JPH03246518A - Surface colored body - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は表面着色体に係り、特に、液晶デイスプレーの
フルカラー化用のフィルターとして好適な表面着色体に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a colored surface material, and particularly to a colored surface material suitable as a filter for full-color liquid crystal displays.
[従来の技術]
液晶デイスプレーをフルカラー化するためのフィルター
として使用される表面着色体としては、透明基板上に赤
色、緑色および青色の着色層を所定パターンに配して画
素とし、不要光の遮光や画像のコントラストの向上等を
目的として画素間に遮光膜を設けたものが広く利用され
ている。[Prior Art] A colored surface material used as a filter to make a full-color liquid crystal display has red, green, and blue colored layers arranged in a predetermined pattern on a transparent substrate to form pixels, and removes unnecessary light. Devices in which a light shielding film is provided between pixels are widely used for the purpose of shielding light and improving image contrast.
このような表面着色体における画素は、画素数の増加や
開口率の増加、およびこれらに伴う画素の微小化等を、
画素の形状や寸法といった精度の低下をまねくことなく
図ることを目的として、般に、高分子電着法により形成
される場合がある。Pixels in such surface-colored bodies are designed to increase the number of pixels, increase the aperture ratio, and miniaturize the pixels associated with these.
In general, the pixel may be formed by a polymer electrodeposition method in order to avoid deterioration of precision in the shape and dimensions of the pixel.
この際、画素を設ける透明基板表面には、画素の配置パ
ターンに応じた複数の透明電極パターンが設けられてい
る。At this time, a plurality of transparent electrode patterns corresponding to the arrangement pattern of the pixels are provided on the surface of the transparent substrate on which the pixels are provided.
また遮光膜は、上記透明電極パターンと隣接して、透明
基板の一主表面上に配されている。遮光膜の材料として
は、高分子電着法により画素を形成する際における透明
電極パターンとの電気的な導通の防止等を目的として、
カーボン粒子や顔料等を含有した不導体有機樹脂が用い
られており、その遮光率は、最大で96%程である。Further, the light shielding film is disposed on one main surface of the transparent substrate adjacent to the transparent electrode pattern. As the material for the light shielding film, for the purpose of preventing electrical conduction with the transparent electrode pattern when forming pixels by polymer electrodeposition method, etc.
A nonconducting organic resin containing carbon particles, pigments, etc. is used, and its light shielding rate is about 96% at maximum.
[発明が解決しようとする課題]
近年、液晶カラーデイスプレーの画像の高品位化が望ま
れており、フルカラー化するためのフィルターとして使
用される表面着色体においても、画素数の増加や開口率
の増加およびこれらに伴う画素の微小化、コントラスト
を向上させるための遮光率の向上等が望まれている。こ
れらのうち、表面着色体における画素数の増加や開口率
の増加およびこれらに伴う画素の微小化については、前
述のように、高分子電着法を用いて画素を形成すること
で、画素の形状や寸法といった精度の低下をまねくこと
なく達成することができる。[Problems to be Solved by the Invention] In recent years, there has been a desire to improve the quality of images on liquid crystal color displays, and the number of pixels and the aperture ratio have increased even in surface colored bodies used as filters for full color display. There is a desire for an increase in the number of pixels, miniaturization of pixels, and an improvement in the light shielding rate to improve contrast. Among these, the increase in the number of pixels and the aperture ratio of the surface colored body, and the accompanying miniaturization of the pixels, can be achieved by forming the pixels using polymer electrodeposition, as described above. This can be achieved without reducing precision in shape or size.
しかしながら、遮光膜の材料として不導体有機樹脂を用
いた従来構造の表面着色体では、高分子電着法により画
素を形成するための透明電極パターンとの電気的な導通
を防止しつつ遮光膜の遮光率を向上させることが非常に
困難であるため、遮光率については高コントラストの画
像が得られる域にまで向上させることができないという
問題があった。また、遮光膜に遮光率の高い金属膜を用
いても、その導性のため、高分子電着法においては選択
的に着色する点で不都合が生ずる。However, in the case of surface-colored bodies with a conventional structure that uses nonconducting organic resin as the material for the light-shielding film, the light-shielding film can be prevented from electrical conduction with the transparent electrode pattern for forming pixels by polymer electrodeposition. Since it is very difficult to improve the light shielding rate, there is a problem in that the light shielding rate cannot be improved to a level where a high contrast image can be obtained. Further, even if a metal film with a high light-shielding rate is used as the light-shielding film, its conductivity causes problems in that it is selectively colored in the polymer electrodeposition method.
