JPH0325414A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電界又は熱応答性のある大面積になし得る液晶
デバイスの製造方法に関するもので６Ｄ特に液晶中に３
次元網目状重合体を形成させることによわ時分割駆動に
よる表示を可能ならしめる液晶デバイスの製造方法に関
するものである。

（従来の技術） バタ一二冫グされた電極層を有している少なくとも一方
が透明な２枚の基板の間に支持された調光層を有し、前
記調光層が液晶材料及び透明性固体成分から成り、前記
液晶材料が連続相を形成し、前記透明性固体物質が前記
液晶材料中に粒子状又は３次元本，トワーク状に存在し
ている液晶デバイスの製造方法に於いて、２枚の基板を
貼シ合わせ、位置合わせした後に、次の圧着工程への移
動中または次の圧着工程で上，下基板間でズレが生じ、
位置合わせが不正確となって歩留シが悪くなる欠点があ
った。

（発明が解決しようとする課題） 本発明者等は、２枚の基板を貼シ合わせ、位置合わせし
た後に、２枚の基板間でズレが生じることのない液晶デ
バイスの製造方法について研究を進めた結果、本発明に
到達した。

（ｖＡ題を解決するための手段） 本発明は、パターニングされた電極層を有する少なくと
も一方が透明な２枚の基板の一方の基板に、 （ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）重合開始剤 を含有する調光層＄１戒材料を塗布する第１工程と、調
光ＮＩ構成材料から成る塗布面の上方からもう一方の基
板を重ね合わせて位置合わせを行ない、重合性組成物を
スポット状に硬化させ、２枚の基板間を仮固定させる第
２工程と、２枚の基板の両側から圧力をかけながら重合
性組成物を全体的に硬化させる第３工程とから成る、前
記２枚の基板の間に支持された調光層を有し、前記調光
層が液晶材料及び透明性固体威分から成シ、前記液晶材
料が連続相を形或し、前記透明性固体物質が前記液晶材
料中に粒子状又は３次元ネ，トワーク状に存在している
液晶デバイスの製造方法に関するものである． 基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等であって
も良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチ，クフ
ィルムの如きものであっても良い。

そして基板は、２枚が対向して適当な間隔を隔て得るも
のである．また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その２枚の間に挾持される調光層を外界から視覚させ
るものでなければならない。

但し、完全な透明性を必須とするものではない。

もし、この液晶デバイスが、デバイスの一方の側から他
方の側へ通過する光に対して作用させるために使用され
る場合は、２枚の基板は共に適宜な透明性が与えられる
．この基板には、透明，不透明の適宜な）４ターニング
電極が、その全面筐たは部分的に配置されている． 但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材料
の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金Ｆ４等に固定
して、本発明の製造方法を用いることが出来る。

２枚の基板間には液晶材料及び透明性固体成分から成る
調光層が介在される。尚、２枚の基板間には、通常、周
知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介
在させるのが望遣しー。

スペーサーとしては、例えばマイラー，アルミナ等種々
の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロ，ドタ
イプのガラスファイバーが好適である。

