JPH03257939A - レーザビーム制御装置 - Google Patents
レーザビーム制御装置Info
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- JPH03257939A JPH03257939A JP5770190A JP5770190A JPH03257939A JP H03257939 A JPH03257939 A JP H03257939A JP 5770190 A JP5770190 A JP 5770190A JP 5770190 A JP5770190 A JP 5770190A JP H03257939 A JPH03257939 A JP H03257939A
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Landscapes
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザビーム制御装置に係り、特にIC等の
電子部品のパッケージ捺印に好適なレーザビーム制御装
置に関する。
電子部品のパッケージ捺印に好適なレーザビーム制御装
置に関する。
従来、レーザビームを制御して文字等を描くレーザマー
カー装置には、マスク上に形成された文字・図形をレー
ザ光により投写して捺印するマスク方式と、レーザ光を
ビームポジショナ−により移動させながら文字・図形を
描いて捺印する彫刻方式があった。
カー装置には、マスク上に形成された文字・図形をレー
ザ光により投写して捺印するマスク方式と、レーザ光を
ビームポジショナ−により移動させながら文字・図形を
描いて捺印する彫刻方式があった。
しかしながら、前記マスク方式は同一パターンを多数捺
印する用途には適するが、個々の製品の製造日、製造番
号、製造工場等の異なるパターンを併せて捺印する場合
には不向きである。また、前記彫刻方式は、前記個別に
異なるパターンを捺印する場合には適するものの、捺印
速度が遅いという欠点があった。
印する用途には適するが、個々の製品の製造日、製造番
号、製造工場等の異なるパターンを併せて捺印する場合
には不向きである。また、前記彫刻方式は、前記個別に
異なるパターンを捺印する場合には適するものの、捺印
速度が遅いという欠点があった。
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、製品毎に異なる捺印を、高速度で行えるレー
ザビーム制御装置を提供することを目的とする。
のであり、製品毎に異なる捺印を、高速度で行えるレー
ザビーム制御装置を提供することを目的とする。
この目的を達成するために、本発明のレーザビーム制御
装置は、レーザビームを出射するレーザ光源と、このレ
ーザ光源から出射されるレーザビームを縦長レーザビー
ムに変換する第1光学系と、この第1光学系が発する前
記縦長レーザビームを反斜面に受けて振分ける反射面角
度切替え可能な複数の反射鏡を備えたレーザビーム振分
体と、この複数の反射鏡の反射面角度を切り替える角度
切替え手段と、前記複数の反射鏡により特定の角度に反
射された前記縦長レーザビームを集光する第2光学系と
、前記角度切替え手段を制御して前記複数の反射鏡の個
々の反射面の角度を切替えることにより、前記縦長レー
ザビームを前記第2光学系を通過するレーザビーム部分
と、その他のレーザビーム部分とに振分ける制御部と、
を具備した。
装置は、レーザビームを出射するレーザ光源と、このレ
ーザ光源から出射されるレーザビームを縦長レーザビー
ムに変換する第1光学系と、この第1光学系が発する前
記縦長レーザビームを反斜面に受けて振分ける反射面角
度切替え可能な複数の反射鏡を備えたレーザビーム振分
体と、この複数の反射鏡の反射面角度を切り替える角度
切替え手段と、前記複数の反射鏡により特定の角度に反
射された前記縦長レーザビームを集光する第2光学系と
、前記角度切替え手段を制御して前記複数の反射鏡の個
々の反射面の角度を切替えることにより、前記縦長レー
ザビームを前記第2光学系を通過するレーザビーム部分
と、その他のレーザビーム部分とに振分ける制御部と、
を具備した。
レーザ光源から出射されたレーザ光は、第1光学系によ
り縦長レーザビームに変換される。この縦長レーザビー
ムは、角度切替え手段により角度制御される複数の反射
鏡により反射され、第2光学系に到達する。前記角度制
御される反射鏡により方向制御された縦長レーザビーム
は、第2光学系を通過する部分と、その他の部分とに振
分けられる。前記第2光学系を通過したレーザビームは
、縦長状態を維持したまま集光され、縦長のレーザビー
ムの集光点手前におかれた被マーキング物に照射される
。この照射により被マーキング物に文字等が捺印される
。また、前記その他のレーザビーム部分は、捺印には直
接的に関与しないので、意図した通りの文字等を捺印で
きる。
り縦長レーザビームに変換される。この縦長レーザビー
ムは、角度切替え手段により角度制御される複数の反射
鏡により反射され、第2光学系に到達する。前記角度制
