JPH03241853A - 処理装置 - Google Patents
処理装置Info
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- JPH03241853A JPH03241853A JP2039068A JP3906890A JPH03241853A JP H03241853 A JPH03241853 A JP H03241853A JP 2039068 A JP2039068 A JP 2039068A JP 3906890 A JP3906890 A JP 3906890A JP H03241853 A JPH03241853 A JP H03241853A
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- Japan
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- wafer
- cassette
- directions
- wafer cassette
- arm
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体ウェハあるいはＬＣＤ （液晶デイス
プレィ）基板等の被処理体を処理する処理装置に関する
。
プレィ）基板等の被処理体を処理する処理装置に関する
。
（従来の技術）
半導体ウェハ製造工程において、マルチチャンバにウェ
ハを収容して処理する装置がある。この装置には、ウェ
ハカセットにウェハを収納して使用されている。一般に
ウェハを収容する収納用カセット例えばウェハカセット
（ウェハキャリアとも称される）は、実開昭８４−２２
０３５号公報等に記載されているように上記ウェハカセ
ットの筐体の前面にのみウェハの搬入出用の開口部を有
し、相対向する側壁にはウェハの両端を支持し１枚ずつ
平行に収容するための溝が設けられている。従って、従
来のウェハカセットはそのウェハ搬入出方向が一方向に
限定されていた。このようなウェハカセットを使用した
マルチチャンバの処理装置がある。
ハを収容して処理する装置がある。この装置には、ウェ
ハカセットにウェハを収納して使用されている。一般に
ウェハを収容する収納用カセット例えばウェハカセット
（ウェハキャリアとも称される）は、実開昭８４−２２
０３５号公報等に記載されているように上記ウェハカセ
ットの筐体の前面にのみウェハの搬入出用の開口部を有
し、相対向する側壁にはウェハの両端を支持し１枚ずつ
平行に収容するための溝が設けられている。従って、従
来のウェハカセットはそのウェハ搬入出方向が一方向に
限定されていた。このようなウェハカセットを使用した
マルチチャンバの処理装置がある。
（発明が解決しようとする課題）
従来のマルチチャンバの装置で使用されているウェハカ
セットからの被処理体の搬入または搬出が一方向に限定
されていたので、２種の方向から、例えば１種類は一方
向に搬入出する方向と、他の種類は上記一方向と直交す
る方向に搬入出する方向のアームアクセスを可能とする
ためには、ウェハカセットを回転駆動することが不可欠
となっていた。例えば、この種のウェハカセットを、相
直交する２方向よりアクセス可能な２つの搬送アームの
進退方向の交点となるコーナ部に設けた場合には、ウェ
ハカセットに設けられている開口部が上記２つの方向に
それぞれ向くようにカセット載置台を回転駆動しなけれ
ばならない。
セットからの被処理体の搬入または搬出が一方向に限定
されていたので、２種の方向から、例えば１種類は一方
向に搬入出する方向と、他の種類は上記一方向と直交す
る方向に搬入出する方向のアームアクセスを可能とする
ためには、ウェハカセットを回転駆動することが不可欠
となっていた。例えば、この種のウェハカセットを、相
直交する２方向よりアクセス可能な２つの搬送アームの
進退方向の交点となるコーナ部に設けた場合には、ウェ
ハカセットに設けられている開口部が上記２つの方向に
それぞれ向くようにカセット載置台を回転駆動しなけれ
ばならない。
そこで、本発明の目的とするところは、少なくとも、相
直交する２方向よりウェハの搬入比を行うことができる
処理装置を提供することにある。
直交する２方向よりウェハの搬入比を行うことができる
処理装置を提供することにある。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明は、被処理体を収納カセットに収納し、この収納
カセットから被処理体を引き出し、各処理室に収容して
