JPH032604A - 徴小位置決め装置 - Google Patents
徴小位置決め装置Info
- Publication number
- JPH032604A JPH032604A JP13574889A JP13574889A JPH032604A JP H032604 A JPH032604 A JP H032604A JP 13574889 A JP13574889 A JP 13574889A JP 13574889 A JP13574889 A JP 13574889A JP H032604 A JPH032604 A JP H032604A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable member
- sample
- reference surface
- positioning device
- micro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
- B23Q1/50—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/52—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism a single rotating pair
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、走査型トンネル顕微鏡などの各種精密機器に
使用される微小位置決め装置に関する。
使用される微小位置決め装置に関する。
［従来の技術］
近年、原子、分子オーダーの分解能を有する走査型トン
ネル顕微鏡が開発され、表面構造解析、表面粗さ計測な
どに応用されている。
ネル顕微鏡が開発され、表面構造解析、表面粗さ計測な
どに応用されている。
この走査トンネル顕微鏡は、導電性試料と導電性探針の
間に電圧を印加し、ｌｎｍ程度の距離まで接近させると
トンネル電流が流れ、その距離によりトンネル電流が指
数関数的に変化することを利用したものである。その探
針として、先端を電解研摩等で非常に先鋭に仕上げたも
のを用いて導電性物質からなる試料表面との距離を一定
に保ち２次元的に走査すると表面の原子配列または、凹
凸の形状によりトンネル電流が変化し、表面像を得るこ
とができる（ｒ固体物理Ｊ Ｖｏ ρ２２、Ｎｏ、３
１９８７ ＰＰＩ ７６−１８６）。
間に電圧を印加し、ｌｎｍ程度の距離まで接近させると
トンネル電流が流れ、その距離によりトンネル電流が指
数関数的に変化することを利用したものである。その探
針として、先端を電解研摩等で非常に先鋭に仕上げたも
のを用いて導電性物質からなる試料表面との距離を一定
に保ち２次元的に走査すると表面の原子配列または、凹
凸の形状によりトンネル電流が変化し、表面像を得るこ
とができる（ｒ固体物理Ｊ Ｖｏ ρ２２、Ｎｏ、３
１９８７ ＰＰＩ ７６−１８６）。
従来、走査型トンネル顕微鏡（以下、ＳＴＭと略す）を
初めとする、ナノメートル（ｎｍ）オーダーの微小位置
決めを必要とする装置には、圧電素子をアクチュエータ
ーとし、試料と探針間の距離を数ｎｍまで接近させる構
成をとるものが数多く用いられている。イ列えば、アイ
・ビー・エムジャーナル リサーチ デベロプメント（
Ｖｏｕ３０ Ｎｏ、４のベージ３５６）には、Ｘ、Ｙ
Ｚ独立の圧電素子だけで構成されたトライボ・νＦ型ア
クチュエーターによる微小位置決め機構を提案している
。
初めとする、ナノメートル（ｎｍ）オーダーの微小位置
決めを必要とする装置には、圧電素子をアクチュエータ
ーとし、試料と探針間の距離を数ｎｍまで接近させる構
成をとるものが数多く用いられている。イ列えば、アイ
・ビー・エムジャーナル リサーチ デベロプメント（
Ｖｏｕ３０ Ｎｏ、４のベージ３５６）には、Ｘ、Ｙ
Ｚ独立の圧電素子だけで構成されたトライボ・νＦ型ア
クチュエーターによる微小位置決め機構を提案している
。
又、圧電素子以外の装置としては、特開昭６３−１９７
４５号公報に開示されているように、板ばねをマイクロ
メータで押す機構をもつものがある。その構成を第５図
に記載する。測定すべきサンプル３３はサンプルホルダ
３２に取付けられる。サンプルホルダ３２は部材２３お
よび板はね２０を介して基板３７上に設けられる。サン
プル３３の下面の基板３７上には支柱３６を介して探針
を構成するトンネルチップ３４が設けられる。
