JPH03252302A - 塩素化装置 - Google Patents
塩素化装置Info
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- JPH03252302A JPH03252302A JP4642390A JP4642390A JPH03252302A JP H03252302 A JPH03252302 A JP H03252302A JP 4642390 A JP4642390 A JP 4642390A JP 4642390 A JP4642390 A JP 4642390A JP H03252302 A JPH03252302 A JP H03252302A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は酸化物を塩素化する装置に係り、さらに詳しく
は塩化物を主体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子を
塩素を含むガスにより塩素化する装置に関する。
は塩化物を主体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子を
塩素を含むガスにより塩素化する装置に関する。
（従来の技術）
従来、溶融塩中において酸化物を塩素と反応させて塩化
物にする方法は工業的にはあまり広範囲には行われてい
ないが、例えば、チタン鉱石と炭素材を溶融塩中に懸濁
させて塩素化し、四塩化チタンとする方法が知られてい
る。また、本出願人はマグネシウムを電解により製造す
る際の原料である塩化マグネシウムの製造方法として、
溶解塩中に粉末状の酸化マグネシウムまたは／および炭
酸マグネシウムを懸濁させ、その中に塩素含有ガスを送
通して酸化マグネシウムまたは／および炭酸マグネシウ
ムと塩素とを反応させる方法を開発し、特許出願をして
いる（特願平１−６４２８９号および特願平１−６４２
９０号）、なお、溶融塩を使用せずに塩素化する方法と
しては、例えば懸濁気泡槽を用い、水中で行うエチレン
の塩素化があげられる。
物にする方法は工業的にはあまり広範囲には行われてい
ないが、例えば、チタン鉱石と炭素材を溶融塩中に懸濁
させて塩素化し、四塩化チタンとする方法が知られてい
る。また、本出願人はマグネシウムを電解により製造す
る際の原料である塩化マグネシウムの製造方法として、
溶解塩中に粉末状の酸化マグネシウムまたは／および炭
酸マグネシウムを懸濁させ、その中に塩素含有ガスを送
通して酸化マグネシウムまたは／および炭酸マグネシウ
ムと塩素とを反応させる方法を開発し、特許出願をして
いる（特願平１−６４２８９号および特願平１−６４２
９０号）、なお、溶融塩を使用せずに塩素化する方法と
しては、例えば懸濁気泡槽を用い、水中で行うエチレン
の塩素化があげられる。
これらの方法の中で、四塩化チタンの製造やエチレンの
塩素化においては溶融塩や水は反応媒体としてのみ利用
されており、例えば四塩化チタンの製造においては、溶
融塩中でＴｉＯ□とＣとＣ１，を反応させ、生成した四
塩化チタン（ＴｉＣｌ 、）を気体として外部へ取り出
しており、また、エチレンの塩素化反応装置では、水中
でエチレン上塩素を反応させて得られた塩化エチレンを
気体として外部へ取り出している。
塩素化においては溶融塩や水は反応媒体としてのみ利用
されており、例えば四塩化チタンの製造においては、溶
融塩中でＴｉＯ□とＣとＣ１，を反応させ、生成した四
塩化チタン（ＴｉＣｌ 、）を気体として外部へ取り出
しており、また、エチレンの塩素化反応装置では、水中
でエチレン上塩素を反応させて得られた塩化エチレンを
気体として外部へ取り出している。
これに対し、本発明者等が開発した前記の塩化マグネシ
ウムの製造においては、溶融塩を反応媒体として用いる
と同時にその媒体自体を生成物として利用している。す