基板間隔の均一性を得るためにはスペーサーが基板面に
均一に分布させることが重要でアシ、その為に■スペー
サーを前記調光層構成材料に懸濁、分散させ、スペーサ
ーが分離又は沈降しない間に、その懸濁又は分散液を基
板の全面に押し広げる方法、又は■あらかじめスペーサ
ーを基板上に均一に散布又は基板上にスペーサー用突起
物を設けておく方法がある。あらかじめ散布してかく方
法としては、例えば、スペーサーを低沸点で比較的粘性
の高いエタノール等の低沸点溶媒に懸濁させ、その懸濁
液を基板上に塗布した後、溶媒を乾燥させる方法があシ
、印刷等の方法で基板面にスペーサー用突起物を設ける
方法も効果的である．液晶材料は、単一の液晶性化合物
であることを要しないのは勿論で、２種以上の液晶化合
物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であっても良
く、通常この技術分野で液晶材料として認識されるもの
であれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を有するも
のが好ましい．用いられる液晶としては、ネマチ，ク液
晶、スメクチ，ク液晶、コレステリック液晶が好１しい
． 液晶材料としては、例えば、４−Ｅｌ安息香酸４’−ｆ
ｆ換フェニルエステル、４一置換シクロヘキサンカルボ
ン１１４’−置換７エニルエステル、４一置換シクロヘ
キサンカルボン酸４′一置換ビフェニルエステル、４−
（４−ｔ換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸
４′一置換フェニルエステル、４−（４−［９シクロヘ
キシル）安息香酸４′−置換フェニルエステル，４−（
４−［９シクロヘキシル）安息香酸４′一置換シクロヘ
キシルエステル、４一置換４″−置換ビフェニル、４一
置換フェニルー４’−１ｆ＜換シクロヘキサン、４−Ｋ
ｔ換４１−置換ターフェニル、４一置換Ｖフェニル４’
−ｔ換シクロヘキサン，２−（４−ｆｉ換７エニル）　
−　５−置換ピリミクンなどを挙げることができる．液
晶材料は、２枚の基板間で連続相を形戒することを要す
る．液晶材料戒分の比率が低いと連続相を形威しにくい
。調光層成分に占める液晶材料の比率は、好筐しくは６
０重量多以上であシ、よシー層好１バは７０〜９０重量
斧でちる（以下、優は重量多を意味する．）． 重合性組成物としては、高分子形成性モノマー若しくは
オリゴマーが挙げられ、硬化によって、液晶材料の連続
相中に３次元ネ，トワークを形戒するものであれば良い
． そのような高分一子形或性モノマーとしては、例エハ、
スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビ
ニルベンゼン：置換基としては、メチル、エチル、グロ
ビル、ブチル、アミル、２ーエチルヘキシル、オクチル
、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シ
クロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエ
チル、７エノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシ
ゾル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシグロビル
、３−クロロー２−ヒドロキシグロ♂ル、ジメチルアミ
ノエチル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有する
アクリレート、メタクリレート又はフマレート；エチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、クロビレング
リコール、ポリプロピレングリコール，１．３−７’チ
レングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチ
ロールプロノゼン、グリセリン及ヒヘンタエリスリ｝　
一ル等のモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）ア
クリレート：酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ピニ
ル、アクリロエトリル、セチルビニルエーテル、リモネ
ン、シクロヘキセン、ジアリル７タレート、ジアリルイ
ソ７タレート、２−　３−又は４−ビニルビリジン、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリル
アミド，Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−
ヒドロキシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキ
ルエーテル化合物、ネオペンチルグリコール１モルに２
モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキ
サイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチ
レンオキサイド若しくはグロピレンオキサイドを付加し
て得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、
ビスフェノールＡ１モルに２モル以上のエチレンオキサ
イド若シくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオ
ールのジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート１モルとフェニルイソシアネテト
若しくはセーブチルイソシアネート１モルとの反応生戒
物、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレー
ト等を挙げることができるが、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、トリス（アクリルオキシエチル）インシアヌ
レートが特に好筐しい．同様に、高分子形成性オリゴマ
ーとしては、例えば、 （１）　　ビスフェノールＡＭエポキシ樹脂に（メタ）
アクリル酸、更に場合にようヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪
酸をエステル化させて得たエポキシ（メタ）アクリレー
トあるいはその長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポ
キシ（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸
ゾ無水物、無水トリメリ，ト酸を付加して得たカルポキ
シル基を有するエポキシ（メタ）アクリレートの如きエ
ポキシ（メタ）アクリレート及びその変性物。