したがって本発明の目的は、高分子電着法により形成さ
れた画素を有し、かつ高コントラストの画像を得るに十
分な極めて高い遮光率を有する遮光膜(遮光膜パターン
)を備えた表面着色体を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a surface-colored body having pixels formed by polymer electrodeposition and a light-shielding film (light-shielding film pattern) having an extremely high light-shielding rate sufficient to obtain a high-contrast image. Our goal is to provide the following.
[課題を解決するための手段]
本発明は、上記目的を解決するためになされたものであ
り、本発明の表面着色体は、透明基板と、この透明基板
の一主表面上に設けられた、金属または金属含有無機物
質からなる遮光膜パターンと、この遮光膜パターンおよ
び前記透明基板の前記一主表面の露出部を被覆し、かつ
実質的に平坦な主表面を有する単層構造または複数層構
造の電気絶縁層と、この電気絶縁層の前記実質的に平坦
な主表面上に設けられた複数の透明電極パターンからな
る電極群と、この電極群を構成する前記透明電極パター
ンを基材とし、該基材となる前記透明電極パターン上に
設けられた、着色された高分子電着層とを有することを
特徴とするものである。[Means for Solving the Problems] The present invention has been made to solve the above object, and the surface colored body of the present invention comprises a transparent substrate and one main surface of the transparent substrate. , a light-shielding film pattern made of a metal or a metal-containing inorganic substance, and a single-layer structure or multilayer structure that covers the light-shielding film pattern and the exposed portion of the one main surface of the transparent substrate, and has a substantially flat main surface. an electrically insulating layer of a structure, an electrode group consisting of a plurality of transparent electrode patterns provided on the substantially flat main surface of this electrically insulating layer, and the transparent electrode pattern constituting this electrode group as a base material. , a colored polymer electrodeposited layer provided on the transparent electrode pattern serving as the base material.
[実施例]
以下、本発明の実施例について、図面を用いて説明する
。[Examples] Examples of the present invention will be described below with reference to the drawings.
実施例
第1図は、50μm0の大きさの画素を、画素間間隔2
0μmの70μmピッチでトライアングル状に配してな
る表面着色体に本発明を適用した場合の一例を模式的に
示す断面斜視図である。Embodiment FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional perspective view schematically showing an example of the case where the present invention is applied to a surface colored body arranged in a triangular shape with a pitch of 0 μm and 70 μm.
この表面着色体1は、厚さ1.1關のアルミノボロシリ
ケートガラスを透明基板2として使用しており、この透
明基板2の一主表面上には、画素の配置位置に対応する
部分を除いて、スパッタ法により成膜された膜厚約12
00人のクロム膜からなる遮光膜パターン3が設けられ
ている。This surface-colored body 1 uses aluminoborosilicate glass with a thickness of about 1.1 mm as a transparent substrate 2, and on one main surface of this transparent substrate 2, except for a portion corresponding to the pixel arrangement position, The thickness of the film formed by sputtering was approximately 12 mm.
A light-shielding film pattern 3 made of a chromium film of 0.00000000000 is provided.
このクロム膜からなる遮光膜パターン3と、透明基板2
の遮光膜パターン3が設けられている側の主表面の露出
部は、ゾル−ゲル法により成膜された膜厚4000人の
5i02膜4aにより被覆されている。5i02膜4a
の、透明基板2から離れる側の主表面は実質的に平坦で
、この平坦な主表面上には、スパッタ法により成膜され
た膜厚3000人の5i02膜4bが設けられており、
この5i02膜4bと上述の5i02膜4aとで、2層
構造の電気絶縁層4を形成している。なお、電気絶縁層
4の、透明基板2から離れる側の主表面も、実質的に平
坦である。The light shielding film pattern 3 made of this chromium film and the transparent substrate 2
The exposed portion of the main surface on the side where the light-shielding film pattern 3 is provided is covered with a 5i02 film 4a having a thickness of 4000 mm formed by a sol-gel method. 5i02 membrane 4a
The main surface on the side away from the transparent substrate 2 is substantially flat, and on this flat main surface, a 5i02 film 4b with a thickness of 3000 nm is provided, which is formed by sputtering.