御される反射鏡により方向制御された縦長レーザビーム
は、第2光学系を通過する部分と、その他の部分とに振
分けられる。前記第2光学系を通過したレーザビームは
、縦長状態を維持したまま集光され、縦長のレーザビー
ムの集光点手前におかれた被マーキング物に照射される
。この照射により被マーキング物に文字等が捺印される
。また、前記その他のレーザビーム部分は、捺印には直
接的に関与しないので、意図した通りの文字等を捺印で
きる。
以下、本発明を具体化した実施例を図面を参照して説明
する。
する。
実施例
第1図に本発明の実施例の全体概略図を示し、第2図に
その光学系ブロック図を示す。
その光学系ブロック図を示す。
第1図および第2図に示すように、炭酸ガスレーザ、Y
AGレーザ等からなるパルスレーザ光源1の出射端に対
向して集光レンズ2が配設され、集光レンズ2の出射側
には大口径の光ファイバ3の入射端が配設されている。
AGレーザ等からなるパルスレーザ光源1の出射端に対
向して集光レンズ2が配設され、集光レンズ2の出射側
には大口径の光ファイバ3の入射端が配設されている。
光ファイバ3の出射端は印字ヘッド50の機枠(図示さ
れず)に固定されている。前記光ファイバ3の出射端に
はコリメートレンズ4が配設され、更にレーザビームを
縦長に形成するコンデンサーレンズ系5が配設されてい
る。コンデンサーレンズ系5の前方には、レーザビーム
の縦横を規制するアパーチャ6が配設されている。なお
、第2図においては、アパーチャ6を省略している。ア
パーチャ6の前方には、複数分割反射鏡7が配設され、
この反射鏡7の背面側には反射鏡の角度を変更駆動する
反射鏡駆動系8が配設されている。
れず)に固定されている。前記光ファイバ3の出射端に
はコリメートレンズ4が配設され、更にレーザビームを
縦長に形成するコンデンサーレンズ系5が配設されてい
る。コンデンサーレンズ系5の前方には、レーザビーム
の縦横を規制するアパーチャ6が配設されている。なお
、第2図においては、アパーチャ6を省略している。ア
パーチャ6の前方には、複数分割反射鏡7が配設され、
この反射鏡7の背面側には反射鏡の角度を変更駆動する
反射鏡駆動系8が配設されている。
ここで、第3図に示す複数分割反射鏡7とその駆動系8
の要部拡大図により、これらの詳細を説明する。複数分
割反射鏡7は、全体としては長方形をしていて、固定部
71と可動部72とからなる。固定部71の右側面に形
成された可動部72は、ピアノ鍵盤状配列の複数の個別
反射鏡7a、7b〜7nよりなり、例えば、鉄板等の一
枚板からワイヤー放電加工により形成される。個別反射
鏡7 a −、7b〜7nのそれぞれの先端部からは掛
止部7al〜が延びだし、これら掛止部7al〜は、平
生は角柱状の突き当てストッパー73により当接され、
個別反射鏡7a、7b〜7nの各反射面は一定方向を向
いている。個別反射鏡7a。
の要部拡大図により、これらの詳細を説明する。複数分
割反射鏡7は、全体としては長方形をしていて、固定部
71と可動部72とからなる。固定部71の右側面に形
成された可動部72は、ピアノ鍵盤状配列の複数の個別
反射鏡7a、7b〜7nよりなり、例えば、鉄板等の一
枚板からワイヤー放電加工により形成される。個別反射
鏡7 a −、7b〜7nのそれぞれの先端部からは掛
止部7al〜が延びだし、これら掛止部7al〜は、平
生は角柱状の突き当てストッパー73により当接され、
個別反射鏡7a、7b〜7nの各反射面は一定方向を向
いている。個別反射鏡7a。
7b〜7nの背後にはマグネット式の駆動系8が配設さ
れている。駆動系8の個別駆動素子8 a s8b〜8
nが、個別反射鏡7a、7b 〜7n毎にに対向配置さ
れている。例えば、個別駆動素子8aに電流を流すと、
対応した個別反射鏡7aが吸引され、直進してきた実線
で示すレーザビームLB が、点線で示すレーザビーム
L B tの如く微小角変更されるようになっている。
れている。駆動系8の個別駆動素子8 a s8b〜8
nが、個別反射鏡7a、7b 〜7n毎にに対向配置さ
れている。例えば、個別駆動素子8aに電流を流すと、
対応した個別反射鏡7aが吸引され、直進してきた実線
で示すレーザビームLB が、点線で示すレーザビーム
L B tの如く微小角変更されるようになっている。
また、平生位置にある個別反射鏡7nで反射されたレー
ザビームL B 2は、微小角変更されずに直進する。
ザビームL B 2は、微小角変更されずに直進する。
以上の手段により、角度変更されたレーザビームと、角
度変更されないレーザビームとの2種類のレーザビーム
に分割される。
度変更されないレーザビームとの2種類のレーザビーム
に分割される。
第1図および第2図に示すように、前記複数分割反射鏡
7に対向して反射鏡9が配設され、この反射鏡9で反射
されたレーザビームは縦長のスリット孔が形成されたス
リット11に向かう。スリット11の下面側には対物レ
ンズ12が配設されている。対物レンズ12の下方には
ICパッケージ等の被マーキング物13が矢印X方向に
移動可能に配設されている。
7に対向して反射鏡9が配設され、この反射鏡9で反射
