JPH03245116A - 光学装置及びこの光学装置が組込まれる画像形成装置或いは画像情報読取装置 - Google Patents

光学装置及びこの光学装置が組込まれる画像形成装置或いは画像情報読取装置

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JPH03245116A
JPH03245116A JP2040923A JP4092390A JPH03245116A JP H03245116 A JPH03245116 A JP H03245116A JP 2040923 A JP2040923 A JP 2040923A JP 4092390 A JP4092390 A JP 4092390A JP H03245116 A JPH03245116 A JP H03245116A
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light beam
light source
optical
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Rintaro Nakane
林太郎 中根
Jiro Egawa
江川　二郎
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Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明は、レーザから発生される光ビームを偏向手段
により走査することで画像を形成し、或いは、与えられ
た情報に従って加工する装置、特に、コンピュータ等に
接続されるレーザプリンタ装置等の画像形成装置、デジ
タルＰＰＣ複写機、レーザ刻印装置或いは印刷原版製造
装置等に組込まれる光学装置に関する。
（従来の技術） 一般に、レーザプリンタ装置等の画像形成装置、デジタ
ルＰＰＣ複写機、レーザ刻印装置或いは印刷原版製造装
置等には、半導体レーザから発生される光ビームを偏向
走査して走査対象物に結像させる光学装置が利用されて
いる。この光学装置は、光ビームを発生する半導体レー
サ素子即ちレーザ発光チップ及びこのレーザ発光チップ
が発生するモニタ光ビームを検知するためのモニタダイ
オードが一体的に組立てられた光源装置、レーザ発光チ
ップから発生される光ビームを整形するコリメート光学
装置、整形された光ビームを走査対象物に向かって反射
させる光偏向装置、及び、光ビームを走査対象物に対し
て結像させる結像光学装置を備えている。また、この光
学装置は、上記レーザ発光チップを駆動し、このレーザ
発光チップから発生される光ビームを記録信号に応じて
強度変調させるレーザ駆動回路、及び、モニタダイオー
ドで検出された上記レーザ発光チップから発生される光
ビームの出力を所定の基準値と比較してレーザ駆動回路
を制御する自動光量制御回路を備えている。さらに、こ
の光学装置は、走査対象物の第一の方向即ち主走査方向
に偏向（走査）される光ビームの副走査方向即ち主走査
方向に直交する方向における走査開始位置或いは走査開
始時期を一致させる、例えば、光検出素子である光ビー
ムの水平同期を合わせるための水平同期検出装置を同一
装置内に備えている。
レーザ発光チップから発生された光ビームは、コリメー
ト光学装置を介して所定のビーム形状に整えられ、光偏
向装置によって走査対象物に向かって走査される。この
光ビームは、結像光学装置を介して走査対象物の所定の
位置に結像される。
上述した先ビームの一部は、光偏向装置から走査対象物
までの光路（走査対象物の面上における非画像領域）内
の所定の位置に設けられた光検出素子例えばフォトダイ
オードに対して上記光偏向装置の偏向走査に対応して周
期的に入射され、光ビームの走査開始位置或いは走査開
始時期即ち水平同期信号として検出される。このフォト
ダイオードからの信号は、レーザ発光チップを駆動する
回路にフィードバックされ、レーザ発光チップから発生
される次のラインを走査する光ビームにおける走査開始
位置或いは走査開始時期を一致させるために利用され、
