JPH03250680A - 周波数安定化レーザ光源 - Google Patents

周波数安定化レーザ光源

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JPH03250680A
JPH03250680A JP4740690A JP4740690A JPH03250680A JP H03250680 A JPH03250680 A JP H03250680A JP 4740690 A JP4740690 A JP 4740690A JP 4740690 A JP4740690 A JP 4740690A JP H03250680 A JPH03250680 A JP H03250680A
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JP
Japan
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output
semiconductor laser
frequency
oscillator
oscillation frequency
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JP4740690A
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English (en)
Inventor
Koji Akiyama
浩二 秋山
Satoru Yoshitake
哲 吉武
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Yokogawa Electric Corp
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Yokogawa Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体レーザを用いた周波数安定化レーザ光
源の安定性の改善に関する。
〈従来の技術〉 第7図は周波数安定化レーザ光源の第1の従来例を示す
ブロック図で、半導体レーザを直接変調して、その発振
周波数を原子および分子の吸収線の中心に制御するもの
を示している。半導体レーザ1の出力光はビームスプリ
ッタ2で2つの方向に分離し、一方の光は標準物質が封
入された吸収セル3に入射する。吸収セル3を透過した
光は光検出器4で検出されて電気信号に変換され、ロッ
クインアンプ等からなる同期検波口#15に入力する。
半導体レーザ1の発振周波数は発振器8の出力で電流変
調されており、同期検波回路5は発振器8の出力を参照
信号として同期検波を行う、P■制御回路6は同期検波
回路5の出力が一定となるように半導体レーザ1の電流
を制御する。PI制御回路69発振器8の発振出力およ
びバイアス電流源9の出力は加算回路7で加算されて半
導体レーザ1に入力される。この結果、半導体レーザ1
の発振周波数は吸収セル3の標準物質の原子または分子
の吸収線の中心に制御され、ビームスプリッタ2の他方
の出力光は原子または分子で決まる絶対値が高精度の周
波数となる。
しかしながら、上記のような装置では、出力光が周波数
変調されているため、瞬時周波数の安定性がなく、干渉
計測等の応用には不適当となり、応用範囲が狭くなると
いう欠点を有する。
このような欠点を解決するために、半導体レーザ出力光
を音響光学変調器で外部変調し原子および分子の吸収線
に制御することにより、無変調出力を得るように構成し
たものがある。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、そのような装置の場合には、音響光学変
調器が不安定なため、安定度が不十分であるという問題
がある。
本発明はこのような課題を解決するためになされたもの
で、発振周波数が高安定に制御された周波数安定化レー
ザ光源を簡単な構成で実現することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉 本発明に係る周波数安定化レーザ光源は第1の半導体レ
ーザと、この第1の半導体レーザの出力光を入力して特
定の周波数で吸収する物質を封入した吸収セルと、この
吸収セルを透過した光を検出する第1の光検出器と、前
記第1の半導体レーザの電流に変調を加える第1の発振
器と、この第1の発振器の出力またはその奇数倍周波数
の信号を参照信号として前記第1の光検出器の出力を入
力する第1の同期検波回路と、この第1の同期検波回路
の出力に基づいて前記第1の半導体レーザの発振周波数
を前記吸収セルの吸収線に制御する第1の制御回路と、
第2の半導体レーザと、前記第1.第2の半導体レーザ
の出力光を合波する光学手段と、この光学手段から出力
される出力光のビート信号を検出する第2の光検出器と