されたレーザビームは縦長のスリット孔が形成されたス
リット11に向かう。スリット11の下面側には対物レ
ンズ12が配設されている。対物レンズ12の下方には
ICパッケージ等の被マーキング物13が矢印X方向に
移動可能に配設されている。
第5図に本実施例の制御系ブロック図を示す。
第5図に示すように、マイクロコンピュータ等からなる
制御部21には、各種データ入力をする入力部22と、
装置全体の統括プログラムが格納されたROM23と、
前記各種データ等を格納するRAM24と、被マーキン
グ物13を所定速度で移動する移動手段25と、駆動系
8を角度駆動するマグネット駆動部26が接続されてい
る。
制御部21には、各種データ入力をする入力部22と、
装置全体の統括プログラムが格納されたROM23と、
前記各種データ等を格納するRAM24と、被マーキン
グ物13を所定速度で移動する移動手段25と、駆動系
8を角度駆動するマグネット駆動部26が接続されてい
る。
先ず、光学系の動作を説明する。
第1図および第2図に示すように、パルスレーザ光源1
から出射された円形パターンのレーザビームは、集光レ
ンズ2で集光され、光ファイバ3およびコリメートレン
ズ4を介してコンデンサーレンズ系5に伝達される。コ
ンデンサーレンズ系5で強度−様な縦長レーザビームに
変換され、更に、アパーチャ6により外形規制される。
から出射された円形パターンのレーザビームは、集光レ
ンズ2で集光され、光ファイバ3およびコリメートレン
ズ4を介してコンデンサーレンズ系5に伝達される。コ
ンデンサーレンズ系5で強度−様な縦長レーザビームに
変換され、更に、アパーチャ6により外形規制される。
この外形規制された縦長レーザビームLBは、複数分割
反射鏡7で分割反射され、さらに反射鏡9て反射され向
きが変えられ、スリット11に向けられる。
反射鏡7で分割反射され、さらに反射鏡9て反射され向
きが変えられ、スリット11に向けられる。
縦長レーザビームLBは、前述のように、複数分割反射
鏡7で反射される際に、角度変換されたし一ザビームと
、角度変換されないレーザビームとに分けられる。この
2“種類のレーザビームは、スリット11に向けられる
ことにより、スリットを通過する部分(通過レーザビー
ムという。)と、スリットを通過しない部分(遮断レー
ザビームという。)とに分けられる。即ち、複数分割反
射鏡7および駆動系8によって縦長レーザビームが偏向
されると、第4図に示すように、遮断レーザビームLB
Sはスリット11の遮断部により遮られ、被マーキング
物13上に達しない。逆に、通過レーザビームLBTは
スリット11のスリット孔を通過し、被マーキング物1
3上に到達する。通過レーザビームLBTは対物レンズ
12で集光され、集光点手前に配置された被マーキング
物13上にライン状のビームとして照射される。ここに
、レーザビームの集光点Pを被マーキング物13の下方
にした理由は、集光点Pのエネルギーが強く、被マーキ
ング物13を破壊するおそれがあるからである。被マー
キング物13の表面にレーザビームで蒸発される樹脂を
塗布しておけば、レーザビーム照射された部分が蒸発し
、レーザビームが照射されない部分が残り、結果として
捺印が完成する。
鏡7で反射される際に、角度変換されたし一ザビームと
、角度変換されないレーザビームとに分けられる。この
2“種類のレーザビームは、スリット11に向けられる
ことにより、スリットを通過する部分(通過レーザビー
ムという。)と、スリットを通過しない部分(遮断レー
ザビームという。)とに分けられる。即ち、複数分割反
射鏡7および駆動系8によって縦長レーザビームが偏向
されると、第4図に示すように、遮断レーザビームLB
Sはスリット11の遮断部により遮られ、被マーキング
物13上に達しない。逆に、通過レーザビームLBTは
スリット11のスリット孔を通過し、被マーキング物1
3上に到達する。通過レーザビームLBTは対物レンズ
12で集光され、集光点手前に配置された被マーキング
物13上にライン状のビームとして照射される。ここに
、レーザビームの集光点Pを被マーキング物13の下方
にした理由は、集光点Pのエネルギーが強く、被マーキ
ング物13を破壊するおそれがあるからである。被マー
キング物13の表面にレーザビームで蒸発される樹脂を
塗布しておけば、レーザビーム照射された部分が蒸発し
、レーザビームが照射されない部分が残り、結果として
捺印が完成する。
次に、制御系の動作を、第5図に示す制御系ブロック図
および第6図に示すフローチャートに基づいて説明する
。
および第6図に示すフローチャートに基づいて説明する
。
先ず、入力部22から捺印すべき文字(例えば、英文小
文字b)、印字位置等を入力する(ステップSL)。こ
の入力に基づき制御部21はラインパターン、ライン位
置のデータを生成しRAM24に格納する(ステップS
2)。かかる制御により、印字スタートが可能状態とな
る。
文字b)、印字位置等を入力する(ステップSL)。こ
の入力に基づき制御部21はラインパターン、ライン位
置のデータを生成しRAM24に格納する(ステップS