（２）英国特許第１，１　４　７，７　３　２号明細書
（特開昭５１−３７１９３号公報及び特開昭５１−１３
８７９７号公報）に記載されているようなジイソシアナ
ート化合物とポリオールとを予め反応させて得られる末
端イソシアナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキル
アクリレート及び／又はメタクリレート？反応せしめる
ことによって得られる分子内に２個以上のアクリロイ■
キシ基及び／又はメタクリロイロキシ基をもった付加重
合性化合物．（３）特公昭４　７−　３２６２号公報に
記載されているような無水フタル酸、テトラヒドロ無水
フタル酸、ヘキサヒドロ無水７タル酸、テトラクロロ無
水フタル酸、あるいは無水ヘット酸のような二塩基酸無
水物とグリシゾルアクリレート及び／又はグリシジルメ
タクリレートとを開猿重合して得られるアクリロイロキ
シ基及び／又はメタクリロイロキシ基を多数ぺ冫〆冫ト
にもった直線状ポリエステル化合物． （４）％公昭４７−２３６６１号公報に記載されている
ような隣接炭素原子に少くとも３個のエステル化可能な
ヒドロキシル基を有する多価アルコールと、アクリル酸
及び／又はメタクリル酸と、ゾカルポン酸かよびその無
水物からなる群から選択されたジカルボン酸類との共エ
ステル化によって製造された重合可能なエステル類。

（５）英国特許第６２８，１５０号明細書、米国特許第
３，０　２　０，２　５　５号明細＠；ｂよび月刊誌「
マクロモレ中１ールズ」第４巻、第５号、第６３０〜６
３２頁（１９７１年）に記載されているごときメラミン
またはペンゾグアナミンにホルムアルデヒド、メチルア
ルコールかよびβ−ヒドロキシアルキルアクリレート（
またはメタクリレート）等を反応せしめて得られるポリ
アクリル（またはポリメタクリル）変性トリアジン系樹
脂。

（６）米国特許第３，３　７　７，４　０　６号明細書
に記載されているようなポリヒドロキシ化合物のグリシ
ジルエーテル化物にアクリル酸またはメタクリル酸を反
応させて得られる不飽和ポリエステル樹脂．（７）米国
特許第３，４　５　５，８　０　１号明細書及び米国特
許第３，４　５　５，８　Ｑ・２号明細書に記載されて
いる一般式（ここにかいてＲは炭素原子数２〜１０個の
２価の飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ’は
炭素原子数２〜１０個の２個の飽和脂肪族炭化水素基を
示し、ＲＩは水素原子又はメチル基を示し、ｎは１〜１
４の整数である．） で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
イロキシ基を有するポリエステル化合物。

（８）米国特許第３，４　８　３，１　０　４号明細書
及び米国特許第３，４　７　０，０　７　９号明細書に
記載されている一般式（ここにかいてＡは一〇一又は−
■−を示し、１分子中で少なくとも２個は一間一である
ものとし、Ｒは二価の飽和脂肪族または不飽和脂肋族炭
化水素基を示し、ＲＩは二価の飽和又は不飽和の脂肪族
あるいは壌状炭化水素を示し、ＲＩは水素原子又はアル
キル基を示し、ｎは１〜１４の整数であるものとする．
） で示されるジアクリル変性（またはジメタクリル変性）
ポリアミド化合物． （９）特公昭４８−３７２４６号明細書に記載されてい
る一般式 とを反応させて得られる両末端にカルポキシル基を有す
る化合物に更にグリシジルアクリレートまたはグリシジ
ルメタクリレートを反応せしめることによシ得られるジ
アクリル変性（又はジメタクリル変性）ポリエステル化
合物． ０　特公昭４８−１２０７５号明細書に記載されている
ごとき分子中に一般式、 （ここにおいてＸは水素原子又はアシル基を示し、Ｂは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、Ｂ′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、Ｒ２は
水素原子又はアルキル基を示すものとし、Ａは一〇一又
は、一間一を示し、１分子中で少なくとも２個は一Ｍト
であるものとし、ｎは１〜１４の整数である．） で示されるジアクリル変性（またはゾメタクリル変性）
ポリアミド化合物。