、第2の発振器と、この第2の発振器の出力と前記第2
の光検出器の出力を混合するミキサと、前記第1の発振
器の出力またはその奇数倍周波数の信号を参照信号とし
て前記ミキサの出力を同期検波する第2の同期検波回路
と、この第2の同期検波回路の出力に基づいて前記第1
の半導体レーザの発振周波数との差が前記第2の発振器
の発振周波数と等しくなるように前記第2の半導体レー
ザの発振周波数を制御する第2の制御回路とを備え、第
2の半導体レーザの出力が無変調となるように構成した
ことを特徴とする。
さらに第3の発振器と、第2の発振器の出力を前記第3
の発振器の出力で周波数変調または位相変調する変調回
路とを備え、変調回路の出力と第2の光検出器の出力を
ミキサで混合し、第3の発振器の出力またはその奇数倍
周波数の信号を第2の同期検波回路の参照信号としても
よい。
く作用〉 第1の半導体レーザは電流変調で高安定となり、第2の
半導体レーザの発振周波数が第1の半導体レーザの発振
の中心周波数から第2の発振器の発振周波数だけずれた
ところに制御されるので、周波数が無変調かつ高安定と
なる。
〈実施例〉 以下本発明を図面を用いて詳しく説明する。
第1図は本発明に係る周波数左室化レーザ光源の第1の
実施例を示す構成ブロック図である4第6図と同じ部分
は同一の記号を付して説明を省略する。】0は第2の半
導体レーザ、11は半導体レーザ10の出力光を2方向
に分離スるビームスプリッタ、12はビームスプリッタ
11を透過した光とビームスプリッタ2を透過した光を
合波する光学手段を構成する偏光ビームス1リツタ、1
3は2つの光が干渉するように偏波面を合せる偏光ビー
ムスプリッタ、14は偏光ビームスグリツタから出射さ
れた光を入射[7てビーhfS号を検出する第2の光検
出器、1+5はマイクロ波発振器行う第2の発振器、1
6は発振器15の出力と光検出器14の出力を混合(ミ
キシング)するマイクロ波ミキサ、17はミキサ16の
出力を入力17、発振器8の出力を参照信号とするロッ
クインアンプ等からなる第2の同期検波回路、】8は同
期検波回路17の出力を入力して対応する制御出力を第
2の半導体L−ザ10に加える第2のP1制御回路であ
る。
」−記の構成の装置の動作を次に説明する。従来例の説
明て′述べたように、標準′lIJ質の吸収線に制御さ
れた半導体L−ザ1の出力光はビームスプリッタ2を介
して出射され、ビームスプリッタ11を介して出射され
る#″導体シーサ10の出力光ど偏光ビームスグリツタ
12で合波される。偏光ビムスプリッタ12から出射さ
れた光は偏光ビムスプリッタ13て偏波面か合わされた
後、光検出器14でと−1−信号が検出される。;*v
x6でこのビーl−借号を発振器15の出力と混合した
後、同期検波回路17において発振器8の出力を参照信
号として同期検波を行う、F)■制御回路18は同期検
波出力がOとなるように半導体し →r10の発振周波
数を制御し、その結果半導体レーザ10の発振周波数は
半導体レーザ1の中心周波数から発振器15の発振周波
数だυずれた値どなり、ビームスプリッタ11を介して
その一部が出力される。
この動作を数式を用いて説明すると次のようになる。半
導体レーザ1の電界振幅E1はE  =e  5inf
2rf1t −(Δf/fII)1 cos2rf   L+F   (t))    −(
1)111 で表される。ただしflは半導体レーザーの発振の中心
周波数、ψ1 は)は半導体レーサーの位相ノイズ、f
 は発振器8の発振周波数、Δでは最大周波数偏移であ
る。また半導体レーザー0の電界振幅E2は E  =e  s i n (2yrf2t+si’2
  (t) ’t2 ・・・ (2) で表される。ただしψ2 (t)は半導体レーザ2の位
相ノイズである。光検出器14に誘起される光電流1.
。は、 1  (X:(E  +E2) PD    1 2e  e  cos (2π(f  −f2 )tl
 2        1 +ψ(1,)−ψ2は)−(Δf/f□)c。
S2πft + +I DC・= (3)となる。ここ
で 91’(t)=P  (t) −95,、ct>とし、
直流分I。0はAC結合することで除去すると、 I  =K  cos (2π(f、 −f2)t、→
−ψPD    1 (t)  −(Δ f/f    )cos2  π 
f □ 土、 )・・・ (4) となる。マイクロ波発振器15の出力■8をV  −=
 e  s i、 n、 2 x f 3t     
−(5)3 とすると、ミー8ガ16の出力■HIxはV   =K
  [5in(2π(f  −f  −f3)旧×  
2        1 2 t5」ψ(t)−(Δf 、’ f  ) c o s
 2πf□t)−I s i n (2r (fl−f
2+f3 ) t+so (t)(Af/f  )co
s2πf、t、)]・・ (6) となる。ここでf”fl”f2 f3の成分のみを考え
ると、 Vux−= K2 S ]、 n ! 2 yr f 
