこの発明における制御手段の一例を示す説明図
、第2図はこの発明における制御手段の使用状態の一例
を示す説明図、第3図は1ビツトイオンピーク/ソリツ
ドレベルとスリット幅/電極ピッチの関係を示すグラフ
、第4図は線幅/電極ピッチとイオン導出領域の隣接電
極の印加電圧の関係を示すグラフ、第5図(a)〜(4
5)は従来のイオン流制御手段の使用状態の説明図、こ
の発明におけるイオン流制御手段の使用状態の説明図及
びこれらのイオン分布状態を比較するグラフ、第6図は
イオン流制御記録ヘッドの原理を示す断面斜視図、第7
図はイオン流制御記録ヘッドの要部を示す断面図、第8
図は従来のイオン流制御手段の制御状態の一例を示す説
明図である。
符号説明
(1,lla、 llb、 llc、 lid、 1i
e) =・制御電極(2)・・・制御回路
(2a)・・・第1の制御回路
(2b)・・・第2の制御回路
(2c)・・・第3の制御回路
(3)・・・イオン流制御手段
(200・・・第1のスイッチング素子(20b)・・
・第2のスイッチング素子(20c)・・・第3のスイ
ッチング素子(2I)・・・第1の電源
(22)・・・第2の電源
(23)・・・アース部Fig. 1 is an explanatory diagram showing an example of the control means in this invention, Fig. 2 is an explanatory diagram showing an example of the usage state of the control means in this invention, and Fig. 3 is an explanatory diagram showing an example of the usage state of the control means in this invention. A graph showing the relationship between the pitch and FIG. 4 is a graph showing the relationship between the line width/electrode pitch and the voltage applied to adjacent electrodes in the ion extraction region, and FIGS.
5) is an explanatory diagram of the usage state of the conventional ion flow control means, an explanatory diagram of the usage state of the ion flow control means in the present invention, and a graph comparing these ion distribution states. Sectional perspective view showing the principle, No. 7
The figure is a cross-sectional view showing the main parts of the ion flow control recording head.
The figure is an explanatory diagram showing an example of a control state of a conventional ion flow control means. Code explanation (1, lla, llb, llc, lid, 1i
e) = Control electrode (2)...Control circuit (2a)...First control circuit (2b)...Second control circuit (2c)...Third control circuit (3) ...Ion flow control means (200...first switching element (20b)...
・Second switching element (20c)...Third switching element (2I)...First power supply (22)...Second power supply (23)...Grounding section
Claims (1)
ると共にイオン発生手段にて発生したイオン流を導出す
るためのイオン流導出部と、イオン流の導出を制御する
イオン流制御手段とを具備するイオン流制御記録ヘッド
において、 上記イオン流導出部を、スリットを形成すべく対向配置
される基準電極面と、絶縁性基板とで構成し、 上記イオン流制御手段を、上記絶縁性基板のスリット側
面に配設される複数の制御電極と、画像情報に基いて各
制御電極に電圧を印加する制御回路とで構成し、この際
、イオンを導出しない領域の制御電極にイオン非導出電
圧(V2)を印加すると共に、イオンを導出する領域の
制御電極を上記基準電極と同電位にし、かつ、イオンを
導出する領域の制御電極に隣接する制御電極にイオン非
導出電圧(V2)よりも低い電圧(V1)を印加するこ
とを特徴とするイオン流制御記録ヘッド。(1) Equipped with an ion generation means, an ion flow derivation section communicating with the ion generation means and for deriving the ion flow generated by the ion generation means, and an ion flow control means for controlling the derivation of the ion flow. In the ion flow control recording head, the ion flow derivation section is composed of a reference electrode surface and an insulating substrate that are arranged to face each other to form a slit, and the ion flow control means is configured by forming a slit in the insulating substrate. It consists of a plurality of control electrodes arranged on the side surface and a control circuit that applies voltage to each control electrode based on image information.At this time, an ion non-deriving voltage (V2 ), and at the same time, the control electrode in the region from which ions are extracted is set to the same potential as the reference electrode, and a voltage lower than the ion non-derivation voltage (V2) is applied to the control electrode adjacent to the control electrode in the region from which ions are extracted. An ion flow control recording head characterized in that (V1) is applied.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3387890A JPH03239565A (en) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | Ion flow control recording head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3387890A JPH03239565A (en) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | Ion flow control recording head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03239565A true JPH03239565A (en) | 1991-10-25 |
Family
ID=12398777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3387890A Pending JPH03239565A (en) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | Ion flow control recording head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03239565A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05104777A (en) * | 1991-06-21 | 1993-04-27 | Xerox Corp | Device for improving addressability and density of printed images |
-
1990
- 1990-02-16 JP JP3387890A patent/JPH03239565A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05104777A (en) * | 1991-06-21 | 1993-04-27 | Xerox Corp | Device for improving addressability and density of printed images |
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