なわち、塩化マグネジうム濃度の低下した溶融塩中に粉
末状の酸化マグネシウムまたは／および炭酸マグネシウ
ムを懸濁させ、その中に塩素含有ガスを送通して酸化マ
グネシウムまたは／および炭酸マグネシウムと塩素を反
応させて塩化マグネシウムを生成させ、塩化マグネシウ
ム濃度を高めて使用に供するのである。従って、吸湿性
が大きく取り扱いが非常に困難な塩化マグネシウムを固
体として系外に取り出す必要がない優れた方法であると
いえる。
ウムの製造においては、溶融塩を反応媒体として用いる
と同時にその媒体自体を生成物として利用している。す
なわち、塩化マグネジうム濃度の低下した溶融塩中に粉
末状の酸化マグネシウムまたは／および炭酸マグネシウ
ムを懸濁させ、その中に塩素含有ガスを送通して酸化マ
グネシウムまたは／および炭酸マグネシウムと塩素を反
応させて塩化マグネシウムを生成させ、塩化マグネシウ
ム濃度を高めて使用に供するのである。従って、吸湿性
が大きく取り扱いが非常に困難な塩化マグネシウムを固
体として系外に取り出す必要がない優れた方法であると
いえる。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、上記の塩化マグネシウムの製造方法にお
いては、未反応酸化物の残留は許されず、そのためこの
方法を連続的に行うことができなかった。
いては、未反応酸化物の残留は許されず、そのためこの
方法を連続的に行うことができなかった。
本発明の目的は上記のような欠点を克服し、塩化物を生
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子の塩素化を連続
的にしかも簡単に行うことのできる装置を提供すること
にある。
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子の塩素化を連続
的にしかも簡単に行うことのできる装置を提供すること
にある。
（課題を解決するための手段および作用）本発明の塩素
化装置を図によって詳しく説明する。なお、ここでは、
混合塩浴（例えば、ｓｇｃ １□＝２０％、ＮａＣｌ
二５０％、ＣａＣｊ２ ！ ：３０％）中に粒径約２０
μｓのマグネシア（ＭｇＯ）粒子を懸濁させ、８００°
Ｃで塩素（Ｃｅｘ）ガスにより塩素化反応を行わせ、混
合浴塩中の塩化マグネシウム濃度を増加させる場合を例
として説明する。
化装置を図によって詳しく説明する。なお、ここでは、
混合塩浴（例えば、ｓｇｃ １□＝２０％、ＮａＣｌ
二５０％、ＣａＣｊ２ ！ ：３０％）中に粒径約２０
μｓのマグネシア（ＭｇＯ）粒子を懸濁させ、８００°
Ｃで塩素（Ｃｅｘ）ガスにより塩素化反応を行わせ、混
合浴塩中の塩化マグネシウム濃度を増加させる場合を例
として説明する。
本発明の塩素化装置は大別すると３つの型に分けられる
。
。
第一はフィルターを使用することを特徴とする装置であ
る。すなわち、第１図（ａ）に示した装置では、溶融塩
は通過するが酸化物（この場合、Ｍｇ０）は通過しない
フィルター１により塩素化反応ゾーン２と、塩化マグネ
シウムの濃度が増加した浴場を生成物として取り出す生
成物ゾーン３とに分離されている。
る。すなわち、第１図（ａ）に示した装置では、溶融塩
は通過するが酸化物（この場合、Ｍｇ０）は通過しない
フィルター１により塩素化反応ゾーン２と、塩化マグネ
シウムの濃度が増加した浴場を生成物として取り出す生
成物ゾーン３とに分離されている。
この装置においては、まず、塩化マグネシウム濃度の低
下した混合浴塩が装置内に供給される。
下した混合浴塩が装置内に供給される。
次いで、マグネシア（ＭｇＯ）が原料投入口４から塩素
化反応ゾーン２へ投入され、混合浴塩中に懸濁し、ガス
送入口５から送通される塩素ガスと反応して塩化マグネ
シウム（ＭｇＣｌ ｘ＞を生成する。塩化マグネシウム
（ＭｇＣｊ！ ｚ）はフィルター１を自由に通過するの