α０　米国特許第３，４　８　５，７　３　２号明細書
に記載されているような飽和又は不飽和の二塩基酸又は
その無水物、あるいは必要に応じてそれらとジオール（
ここにおいてＸはアシル基又はウレタン基を示し，Ｒは
、Ｈ　，　ＣＭ，　，　ＣＬ又はＣＮであるものとする
．） で示されるくシ返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する（メタ）アクリル共重合体に基づく化合
物． 等を挙げることができるが、カブロラクトン変性ヒドロ
キシピパリン酸エステルネオペンチルグリコールジアク
リレートが特に好喧しい．重合開始剤としては、例えば
、２−ヒドロキシ−２−メ’Ｆ−ルーｌ−フェ二ルプロ
パン−１−オン（メルク社製「ダロキ．ア１１７３Ｊ　
）．１−ヒドロキシシクロへキシル７エニルケトン（チ
パ●がイギー社製「イルガキュア１８４」）、１−（４
−イングロビルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキ纂ア１１１
６Ｊ），ペンジルジメチルケタール（チパ●がイギー社
製「イルガキ，ア６５１Ｊ），２−メチル−１−（４−
（メチルチオ）フェ二ル〕−２−モルホリノゾロパノン
−１（チパ●ガイイー社製「イルガキュア９０７Ｊ），
２．４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤ
キュアＤＥＴＸＪ）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル（日本化某社製「カヤキュアＥＰＡ　Ｊ　）との混合
物、イソプロビルチオキサントン（ワードプレキンン，
ｆ社製「カンタキ．アーＩＴＸＪ）とｐ−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状で
ある２−ヒドロキシー２−メチル−１−フェ二ルプロパ
ン−１−オンが液晶材料、高分子形成性モノマー若しく
はオリゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。

調光層構成材料に、任意成分として、連鎖移動剤、光増
感剤、染料、架橋剤等を，前記モノマーオリゴマー等の
種類や、所望の液晶デバイスの性能に合わせて適宜併用
することができる。

特に連鎖移動剤の併用は、モノマー又はオリゴマ一の種
類によっては極めて効果的で、樹脂の架橋度が高くなシ
過ぎるのを防止し、それによって、．液晶材料が電界に
応じて応答し易くされ、低電圧駆動性が発揮される．連
鎖移動剤の好例は、グタンジオールジチオグロピオネー
ト、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオグロピ
オネート）、トリエチレングリコールジメルカグタン等
々である。連鎖移動剤の添加量は、使用する七ノマー又
はオリゴマ一の種類によっても異なるが、あまシに少な
いと効果が薄く、多過ぎるとデバイスの不透明度が低下
して表示のコントラストが悪くなる傾向にあるので好ま
しくない．その有効量は、モノマー又はオリゴマーに対
して０．０５〜３０重量嘩と考えられるが、０．１〜２
０重Ｊｉｍが好適である． 調光層構成材料を塗布した一方の基板に他方の基板を重
ね合せ、位置合せを行う為には一般に液晶空セル製作用
の重ね合せ位置合せ装置を用いることが出来る． しかし調光層構成材料が基板間全面にわたって介在して
いる為重ね合せ・位置合せ後に応々にして上下基板がず
れる事が多い。

本発明者等は、重ね合せ・位置合せした後、その状態で
陶光層構成材料中の重合性組成物をスポット状に硬化さ
せることによ夛上下基板のずれを防止できる事を見出し
、本発明に到達した。

スポットの大きさ及数をコントロールすることによシ仮
固定するとともにスポット部分は次工程の圧着時に所望
の基板間隔迄圧縮することが可能である． 又本発明によるスポット状硬化部分と次工程での硬化部
分では同じ調光層構成材料を使用しているためスポット
状硬化条件と次工程の硬化条件を同じくすることによシ
スポット状硬化部分と他の硬化部分との境界での視差が
見えなくすることが出来る。

スポットの大きさは重合体の濃度，硬度や基板との接着
性、基板間隔の厚みによって適宜決めることが出来る。

重合体が基板と接清性がよく、硬度が硬い場合はスポッ
トの大きさは小さくて良く逆の場合は大きくする必要が
ある． 概略０．　２〜２０ｍの径のスポットが適切である。・
又スポットの数は基板の大きさや基板間隔の厚さによう
て適宜決めることが出来、一般に１００ｃＩＡあたシ１
〜２個設けることが好１しい。

スポット状に硬化させる手段としては、熱重合の場合熱
線ビームやレーザー等の方法が可能であるが硬化時間を
考慮すると電子線や紫外線による方法が好適である．特
に紫外線による方法がよう好筐しい。