処理する装置において、少なくとも相交差する２方向よ
り上記被処理体の搬入比を可能とする開口部を形成した
収納カセットを上記装置のローダ部に配設したことを特
徴とする。
カセットから被処理体を引き出し、各処理室に収容して
処理する装置において、少なくとも相交差する２方向よ
り上記被処理体の搬入比を可能とする開口部を形成した
収納カセットを上記装置のローダ部に配設したことを特
徴とする。
（作 用）
収納力セノ・トは、相交差する２方向より被処理体の搬
入比を可能とする開口部が形成されてい７）１７）で、
例えば、このウェハカセットを相直交する２つの搬送方
向の交点となるコーナ一部に設けた場合にも、カセット
載置台を回転駆動することなく両方向への受渡しを円滑
に実施することが可能となる。
入比を可能とする開口部が形成されてい７）１７）で、
例えば、このウェハカセットを相直交する２つの搬送方
向の交点となるコーナ一部に設けた場合にも、カセット
載置台を回転駆動することなく両方向への受渡しを円滑
に実施することが可能となる。
（実施例）
以下、本発明の処理装置に使用するウェハカセットにつ
いて、図を参照して説明する。
いて、図を参照して説明する。
第１図に示すように上記ウェハカセット１０は、底板１
２および上蓋１４をそれぞれ上下方向にて離間して平行
に配設し、その四隅において支柱１６８〜１６ｄを連結
することで構成している。
２および上蓋１４をそれぞれ上下方向にて離間して平行
に配設し、その四隅において支柱１６８〜１６ｄを連結
することで構成している。
すなわち、このウェハカセット１０は銅板を有せず、各
支柱間にそれぞれ開口部１８８〜１８ｄが形成されてい
る。
支柱間にそれぞれ開口部１８８〜１８ｄが形成されてい
る。
上記各支柱１６ａ〜１．６ ｄにはウェハ２８の下面を
４カ所にて支持するウェハ支持片２０が設けられ、この
ウェハ支持片２０は前記各支柱１６８〜１６ｄの縦方向
にて所定間隔にて離間して固定されている。このウェハ
支持片２０は、第２図および第３図に示すように、その
上面２２よりも１段下った段差面２４を自由端側に有し
、この上面２２および段差面２４との境界となる壁面２
６は、前記ウェハ２８の外形形状とほぼ同一の曲率半径
Ｒにて形成されている。
４カ所にて支持するウェハ支持片２０が設けられ、この
ウェハ支持片２０は前記各支柱１６８〜１６ｄの縦方向
にて所定間隔にて離間して固定されている。このウェハ
支持片２０は、第２図および第３図に示すように、その
上面２２よりも１段下った段差面２４を自由端側に有し
、この上面２２および段差面２４との境界となる壁面２
６は、前記ウェハ２８の外形形状とほぼ同一の曲率半径
Ｒにて形成されている。
前記ウェハ２８は、オリエンテーションフラット２８ａ
を有するので完全な真円ではないが、これを真円と仮定
した場合の直径をｄｌとした場合には、前記各開口部１
８ａ〜１８Ｃの開口幅ｄ２との関係は、 ｄｌ ＜ｄｌ となっている。
を有するので完全な真円ではないが、これを真円と仮定
した場合の直径をｄｌとした場合には、前記各開口部１
８ａ〜１８Ｃの開口幅ｄ２との関係は、 ｄｌ ＜ｄｌ となっている。
上記のような構成のウェハカセット１０は、第１図に示
すようにカセット上下動部３０上に載置固定され、同図
のＥ方向に上下駆動が可能となっている。
すようにカセット上下動部３０上に載置固定され、同図
のＥ方向に上下駆動が可能となっている。
次に、このウェハカセット１０の作用について第４図を
参照して説明する。
参照して説明する。
このウェハカセット１０に対するウェハ２８の搬入比は
、自由端側にウェハ２８を水平に載置して支持した搬送
アームを用いて行われる。まず、ウェハ２８の搬入動作
について説明すると、前記搬送アームの搬送高さは常時
一定となっているので、カセット上下動部３０を駆動し
、このウェハ２８を支持すべき前記ウェハ支持片２０の
前記上面２２を、搬送アームの搬送高さよりも下方に設
定する。その後、ウェハ２８を支持した搬送アームをカ
セット１０内に搬入する。この際、本実施例ではウェハ
２８の外径ｄ１が、ウェハカセット１０の四隅に設けら
れた各支柱１６ａ〜１６ｄの支柱間距離ｄ２よりも小さ
くなっているので、第１図および第２図に示す直交する
四方向Ａ−Ｄの各方向より搬入が可能である。
、自由端側にウェハ２８を水平に載置して支持した搬送
アームを用いて行われる。まず、ウェハ２８の搬入動作
について説明すると、前記搬送アームの搬送高さは常時
一定となっているので、カセット上下動部３０を駆動し
、このウェハ２８を支持すべき前記ウェハ支持片２０の