で生成物ゾーン３内の混合浴塩中の塩化マグネシウム濃
度は次第に増加する。一方、マグネシア（ＭｇＯ）はフ
ィルター１を通過できず、塩素化反応ゾーン２にとどま
る。従って、生成物ゾーン３から生成物抜取り口６を介
してオーバーフローにより輸送配管に流出させ移送した
り、あるいは溶融塩ポンプを使用して移送したり、さら
には真空取鍋中に吸引移送するなどの手段により、塩化
マグネシウム濃度が高められた混合浴塩を未反応のマグ
ネシア（ＭｇＯ）の混入なしに連続的に採取することが
できる。
化反応ゾーン２へ投入され、混合浴塩中に懸濁し、ガス
送入口５から送通される塩素ガスと反応して塩化マグネ
シウム（ＭｇＣｌ ｘ＞を生成する。塩化マグネシウム
（ＭｇＣｊ！ ｚ）はフィルター１を自由に通過するの
で生成物ゾーン３内の混合浴塩中の塩化マグネシウム濃
度は次第に増加する。一方、マグネシア（ＭｇＯ）はフ
ィルター１を通過できず、塩素化反応ゾーン２にとどま
る。従って、生成物ゾーン３から生成物抜取り口６を介
してオーバーフローにより輸送配管に流出させ移送した
り、あるいは溶融塩ポンプを使用して移送したり、さら
には真空取鍋中に吸引移送するなどの手段により、塩化
マグネシウム濃度が高められた混合浴塩を未反応のマグ
ネシア（ＭｇＯ）の混入なしに連続的に採取することが
できる。
第１図（ｂ）に示した装置では、第１図（ａ）のように
２つのゾーンに分けず、生成物抜取り口６に先端部近傍
にフィルター１が設けられた取り出しパイプ８が取り付
けられている。この場合は、塩化マグネシウム濃度の高
められた混合浴塩はフィルター１を通して取り出しパイ
プ８内に入るので、ここから連続的に取り出すことがで
きる。
２つのゾーンに分けず、生成物抜取り口６に先端部近傍
にフィルター１が設けられた取り出しパイプ８が取り付
けられている。この場合は、塩化マグネシウム濃度の高
められた混合浴塩はフィルター１を通して取り出しパイ
プ８内に入るので、ここから連続的に取り出すことがで
きる。
第二は複数個に区切られた室で塩素化反応を行わせるこ
とを特徴とする装置である。
とを特徴とする装置である。
第２図（ａ）に示した装置では、酸化物粒子を塩素と反
応させる槽が２つの槽９．１０からなり、まず、塩化マ
グネシウム濃度の低下した混合浴塩が両槽９．１０内に
供給される。次いで、マグネシア（ＭｇＯ）が第１槽９
の原料投入口４から供給される。塩素（ＣＩ！りガスは
第２槽１０のガス送入口５から送通され、さらに管１１
を経て第１槽９へ導入されるので、第１槽９へ投入され
たマグネシア（ＭｇＯ）は第１ＩＷ９である程度塩素化
され、次いで管１２を介して第２槽へ送られ、第２槽１
０で未反応酸化物が許容限度以下になるまで塩素化され
て生成物抜取り口６から系外へ取り出される。これによ
り、塩素化を連続的に行うことができる。
応させる槽が２つの槽９．１０からなり、まず、塩化マ
グネシウム濃度の低下した混合浴塩が両槽９．１０内に
供給される。次いで、マグネシア（ＭｇＯ）が第１槽９
の原料投入口４から供給される。塩素（ＣＩ！りガスは
第２槽１０のガス送入口５から送通され、さらに管１１
を経て第１槽９へ導入されるので、第１槽９へ投入され
たマグネシア（ＭｇＯ）は第１ＩＷ９である程度塩素化
され、次いで管１２を介して第２槽へ送られ、第２槽１
０で未反応酸化物が許容限度以下になるまで塩素化され
て生成物抜取り口６から系外へ取り出される。これによ
り、塩素化を連続的に行うことができる。
第２図Φ）および（Ｃ）に示した装置では酸化物粒子と
塩素とを反応させる槽が棚段１３により複数の室に仕切
られており（第２図し）では５室、（Ｃ）では４室）、
最上段室にはガス排出ロアが、その下の室には原料投入
口４が、また、最下段室には生成物抜取り口６とガス送
入口５が設けられている。原料投入口４から供給された
