JPH03255156A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物

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JPH03255156A
JPH03255156A JP5227190A JP5227190A JPH03255156A JP H03255156 A JPH03255156 A JP H03255156A JP 5227190 A JP5227190 A JP 5227190A JP 5227190 A JP5227190 A JP 5227190A JP H03255156 A JPH03255156 A JP H03255156A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、成形性、捺印性、半田耐熱性および低応力性
に優れたエポキシ樹脂組成物に関するものである。
〈従来の技術〉 エポキシ樹脂は耐熱性、耐湿性、電気特性および接着性
などに優れておD、さらに配合処方により種々の特性が
付与できるため、塗料、接着剤および電気絶縁材料など
の工業材料として広く利用されている。
たとえば、半導体装置などの電子回路部品の封止方法と
しては、従来より金属やセラミックスによるハーメチッ
クシールやフェノール樹脂、シリコーン樹脂およびエポ
キシ樹脂などによる樹脂封止が提案されているが、経済
性、生産性および物性のバランスの点から、エポキシ樹
脂による樹脂封止が中心になっている。
しかるに、エポキシ樹脂は上述の優れた特徴を有するも
のの、剛直な網目m造を有するため応力が発生しやすく
、たとえば半導体装置の封止に用いた場合に、急激な温
度変化により素子の表面にクラックか生じたD、アルミ
配線がスライドして電流がリークしたD、あるいは封止
樹脂自体にクラックが生じるなどの好ましくない傾向が
あった。
そして、上記の欠点を改良するために、エポキシ樹脂に
ゴム類を配合する方法(特開昭58−219218号公
報、特開昭59−96122号公報)やシリコーンオイ
ル類を配合する方法(特公昭61−48544号公報)
などが提案されておD、なかでもシリコーンオイル類、
すなわちオルガノポリシロキサン誘導体を配合したエポ
キシ樹脂組成物は、高温安定性および電気特性が優れて
いることから、半導体封止樹脂の低応力剤として有効に
使用されている。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、オルガノポリシロキサン誘導体は、エポ
キシ樹脂との相溶性がよくないため、このものをそのま
ま添加すると、エポキシ樹脂中での分散が悪く、しかも
成形時のパリを大幅に増やしたD、オルガノポリシロキ
サン誘導体自身が成形具の表面ににじみ出てきて、捺印
性を低下させるなどの欠点がある。
また、最近は電子部品の小型化、薄型化のため、半導体
の実装方式は従来のビン挿入方式に代わって表面実装方
式が盛んになってきておD、この場合、半導体は実装の
際に半田浴に浸漬されるなど高温で処理されるが、かか
る高温条件においては、封止樹脂にクラックが生じたD
、耐湿性が低下するなどの問題が指摘されていた。
この問題に関して、半導体装置を高温高湿下に放置した
のちに、半田浴に浸してクラックの有無を調べるテスト
(半田耐熱性テスト)が提案されているが、このテスト
はひずみ応力をはじめとして機械的性質、1iil熟性
や耐湿性など多くの物性の影響を同時に受けるため、従
来のクラック発生防止手段のみでは対応できなかった。
すなわち、半導体装置の高集積化と実装方式の変化によ
D、従来の封止樹脂よりもさらに実装時の半田耐熱性に
も優れた樹脂組成物の実現が望まれているのか実状であ
る。
そこで、本発明者らは、半田耐熱性が改良され、同時に
他の重要な物性、たとえば、電気特性、パリ、捺印性お
よび成形時におけるオルガノポリシロキサンのしみ出し
抑制に優れた低応力のエポキシ樹脂組成物を提供するこ
とを目的として、鋭意検討を進めた結果、特定のオルガ
ノポリシロキサン誘導体を使用することによD、上記目
的か一挙に達成できることを見出し、本発明に到達した
く課題を解決するための手段〉 すなわち本発明は、A、エポキシ樹脂、B。