前記上面２２を、搬送アームの搬送高さよりも下方に設
定する。その後、ウェハ２８を支持した搬送アームをカ
セット１０内に搬入する。この際、本実施例ではウェハ
２８の外径ｄ１が、ウェハカセット１０の四隅に設けら
れた各支柱１６ａ〜１６ｄの支柱間距離ｄ２よりも小さ
くなっているので、第１図および第２図に示す直交する
四方向Ａ−Ｄの各方向より搬入が可能である。
この搬送アームを搬入し、ウェハ２８が前記ウェハカセ
ット１０のセンター位置まで到達したところで搬送アー
ムの搬入駆動を停止する。その後、第１図に示すように
カセット上下動部３０を駆動し、このウェハ２８を支持
すべきウェハ支持片２０の前記段差面２４を、搬送アー
ムに支持されているウェハ２８の下面と当接させ、さら
にこのウェハ２８を搬送アームより引き離す高さ位置ま
でウェハカセット１０全体を上昇駆動する。この結果、
前記ウェハ２８は第３図に示すように４つのウェハ支持
片２０の各段差面２４にて載置されることになる。その
後、前記搬送アームを搬出駆動することで、ウェハ２８
のウェハカセット１０に対する搬入動作が終了すること
になる。
ット１０のセンター位置まで到達したところで搬送アー
ムの搬入駆動を停止する。その後、第１図に示すように
カセット上下動部３０を駆動し、このウェハ２８を支持
すべきウェハ支持片２０の前記段差面２４を、搬送アー
ムに支持されているウェハ２８の下面と当接させ、さら
にこのウェハ２８を搬送アームより引き離す高さ位置ま
でウェハカセット１０全体を上昇駆動する。この結果、
前記ウェハ２８は第３図に示すように４つのウェハ支持
片２０の各段差面２４にて載置されることになる。その
後、前記搬送アームを搬出駆動することで、ウェハ２８
のウェハカセット１０に対する搬入動作が終了すること
になる。
ここで、ウェハカセット１０に収納された前記ウェハ２
８は、各ウェハ支持片２０において前記ウェハ２８の端
面と対向する前記壁面２６が、ウェハ２８の外径とほぼ
同一の曲率にて形成されているので、このウェハ２８の
位置ずれを防止することができ、また、ウェハカセット
１０が多少傾いてもウェハ２８がずれてウェハカセット
１０の外側に飛び出て落下することを防止できる。従っ
て、このつｉバカセット１０をウェハキャリアとしても
利用することが可能である。
８は、各ウェハ支持片２０において前記ウェハ２８の端
面と対向する前記壁面２６が、ウェハ２８の外径とほぼ
同一の曲率にて形成されているので、このウェハ２８の
位置ずれを防止することができ、また、ウェハカセット
１０が多少傾いてもウェハ２８がずれてウェハカセット
１０の外側に飛び出て落下することを防止できる。従っ
て、このつｉバカセット１０をウェハキャリアとしても
利用することが可能である。
このウェハカセット１０からのウェハ２８の搬出動作は
、前記搬入動作と逆工程を実施することで実現できる。
、前記搬入動作と逆工程を実施することで実現できる。
すなわち、第４図に示すように取出すべきウェハ２８を
支持しているウェハ支持片２０の下面よりも、搬送アー
ムの搬送高さが低い位置になるように、前記カセット上
下動部３ｏを駆動する。その後、搬送アームを前記ウェ
ハカセット１０内に搬入し、所定の位置にて停止させる
。
支持しているウェハ支持片２０の下面よりも、搬送アー
ムの搬送高さが低い位置になるように、前記カセット上
下動部３ｏを駆動する。その後、搬送アームを前記ウェ
ハカセット１０内に搬入し、所定の位置にて停止させる
。
さらに、カセット上下動部３０を駆動することでウェハ
カセット１０全体を下降させ、搬送アームの上面がウェ
ハ２８の下面に当接し、さらに各ウェハ支持片２０の段
差面２４よりウェハ２８が引き離される位置まで上記駆
動を実施する。この結果、ウェハ２８は搬送アームにの
み支持されることになり、その後この搬送アームを後退
駆動することにより、ウェハカセット１０からのウェハ
２８の搬出動作が完了することができる。この搬出動作
も、上記開口部１８ａ〜１８ｄのいずれかを利用して実
現できる。
カセット１０全体を下降させ、搬送アームの上面がウェ
ハ２８の下面に当接し、さらに各ウェハ支持片２０の段
差面２４よりウェハ２８が引き離される位置まで上記駆
動を実施する。この結果、ウェハ２８は搬送アームにの
み支持されることになり、その後この搬送アームを後退
駆動することにより、ウェハカセット１０からのウェハ
２８の搬出動作が完了することができる。この搬出動作
も、上記開口部１８ａ〜１８ｄのいずれかを利用して実
現できる。
次に、上記ウェハカセット１０を処理装置、例えばＣＶ