マグネシア（ＭｇＯ）は浴場の移行に伴って棚段１３を
通過して徐々に下方へ移行する間に塩素（Ｃ１２）と反
応して塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ ｇ）となり、浴温
中の塩化マグネシウム濃度は下段へ行くに従い高くなっ
て、最下段から抜き取られる。この場合、棚段はフィル
ターの役目も兼ねており、大きなマグネシア（ＭｇＯ）
粒子は反応により小粒子化するまでこれを通過すること
はできない、なお、原料投入口４が最上段室の下の室に
設けられているのは、もしマグネシア（ＭｇＯ）を最上
段室に投入した場合その一部がガス排出ロアから飛散す
るのを防止するためである。
塩素とを反応させる槽が棚段１３により複数の室に仕切
られており（第２図し）では５室、（Ｃ）では４室）、
最上段室にはガス排出ロアが、その下の室には原料投入
口４が、また、最下段室には生成物抜取り口６とガス送
入口５が設けられている。原料投入口４から供給された
マグネシア（ＭｇＯ）は浴場の移行に伴って棚段１３を
通過して徐々に下方へ移行する間に塩素（Ｃ１２）と反
応して塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ ｇ）となり、浴温
中の塩化マグネシウム濃度は下段へ行くに従い高くなっ
て、最下段から抜き取られる。この場合、棚段はフィル
ターの役目も兼ねており、大きなマグネシア（ＭｇＯ）
粒子は反応により小粒子化するまでこれを通過すること
はできない、なお、原料投入口４が最上段室の下の室に
設けられているのは、もしマグネシア（ＭｇＯ）を最上
段室に投入した場合その一部がガス排出ロアから飛散す
るのを防止するためである。
第２図ら）に示した装置と（Ｃ）に示した装置の違いは
、装置が一体型（（ｂ）の場合）であるか分割型（（Ｃ
）の場合）であるかという点のみで、機能上の差はない
、装置材料が耐火物製であるため、分割型（（Ｃ）の場
合）の方が装置の製作が容易である。
、装置が一体型（（ｂ）の場合）であるか分割型（（Ｃ
）の場合）であるかという点のみで、機能上の差はない
、装置材料が耐火物製であるため、分割型（（Ｃ）の場
合）の方が装置の製作が容易である。
第三は未反応の酸化物を沈降させる沈降室を設けたこと
を特徴とする装置である。
を特徴とする装置である。
第３図（ａ）に示した装置では、槽内に、下方に浴場お
よびマグネシア（ＭｇＯ）が通過できる隙間（スリッ目
６）を有する隔壁１４で区切られた沈降室１５が設けら
れており、まず、塩化マグネシウム濃度の低下した混合
浴塩が槽内に供給される。次いで、マグネシア（ＭｇＯ
）が原料投入口４から塩素化反応ゾーン２へ供給され、
塩素（Ｃ１ｇ）と反応して塩化マグネシウム（ＭｇＣｆ
ｚ）を生成し、槽内の塩化マグネシウム濃度は増加する
。沈降室１５の底部は傾斜がつけられているので、沈降
したマグネシア（ＭｇＯ）は反応ゾーン２へ徐々に移行
し、沈降室１５の上部の浴場は清澄化される。この清澄
化された部分を抜き取ると、あるいはまた塩化マグネシ
ウム濃度の低下した混合浴塩を反応ゾーン２へ供給する
と、浴場は塩素化反応ゾーンから沈降室１５へ移行する
ので、塩素化と抜き取り（および塩化マグネシウム濃度
の低下した混合浴塩の供給）を繰り返すことにより塩化
マグネシウム濃度が高められた混合浴塩を連続的に採取
することができる。
よびマグネシア（ＭｇＯ）が通過できる隙間（スリッ目
６）を有する隔壁１４で区切られた沈降室１５が設けら
れており、まず、塩化マグネシウム濃度の低下した混合
浴塩が槽内に供給される。次いで、マグネシア（ＭｇＯ
）が原料投入口４から塩素化反応ゾーン２へ供給され、
塩素（Ｃ１ｇ）と反応して塩化マグネシウム（ＭｇＣｆ
ｚ）を生成し、槽内の塩化マグネシウム濃度は増加する
。沈降室１５の底部は傾斜がつけられているので、沈降
したマグネシア（ＭｇＯ）は反応ゾーン２へ徐々に移行