This 5i02 film 4b and the above-mentioned 5i02 film 4a form an electrically insulating layer 4 having a two-layer structure. Note that the main surface of the electrically insulating layer 4 on the side away from the transparent substrate 2 is also substantially flat.
電気絶縁層4上には、スパッタ法により成膜された膜厚
的1700へのITO膜からなる透明電極パターン5R
,5Gおよび5Bが設けられており、電極群5を形成し
ている。各透明電極パターン5R15Gおよび5Bは、
画素の配置形状に応じたピクセルパターンpおよびリー
ドパターンlを有している。On the electrical insulating layer 4, a transparent electrode pattern 5R made of an ITO film with a thickness of 1700 mm is formed by sputtering.
, 5G and 5B are provided to form an electrode group 5. Each transparent electrode pattern 5R15G and 5B is
It has a pixel pattern p and a lead pattern l depending on the arrangement shape of pixels.
そして、各透明電極パターン、5R,5Gおよび5B上
には、これら透明電極パターン5R,5Gおよび5Bを
基材(電極)とした高分子電着法により、高分子電着層
6R16Gおよび6Bが設けられている。高分子電着層
6R16Gおよび6Bは、それぞれ実質的に、赤色、緑
色および青色のうちのいずれか1色を呈し、本実施例の
表面着色体1では、高分子電着層6Rが赤色を、高分子
電着層6Gが緑色を、高分子電着層6Bが青色をそれぞ
れ呈する。高分子電着層6R,6Gおよび6Bの形成は
、隣接する高分子電着層が互いに同色とならないように
行なわれている。これらの高分子電着層6R,6Gおよ
び6Bのうち、透明電極パターン5R,5Gおよび5B
の各ピクセルパターンp上に設けられた部分が、画素に
相当する。Then, on each transparent electrode pattern 5R, 5G, and 5B, polymer electrodeposition layers 6R, 16G, and 6B are provided by a polymer electrodeposition method using these transparent electrode patterns 5R, 5G, and 5B as base materials (electrodes). It is being The polymeric electrodeposited layers 6R16G and 6B each exhibit substantially any one of red, green, and blue, and in the surface colored body 1 of this example, the polymeric electrodeposited layer 6R exhibits red, The polymer electrodeposition layer 6G exhibits a green color, and the polymer electrodeposition layer 6B exhibits a blue color. The polymer electrodeposition layers 6R, 6G, and 6B are formed so that adjacent polymer electrodeposition layers do not have the same color. Among these polymer electrodeposition layers 6R, 6G and 6B, transparent electrode patterns 5R, 5G and 5B
A portion provided on each pixel pattern p corresponds to a pixel.
このようにしてなる表面着色体1においては、クロム膜
からなる遮光膜パターン3の可視光領域(波長380〜
780 nm)における遮光率が99゜7%と極めて高
いため、液晶デイスプレーをフルカラー化するためのフ
ィルターとして使用した場合には、コントラストの高い
フルカラー画像を得ることができる。In the surface colored body 1 formed in this way, the light shielding film pattern 3 made of a chromium film has a visible light range (wavelength 380 to 380).
Since the light shielding rate at 780 nm is extremely high at 99.7%, when used as a filter to make a full-color liquid crystal display, a full-color image with high contrast can be obtained.
なお、本発明の表面着色体は、以上説明した実施例に限
定されるものではなく、下記の変形例や応用例を含むも
のである。Note that the surface-colored body of the present invention is not limited to the embodiments described above, but includes the following modified examples and application examples.
まず、上記実施例では透明基板としてアルミノボロシリ
ケートガラスを使用したが、本発明の表面着色体に使用
する透明基板の材料は特に限定されるものではなく、ソ
ーダライムガラス、石英ガラス等の透明ガラスや、透光
性アルミナ焼結体、サイアロン、PLZT等の透明セラ
ミックス、アクリル系樹脂、塩化ビニル等の透明樹脂等
を用いることができ、用途に、応じて適宜選択可能であ
る。First, although aluminoborosilicate glass was used as the transparent substrate in the above embodiment, the material of the transparent substrate used for the surface colored body of the present invention is not particularly limited, and transparent glass such as soda lime glass or quartz glass may be used. Also, transparent alumina sintered bodies, transparent ceramics such as Sialon and PLZT, transparent resins such as acrylic resins and vinyl chloride, etc. can be used, and can be appropriately selected depending on the application.