硬化剤、C1両末端にカルボン酸基を有するオルガノポ
リシロキサンと下記一般式(I)および/または(II
)で表わされるエポキシ樹脂の反応物を、さらにノボラ
ック樹脂と反応せしめてなるオルガノポリシロキサン誘
導体およびり。
シリカからなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物を
提供するものである。
(IV )で表わされるノボラック型エポキシ樹脂(式
中、R1、R2、R3、R4は水素原子またはメチル基
を示し、nは0または1〜10の整数を示す、) (式中、nはOまたは1〜10の整数を示す、)以下、
本発明の構成を詳述する。
本発明におけるエポキシ樹脂Aとしては、たとえば、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、下記式%式%() (ただし、nは0以上の整数を示す、)ビスフェノール
Aやレゾルシンなどから台底される各種ノボラック型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、線状脂
肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂および複素環式
エポキシ樹脂などが挙げられるが、なかでもクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂が耐湿性の面から特に望まし
い。
また、エポキシ樹脂A中には、下記式(I[[)で表わ
される骨格を有するエポキシS脂(以下、エポキシ樹脂
A′と称する)を必須成分として含有することが重要で
ある。
(ただし、R5〜R12は水素原子、C1〜c4の低級
アルキル基またはハロゲン原子を示す、〉上記エポキシ
樹脂A′を含有しない場合は半田付は工程におけるクラ
ックの防止効果は発揮されない。
エポキシ樹脂A′の好ましい具体例としては、4.4′
−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル、4
.4′−ビス(2,3−エポキシ10ボキシ’) −3
,3’ 、 5.5 ’−テトラメチルビフェニル、4
,4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ) −3,
3’ 、 5.5 ’−テトラメチルー2−クロロビフ
ェニル、4,4′−ビス (2,3−エポキシプロポキシ) −3,3’ 、 5
.5 ′−テトラメチルー2−ブロモビフェニル、4.
4′−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’
5.5′−テトラエチルビフェニルおよび4.4′−ビ
ス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3′5.5′
−テトラブチルビフェニルなどが挙げられ・る。
また、エポキシ樹脂A′は、室温では固体であるが、高
温では粘度の低い液体になるため、取扱いか簡便である
とともに、シリカの添加量を増加することができる。し
たがって、得られる封止刑組成物の線膨朕平か大幅に低
下するため、エポキシ樹脂A′は低応力化にとって、き
わめて有効な樹脂であるといえる。
エポキシ樹脂A中に含有されるエポキシ樹脂A′の割合
に関しては特に制限がなく、必須成分としてエポキシ樹
脂A′が含有されれば本発明の効果は発揮されるが、よ
り十分な効果を発揮させるためには、エポキシ樹脂A′
をエポキシ樹脂A中に通常20重量%以上、好ましくは
40重量%以上、特に好ましくは60重量%以上含有せ
しめる必要かある。
本発明の樹脂組成物においてエポキシ樹脂Aの配合量に
ついては特に制限はないが、通常は3〜30重量%、好
ましくは5〜25重量%である。
本発明における硬化剤Bはエポキシ(支)脂Aと反応し
て硬化されるものであれは特に限定されない、たとえば
、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹
脂、下記式(V)で表わされるノボラック樹脂 ・・・・・・(V) (ただし、nは0以上のM数を示す、)ビスフェノール
Aやレゾルシンから合成される各種ノボラック樹脂、多
種多価フェノール化合物、無水マレイン酸、無水フタル
酸、無水ピロメリット酸などの敢無水物およびメタフェ
ニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルホンなどの芳香族アミンなどが挙げられ
るが、ながでもノボラック型フェノール樹脂が好ましく
用いられる。このノボラック型フェノール樹脂としては
、フェノール、アルキルフェノールなどのフェノール類
とホルムアルデヒドとを反応させて敲られるノボラック
型フェノール樹脂であるかぎり特に制限なく使用するこ
とかできるが、望ましくは、軟化点か70〜95℃、水
B基当量か95〜150のものがさらに好ましく用いら
れる。
本発明の樹脂組成物において、硬化剤Bの配合量につい
ては特に制限はないが、通常は1〜20重量%、好まし
くは2〜15重量%である。
エポキシ樹脂Aと硬化剤Bの配合比は、機械的性質や耐
熱性などの点から、ヱボキシVIJ脂に対する硬化剤の
化学当量比が05〜1.5、特に0.7〜1.3の範囲
にあることが望ましい。
次に、本発明において用いられるオルガノポリシロキサ
ン誘導体Cについて説明する。
まず、第一段階として両末端カルボン酸基を含有するオ
ルガノボウシ0−8サンと上記−数式(I>で表わされ
るエポキシ樹脂を反応させる。
この反応生成物を以下、オルガノポリシロキサン誘導前
駆体(Ca)と称する。同様に、両末端カルボン酸基を
有するオルガノポリシロキサンと上記式(n)で表わさ
ノするエポキシ4!fJ脂との反応生成物をオルガノポ
リシロキサン誘導前駆#(Cb)と称する。
ここで、両末端カルボン酸基を含有するオルガノポリシ
ロキサンとしては、たとえば下記−数式(Vl)で表わ
されるものが挙げられる。
CH3CH3 〈式中、nは1以上の整数、Rは2価の有機基であD、
非置換らしくは置換アルキレン基、非W、telもしく
は置換フェニレン基1.l[換もしくは置換アラルキレ
ン基を示す、) 上記の式(Vl)において、Rの好ましい具体例として
はエチレン基、プロピレン基、ブチレン基、テトラメチ
レン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタ
メチレン基、ノナメチレン1、デカメチレン基、フェニ
レン基、トリレン基、キシリレン基などが挙げられ、好
ましくはプロピレン基である。nは好ましくは5〜20
0である。
オルガノポリシロキサン誘導前駆体(Ca)および(C
b)の原料となる上記式(I)または式(n)で表わさ
れるエポキシ樹脂としては、好ましくはn=o〜1のも
のを用いる。
上記の両末端カルボン酸基を含有したオルガノポリシロ
キサンと上記式(I)tなは(II)で表わされるエポ
キシ樹脂とを反応させる際の両者の混合割合は、両末端
カルボン酸基を含有したオルガノポリシロキサン1.0
当量に対して一般式(I)または<n>で表わされるエ
ポキシ樹脂05〜2.0当量の範囲が好適である。この
範囲より一般式(I)または(II)で表わされるエポ
キシ樹脂が多くなると、反応物中に未反応のこのエポキ
シ樹脂が多く残るため、第2段階でノボラック樹脂と反
応させる際にゲル化する#J、向を招く、また、この範
囲より少なくなると反応物中に未反応の両末端カルボン
酸基を含有するオルガノポリシロキサンが残るため、得
られるエポキシ樹脂組成物の成形時のパリが多くなった
D、両末端カルボンfi基を含有するオルガノポリシロ
キサンのしみ出しが起きるため好ましくない。
上記の両末端カルボン酸基を含有するオルガノポリシロ
キサンと上記式(I)または(n)で表わされるエポキ
シ樹脂の反応は、両者を加熱混合したのち、触媒として
、たとえばトリフェニルホスフィンを0.1〜1.0重
量%添加することにより行われ、白濁溶液から透明な溶
液になり反応は終了する。得られる反応物の粘度は、両
者の混合割合を変えることにより調節することができる
。また、触媒量は、少ないと得られる反応物の粘度が増
大し、未反応物が増えるし、多いと反応中にゲル化が起
こるため注意を要する。
次に、第2 N、2階として、先に得られたオルガノポ
リシロキサン誘導前駆体Caまたはcbとノボラック樹
脂を反応させる。この反応はオルガノポリシロキサン誘
導前駆体Caまたはcbとノボラック樹脂を加熱混合し
たのち、触媒として、たとえばトリフェニルホスフィン
を01〜1.0重量%添加し、所定時間反応させること