し、沈降室１５の上部の浴場は清澄化される。この清澄
化された部分を抜き取ると、あるいはまた塩化マグネシ
ウム濃度の低下した混合浴塩を反応ゾーン２へ供給する
と、浴場は塩素化反応ゾーンから沈降室１５へ移行する
ので、塩素化と抜き取り（および塩化マグネシウム濃度
の低下した混合浴塩の供給）を繰り返すことにより塩化
マグネシウム濃度が高められた混合浴塩を連続的に採取
することができる。
第３図ら）に示した装置では、槽の中央部が沈降室１５
となっており、その周囲に塩素化反応ゾーン２が設けら
れている。第３図（ａ）の場合と同様に沈降室１５では
未反応のマグネシア（ＭｇＯ）は沈降するので、沈降室
１５の上部から、清澄化し塩化マグネシウム濃度の高め
られた浴場を連続的に採取することができる。
となっており、その周囲に塩素化反応ゾーン２が設けら
れている。第３図（ａ）の場合と同様に沈降室１５では
未反応のマグネシア（ＭｇＯ）は沈降するので、沈降室
１５の上部から、清澄化し塩化マグネシウム濃度の高め
られた浴場を連続的に採取することができる。
第３図（Ｃ）に示した装置では、反応槽が２槽設けられ
、これらは塩素化反応と清澄化に交互に使用される０例
えば、反応槽１７から清澄化した浴場が取り出された後
、この槽１７にマグネシア（ＭｇＯ）と浴場が供給され
、塩素（ＣＬ）ガスが送通されて塩素化が行われる。そ
の間反応槽１８は清澄化に使用され、清澄化した浴場が
取り出される０次いで、今度は反応槽１８にマグネシア
（ＭｇＯ）と浴場が供給され、上記と同様の操作が行わ
れる。このようにして、塩化マグネシウム濃度の高めら
れた混合浴塩を半連続的に採取することができる。
、これらは塩素化反応と清澄化に交互に使用される０例
えば、反応槽１７から清澄化した浴場が取り出された後
、この槽１７にマグネシア（ＭｇＯ）と浴場が供給され
、塩素（ＣＬ）ガスが送通されて塩素化が行われる。そ
の間反応槽１８は清澄化に使用され、清澄化した浴場が
取り出される０次いで、今度は反応槽１８にマグネシア
（ＭｇＯ）と浴場が供給され、上記と同様の操作が行わ
れる。このようにして、塩化マグネシウム濃度の高めら
れた混合浴塩を半連続的に採取することができる。
（実施例１）
前記第１図（ａ）に示した構成を有する装置を用いてマ
グネシアの塩素化を行った。すなわち、内径５００＋ｎ
＋、外径１０００ｍｍ、高さ３５００ｍｍの耐火物製の
槽に内壁部から２００ｍｍの位置に耐火物製の平板状の
壁を設け、その壁の一部に直径４５０１の石英フィルタ
ー（穴径１００ ｔｔ−＞を取り付けた。この槽内に５
００ｋｇの混合浴塩ＣＭｇＣ１ｘ：２０％、ＣａＣｊ２
ｔ：３０％、ＮａＣｊ！ ：５０％）を投入し、さらに
５０に、のマグネシア（ＭｇＯ）を混合し、ガス送入口
から塩素（Ｃ１ｔ＞ガスを送通して浴場中にＭ、Ｏを懸
濁させながら８００°Ｃで塩素化を行った。２時間後、
生成物ゾーンから浴場の連続的な抜き取りを開始すると
共に浴場の補充を行った。抜取り浴場中のＭｇＯ濃度は
最初の４００ｋｇまでは０．１〜０．２％であったが、
５００ｋｇ以鋒は０８Ｏ５％程度となり、１０００ｋｇ
以降は０．０２％以下となった。
グネシアの塩素化を行った。すなわち、内径５００＋ｎ
＋、外径１０００ｍｍ、高さ３５００ｍｍの耐火物製の
槽に内壁部から２００ｍｍの位置に耐火物製の平板状の
壁を設け、その壁の一部に直径４５０１の石英フィルタ
ー（穴径１００ ｔｔ−＞を取り付けた。この槽内に５
００ｋｇの混合浴塩ＣＭｇＣ１ｘ：２０％、ＣａＣｊ２
ｔ：３０％、ＮａＣｊ！ ：５０％）を投入し、さらに
５０に、のマグネシア（ＭｇＯ）を混合し、ガス送入口
から塩素（Ｃ１ｔ＞ガスを送通して浴場中にＭ、Ｏを懸
濁させながら８００°Ｃで塩素化を行った。２時間後、
生成物ゾーンから浴場の連続的な抜き取りを開始すると
共に浴場の補充を行った。抜取り浴場中のＭｇＯ濃度は