また遮光膜パターンの材料は、可視光領域における遮光
率が99.7%以上となる金属または金属含有無機物質
であれば特に限定されるものではなく、実施例で使用し
たクロムの他、タンタル、タングステン、モリブデン等
の金属単体、クロム酸化物やモリブデン酸化物等の金属
酸化物、タンタル珪化物、タングステン珪化物、モリブ
デン珪化物等の金属珪化物等を用いることができる。遮
光膜の構造は単層構造でなくてもよく、2層構造等の複
数層構造としてもよい。The material of the light-shielding film pattern is not particularly limited as long as it is a metal or metal-containing inorganic material that has a light-shielding rate of 99.7% or more in the visible light region, and in addition to chromium used in the examples, tantalum, Elemental metals such as tungsten and molybdenum, metal oxides such as chromium oxide and molybdenum oxide, metal silicides such as tantalum silicide, tungsten silicide, and molybdenum silicide can be used. The structure of the light shielding film does not have to be a single-layer structure, but may be a multi-layer structure such as a two-layer structure.
電気絶縁層の材料は、遮光膜パターンと透明電極パター
ンとの間を電気的に絶縁状態とすることができ、かつ透
明であれば特に限定されるものではなく、実施例で使用
した5i02の他、シリコン含有の樹脂、アクリル系樹
脂等を用いることができる。電気絶縁層の構造は、実質
的に平坦な主表面を有していれば単層構造であっても、
また2層構造等の複数層構造であってもよい。複数層構
造とする場合には、最上層すなわち透明電極パターンを
設ける層の材質が上記材質であればよく、この場合には
最上層以外の層の材料として、MgF2 、Tidy
、ZrO2等の透明物質を用いることもできる。このと
き、使用する材料を適宜組み合わせることにより、最上
層以外の層により反射防止性を備えることができる。The material of the electrically insulating layer is not particularly limited as long as it can electrically insulate between the light shielding film pattern and the transparent electrode pattern and is transparent. , silicon-containing resin, acrylic resin, etc. can be used. The structure of the electrical insulating layer may be a single layer structure as long as it has a substantially flat main surface.
It may also have a multi-layer structure such as a two-layer structure. In the case of a multi-layer structure, the material of the uppermost layer, that is, the layer on which the transparent electrode pattern is provided, may be any of the above materials. In this case, the materials of the layers other than the uppermost layer may be MgF2, Tidy,
, ZrO2, or other transparent materials may also be used. At this time, by appropriately combining the materials used, layers other than the top layer can have antireflection properties.
透明電極パターンの材料は、実施例で用いたITOの他
、アンチモンをドープした5na2、In2O3等を用
いてもよい。The material for the transparent electrode pattern may be 5na2, In2O3, etc. doped with antimony, in addition to the ITO used in the examples.
高分子電着層の材料は、表面着色体の画素として機能し
得るものであれば特に限定されるものではなく、従来よ
り表面着色体の画素として利用されている高分子電着層
の材料を用いることができる。このような高分子電着層
の材料としては、例えば、マレイン化油系、アクリル系
、ポリエステル系、ポリブタジェン系、ポリオレフィン
系等の樹脂材料を主原料とし、この主原料に、赤色を呈
する高分子電着層を得る場合にはベンガラ、アゾ系赤色
顔料、キナクリドン系赤色顔料、ペリレン系赤色顔料等
を含有させたもの、緑色を呈する高分子電着層を得る場
合にはフタロシアニン系緑色顔料等を含有させたもの、
青色を呈する高分子電着層を得る場合にはフタロシアニ
ン系青色顔料等を含有させたもの等を挙げることができ
る。The material of the polymer electrodeposition layer is not particularly limited as long as it can function as a pixel of the surface colored body, and materials of the polymer electrodeposition layer that have been conventionally used as pixels of the surface colored body can be used. Can be used. The material for such a polymer electrodeposition layer is, for example, a resin material such as a maleated oil type, an acrylic type, a polyester type, a polybutadiene type, or a polyolefin type. In order to obtain an electrodeposited layer, red pigment, azo red pigment, quinacridone red pigment, perylene red pigment, etc. are added, and in order to obtain a green polymer electrodeposition layer, a phthalocyanine green pigment, etc. is used. What it contains,
In the case of obtaining a polymer electrodeposition layer exhibiting a blue color, a layer containing a phthalocyanine blue pigment or the like may be used.
本発明の表面着色体は、例えば以下のようにして製造す
ることができる。The surface colored body of the present invention can be manufactured, for example, as follows.