により行なわれる。ここで得られた反応生成物を各々オ
ルガノポリシロキサン誘導体CA、CBと称する。
この反応で用いるノボラック樹脂としては、たとえば、
フェノールノボラック樹脂、タレゾールノホラック樹脂
、下記式(V)で表わされるノボラック樹脂 ・・・・・・(v) (ただし、nは0以上の整数を示す、)およびビスフェ
ノールAやレゾルシンから合成される各種ノボラック樹
脂などが挙げられる。
前駆体Caまたはcbとノボラック樹脂の反応割合は前
駆体Caまたはcbのエポキシ基1当量に対し、ノボラ
ック樹脂のヒドロキシル基3当量以上がよく、さらに望
ましくは5当量以上である。3当量以下になるとゲル化
してしまうため好ましくない。
なお、本発明におけるオルガノポリシロキサン誘導前駆
体Ca、Cbおよび誘導体CA、CBとは、全て反応し
たものに限らず、未反応原料を一部含有しているものも
含まれている。
本発明のシリカDについては、特に限定されないが、好
ましくは、平均粒径30μm以下で、最大粒径1001
JI11以下のものであれば粉砕品でも、球状品でも、
両者の混合品でも特に制限はない、シリカの配合割合は
、樹脂組成物に対して65〜85重量%か好ましい、こ
の範囲より多くなると流動性が極端に低下し成形かでき
なくなD、また、この範囲より少なくなると熟原級率が
大きくなるなどの問題か起きるため好ましくない。
本発明においては、上記4成分のほかに必要に応じて硬
化促進剤、離型剤、カップリング剤、難燃剤および着色
剤などを用いることができる。
硬化促進剤としては、エポキシ樹脂をフェノールで硬化
させる際の反応触媒となるものはすべて用いることかで
き、たとえば、2−メチルイミダゾール、2−フェニル
イミダゾールなどのイミダゾール類、ベンジルジメチル
アミン、18−ジアザビシクロ(5,4,0>ウンデセ
ン−7(DBUと略す)などのアミン類およびトリフェ
ニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウム、テトラ
フェニルボレートなどの有機リン化合物などが好ましく
用いられる。
離型剤としては、天然ワックス類、合成ワックス類およ
び長鎖脂肪酸の金属塩類などを用いることができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記原料を用いて次の
ようにして製造することができる。
すなわち、エポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂
、オルガノポリシロキサン誘導体、シリカおよびその他
の添加剤とを適宜配合し、ミキサーなどで十分均一混合
したのち、熟ロールなどで溶融混練し、室温に戻し粉砕
し、刺止用材料とすることができる。この材料を用いて
半導体素子を封止した場合、得られる装置は、バリやオ
ルガノポリシロキサンのしみ出しがなく、優れた半田耐
熱性、低応力性を表わす、これはオルガノポリシロキサ
ンを予めエポキシ樹脂、次いでノボラック樹脂と反応さ
せたため、オルガノポリシロキサン自身が樹脂中に微分
散することによるものと考えられる。
〈実施例〉 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実験例1 (オルガノポリシロキサン誘導前駆体の合成)撹拌機、
温度計を備えたフラスコ中に、表1に示されるエポキシ
樹脂A1〜A3および両末端カルボン酸基を含有するオ
ルガノポリシロキサンV1〜V3を各々表2に示す割合
で加え、窒素気流下で加熱して140℃になった時、ト
リフェニルホスフィンを0,8g加えて30分間撹拌し
て反応生tc物を得た。
実験例2 (オルガノポリシロキサン誘導体の合flip)撹拌機
、温度計を備えたフラスコ中に、実験例1で得られた各
オルガノポリシロキサン誘導前駆体と、フェノールノボ
ラック樹脂を各々表3に示す割合で加え、窒素気流下で
加熱して140°Cになった時、トリフェニルホスフィ
ンを0.8g加えて60分間撹拌して反応生成物を得た
実験例1〜7 実験例2によって得られた5種類のオルガノポリシロキ
サン誘導体と他の原料を表4に示す割合で室温で混合し
たのち、90〜95℃で混練し冷却して粉砕し、目的と
する粉末状のエポキシ樹脂組成物を得た。
この樹脂組成物を用い、低圧トランスファー成形法によ