最初の４００ｋｇまでは０．１〜０．２％であったが、
５００ｋｇ以鋒は０８Ｏ５％程度となり、１０００ｋｇ
以降は０．０２％以下となった。
（実施例２）
前記第２図（ａ）に示した構成を有する装置を用いてマ
グネシアの塩素化を行った。すなわち、内径３００ｍｍ
、外径８００ｍｍ、高さ３０００ｍｍの耐火物製の槽を
２基作製し、まず、第１槽９に実施例１と同じ組成の混
合浴塩５００ｋｇを投入し、さらにマグネシア（ＭｇＯ
） ５０ｋｇを混合し、塩素（ＣＩ！、□）ガスを送通
して８００℃で塩素化を行った。浴場中の？１ｇＯ濃度
が０．５％程度となったとき浴場を第１槽９から第２槽
ＩＯへ送通し、ＭｇＯ１度が０．０２％となった後、第
２槽１０から浴場の抜き取りを開始すると共に第１槽９
に浴場の補充を行った。連続的に７３時間操業を行った
が、何ら支障は生じなかった。なお、第２槽１０から第
１槽９へ送られるガス中のＣ１，濃度は９１％であった
。また、このガス中に含まれる浴温の蒸気が移送配管の
途中で固化して生した粉末は除去し、第２槽１０へ戻し
た。
グネシアの塩素化を行った。すなわち、内径３００ｍｍ
、外径８００ｍｍ、高さ３０００ｍｍの耐火物製の槽を
２基作製し、まず、第１槽９に実施例１と同じ組成の混
合浴塩５００ｋｇを投入し、さらにマグネシア（ＭｇＯ
） ５０ｋｇを混合し、塩素（ＣＩ！、□）ガスを送通
して８００℃で塩素化を行った。浴場中の？１ｇＯ濃度
が０．５％程度となったとき浴場を第１槽９から第２槽
ＩＯへ送通し、ＭｇＯ１度が０．０２％となった後、第
２槽１０から浴場の抜き取りを開始すると共に第１槽９
に浴場の補充を行った。連続的に７３時間操業を行った
が、何ら支障は生じなかった。なお、第２槽１０から第
１槽９へ送られるガス中のＣ１，濃度は９１％であった
。また、このガス中に含まれる浴温の蒸気が移送配管の
途中で固化して生した粉末は除去し、第２槽１０へ戻し
た。
（実施例３）
前記第３図（ａ）に示した構成を有する装置を用いてマ
グネシアの塩素化を行った。すなわち、内径５００■、
高さ３５００ｍｍの炉内に４００＊ｍ Ｘ ４００ｍｍ
の耐火物製の壁で仕切った沈陳室を設け、下部の隙間を
５０ｍｍとした。槽底部は６０°の傾斜をもたせた。こ
の槽内に、実施例１と同じ組成の混合浴塩を１．１１投
入し、さらにマグネシア（ＭｇＯ）を１００ｋｇ入れ、
塩素（ｃＬ）ガスを送通して浴場中にＭｇＯを懸濁させ
ながら８００″Ｃで塩素化を行った。清澄室から４時間
毎に２００ｋｇずつ浴温を取り出し、塩素化反応室に同
量ずつ浴温を補給した。取り出した浴温はＭｇＯ濃度が
０．０１％であった。この方法で９６時間連続操業した
後停止したが問題はなかった。
グネシアの塩素化を行った。すなわち、内径５００■、
高さ３５００ｍｍの炉内に４００＊ｍ Ｘ ４００ｍｍ
の耐火物製の壁で仕切った沈陳室を設け、下部の隙間を
５０ｍｍとした。槽底部は６０°の傾斜をもたせた。こ
の槽内に、実施例１と同じ組成の混合浴塩を１．１１投
入し、さらにマグネシア（ＭｇＯ）を１００ｋｇ入れ、
塩素（ｃＬ）ガスを送通して浴場中にＭｇＯを懸濁させ
ながら８００″Ｃで塩素化を行った。清澄室から４時間
毎に２００ｋｇずつ浴温を取り出し、塩素化反応室に同
量ずつ浴温を補給した。取り出した浴温はＭｇＯ濃度が
０．０１％であった。この方法で９６時間連続操業した
後停止したが問題はなかった。
（発明の効果）
本発明の装置を適用することにより、塩化物を主体とす
る溶融塩中での酸化物の塩素化を比較的簡単な装置で連
続的に行うことができる。
る溶融塩中での酸化物の塩素化を比較的簡単な装置で連
続的に行うことができる。
第１図〜第３図は、本発明の塩素化装置の例を示す概略
縦断面図で、第１図（ａ）、（ｂ）はフィルターの使用
を特徴とする装置、第２図（ａ）〜（Ｃ）は複数個に区
切られた室で塩素化を行わせることを特徴とする装置、
第３図（ａ）、ｂ）は未反応酸化物の沈陳室を設けたこ