まず、透明基板の一主表面上に、スパッタ法や真空蒸着
法等の物理的蒸着法により、金属または金属含有無機物
質からなる厚さ1000〜3500人の膜を成膜する。First, a film of 1000 to 3500 thick made of a metal or a metal-containing inorganic substance is formed on one main surface of a transparent substrate by a physical vapor deposition method such as a sputtering method or a vacuum evaporation method.
次いでこの膜上に、スピンコード法等により厚さ0.5
〜3μmのレジスト膜を設け、100℃で30分間プレ
ベークした後、所望のパターンを有するフォトマスクを
用いて露光処理し、さらに現像、エツチング、レジスト
剥離処理を行って、金属または金属含有無機物質からな
る所望パターンの遮光膜パターンを得る。このようなフ
ォトリソグラフィ技術を用いることにより、位置精度の
高い遮光膜パターンを得ることができ、かつ液晶デイス
プレーにおける画像の高解像度化を図ることが可能とな
る。Next, a film with a thickness of 0.5
A resist film of ~3 μm is formed, prebaked at 100°C for 30 minutes, exposed to light using a photomask with a desired pattern, and further developed, etched, and resist peeled to remove the metal or metal-containing inorganic material. A light-shielding film pattern having a desired pattern is obtained. By using such photolithography technology, it is possible to obtain a light-shielding film pattern with high positional accuracy, and it is also possible to increase the resolution of images on a liquid crystal display.
次に、この遮光膜パターンと、透明基板の遮光膜パター
ンが設けられている側の主表面の露出部とを被覆し、か
つ実質的に平坦な主表面を有する電気絶縁層を形成する
。電気絶縁層を単層構造とする場合は、実質的に平坦な
主表面を形成する点から、ゾル−ゲル法により設けるこ
とが好ましく、ゾル溶液をスピンコード法等により50
00〜10000人の厚さに塗布した後、200〜40
0℃で焼成することで得られる。また複数層構造とする
場合は、最上層すなわち透明電極パターンを設ける層が
絶縁性物質からなり、かつ実質的に平坦な主表面を有し
ておればよく、この場合には、実質的に平坦な主表面を
形成することができるゾル−ゲル法や樹脂のスピンコー
ド法等と、実質的に平坦な主表面を形成することが困難
であるスパッタ法や真空蒸着法等の物理的成膜法あるい
は気相成長法(CVD)等の化学的成膜法とを種々組合
わせることができる。Next, an electrical insulating layer is formed that covers this light-shielding film pattern and the exposed portion of the main surface of the transparent substrate on the side where the light-shielding film pattern is provided, and has a substantially flat main surface. When the electrical insulating layer has a single-layer structure, it is preferable to use a sol-gel method to form a substantially flat main surface.
After applying to the thickness of 00-10000, 200-40
Obtained by firing at 0°C. In addition, in the case of a multi-layer structure, it is sufficient that the uppermost layer, that is, the layer on which the transparent electrode pattern is provided, is made of an insulating material and has a substantially flat main surface; The sol-gel method and resin spin-coding method, which can form a flat main surface, and the physical film-forming methods, such as sputtering and vacuum evaporation, which are difficult to form a substantially flat main surface. Alternatively, various combinations of chemical film forming methods such as vapor phase growth (CVD) can be used.
電気絶縁層の主表面を実質的に平坦とする理由は、電気
絶縁層の主表面に、遮光膜パターンと透明基板との段差
が反映・された凹凸があると、後述する透明電極パター
ンを設ける際に、この凹凸部で透明電極パターンが破断
することがあり、破断した場合には電極として使用する
ことができず、歩留まりの低下をまねくからである。こ
の現象は、表面着色体の外周部で特に生じ易い。The reason why the main surface of the electrical insulating layer is made substantially flat is that if the main surface of the electrical insulating layer has unevenness that reflects the difference in level between the light-shielding film pattern and the transparent substrate, it is difficult to provide the transparent electrode pattern described below. This is because the transparent electrode pattern may break at the uneven portion, and if broken, it cannot be used as an electrode, leading to a decrease in yield. This phenomenon is particularly likely to occur at the outer periphery of the surface-colored body.
次いで、電気絶縁層上に透明電極パターンを形成する。Next, a transparent electrode pattern is formed on the electrically insulating layer.
この透明電極パターンの形成は、用いるフォトマスクの
パターンや膜材料(パターンの材料)が異なる以外は、
遮光膜パターンと同様に行うことができる。The formation of this transparent electrode pattern is as follows except for the photomask pattern and film material (pattern material) used.