2)。かかる制御により、印字スタートが可能状態とな
る。
入力部22から印字スタートが入力されると(ステップ
S3)、次の2種の動作がされる。第1動作は、RAM
24から第1ラインパターンデータ(第7図(A)参照
)が制御部21に転送され(ステップS4)、当該パタ
ーンデータに対応した駆動系8の個別駆動素子8a〜8
nを吸引動作するべくマグネット駆動部26が駆動され
る(ステップ85) その結果、分割反射鏡[L P
S (Line Pattern Svitcbin
g)光学系コアがスタンバイ状態にセットされる(ステ
ップS6)。第2動作は、RAM24から印字スタート
の第1ラインデータの位置データが転送され(ステップ
S7)、被マーキング物13上のどの位置にマーキング
(捺印)するかが決定される。
S3)、次の2種の動作がされる。第1動作は、RAM
24から第1ラインパターンデータ(第7図(A)参照
)が制御部21に転送され(ステップS4)、当該パタ
ーンデータに対応した駆動系8の個別駆動素子8a〜8
nを吸引動作するべくマグネット駆動部26が駆動され
る(ステップ85) その結果、分割反射鏡[L P
S (Line Pattern Svitcbin
g)光学系コアがスタンバイ状態にセットされる(ステ
ップS6)。第2動作は、RAM24から印字スタート
の第1ラインデータの位置データが転送され(ステップ
S7)、被マーキング物13上のどの位置にマーキング
(捺印)するかが決定される。
この決定により、被マーキング物移動手段25が動作し
、被マーキング物13を所定位置に移動する(ステップ
S8、S9)。
、被マーキング物13を所定位置に移動する(ステップ
S8、S9)。
前記ステップS6およびステップ9の両方の条件が整う
と(ステップ510)、制御部21から1パルス発振命
令が発せられ(ステップ511)、レーザ光源1からレ
ーザビームが発振される(ステップS12.513)。
と(ステップ510)、制御部21から1パルス発振命
令が発せられ(ステップ511)、レーザ光源1からレ
ーザビームが発振される(ステップS12.513)。
以上の動作により、第7図(A)に示すように、第1ラ
インの捺印が終了する。
インの捺印が終了する。
次いで、符号Aに示す動作が繰り返され(ステップ51
4)、第2ラインパターン・第2位置データが転送され
、更に符号Bの動作の繰り返しにより、第7図(B)に
示すように、第2ラインの捺印が終了する。以下、前述
と同様の繰り返し処理がなされ(ステップ516)、第
7図(C)、(D)に示す捺印が行われ、英文小文字す
の捺印が終了する(ステップ517)。
4)、第2ラインパターン・第2位置データが転送され
、更に符号Bの動作の繰り返しにより、第7図(B)に
示すように、第2ラインの捺印が終了する。以下、前述
と同様の繰り返し処理がなされ(ステップ516)、第
7図(C)、(D)に示す捺印が行われ、英文小文字す
の捺印が終了する(ステップ517)。
なお、本実施例では、駆動系としてマグネットを用いた
が、他の手段としては、ワイヤートッドプリンターの駆
動系に用いられる積層圧電方式にしてもよい。
が、他の手段としては、ワイヤートッドプリンターの駆
動系に用いられる積層圧電方式にしてもよい。
変形例
第8図に変形例を示す。この変形例と実施例との相違点
は、光フアイバ3等を除去し、装置を小形化した点であ
る。
は、光フアイバ3等を除去し、装置を小形化した点であ
る。
なお、前記実施例および変形例では、縦長レーザビーム
をスリットを通過させているが、複数分割反射鏡7の角
度制御をやや大きくすれば、前記スリットを省略するこ
とも可能である。
をスリットを通過させているが、複数分割反射鏡7の角
度制御をやや大きくすれば、前記スリットを省略するこ
とも可能である。
以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、任意の捺印内容を設定でき、かつ、縦長のラインを単
位として捺印できるので、任意の文字・図形等を高速で
捺印できる。
、任意の捺印内容を設定でき、かつ、縦長のラインを単
位として捺印できるので、任意の文字・図形等を高速で
捺印できる。
第1図は本発明の実施例の全体概略図、第2図は上記実
施例の光学系ブロック図、第3図は上記実施例の要部拡
大図、 第4図は上記実施例のレーザビームの通過・遮断を示す
説明図、 第5図は上記実施例の制御系ブロック図、第6図は上記
実施例のフローチャート、第7図は上記実施例の捺印過
程を示す図、第8図は上記実施例の変形例の光学系ブロ
ック図である。 1・・・パルスレーザ光源(レーザ光源)3・・・大口
径の光ファイバー 5・・・コンデンサーレンズ系(第1光学系)7・・・
複数分割反射鏡(レーザビーム振分体)8・・・駆動系
(角度切替え手段) 9・・・反射鏡 11・・・スリット 12・・・対物レンズ(第2光学系) 13・・・被マーキング物 21・・・制御部 LBT・・・通過レーザビーム LBS・・・遮断レーザビーム
施例の光学系ブロック図、第3図は上記実施例の要部拡
大図、 第4図は上記実施例のレーザビームの通過・遮断を示す