Ｄ処理装置に適用に第５図を参照して説明する。
Ｄ処理装置に適用に第５図を参照して説明する。
このＣＶＤ装置４０は例えば３つのプロセスチャン／（
−４２を有し、各プロセスチャンバー４２はゲートバル
ブを介して第１のロードロックチャンバー（以下、Ｌ／
Ｌと略記する）４４と連結されている。この第１のＬ／
Ｌ４４内部には、第１の搬送アーム４６．ウェハ載置台
４８および第２の搬送アーム５０が内蔵されている。ま
た、この第１のＬ／Ｌ４４の左右には、それぞれ第２の
Ｌ／Ｌ５２および第３のＬ／Ｌ５４がゲートバルブを介
して連結されている。前記第２のＬ／Ｌ ５２は、搬入
用のロードロックチャンバーであり、その内部には前記
ウェハカセット１０がカセット上下動部３０上に固定配
置されている。この第２のＬ／Ｌ ５２とゲートバルブ
で仕切られた外側の常圧下には、センダーアーム５６お
よびカセット５８が設けられ、センダーアーム５６を用
いて前記カセット５８内のウェハ２８を１枚ずつ取出し
、前記第２のＬ／Ｌ ５２内に搬入可能としている。
−４２を有し、各プロセスチャンバー４２はゲートバル
ブを介して第１のロードロックチャンバー（以下、Ｌ／
Ｌと略記する）４４と連結されている。この第１のＬ／
Ｌ４４内部には、第１の搬送アーム４６．ウェハ載置台
４８および第２の搬送アーム５０が内蔵されている。ま
た、この第１のＬ／Ｌ４４の左右には、それぞれ第２の
Ｌ／Ｌ５２および第３のＬ／Ｌ５４がゲートバルブを介
して連結されている。前記第２のＬ／Ｌ ５２は、搬入
用のロードロックチャンバーであり、その内部には前記
ウェハカセット１０がカセット上下動部３０上に固定配
置されている。この第２のＬ／Ｌ ５２とゲートバルブ
で仕切られた外側の常圧下には、センダーアーム５６お
よびカセット５８が設けられ、センダーアーム５６を用
いて前記カセット５８内のウェハ２８を１枚ずつ取出し
、前記第２のＬ／Ｌ ５２内に搬入可能としている。
一方、前記第３のＬ／Ｌ５４は搬出用のロードロックチ
ャンバーであり、同様にその内部には前記ウェハカセッ
ト１０がカセット上下動部３０に載置固定されている。
ャンバーであり、同様にその内部には前記ウェハカセッ
ト１０がカセット上下動部３０に載置固定されている。
さらに、この第３のＬ／Ｌ５４とゲートバルブで仕切ら
れた外側の常圧下には、レシーバアーム６０およびカセ
ット６２が設けられている。
れた外側の常圧下には、レシーバアーム６０およびカセ
ット６２が設けられている。
次に、このＣＶＤ装置４０の動作について説明する。
各プロセスチャンバー４２内にてＣＶＤ処理を行うに際
して、常圧下に設定されているカセット５８に収容され
た複数枚のウェハ２８を、第２のＬ／Ｌ ５２内に設定
されている前記ウェハカセット１０に移し換える。この
移し換え動作は、前記カセット５８と対向する側の第２
のＬ／Ｌ ５２のゲートバルブを開放した状態にて、セ
ンダーアーム５６を回転駆動および第５図の矢印ａ方向
に進退駆動することで実現できる。この動作が終了した
後に第２のＬ／Ｌ５２のゲートバルブを締め、その内部
を所定真空度まで真空引きする。次に、前記第２のＬ／
Ｌ ５２と第１のＬ／Ｌ４４との間のゲートバルブを開
放し、第２の搬送アーム５０の駆動によりウェハ２８を
１枚ずつ取出し駆動する。この際、前記ウェハカセット
１０は、センダーアーム５６の進退方向であるａ方向と
、第２の搬送アーム５０の進退方向であるｂ方向との交
点であるコーナ一部に設けられることになるが、前記ウ
ェハカセット１０が前述したように相直交する二方向に
てウェハ２８の搬入出を可能とする開口部を有している
ので、この移し換え動作はウェハカセット１０の上下駆
動のみで実現でき、ウェハカセット１０を回転駆動する
必要がない。
して、常圧下に設定されているカセット５８に収容され
た複数枚のウェハ２８を、第２のＬ／Ｌ ５２内に設定
されている前記ウェハカセット１０に移し換える。この
移し換え動作は、前記カセット５８と対向する側の第２
のＬ／Ｌ ５２のゲートバルブを開放した状態にて、セ
ンダーアーム５６を回転駆動および第５図の矢印ａ方向
に進退駆動することで実現できる。この動作が終了した
後に第２のＬ／Ｌ５２のゲートバルブを締め、その内部
を所定真空度まで真空引きする。次に、前記第２のＬ／
Ｌ ５２と第１のＬ／Ｌ４４との間のゲートバルブを開
放し、第２の搬送アーム５０の駆動によりウェハ２８を
１枚ずつ取出し駆動する。この際、前記ウェハカセット
１０は、センダーアーム５６の進退方向であるａ方向と
、第２の搬送アーム５０の進退方向であるｂ方向との交