This can be done in the same way as the light shielding film pattern.
この後、透明電極パターンを電極とした高分子電着法に
より、透明電極パターン上に高分子電着層を設ける。こ
のとき、隣接する高分子電着層が互いに同色とならない
ように留意して所望回数電着を行う以外は、通常の高分
子電着法と同様にして行うことができる。Thereafter, a polymer electrodeposition layer is provided on the transparent electrode pattern by a polymer electrodeposition method using the transparent electrode pattern as an electrode. At this time, the electrodeposition can be carried out in the same manner as a normal polymer electrodeposition method, except that electrodeposition is carried out a desired number of times while taking care that adjacent polymer electrodeposition layers do not have the same color.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の表面着色体は、高分子電
着法により形成された画素を有し、かつかつ高コントラ
ストの画像を得るに十分な極めて高い遮光率を有する遮
光膜を備えている。[Effects of the Invention] As explained above, the surface-colored body of the present invention has pixels formed by a polymer electrodeposition method, and has a light-shielding material having an extremely high light-shielding rate sufficient to obtain a high-contrast image. Equipped with a membrane.
したがって本発明を実施することにより、液晶デイスプ
レーに高コントラストのフルカラー画像を再現すること
ができ、液晶カラーデイスプレーの高品位化を図ること
が可能となる。Therefore, by implementing the present invention, it is possible to reproduce a high-contrast full-color image on a liquid crystal display, and it is possible to improve the quality of the liquid crystal color display.
第1図は、本発明の表面着色体の一例を模式的に示す断
面斜視図である。
1・・・表面着色体、 2・・・透明基板、 3・・・
遮光膜パターン、 4・・・電気絶縁層、 5R,5G
、5B・・・透明電極パターン、 5・・・電極群、
6R16G、6B・・・高分子電着層。FIG. 1 is a cross-sectional perspective view schematically showing an example of the surface colored body of the present invention. 1...Surface colored body, 2...Transparent substrate, 3...
Light shielding film pattern, 4... electrical insulating layer, 5R, 5G
, 5B... Transparent electrode pattern, 5... Electrode group,
6R16G, 6B...Polymer electrodeposition layer.
Claims (1)
属含有無機物質からなる遮光膜パターンと、 この遮光膜パターンおよび前記透明基板の前記一主表面
の露出部を被覆し、かつ実質的に平坦な主表面を有する
単層構造または複数層構造の電気絶縁層と、 この電気絶縁層の前記実質的に平坦な主表面上に設けら
れた複数の透明電極パターンからなる電極群と、 この電極群を構成する前記透明電極パターンを基材とし
、該基材となる前記透明電極パターン上に設けられた、
着色された高分子電着層とを有することを特徴とする表
面着色体。(1) a transparent substrate; a light-shielding film pattern made of a metal or a metal-containing inorganic substance provided on one main surface of the transparent substrate; and a light-shielding film pattern and an exposed portion of the one main surface of the transparent substrate. an electrically insulating layer having a single-layer structure or a multi-layer structure having a substantially flat main surface; and a plurality of transparent electrode patterns provided on the substantially flat main surface of the electrically insulating layer. an electrode group, the transparent electrode pattern constituting the electrode group being a base material, and provided on the transparent electrode pattern serving as the base material;
1. A surface-colored body comprising a colored polymer electrodeposition layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4380990A JP2916191B2 (en) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | Surface colored body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4380990A JP2916191B2 (en) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | Surface colored body |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03246518A true JPH03246518A (en) | 1991-11-01 |
| JP2916191B2 JP2916191B2 (en) | 1999-07-05 |
Family
ID=12674073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4380990A Expired - Lifetime JP2916191B2 (en) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | Surface colored body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2916191B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04110901A (en) * | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Color filter and production thereof and color liquid crystal panel and driving method thereof |
| US6302643B1 (en) | 1999-04-26 | 2001-10-16 | Hitachi, Ltd. | Turbo machines |
-
1990
- 1990-02-23 JP JP4380990A patent/JP2916191B2/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04110901A (en) * | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Color filter and production thereof and color liquid crystal panel and driving method thereof |
| US6302643B1 (en) | 1999-04-26 | 2001-10-16 | Hitachi, Ltd. | Turbo machines |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2916191B2 (en) | 1999-07-05 |
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