光ビームの水平同期が整合される（合わせられる。） （発明か解決しようとする課題） 上述した光学装置では、光ビームの水平同期を合わせる
ため水平同期検出装置、例えば、光検出素子即ちフォト
ダイオード、このフォトダイオードからの信号を制御回
路或いは他の基準信号と同期させる回路等に転送する転
送回路、それぞれの回路或いは素子を結線する配線部材
、及び、ノイズ対策部材等が配置されることから装置か
大型化する問題かある。また、この水平同期検出装置は
、光学装置に組込まれるレーザ駆動回路或いは光偏向装
置駆動回路等の電気部品とは別に配置されることから、
部品点数か増加しコストが増大する問題かある。
この発明の目的は、光学装置に組込まれる水平同期検出
装置を除去し、装置の小形化及びコストを低減するもの
である。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） この発明は、上述問題点に基づきなされたもので、光源
と、この光源からの先ビームを走査対象物へ向かって偏
向する光偏向手段と、この光偏向手段により偏向された
光ビームを走査対象物に結像させる結像手段と、前記光
源の近傍に配置され、前記光源の発光量の変化を検出す
る発光量検出手段と、前記光偏向手段から前記結像手段
へ向かう主走査方向及び光軸を含む面内の画像領域外に
配置され、前記光偏向手段によって偏向された前記光ビ
ームの一部を前記結像手段及び光偏向手段を介して前記
発光量検出手段に向かって反射させる反射手段とを備え
ることを特徴とする光学装置、及び、この光学装置か組
込まれる画像形成装置或いは画像読取装置が提供される
。
（作用） 光源装置から発生された光ビームは、光偏向装置によっ
て走査対象物に向かって走査される。
この光ビームの一部は、上記光偏向装置の偏向走査に対
応して周期的に、光ビームの主走査方向及び副走査方向
における到達位置を検出するために所定の位置に設けら
れた反射手段に導かれる。この周期的な光ビームは、上
記反射手段によって反射され、はぼ同一光路を介して光
源装置とともに一体的に組立てられたモニタダイオード
へ導かれて、このモニタダイオードの出力を周期的に変
化させる。このモニタダイオードの出力と所定の基準値
とが比較されて、光ビームの走査開始位置或いは走査開
始時期が検出される。即ち、光ビームの水平同期が検出
される。従って、光学装置における光ビームの水平同期
を検出する検出機構及び検出機構を形成する部材が省略
できる。
（実施例） 以下に、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
第１図には、この発明の一実施例である光学装置の概略
が示されている。第１図は、この発明の一実施例である
光学装置を形成する光学部材及び電気回路等を平面的に
示した概略図である。
光学装置２は、光ビームを発生するレーザ発光チップ１
２及びこのレーザ発光チップ１２の背面から発生される
モニタ光を検出するモニタダイオード１０が一体的に組
立てられた光源装置４（第２Ａ図及び第２Ｂ図に詳述す
る）、この光源装置４から発生される先ビームを所望の
ビーム形状に整える有限レンズ４０、及び、モータ４５
に固定され、所定の方向に回転される多面ｖＬ４Ｂを有
し、光ビームを走査対象物５８に向かって走査する光偏
向装置４４を備えている。この光学装置２はまた、光偏
向装置４４即ち多面ｆｉ４ｇによって所定の角速度で走
査された光ビームを走査対象物５８に結像させる結像光
学装置５０、所定の速度で走査された光ビームの一部を
上記光偏向装置４４の偏向走査に対応して周期的に光源
装置４のモニタダイオードｌＯに向かって反射する反射
鏡５６、後述する光学装置内部或いは周辺部に配置され
た光ビーム制御部６、及び、光偏向装置４４を駆動する
光偏向装置駆動回路４６を備えている。また、上記結像
光学装置５０は、像高をｈ、無点距離をｆ、光偏向装置
の反射面の回転角をθとするとき、走査対象物における
結像位置に関してｈ−ｆθが満たされるｆθレンズ５２
、及び、この光ビームの一部を走査対象物とは異なる方