とを特徴とする装置、第３図（Ｃ）は２槽−組で各種を
塩素化と未反応酸化物の沈鋒に交互に使用することを特
徴とする装置、の図である。
縦断面図で、第１図（ａ）、（ｂ）はフィルターの使用
を特徴とする装置、第２図（ａ）〜（Ｃ）は複数個に区
切られた室で塩素化を行わせることを特徴とする装置、
第３図（ａ）、ｂ）は未反応酸化物の沈陳室を設けたこ
とを特徴とする装置、第３図（Ｃ）は２槽−組で各種を
塩素化と未反応酸化物の沈鋒に交互に使用することを特
徴とする装置、の図である。
Claims (6)
- （１）塩素含有ガスを吹き込むガス送入口と、未反応の
ガスおよび生成ガスを排出するガス排出口と、塩化物お
よび酸化物粒子を投入する原料投入口と、濃化した溶融
塩化物を取り出す生成物抜取り口とを備え、塩化物を主
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素とを反応
させて濃化した塩化物溶融塩を得る装置であって、溶融
塩は通過するが酸化物粒子は通過しないフィルターによ
り、原料投入口およびガス送入口を有する塩素化反応ゾ
ーンと、生成物抜取り口を有する生成物ゾーンとに分離
されていることを特徴とする酸化物粒子の塩素化装置。 - （２）塩素含有ガスを吹き込むガス送入口と、未反応の
ガスおよび生成ガスを排出するガス排出口と、塩化物お
よび酸化物粒子を投入する原料投入口と、濃化した溶融
塩化物を取り出す生成物抜取り口とを備え、塩化物を主
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素とを反応
させて濃化した塩化物溶融塩を得る装置であって、生成
物抜取り口に溶融塩は通過するが酸化物粒子は通過しな
いフィルターが設けられた取出しパイプが取り付けられ
ていることを特徴とする酸化物粒子の塩素化装置。 - （３）塩素含有ガスを吹き込むガス送入口と、未反応の
ガスおよび生成ガスを排出するガス排出口と、塩化物お
よび酸化物粒子を投入する原料投入口と、濃化した溶融
塩化物を取り出す生成物抜取り口とを備え、塩化物を主
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素とを反応
させて濃化した塩化物溶融塩を得る装置であって、塩化
物を主体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素と
を反応させる槽が２つの槽からなり、原料投入口とガス
排出口は第１槽に、生成物抜取り口とガス送入口は第２
槽に設けられ、第１槽から第２槽へ浴塩を移動させるた
めの通路と、第２槽へ送通された後の塩素含有ガスをさ
らに第１槽へ送通するための通路とが設けられているこ
とを特徴とする酸化物粒子の塩素化装置。 - （４）塩素含有ガスを吹き込むガス送入口と、未反応の
ガスおよび生成ガスを排出するガス排出口と、塩化物お
よび酸化物粒子を投入する原料投入口と、濃化した溶融
塩化物を取り出す生成物抜取り口とを備え、塩化物を主
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素とを反応
させて濃化した塩化物溶融塩を得る装置であって、塩化
物を主体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素と
を反応させる槽が溶融塩および酸化物粒子の双方とも徐
々に通過する１以上の棚段で仕切られ、原料投入口が最
上段室もしくはその直下の室に、ガス排出口が最上段室
に、生成物抜取り口とガス送入口が最下段室に設けられ
ていることを特徴とする酸化物粒子の塩素化装置。 - （５）塩素含有ガスを吹き込むガス送入口と、未反応の
ガスおよび生成ガスを排出するガス排出口と、塩化物お
よび酸化物粒子を投入する原料投入口と、濃化した溶融
塩化物を取り出す生成物抜取り口とを備え、塩化物を主