点であるコーナ一部に設けられることになるが、前記ウ
ェハカセット１０が前述したように相直交する二方向に
てウェハ２８の搬入出を可能とする開口部を有している
ので、この移し換え動作はウェハカセット１０の上下駆
動のみで実現でき、ウェハカセット１０を回転駆動する
必要がない。
ＣＶＤ処理の終了したウェハ２８の搬出動作は、ｊｉ３
のＬ／Ｌ５４内部に配設されたウェハカセット１０を経
由して行われる。このウェハカセット１０も、前記第２
の搬送アーム５０の進退方向であるｅ方向と、レシーバ
アーム６０の進退方向であるｆ方向との交点であるコー
ナ一部に設けられているが、相直交する二方向からのア
ームアクセスが可能なウェハカセット１０の作用により
、この移し換えを同様に円滑に実施できる。なお、第１
、第２の搬送アーム４６．５０の間のウェハ２８の受渡
しは、両アームをそれぞれｂ方向、Ｃ方向進退駆動させ
、ウェハ載置台４８を介在させて行うことができ、ｗ４
２の搬送アーム４４と各プロセスチャンバー４２との間
のウェハ２８の受渡しは、第１の搬送アーム４６の回転
駆動および進退駆動により実現可能である。
のＬ／Ｌ５４内部に配設されたウェハカセット１０を経
由して行われる。このウェハカセット１０も、前記第２
の搬送アーム５０の進退方向であるｅ方向と、レシーバ
アーム６０の進退方向であるｆ方向との交点であるコー
ナ一部に設けられているが、相直交する二方向からのア
ームアクセスが可能なウェハカセット１０の作用により
、この移し換えを同様に円滑に実施できる。なお、第１
、第２の搬送アーム４６．５０の間のウェハ２８の受渡
しは、両アームをそれぞれｂ方向、Ｃ方向進退駆動させ
、ウェハ載置台４８を介在させて行うことができ、ｗ４
２の搬送アーム４４と各プロセスチャンバー４２との間
のウェハ２８の受渡しは、第１の搬送アーム４６の回転
駆動および進退駆動により実現可能である。
次に、前記ウェハカセット１０を用いたＣＶＤ処理装置
の他の実施例について、第６図を参照して説明する。な
お、第６図に示す部材のうち、第５図と同一機能を有す
る部材については、同一符号を付しその詳細な説明を省
略する。
の他の実施例について、第６図を参照して説明する。な
お、第６図に示す部材のうち、第５図と同一機能を有す
る部材については、同一符号を付しその詳細な説明を省
略する。
第６図に示すＣＶＤ装置７０が、第５図に示すＣＶＤ装
置４０と相違する点は、前記第１のＬ／Ｌ４４とゲート
バルブ７４で仕切られた第２のＬ／Ｌ７２を設け、この
内部に前記ウェハカセット１０およびカセット上下動部
３０を設けたことである。この第２のＬ／Ｌ７２とゲー
トバルブで仕切られた外側の常圧下には、同様にセンダ
ーアーム５６．カセット５８およびレシーバアーム６０
゜カセット６２が配設されている。
置４０と相違する点は、前記第１のＬ／Ｌ４４とゲート
バルブ７４で仕切られた第２のＬ／Ｌ７２を設け、この
内部に前記ウェハカセット１０およびカセット上下動部
３０を設けたことである。この第２のＬ／Ｌ７２とゲー
トバルブで仕切られた外側の常圧下には、同様にセンダ
ーアーム５６．カセット５８およびレシーバアーム６０
゜カセット６２が配設されている。
このＣＶＤ装置７０にてＣＶＤ処理を行うに隙して、ま
ずカセット５８に収容された全てのウェハ２８を、セン
ダーアーム５６を用いて前記第２のＬ／Ｌ ７２内部の
ウェハカセット１０に収容する。その後、全てのゲート
バルブを閉鎖した状態で、この第２のＬ／Ｌを真空引き
し、所定の真空度に達した後にプロセスチャンバー４２
との間で受渡しが開始される。この受渡し動作は、１枚
のウェハ２８を搬入出する度に前記ゲートバルブ７４を
開放し、前記第１の搬送アーム４６の図示す方向の進退
駆動および回転駆動により実現される。そして、ウェハ
カセット１０に収容されている全てのウェハ２８に対す
るＣＶＤ処理が終了した後には、この第２のＬ／Ｌ ７
２をまずパージし、その後レシーバアーム６０と対向す
る側のゲートバルブを開放することで大気状態とする。
ずカセット５８に収容された全てのウェハ２８を、セン
ダーアーム５６を用いて前記第２のＬ／Ｌ ７２内部の
ウェハカセット１０に収容する。その後、全てのゲート
バルブを閉鎖した状態で、この第２のＬ／Ｌを真空引き
し、所定の真空度に達した後にプロセスチャンバー４２
との間で受渡しが開始される。この受渡し動作は、１枚
のウェハ２８を搬入出する度に前記ゲートバルブ７４を
開放し、前記第１の搬送アーム４６の図示す方向の進退
駆動および回転駆動により実現される。そして、ウェハ
カセット１０に収容されている全てのウェハ２８に対す