紫外線にようスポット状に硬化するためには基板面のス
ポット部分以外を遮蔽し、通常の紫外線照射装置を用い
ることが出来るが、光ファイバー等を用いた紫外線スポ
ット照射装置を用いることが好適である。即ち、紫外線
スポｙ｝照射装置に多分岐ライトガイドを取シ付けて複
数ケ所のスポット部分に紫外線を同時に照射してもよい
し、或は紫外線スポット照射装置から一ケ所のスポット
部分に紫外線を照射した後に、順次に別のスポット部分
に紫外線を照射してもよい． 基板にかける圧力は、基板間に介在する調光層構成材料
の性状によって決められる。特に前記調光層構成材料の
粘度によシ、圧力の大きさが左右される．高粘度壜もの
ほど必要とする圧力は大きい． 操作上、圧力が低い方が有利であるが、そのような目的
のために種々の減粘化方法をとることが出来る．例えば
、温度を上げること、又、液晶デバイスの性能を阻わな
い範囲で調光層構成材料に極性の小さい低分子量のモノ
マクリレート等を添加することが有効である． 圧力のかけ方は、基板面全体に均等にかかるようにする
ことが重要であｂ１そのように工夫され九憩々の機械を
使うことが出来る。

また、本発明の液晶デバイスの製造方法において、調光
層構成材料から成る塗布面の上方から重ね合わせる基板
が、核塗布面に一部接触した時点から該塗布面に該基板
の全面が接触するまでの間に、間欠的に該基板を該塗布
面に接近させることによシ、調光層中に気泡が混入する
ことを有効に防止することができる．更に調光層構成材
料から成る塗布面に重ね合わせる基板を、１〜１０秒毎
に１〜５０μｍ／秒で１〜５秒間、駁塗布面に接近させ
る方法が、特に有効である。

これらの時間間隔及び速度の設定にあたっては、作業効
率を考慮し、可能な限シ短かく又は速いことが望１しい
． 重合性組成物を重合硬化させる方法は通常知られている
硬化方法であればよく、例えば熱重合放射線重合電子線
重合等があげられるが、紫外線照射による重合硬化方法
が好適である。

紫外線重合硬化方法にかいて、■硬化温度を前記混合溶
液の液晶相一等方性液体相の相転移温度よシ高温に設定
し、■前記混合溶液のＵＶ吸収波長や重合性組成物に応
じて、又、基板間隔の厚みによう、重合性に差が生じな
し程度の強い紫外線を一寺ルス状に照射することによシ
、基板間に介在し液晶材料の連続相中に生或する透明性
固体成分の３次元ネットワークの網目の大きさを均一化
及び大きさのコントロールをし、もって明瞭なしきい値
電圧と急峻性をもった液晶表示素子即ち、時分割駆動表
示できる液晶デバイスを製造することが出来る。

（作用） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、一方の基板
に調光層構戒材料を塗布し、他方を重ね合せ・位置合せ
を行なった時点で重合性組成物をスポット部分硬化し、
仮固定することによう次工程の圧着・硬化時迄の間にお
ける位置ずれを防止し、高精度な位置合せ状態を保った
ｉｔ圧着，硬化が可能となる。即ち、ノ９ター二冫グ電
極の上下基板間でずれのない高性能な、液晶中に重合体
を３次元網目状に分散させた液晶デバイスを提供できる
．さらにマトリ，クス電極を有する基板を用いる事によ
って時分割駆動が正確に出来る高性能な液晶デバイスを
提供できる。

（実施例） グラスファイバー製のスペーサ−（平均ファイバー径１
　２．　Ｏ　ｎ　）　０．　２　１をエタ／−ルｌ００
ｃｃに懸濁させた溶液を２０Ｘ２０ｃｍ角のＩＴＯのマ
トリ，クス電極を有するガラス基板上に散布する。散布
後エタノールを蒸発乾固させる。