t  (Δf′fII)cos2πf  t+p (t
)i     =・(7)躇 となる。半導体レーザのスペクトル線幅は冒−レンツ分
布をし、スペクトル線の半値幅をΔf1とすると、(7
)式はローレンツ分布を持ったとl−信号が周波数f□
、最大周波数制移Δfで正弦波的に変化していると考え
られる(第2図)。したがって(7)式はローレンツ分
布の一般式を用いて次のように書換えることができる。
■NJX−”K/ [1+ + (f+Δfsfn2y
rf。
1)/Δf1) ]        ・・・(8)ただ
しKは比例定数である。(8ン式の5in2πflt成
分振幅Vt工は、 5in2πf  t=−1 および 5in2 π f   t=1 2            2   2−2fΔf)−
Δf     −に/(Δf    +f1 ±Δf2+2fΔf) 2222 +Δf   )   −4f   Δで  )    
・・・ (9)同期検波回路17の出力はこのvflに
比例し、例えば半導体レーザ1,10のスペクトル線幅
Δf1を30MH2,fi大周波数偏移Δfを30MH
2とし、fを−500〜500MHz!で掃引したとき
の同期検波出力vfIlは第3図のようになる。
第3図の同期検波出力の0クロスポイントaに半導体レ
ーザ10の発振周波数を制御すれば、t=r1−f2−
f3=O・ (10)すなわち f1f2=f3     ・・・(11)となるので、
ビート周波数は発振器15のマイクロ波周波数と一致す
る。すなわち第4図に示すように、半導体レーザ1の発
振の中心周波数f1は吸収線周波数に高確度、周波数高
安定状態で制御されており、マイクロ波周波数f3も安
定なので、半導体レーザ10の発振周波数で2も高安定
度となる。
このような構成の周波数安定化レーザ光源によれば、第
1の半導体レーザの発振周波数を電流変調で吸収線周波
数に制御し、マイクロ波でオフセットをかけて第2の半
導体レーザの発振周波数を制御することにより、無変調
、周波数高安定度の光出力を得ることができる。
またマイクロ波の周波数を変えることで、光出力周波数
を高安定・高確度で掃引することかできる0例えば20
0’rHzに対して1〜2GH2掃引することができる
電流変調で吸収線に制御しているので、音響光学変調器
における光路変化等が起きないため、周波数安定度が優
れている。
なお上記の実施例において、同期検波の参照周波数はf
lを用いて1次微分信号の0クロスポイン1〜に制御し
ていたが、3f、を参照周波数として3次微分信号の0
クロスポイントに制御することもできる。一般にf、の
奇数倍の参照周波数を用いて奇数次の微分信号の0クロ
スポイントに制御することができる。
またV  出力のfi  f2+f3の信号を用IX いても同様に制御することができる。この場合にはf 
  f2 f3の信号を用いる場合より出力光の周波数
が2f3だけ高くなる。
またミキサー5を省略してf3=0とすれば、f 2 
= f 1で安定化することができる。ただしこの場合
にf2の周波数掃引はできない。
第5図は本発明に係る周波数安定化レーザ光源の第2の
実施例を示す構成ブロック図である。第1図と同じ部分
は同一の記号を付して説明を省略する。19は変調用の
第3の発振器、20は発振器15のマイクロ波出力信号
を発振器19の出力で周波数変調する変調回路である。
ミキサ16は変調回路20の出力と光検出器14の出力
を混合し、同期検波回路17は発振器19の出力を参照
信号として同期検波を行う。その他の構成は第1図の場
合と同じである。
発振器15から出力されるマイクロ波は変調回路20に
より変調周波数1□2で周波数変調されるので、ミキサ
16の出力と−1・信号はfra2で変調されている。
同期検波回路17においてミキサ16の出力を’n2で
同期検波し、その出力がOになるように制御すれば、半
導体レーザ1,10間のビート周波数がマイクロ波中心
周波数と等しくなる。
このような構成の周波数安定化レーザ光源によれば、二
重変調とすることにより、半導体レーザ1の発振周波数
を吸収線周波数に制御するための周波数偏移と、半導体
レ−リ゛10e。′f′尋体1.−ザ1の発振周波数1
1Jオフセツトを(、っ′て制御丈るメ1zめの周波数
偏移どが独立で、イれぞれに最適値を選ぶことができ(
1の゛て゛、安定度やS/Nが向1するにh Jj吸収
綜f鹸全輻と4′#体L7〜ザのスペクトル線幅か大き
く異なる場合に有効下゛ある。
また半導体1.−9−リ′10を!1″導体L−ヂ1の
発振周波数にオフセラ1−をもンて制御1′る制御系に
おいて、変調をフイ;i o波C3かげているのて゛、
1′導体レーサ]の発振周波数を吸収線周波数に制t&
Illツ゛z1制御系r、こ゛1暫をり−えることなく
、安定度を向lτる、ご゛とができる、 なお上記の実施例ζ゛は半導体t、−ザ】91oども1
次微分て゛制御するように棺[戊Iているが、参照周波