説明図、 第5図は上記実施例の制御系ブロック図、第6図は上記
実施例のフローチャート、第7図は上記実施例の捺印過
程を示す図、第8図は上記実施例の変形例の光学系ブロ
ック図である。 1・・・パルスレーザ光源(レーザ光源)3・・・大口
径の光ファイバー 5・・・コンデンサーレンズ系(第1光学系)7・・・
複数分割反射鏡(レーザビーム振分体)8・・・駆動系
(角度切替え手段) 9・・・反射鏡 11・・・スリット 12・・・対物レンズ(第2光学系) 13・・・被マーキング物 21・・・制御部 LBT・・・通過レーザビーム LBS・・・遮断レーザビーム
Claims (2)
- 1.レーザビームを出射するレーザ光源と、このレーザ
光源から出射されるレーザビームを縦長レーザビームに
変換する第1光学系と、この第1光学系が発する前記縦
長レーザビームを反斜面に受けて振分ける反射面角度切
替え可能な複数の反射鏡を備えたレーザビーム振分体と
、この複数の反射鏡の反射面角度を切り替える角度切替
え手段と、 前記複数の反射鏡により特定の角度に反射された前記縦
長レーザビームを集光する第2光学系と、前記角度切替
え手段を制御して前記複数の反射鏡の個々の反射面の角
度を切替えることにより、前記縦長レーザビームを前記
第2光学系を通過するレーザビーム部分と、その他のレ
ーザビーム部分とに振分ける制御部と、 を具備したことを特徴とするレーザビーム制御装置。 - 2.前記制御部は、文字パターンを生成するように前記
角度切替え手段を制御することを特徴とする請求項1記
載のレーザビーム制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5770190A JPH03257939A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | レーザビーム制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5770190A JPH03257939A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | レーザビーム制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03257939A true JPH03257939A (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=13063242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5770190A Pending JPH03257939A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | レーザビーム制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03257939A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6657157B1 (en) * | 2000-06-07 | 2003-12-02 | Westar Photonics, Inc. | Method, system and product for producing a reflective mask mirror and for ablating an object using said reflective mask mirror |
| US6660964B1 (en) * | 2000-09-22 | 2003-12-09 | David Benderly | Optical modification of laser beam cross section in object marking systems |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP5770190A patent/JPH03257939A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6657157B1 (en) * | 2000-06-07 | 2003-12-02 | Westar Photonics, Inc. | Method, system and product for producing a reflective mask mirror and for ablating an object using said reflective mask mirror |
| US6660964B1 (en) * | 2000-09-22 | 2003-12-09 | David Benderly | Optical modification of laser beam cross section in object marking systems |
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