向へ導くための反射面Ｍを主走査方向及び光軸を含む面
内の画像領域外に一体に或いは別部材として有する光ビ
ームの方向を変える方向変換ミラー５４で形成されてい
る。
光ビーム制御部６は、光源装置４を駆動するレザ駆動電
流３２を供給するレーザ駆動回路２２、モニタダイオー
ド】０から発生されるモニタ電流３３によって光ビーム
の比較的長周期の強度変化を検出するビーム光量検出回
路２４、このビーム光量検出回路２４からの出力を所定
の基準値と比較してレーザ駆動回路を駆動させる自動光
量制御回路２６から形成されている。また、この光ビー
ム制御部６には、上記光偏向装置４４の偏向走査にχｉ
応した比較的短周期の上記反射鏡５６からモニタダイオ
ード１０に対して戻される光ビームによって走査対象物
における光ビームの位置を検出するビーム位置検出回路
２８、及び、このビーム位置検出回路２８から出力に応
して上記自動光量制御回路２６及びレーザ駆動回路２２
に対してこの自動光量制御回路２６及びレザ駆動回路２
２を駆動させるためのタイミング信号を供給するレーザ
変調制御回路３０が配置されている。
第２Ａ図及び第２Ｂ図には、第１図に示した光学装置に
組込まれる光源装置の詳細が示されている。第２Ａ図は
、先ビームの発光面を右側にした光源装置の断面図、第
２Ｂ図は、第２Ａ図に示した光源装置を出射口側から見
た外観概略図である。
光源装置４は、レーザ発光チップ１２、このチップ１２
に密着配置され、チップ１２が発生する熱を放熱するヒ
ートシンク１４、チップ１２の裏面から放射されるモニ
タ光を検出するモニタダイオードｌＯ１上記チップ１２
、ヒートシンク１４及びモニタダイオード１０を収容す
るケース１６、及び、これらの素子を防塵のため密閉す
るカバーガラス１８を備えている。
次に、第１図乃至第２Ｂ図を用いて光学装置２における
光ビームの光学的動作を説明する。レーザ発光チップ１
２から発生された光ビームは、有限レンズ４０及び集束
レンズ４２を介して光偏向装置４４の多面鏡４８へ導か
れる。この光ビームは、多面鏡４Ｂの所定の回転によっ
て、ｆθレンズ５２、方向変換ミラー５４及びこの方向
変換ミラー５４の反射面Ｍを介して走査対象物５８及び
反射鏡５Ｂに向かって所定の速度で走査される。尚、多
面鏡４８は、モータ４５に固定されていることから、出
力レジスタ２０からのタイミング信号３７に対応してモ
ータ駆動信号を発生するモータ駆動回路４６によって所
定の回転が与えられる。このようにして、光偏向装置４
４の多面鏡４８によって等角速度で走査された光ビーム
は、走査対象物５８の所定の位置に照射され、様々な装
置の用途に応じて画像形成或いはレーザ加工等に利用さ
れる。
一方、方向変換ミラー５４の反射面Ｍで走査対象物５８
とは異なる方向に反射された光偏向装置４４の偏向走査
に対応した周期的な光ビーム（光ビームは、光偏向装置
４４によって主走査方向の走査開始点から走査終了点ま
での１ラインを走査され、上記反射面Ｍは、この１ライ
ン上の画像領域外の所定の位置に配置されることから、
反射面Ｍでは、１ライン即ち１スキヤンに１回だけ光ビ
ームを反射する）は、反射鏡５６へ導かれる。反射鏡５
Ｂへ導かれたこの光ビームは、光ビームを発光チップ１
２から反射鏡５６へ導く上記光路とほぼ同一の光路を介
してレーザ４のモニタダイオード１０へ戻される。
次に、光学装置ｆ２における光ビームの電気的動作につ
いて説明する。レーザ発光チップ１２には、レーザ駆動
回路２２から記録信号に応じて強度変調されたレーザ駆
動電流３２が供給される。このレーザ駆動電流３２に応
じてレーザ発光チップ１２から強度変調された光ビーム
が発生される。このとき、このレーザ発光チップ１２の
背面から先ビームの温度変化による発光量に対応した比
較的長周期で変動するモニタ光が発生される。このモニ
タ光がモニタダイオード１０で検出されて、比較的長周
期的に変動するモニタ電流３３が発生される。ところで
、このモニタダイオードｌＯには、上記発光チップ１２
から走査対象物５８へ向かう光路中に配置された反射鏡
５６によって反射された上記光偏向装置４４の偏向走査
に対応したレーザ発光チップ１２の背面から光ビームに