液晶組成物（４） 組或 転移温度　　　　６８，５℃（Ｎ−　Ｉ　）く−２５　
℃（Ｃ−Ｎ） ｎｏ÷１．５　３　３　　　２　０℃の粘度５９ａ．ｐ
．ｊｎ＝０．２　５　４　　　！！電率訳方性　ＡＭ−
２６９次いで、液晶材料として液晶組底物（Ａ）８０重
量嘩、重合性化合物としてポリプロピレングリコール変
性ペンチルグリコールジアクリレート（サートマー社製
Ｃ−９００３）１９．６重量鋒及重合開始剤として２−
ヒドロキシ−２−メチル１−７ェニルーグロノ臂冫−１
−オン０．　４重ｉｓからなる調光層構成材料をその基
板面に３５℃の等方性液体状態で塗布する．次いで他方
のマトリ，クス電極を有するガラス基板を気泡巻き込み
のないようゆクくルと貼シ合せ、位置合せ装置を用い位
置合せを行う。位置合せ終了状態において基板の周端近
い部分に各スポットの大きさが８１１の径を有するよう
に紫外線スポット照射装置を用いて紫外線照射しスポッ
ト部分硬化を行なった．この時の紫外線照射は強度６　
０　ｍＷ／一で１５秒間であった。４点をスポット状に
硬化を行ったところ上下基板間は、力を加えてもズリが
生じなかった。次いで圧着治具を用い３５℃で圧力を加
えながら上，下基板の圧着を行なった．加えた圧力及び
時間は０．２６ｋｇ／ａＡ，ａ分間であった．その状態
で加圧した側の反対側の透明ガラス面を通して６　０　
ｍＷ／ａｄ強度の紫外線を１５秒間照射したところ、充
分均一な白濁したデバイスが得られた． 得られた液晶デバイスの上下電極基板の位置ずれは１０
μｍであｊｌｌｌ調光層の厚みは１２．３±０．　５μ
ｍと均一であｂスポット状に固定した所も同じ厚み範囲
に入っていた． 同様にくシ返し作成したデバイスでの位置ずれはいずれ
も２５μ以下であシ、調光層の厚みも、所望のものを得
ることが出来た。

（比較例） 上記実施例においてスポット状硬化しないこと以外は上
記実施例と同様に液晶デバイスを作成した．この場合上
下基板の位置ずれは１０８μｍとなった● （発明の効果） 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば調光層の厚み
の均一性を保ちながらパター二冫グ電極の上下基板間の
位置合せが実用上充分な精度をもった液晶デバイスを効
率よく提供することが出来る． 従って本発明の液晶デバイスの製造方法を用いることに
よって、視野遮断のスクリーン、採光調節のカーテン以
外に文字，図形の大型表示板等に用いる時分割駆動等の
高度な表示を可能とする液晶デバイスを効率的に製造す
ることが出来る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、パターニングされた電極層を有する少なくとも一方
   が透明な２枚の基板の一方の基板に、（ａ）液晶材料、 （ｂ）重合性組成物及び （ｃ）重合開始剤 を含有する調光層構成材料を塗布する第１工程と、調光
   層構成材料から成る塗布面の上方からもう一方の基板を
   重ね合わせて位置合わせを行ない、重合性組成物をスポ
   ット状に硬化させ、２枚の基板間を仮固定させる第２工
   程と、 ２枚の基板の両側から圧力をかけながら重合性組成物を
   全体的に硬化させる第３工程と から成る、前記２枚の基板の間に支持された調光層を有
   し、前記調光層が液晶材料及び透明性固体成分から成り
   、前記液晶材料が連続相を形成し、前記透明性固体物質
   が前記液晶材料中に粒子状又は３次元ネットワーク状に
   存在している液晶デバイスの製造方法。 ２、重合性組成物が紫外線硬化型樹脂組成物である請求
   項１記載の液晶デバイスの製造方法。 ３、スポット状の硬化を紫外線照射手段によって行なう
   請求項１または２記載の液晶デバイスの製造方法。 ４、スポット部分硬化に紫外線スポット照射装置を用い
   る請求項１、２または３記載の液晶デバイスの製造方法
   。 ５、正の誘電率異方性を示す液晶材料を用いる請求項１
   、２、３または４記載の液晶デバイスの製造方法。 ６、液晶材料が調光層構成材料の６０重量％以上を占め
   る請求項１、２、３、４または５記載の液晶デバイスの
   製造方法。 ７、重合性組成物の硬化温度条件が、液晶材料の液晶相
   から等方性液体相への相転移温度よりも高い温度である
   請求項１、２、３、４、５又は６記載の液晶デバイスの
   製造方法。