るＣＶＤ処理が終了した後には、この第２のＬ／Ｌ ７
２をまずパージし、その後レシーバアーム６０と対向す
る側のゲートバルブを開放することで大気状態とする。
そして、このレシーバアーム６０を用いることで、ウェ
ハカセット１０内部に収容されている全てのウェハ２８
をカセット６２に移し換え、全動作が完了することにな
る。
ハカセット１０内部に収容されている全てのウェハ２８
をカセット６２に移し換え、全動作が完了することにな
る。
ここで、前記ウェハカセット１０に対する各搬送アーム
４６，５６．６０のアクセス方向は、第５図に示すａ、
ｂ、ｃ方向の三方向となるが、このウェハカセット１０
の構造が第１図に示すように各方向に開口する開口部を
有しているので、各受渡し動作がウェハカセット１０を
回転駆動することなく円滑に実施できる。
４６，５６．６０のアクセス方向は、第５図に示すａ、
ｂ、ｃ方向の三方向となるが、このウェハカセット１０
の構造が第１図に示すように各方向に開口する開口部を
有しているので、各受渡し動作がウェハカセット１０を
回転駆動することなく円滑に実施できる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
上記実施例は相直交する２種以上の方向からのアームア
クセスを可能とするウェハカセットに関するものであっ
たが、これに限らず少なくとも相交差する（直角に限ら
ない）方向かのアームアクセスを可能とするものでもよ
い。
クセスを可能とするウェハカセットに関するものであっ
たが、これに限らず少なくとも相交差する（直角に限ら
ない）方向かのアームアクセスを可能とするものでもよ
い。
またカセットに収容される被処理体形状については、上
記実施例のような円形の半導体ウェハに限らず、楕円形
状のもの、あるいはＬＣＤ基板のように正方形、長方形
等の矩形形状のものであってもよく、被処理体の外形形
状に合せてカセットを形成すればよい。
記実施例のような円形の半導体ウェハに限らず、楕円形
状のもの、あるいはＬＣＤ基板のように正方形、長方形
等の矩形形状のものであってもよく、被処理体の外形形
状に合せてカセットを形成すればよい。
また、本発明は少なくとも相交差する二方向より被処理
体の搬入出を可能とする開口部を有するものであれば、
その被処理体を支持する支持片の構成についても第２図
に示すものに限らない。
体の搬入出を可能とする開口部を有するものであれば、
その被処理体を支持する支持片の構成についても第２図
に示すものに限らない。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、カセットを同等
回転駆動することなく、相直交する二方向より被処理体
の搬入出を行うことができる被処理体用カセットを提供
できる。
回転駆動することなく、相直交する二方向より被処理体
の搬入出を行うことができる被処理体用カセットを提供
できる。
第１図は、本発明の処理装置に使用するウェハカセット
の一実施例を説明するためのウエノ＼カセットの説明図
、 第２図は、第１のウェハカセットの上蓋を取り除いた状
態の平面図、 第３図は、第２図のＦ−Ｆ断面図、 第４図は、第１図に示すウェハカセットからウェハを取
出す動作を説明するためのウニｌ＼カセット説明図、 第５図は、第１図に示すウェハカセットを利用したＣＶ
Ｄ装置を示す概略平面図、 第６図は、第１図に示すウェハカセットを利用したＣＶ
Ｄ装置の変形例を示す概略平面図である。 １０・・・ウェハカセット、１６ａ〜１６ｄ・・・支柱
、１８ａ〜１８ｄ・・・開口部、２０・・・ウェハ支持
片、２８・・・ウェハ、３０・・・カセット上下動部。
の一実施例を説明するためのウエノ＼カセットの説明図
、 第２図は、第１のウェハカセットの上蓋を取り除いた状
態の平面図、 第３図は、第２図のＦ−Ｆ断面図、 第４図は、第１図に示すウェハカセットからウェハを取
出す動作を説明するためのウニｌ＼カセット説明図、 第５図は、第１図に示すウェハカセットを利用したＣＶ
Ｄ装置を示す概略平面図、 第６図は、第１図に示すウェハカセットを利用したＣＶ
Ｄ装置の変形例を示す概略平面図である。 １０・・・ウェハカセット、１６ａ〜１６ｄ・・・支柱
、１８ａ〜１８ｄ・・・開口部、２０・・・ウェハ支持
片、２８・・・ウェハ、３０・・・カセット上下動部。
Claims (1)
- （１）被処理体を収納カセットに収納し、この収納カセ
ットから被処理体を引き出し、各処理室に収容して処理
する装置において、 少なくとも相交差する２方向より上記被処理体の搬入出