対応したモニタ光よりも比較的短周期的に変動する反射
光も導かれ、同様にモニタ電流３３が発生される。従っ
て、光ビームの温度変化による発光量の変動に対応した
比較的長周期的に変動する電流と反射光の入射に対応し
た比較的短周期的に変動する電流の双方が合成されたモ
ニタ電流３３がモニタダイオード１０から出力される。
ここで、上記モニタ電流３３の反射光光ビームによって
発生される比較的短周期的に変動する電流成分は、上述
した発光チップ１２の温度変化による光ビームの発光量
変化によって発生される比較的長周期の変化に比べて極
めて短周期で発生するとともに、反射鏡５６から光源装
置４に戻される時間か極めて短いことから非常に小さな
変化となる。ところで、上記ビーム位置検出回路２８及
びビーム光量検出回路２４では、ビーム位置検出回路２
８の検出感度がビーム光量検出回路２４よりも高く設定
されるとともに、発光チップ１２の温度変化による光ビ
ームの発光量によって生じる比較的長周期的に変動する
モニタ電流に対してフィルタを備えている。このことか
ら、反射光ビームがモニタダイオード１０へ戻されたこ
とによるモニタ電流３３の比較的短周期的な変化は、主
にビーム位置検出回路２８によって検出される。
ビーム光量検出回路２４では、モニタ電流３３の発光チ
ップ１２の温度変化による発光量に対応した比較的長周
期的に変動する電流成分が検出され、光量検出信号３４
が自動光量制御回路２６へ出力される。
自動光量制御回路２Ｂへ導かれた上記光量検出信号８４
は、所定の基準値と比較されて、発光チップ１２の発光
量変化を制御する光量制御信号３５に変換される。この
光量制御信号３５は、レーザ駆動回路２２へ供給され、
レーザ駆動電流３２が変化されて、発光チップ１２から
発光される光ビームの比較的長周期的な変動が低減され
る。
一方、ビーム位置検出回路２８では、光偏向装置４４の
偏向走査に対応した短周期的な反射光ビームが反射鏡５
６からモニタダイオード１０へ戻されたことが検出され
、ビーム位置検出信号３６がレーザ変調制御回路３０へ
出力される。このビーム位置検出信号３６は、モニタダ
イオードｌＯへ戻された光ビームの位置が主走査方向及
び副走査方向における走査開始位置或いは走査開始時期
を検出するために配置された反射鏡５６に到達したこと
を示すことから、光ビームの走査開始位置或いは走査開
始時期即ち水平同期が検出される。レーザ変調制御回路
３０は、このビーム位置検出信号３６を基準にして、自
動光量制御回路２６及びレーザ駆動回路２２を駆動させ
るタイミング信号３８．３９の発生時期を規定するとと
もに、それぞれの回路にこのタイミング信号３８．３９
を供給することから、レーザ駆動回路２２が駆動されて
、次のラインを照射する光ビームが光源装置４から発生
される。この様にして、ビーム位置検出信号３Ｂが基準
にされて、光ビームの走査開始位置或いは走査開始時期
が一致され、光ビームの水平同期が整合される。
第３図及び第４図には、この発明の一実施例である光学
装置に組込まれる光源装置から発生された光ビームが反
射鏡で反射され、この反射ビームが再び光源装置へ戻さ
れる光路の詳細が示されている。第３図は、第１図に示
した光学装置の副走査方向における偏向角０°の位置で
の光ビームを示す光路図、第４図は、第３図に示した光
学装置と異なる光学特性即ち入射及び出射瞳、ケラレ、
収差による影響等を有する光学装置の副走査方向におけ
る偏向角０°の位置での光ビームを示す光路図である。
第３図に示した光学装置では、光源装置４の発光チップ
１２から発生された光ビームは、有限レンズ４０を介し
、て集束レンズ４２へ導かれる。この光ビームは、この
レンズ４２によって集束性か与えられ、多面鏡４８によ
って所定の方向へ走査されて、ｆθレンズ５２及び先ビ
ームの方向を変える方向変換ミラー５４を有する結像光
学装置５０によって走査対象物５８の所定の位置即ち結
像面に結像される。
このとき、光ビームの一部は方向変換ミラー５４の反射
面Ｍによって走査対象物５８とは異なる方向へ反射され
、走査対象物５８の結像面へ向かう主走査方向と光軸を