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素とを反応
させて濃化した塩化物溶融塩を得る装置であって、生成
物抜取り口を有し、下方に隙間を有する隔壁で区切られ
た未反応の酸化物粒子を沈降させる沈降室が設けられて
いることを特徴とする酸化物粒子の塩素化装置。 - （６）塩素含有ガスを吹き込むガス送入口と、未反応の
ガスおよび生成ガスを排出するガス排出口と、塩化物お
よび酸化物粒子を投入する原料投入口と、濃化した溶融
塩化物を取り出す生成物抜取り口とを備え、塩化物を主
体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素とを反応
させて濃化した塩化物溶融塩を得る装置であって、塩化
物を主体とする溶融塩中に懸濁した酸化物粒子と塩素と
を反応させる槽が独立した２つの槽からなり、それぞれ
ガス送入口と、ガス排出口と、原料投入口と、生成物抜
取り口を有し、酸化物粒子の塩素化と未反応の酸化物粒
子の沈降ならびに濃化した塩化物溶融塩の抜取りが交互
に行われることを特徴とする酸化物粒子の塩素化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046423A JPH06102521B2 (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 塩素化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046423A JPH06102521B2 (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 塩素化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03252302A true JPH03252302A (ja) | 1991-11-11 |
| JPH06102521B2 JPH06102521B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=12746744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2046423A Expired - Lifetime JPH06102521B2 (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 塩素化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06102521B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018167997A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 東邦チタニウム株式会社 | 四塩化チタン製造装置及びこれを用いた四塩化チタンの製造方法 |
-
1990
- 1990-02-27 JP JP2046423A patent/JPH06102521B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018167997A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 東邦チタニウム株式会社 | 四塩化チタン製造装置及びこれを用いた四塩化チタンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06102521B2 (ja) | 1994-12-14 |
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