り175°CX4分の条件で成形して、曲げ試験片(5
″×1/2″’XI/4″)および模擬素子を封止した
4 4 p i nQ F Pを得たのち、175℃で
5時間ポストキュアした。ボストキュア後、次の物性測
定法によD、各組成物の物性を測定した。
半田耐熱性: 441)in QFP32個を、215
℃のVPS(ペーパー・フェーズ ・ソルダリング)で90秒、また 260℃のハンダ浴で10秒加熱 し、クラックの発生しないQFP の個数の割合を求めた。
曲げ弾性率:曲げ試験片を用いてASTM  D−79
0規格に従い測定した。
捺 印 性:得られたデバイスを後硬化したのち、フロ
ンで洗浄し乾燥した。そ れに線幅の異なるスタンフ゛を用い 熟硬化性インクを捺印して熱硬化 した、このものをフロン洗浄(3 分)した後、豚毛のブラシで10 回擦った。この作業を3回繰り返 し、インクの付着状態を顕微鏡で 観察した。
バ   リ:フラッシュ金型を用いて測定した。
オルガノポリシロキサンのしみ出し: 低圧トランスファー成形法により 175℃×4分の条件で円盤(4″ φXi/8″)を得、その表面を !!察した。
これらの結果を表5に示す。
なお、しみ出しについては○が良好、×がしみ出しが多
い、パリについては○が少ない、×が多い、捺印性は○
が良好、×が悪いとした。
〈発明の効果〉 本発明のエポキシ樹脂組成物は、半田耐熱性、オルガノ
ポリシロキサンのしみ出し抑制(成形性)、パリ、捺印
性および低応力性に優れておD、特に半導体封止用とし
て理想的な性能を有している。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)A、エポキシ樹脂、B、硬化剤、C、両末端にカ
    ルボン酸基を有するオルガノポリシロキサンと下記一般
    式( I )および/または (II)で表わされるエポキシ樹脂の反応物を、さらにノ
    ボラック樹脂と反応せしめてなるオルガノポリシロキサ
    ン誘導体およびD、シリカからなることを特徴とするエ
    ポキシ樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) (式中、R^1、R^2、R^3、R^4は水素原子ま
    たはメチル基を示し、nは0または1〜10の整数を示
    す。) ▲数式、化学式、表等があります▼……(II) (式中、nは0または1〜10の整数を示す。)(2)
    エポキシ樹脂Aが、下記一般式(III)で表わされる骨
    格を有するエポキシ樹脂を必須成分とすることを特徴と
    する請求項(1)に記載のエポキシ樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼……(III) (ただし、R^5〜R^1^2は水素原子、C_1〜C
    _4の低級アルキル基またはハロゲン原子を示す。)
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62254453A (ja) * 1986-04-25 1987-11-06 Nitto Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JPH01171253A (ja) * 1987-12-25 1989-07-06 Nitto Denko Corp 半導体装置
JPH0286148A (ja) * 1988-09-21 1990-03-27 Nitto Denko Corp 半導体装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62254453A (ja) * 1986-04-25 1987-11-06 Nitto Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JPH01171253A (ja) * 1987-12-25 1989-07-06 Nitto Denko Corp 半導体装置
JPH0286148A (ja) * 1988-09-21 1990-03-27 Nitto Denko Corp 半導体装置

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