含む面内の結像面に影響を与えない領域に配置された反
射鏡５Ｂに導かれる。即ち、この反射鏡５６には、走査
対象物５８へ導かれる光ビームと同じ１ライン（］スキ
ャン）に含まれる光ビームの一部が周期的に供給される
。反射鏡５６へ導かれた光ビームは、概ね入射時と同じ
方向に反射され、結像光学装置５０、光偏向装置４４、
集束レンズ４２及び有限レンズ４０を介してモニタダイ
オード１０か一体的に組立てられた光源装置４へ戻され
る。このモニタダイオード１０へ戻された光ビームは、
上述したようにモニタ電流３３に変換されてビム位置検
出回路２８及びビーム光量検出回路２４へ導かれる。そ
れぞれの回路へ導かれたこのモニタ電流３３は、第１図
に詳述した光ビーム制御部によって処理されて水平同期
の検出に用いられ、先ビームの水平同期か整合される。
第４図に示した光学装置では、光源装置４から発生され
る先ビームは、第３図に示した光学装置と同様に走査対
象物５８の結像面に導かれる。また、反射１！５６には
、走査対象物５８へ導かれる先ビームと同し１ライン（
１スキヤン）に含まれる先ビームの一部が周期的に供給
される。反射鏡５６へ導かれた光ビームは、概ね入射時
と同し方向に反射され、結像光学装置５０、光偏向装置
４４、集束レンズ４２及び有限レンズ４０を介してモニ
タダイオード１０が一体的に組立てられた光源装置４へ
戻される。
しかしながら、第４図に示した光学装置では、結像光学
装置１５０、光偏向装置４４及び集束レンズ４２等の光
学部材が有する入射及び出射瞳、ケラレ、収差による影
響等によって、反射光ビームの光路及びビーム径が変化
される。即ち、光源装置４のモニタダイオード１０へ戻
された反射光ビームのビーム径は、第３図に示した光学
装置の場合と異なり比較的大きなビーム径となる。この
ことは、第３図に示した場合と同様に、反射鏡５６から
反射された反射光ビームをモニタ電流３３の短周期の変
化として検出する際に、反射光ビームが反射された位置
即ち走査対象物５８に向かう光ビームの主走査方向と光
軸を含む面内の位置を検出する精度を僅かに低下させる
。その一方で、反射光ビームのビーム径が大きくなるこ
とで、ビーム位置検出回路２８の感度を低く抑える二と
が可能となる。従って、結像光学装置５０、光偏向装置
４４及び集束レンズ４２等の光学部材が有する入射及び
出射瞳、ケラレ、収差による影響等を実用上問題のない
範囲まで補正することで第３図に示した光学装置と同様
に、先ビームの水平同期を検出することが可能になる。
第５図には、第１図に示した光学装置が組込まれる画像
形成装置の概略断面が示されている。
電子写真方式が利用されている画像形成装置即ちレーザ
プリンタ装置８は、記録情報が静電的に形成される感光
体を有する感光体ユニット６０及びこのユニット６０に
静電潜像を形成するための光ビームを照射する光学装置
２を備えている。感光体ユニット内部には、静電潜像が
形成されるドラム６４、このドラム６４に所定の電位を
与える帯電器６２か収容されている。また、プリンタ装
置８は、感光体ユニット６０のドラム６４に形成された
静電潜像を顕像化する現像ユニット６６、ドラム６４上
の顕像化された画像を紙或いはフィルム等の転写材に転
写する転写装置６８、転写装置６８へ転写材を供給する
給紙装置７０、転写装置によって転写材に転写された画
像を溶融定着する定着ユニット７２を備えている。さら
に、プリンタ装置８は、装置全体を駆動する駆動装置７
４及び装置全体へ電源を供給する電源ユニット７Ｂを備
えている。ところで、光学装置２には、上記第１図乃至
第４図に説明したこの発明の実施例であるモニタダイオ
ード１０か一体的に組立てられた光源装置を用いた光ビ
ームの水平同期検出機構が組込まれている。
以下に、この画像形成装置即ちプリンタ８の動作を簡ｑ
ｔに説明する。図示しない画像情報出力装置例えば電子
計算機、ワードプロセッサ等から出力された画像情報は
、ＣＰＵによって情報信号或いは制御信号等に変換され
て上記各ユニット及び装置に供給され、それぞれの信号
に応して各ユニット及び装置が駆動されて画像情報がプ