を可能とする開口部を形成した収納カセットを上記装置
のローダ部に配設したことを特徴とする処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2039068A JPH03241853A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2039068A JPH03241853A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03241853A true JPH03241853A (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=12542812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2039068A Pending JPH03241853A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03241853A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6013112A (en) * | 1996-09-09 | 2000-01-11 | Tokyo Electron Limited | Relay apparatus for relaying object to be treated |
| US6042623A (en) * | 1998-01-12 | 2000-03-28 | Tokyo Electron Limited | Two-wafer loadlock wafer processing apparatus and loading and unloading method therefor |
| WO2007013424A1 (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-01 | Canon Anelva Corporation | 真空処理装置、半導体デバイス製造方法および半導体デバイス製造システム |
| JP2007042994A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Tokyo Electron Ltd | 基板受け渡し装置、基板受け渡し方法及び記憶媒体 |
| JP2014222747A (ja) * | 2013-05-14 | 2014-11-27 | 株式会社ディスコ | 収容カセット |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP2039068A patent/JPH03241853A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6013112A (en) * | 1996-09-09 | 2000-01-11 | Tokyo Electron Limited | Relay apparatus for relaying object to be treated |
| KR100338535B1 (ko) * | 1996-09-09 | 2002-10-25 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 피처리체의 반송을 위한 중계장치 |
| US6042623A (en) * | 1998-01-12 | 2000-03-28 | Tokyo Electron Limited | Two-wafer loadlock wafer processing apparatus and loading and unloading method therefor |
| WO2007013424A1 (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-01 | Canon Anelva Corporation | 真空処理装置、半導体デバイス製造方法および半導体デバイス製造システム |
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| JP2014222747A (ja) * | 2013-05-14 | 2014-11-27 | 株式会社ディスコ | 収容カセット |
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