数C1,それぞれ3f   3f、、2を用いて3次1
1゛ 微分のOりDスボイントに制御し、又もよい。一般にf
n’l fl2の奇数1きの参照周波数を用い′て奇数
次の微分信−号の0り冒ζポインl=に制御リ−ること
がでさ2)。
また変調回路20て゛位相変調をが0てもよい。
2、i、、−、、、−、に、:、 iiこノ@ JR施
ml t=、 S イて、’−r’4 f)r= ly
−サ1 ノ出射光の一部を、jテング光、とり、て吸収
セル3C51人射I21、伯の 部を反対の方向から細
い光束て′グUブ光とし、で吸収)ニル3に入射I5て
飽和吸収(r’+ ”’jを得る#l!l和吸収法〈堀
5角田1北野、数崎。小川9飽和吸収分光を用いた゛r
導導体l/ササ周波数7、電化、信学1、k報OQ E
 82−116 )を用い′i01ば、Jり安定な周波
数ジ定化1.−ザ尤源を実現づる、:Jかできる。
・S発明の効脣ト・ 以1 、、f=べなように本発明によれば、介、1も(
周波数か高安定t、二制御さ7ン、な周波数安定化し 
サ光afaを節部な積数て・実現する1丁とかできる。
4、)予−n FfJjの簡単な説明 第1図は本発明に係る周波数安定化し−17F光源の第
1の実施例を事″づ”棺成ブ冒ツク図 第2し1・−第
4し1は第1図装置の動作を示τ゛諜、明図、第55し
は本発明に係る周波数安定化し、・−ザ光源の第二2の
実施例を示1桐成ブC7ツク図、第6図は周べ数支定化
し−ザ光源の従来例を示′1楕成プロ・ツク図である。
1・・・第1の半導体レーザ、3・・・吸収セル、・ト
・・第1の光検出器、5・・・第1の同期検波回路、6
・・・miの制御回路、8・・・第1の発振器、1o・
・・第;1の¥′導体L・−ザ、12・・・光′Y:1
絞、1・1・・・第2の光検出器、15・・第2の発掘
・器、16・・・ミ人ザ、17・・・第2の同期検波回
路、18・・・第2の制御11:1回路、10・・・第
3の発振器、20・・・鴇′調1111路  fl・・
第1の半導体Y・−ザの発振周波数、f2・・・第2の
半導体レーザ“の発振周波数。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1の半導体レーザと、この第1の半導体レーザ
    の出力光を入力して特定の周波数で吸収する物質を封入
    した吸収セルと、この吸収セルを透過した光を検出する
    第1の光検出器と、前記第1の半導体レーザの電流に変
    調を加える第1の発振器と、この第1の発振器の出力ま
    たはその奇数倍周波数の信号を参照信号として前記第1
    の光検出器の出力を入力する第1の同期検波回路と、こ
    の第1の同期検波回路の出力に基づいて前記第1の半導
    体レーザの発振周波数を前記吸収セルの吸収線に制御す
    る第1の制御回路と、第2の半導体レーザと、前記第1
    、第2の半導体レーザの出力光を合波する光学手段と、
    この光学手段から出力される出力光のビート信号を検出
    する第2の光検出器と、第2の発振器と、この第2の発
    振器の出力と前記第2の光検出器の出力を混合するミキ
    サと、前記第1の発振器の出力またはその奇数倍周波数
    の信号を参照信号として前記ミキサの出力を同期検波す
    る第2の同期検波回路と、この第2の同期検波回路の出
    力に基づいて前記第1の半導体レーザの発振周波数との
    差が前記第2の発振器の発振周波数と等しくなるように
    前記第2の半導体レーザの発振周波数を制御する第2の
    制御回路とを備え、第2の半導体レーザの出力が無変調
    となるように構成したことを特徴とする周波数安定化レ
    ーザ光源。
  2. (2)第3の発振器と、第2の発振器の出力を前記第3
    の発振器の出力で周波数変調または位相変調する変調回
    路とを備え、変調回路の出力と第2の光検出器の出力を
    ミキサで混合し、第3の発振器の出力またはその奇数倍
    周波数の信号を第2の同期検波回路の参照信号とする請
    求項1記載の周波数安定化レーザ光源。
JP4740690A 1990-02-28 1990-02-28 周波数安定化レーザ光源 Pending JPH03250680A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0590692A (ja) * 1991-09-30 1993-04-09 Nec Corp 半導体レーザ装置
JPH0576068U (ja) * 1992-03-24 1993-10-15 横河電機株式会社 周波数安定化光源
KR100363238B1 (ko) * 1995-05-09 2003-02-05 삼성전자 주식회사 제2고조파 발생 방법 및 장치

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