リントされる。即ち、給紙装置７０から転写材ｐが１枚
給送され、転写材ｐに同期して光学ユニット２から画像
情報によって強度変調された光ビームが感光体ユニット
６０のドラム６４へ照射される。この先ビームによって
ドラム６４に静電潜像が形成され、現像装置６６によっ
て顕像化され、ドラム６４上にトナー像が形成される。
このとき、感光体６４は、副走査方向に所定の速度で回
転されていることから、ドラム６４の面上に画像情報が
連続して形成される。
このトナー像は、タイミングを合わせて給送された上記
転写材ｐと重ねられ、転写装置６８によって転写材ｐに
転写される。この転写材ｐは、搬送ガイドに沿って定着
ユニット７２へ搬送され、前記トナー像が転写材ｐに溶
融定着される。画像か定着された転写材ｐは、排出ロー
ラを介して排出される。
第６Ａ図乃至第６Ｃ図には、第５図に示したプリンタ装
置に組込まれる光学装置の概略か示されている。第６Ａ
図は、第５図に示したプリンタ装置に組込まれる光学装
置のカバーを取除いた状態の平面図、第６Ｂ図は、第６
Ａ図に示した光学装置の副走査方向における偏向角０°
の状態を示す断面図、第６Ｃ図は、第６Ａ図に示した光
学装置の線Ａ−Ａにおける断面図である。
光学装置２は、第１図に示した光学装置と同様に、光ビ
ームを発生する発光チップ１２及びモニタダイオード１
０か一体的に組立てられた光源装置４、この光源装置４
から発生される光ビームを所望のビーム形状に整える有
限レンズ４０、光ビームを感光体６４に向かって走査す
る光偏向装置４４、光偏向装置で所定の角速度で走査さ
れた光ビームをドラム６４の面上における結像位置を所
定の結像面に一致させるｆθレンズ５２、光偏向装置の
偏向走査の周期に応して光ビームの一部をドラム６４の
面上とは異なる位置へ導く反射面Ｍを画像に影響を与え
ない領域に一体に或いは別部材として有する光ビームの
方向を変える方向変換ミラー５４、光学装置２を光学的
に密閉する防塵ガラス７８、及び、ドラム６４に向かっ
て走査される光ビームの一部を上記光偏向装置４４の偏
向走査に応じて周期的に光源装置４のモニタダイオード
１０に向かって反射する反射ｔｆ１５８を備えている。
また、この光学装置２は、反射鏡５６によってモニタダ
イオード１０に戻された光ビームによって、感光体６４
に向かう光ビームの走査開始位置即ち水平同期を検出す
るビーム位置検出回路２８を装置内部或いは近傍に備え
ている。
光源装置４の発光チップ１２から発生された記録信号に
よって強度変調されている光ビームは、有限レンズ４０
で所望のビーム形状にされ、集束レンズ４２て集束性の
光ビームに変換される。この先ビームは、光偏向装置４
４の多面鏡４８て順次走査され、ｆθし・ンズ５２及び
方向変換ミラー５４によってドラム６４の面上に結像さ
れる。
ところで、方向変換ミラー５４は、その一部即ちドラム
６４へ向かう主走査方向及び光軸を含む面の画像領域外
の部分が反射面Ｍに形成されていることから、光ビーム
の一部は反射面Ｍで周期的に反射され、光源袋Ｗ４のモ
ニタダイオード１０に向かって光ビームを反射する反射
鏡５６へ導かれる。この光ビームは、再び、方向変換ミ
ラー５４、ｆθレンズ５２、光偏向装置４４、集束レン
ズ４２及び有限レンズ４０を介して光源装置４のモニタ
ダイオード１Ωへ光偏向装置の偏向走査に応して周期的
に戻される。
このようにして、光源装置４のモニタダイオード１０へ
戻された光源装置４の発光チップ１２から発生される光
ビームによって、第１図乃至第４図に説明した方法で光
ビームの水平同期か検出される。
第７図には、第１図に示した光学装置を用いた画像入力
装置の例が示されている。第７図は、画像形成装置等の
出力装置に画像情報を入力するためのノイルム或いは透
光性の原稿の情報を読取る画像入力装置の概略図である
。
画像読取装置９は、モニタダイオ−１”１０が一体的に
組立てられ、フィルム或いは透光性の原稿Ｇに光ビーム
を照射する光源装置４、光ビームを所定のビーム径に変
換する有限レンズ４０及び集束レンズ４２、光ビームを
所定の方向へ走査する光偏向装置４４、光偏向装置４４
によって走査された光ビームを原稿面Ｇに集束させるｆ
θレンズ５２、及び、光ビームの方向を所定の方向に変
える方向変換ミラー５４を有する光ビーム走査部８０を
備えている。
また、この画像読取装置９は、透明な支持体例えばガラ
スで形成され、光偏向装置によって偏向走査の周期に対
応して先ビームの一部を光源装置のモニタダイオードへ
向かって反射する反射鏡５６を画像領域外の一端に一体
に有する原稿読取台８４を備えている。この画像読取装
置９はまた、原稿読取台８４に接続され、光ビームを内
部で拡散させて伝達する光ビーム伝達部材８６を有し、
フィルム或いは透光性の原ｉＧを透過した先ビームの光
量を検出する光量検出装置８２を原稿Ｇの通過領域を介
して上記先ビーム走査部８０と対向する側に備えている
。さらに、この画像読取装置９は、光量検出装置８２て
読込んた画像情報を所定の方法で画素毎に２値或いは多
値のコートデータに変換する図示しないビット変換装置
、及び、画素毎に２値或いは多値に変換されたコートデ
ータを所定のブノ式で出力する出力回路等の図示し九い
伝号処理回路、原稿搬送装置及び各装置に電ｉｆを供給
する図示しない電気回路を備えている。加えて、この画
像読取装置９は、反ＪＩＪ鏡５６からモニタダイオード
１０に戻された光ビームによって、先ビームの原稿読取
台８４における主走査方向の位置を検出するビーム図示
しない先ビーム位置検出回路を装置内部或いは近傍に備
えている。
光源装置４の発光チップ１２から発生された先ビームは
、有限レンズ４０て所望のビーム形状にされ、集束レン
ズ４２て所定のビームスポットに変換されて光偏向装置
４４へ導かれる。光偏向装置４４へ導かれた光ビームは
、所定の方向へ等角速度で走査され、ｆθレンズ５２を
介して方向変換ミラー５４へ導かれる。方向変換ミラー
５４で所定の方向に向けられた光ビームは、フィルム或
いは透光性の原稿Ｇを透過して、光ビーム伝達部材８６
を介して光量検出装ｆｔ８２へ画像情報として導かれる
。この光ビームは、所定の方法で画素毎に２値或いは多
値のコードデータに変換するビット変換装置、及び、画
素毎に２値或いは多値に変換されたコードデータを所定
の方式で出力する出力回路等の信号処理回路へ伝送され
る。
ところで、原稿読取台８４は、その一部が反射鏡５６に
形成されていることから、光偏向装置の偏向走査の周期
に対応した周期的な光ビームの一部は、光源装置のモニ
タダイオードに向かって反射する反射鏡５Ｂへ導かれる
。この反射鏡５６へ導かれた光ビームは、再び、方向変
換ミラー５４、ｆθレンズ５２、光偏向装置４４、集束
レンズ４２及び有限レンズ４０を介して光源装置４のモ
ニタダイオード１０へ周期的に戻される。
このようにして、光源装置４のモニタダイオードＩＯへ
戻された光源装置４の発光チップ１２から発生される光
ビームによって、第１図乃至第４図に説明した方法で光
ビームの水平同期が検出される。
（発明の効果） 以上説明したようにこの発明によれば、光偏向装置の偏
向走査に応じた走査対象物の結像面に向かう周期的な光
ビームの一部は、光偏向装置から走査対象物へ向かう主
走査方向及び光軸を含む面の画像領域外に配置された反
射鏡によって、同一光学装置を介して光源装置に一体的
に組立てられているモニタダイオードに戻される。この
モニタダイオードへ戻された光ビームによるモニタダイ
オードからのモニタ電流の変化が検出されて、光ビーム
の走査開始位置或いは走査開始時期即ち水平同期が検出
される。また、このモニタ電流の変化が基準にされて、
光ビームを発生させる半導体レーザを駆動する回路が駆
動されて、水平同期が整合される。従って、光ビームの
水平同期を検出するために配置されていた専用の光検出
部、この検出部が検出した信号を制御回路或いは他の基
準信号と同期させる回路等に転送する転送回路、それぞ
れの回路或いは素子を結線する配線部材、及び、ノイズ
対策部材か省略できる。同時に、光学装置を形成する光
学部材の点数か低減される。
また、ノイズ対策も軽減できる。さらに、光学装置の構
成が簡略化でき、設計、製造面で有益である。この結果
、装置全体のコストが大幅に低減できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、この発明の一実施例である光学装置を平面的
に示す概略図、第２Ａ図は、第１図に示した光学装置に
組込まれる光源装置の断面図、第２Ｂ図は、第２Ａ図に
示した光源装置を出射口側から見た外観概略図、第３図
は、第１図に示した光学装置の副走査方向における偏向
角０°の位置での光ビームを示す光路図、第４図は、第
３図に示した光学装置と異なる光学特性即ち入射及び出
射瞳、ケラレ、収差による影響等を有する光学装置の副
走査方向における偏向角０″′の位置での先ビームを示
す光路図、第５図は、第１図に示したこの発明の一実施
例である光学装置を用いた画像形成装置の概略断面図、
第６Ａ図は、第５図に不したプリンタ装置に糾込まれる
光学装置のカバーを取除いた状態の平面図、第６Ｂ図は
、第６Ａ図に示した光学装置の副走査方向における偏向
ｍＯ″の状態を示す断面図、第６Ｃ図は、第６Ａ図に示
した光学装置の線Ａ−Ａにおける断面図、第７図は、第
１図に示したこの発明の一実施例である光学装置を用い
た画像読取装置の概略図である。 ２・・・光学装置、４・・・光源装置、１０・・・モニ
タダイオード、　ｔ２・・・発光チップ、１４・・・ヒ
ートシンク、ｔ６・・・ケース、１８・・・防塵ガラス
、２２・・レーザ駆動回路、２４・・・ビーム光量検出
回路、２６・・・自動光量制御回路、２８・・・ビーム
装置検出回路、３０・・・レーザ変調制御回路、　４０
・・・有限レンズ、４２・・・集束レンズ、４４・・・
光偏向装置、４６・・・光偏向装置駆動回路、５０・・
結像光学装置、５２・・・「θレンズ、　５４・・・方
向変換ミラー、５Ｇ・・・反射鏡、Ｍ・・・反射面出廟
人代理人　弁理士　鈴江　武彦

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）光源と、この光源からの光ビームを走査対象物へ
    向かって偏向する光偏向手段と、この光偏向手段により
    偏向された光ビームを走査対象物に結像させる結像手段
    と、前記光源の近傍に配置され、前記光源の発光量の変
    化を検出する発光量検出手段と、前記光偏向手段から前
    記結像手段へ向かう主走査方向及び光軸を含む面内の画
    像領域外に配置され、前記光偏向手段によって偏向され
    た前記光ビームの一部を前記結像手段及び光偏向手段を
    介して前記発光量検出手段に向かって反射させる反射手
    段とを備えることを特徴とする光学装置。
  2. （２）光源と、この光源からの光ビームを走査対象物へ
    向かって偏向する光偏向手段と、この光偏向手段により
    偏向された光ビームを走査対象物に結像させる結像手段
    と、前記光源の近傍に配置され、前記光源の発光量の変
    化を検出する発光量検出手段と、前記光偏向手段から前
    記結像手段へ向かう主走査方向及び光軸を含む面内の画
    像領域外に配置され、前記光偏向手段によって偏向され
    た前記光ビームの一部を前記結像手段及び光偏向手段を
    介して前記発光量検出手段に向かって反射させる反射手
    段とを備えることを特徴とする光学装置が組込まれる画
    像形成装置。
  3. （３）光源と、この光源からの光ビームを走査対象物へ
    向かって偏向する光偏向手段と、この光偏向手段により
    偏向された光ビームを走査対象物に結像させる結像手段
    と、前記光源の近傍に配置され、前記光源の発光量の変
    化を検出する発光量検出手段と、前記光偏向手段から前
    記結像手段へ向かう主走査方向及び光軸を含む面内の画
    像領域外に配置され、前記光偏向手段によって偏向され
    た前記光ビームの一部を前記結像手段及び光偏向手段を
    介して前記発光量検出手段に向かって反射させる反射手
    段とを備えることを特徴とする光学装置が組込まれる画
    像情報読取装置。
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