４５号公報に開示されているように、板ばねをマイクロ
メータで押す機構をもつものがある。その構成を第５図
に記載する。測定すべきサンプル３３はサンプルホルダ
３２に取付けられる。サンプルホルダ３２は部材２３お
よび板はね２０を介して基板３７上に設けられる。サン
プル３３の下面の基板３７上には支柱３６を介して探針
を構成するトンネルチップ３４が設けられる。
サンプル３３はマイクロメータ２８によりトンネルチッ
プ３４に対し微動駆動され位置決めされる。
プ３４に対し微動駆動され位置決めされる。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上記従来の圧電素子をアクチュエーター
とする微小位置決めでは、動作性能は圧電素子の性能に
よるところが大きく、変位量（可動範囲）が数マイクロ
であり、圧電素子を積層したものでも１０マイクロ程度
が限界である。又、従来のマイクロメータと板ばねを用
いた微小位置決めにおいては、可動範囲は、マイクロか
らミリオーダーまで大きくとれるが、板ばねは弾性変形
を利用したものであり剛性が小さく、振動の影響を受け
やすいためＳＴＭ等に用いるためには好適なものとは言
えない。ＳＴＭにおいては、試料と探針間の距離は数ナ
ノメートルまで接近していて、外部振動の影響が、装置
全体に大きく関与する。従ってこのような振動は極力避
けなければならない。外部振動に強い装置を求める場合
、ロックを行なうことが考えられるが装置の簡略化や繰
作性向上の観点からは、複雑なロック墨構なしでかつ外
部振動に強い機構が望まれる。
とする微小位置決めでは、動作性能は圧電素子の性能に
よるところが大きく、変位量（可動範囲）が数マイクロ
であり、圧電素子を積層したものでも１０マイクロ程度
が限界である。又、従来のマイクロメータと板ばねを用
いた微小位置決めにおいては、可動範囲は、マイクロか
らミリオーダーまで大きくとれるが、板ばねは弾性変形
を利用したものであり剛性が小さく、振動の影響を受け
やすいためＳＴＭ等に用いるためには好適なものとは言
えない。ＳＴＭにおいては、試料と探針間の距離は数ナ
ノメートルまで接近していて、外部振動の影響が、装置
全体に大きく関与する。従ってこのような振動は極力避
けなければならない。外部振動に強い装置を求める場合
、ロックを行なうことが考えられるが装置の簡略化や繰
作性向上の観点からは、複雑なロック墨構なしでかつ外
部振動に強い機構が望まれる。
［課題を解決するための手段および作用］本発明では、
上記問題点を解決するために以下の技術的手段を設けた
。
上記問題点を解決するために以下の技術的手段を設けた
。
本発明の位置決め手段は、摺動面を有し、かつ試料が固
定可能な可動台を固定台基準面に抑圧固定させ、可動台
を基準面に沿って回転移動させる方式である。即ち本発
明は、可動台を固定台に押圧させることにより、可動台
の剛性を高め、外部振動に強い微小位置決め装置の提供
が可能である。また、可動台を移動させる手段に限定が
ないので、目的に応じた移動手段を設けることが可能と
なり、装置の幅広い通用が行なわれる。
定可能な可動台を固定台基準面に抑圧固定させ、可動台
を基準面に沿って回転移動させる方式である。即ち本発
明は、可動台を固定台に押圧させることにより、可動台
の剛性を高め、外部振動に強い微小位置決め装置の提供
が可能である。また、可動台を移動させる手段に限定が
ないので、目的に応じた移動手段を設けることが可能と
なり、装置の幅広い通用が行なわれる。
［実施例］
以下、図面を用いて本発明による、微小位置決め装置の
構成及びその動作機構について詳細に説明する。
構成及びその動作機構について詳細に説明する。
第１図（ａ）及び（ｂ）は、各々本発明に係る微小位置
決め装置の全体斜視図及び分解斜視図を表わす図面であ
る。（ａ）図において、１は位置決めすべき対象物又は
試料台となる可動ブロック、２及び３は可動ブロックの
フレーム、４は可動ブロックを動かすためのマイクロメ
ータヘッド、１４は試料、１５はＳＴＭＴＭ１１６は探
針１５をＸ、Ｙ、Ｚ方向に変位させるためのチューブ型
圧電素子である。（ｂ）図において、５は可動ブロック
１を支持しかつ軸受となる支持回転軸、６及び７は軸受
、８は軸受７の軸受支持棒、９及び１０は可動ブロック
１を押圧するためのねじ、１１及び１２は可動ブロック
１を押圧するためのはね、１３は可動ブロック１とフレ
ーム２が接触している摺動面である。
決め装置の全体斜視図及び分解斜視図を表わす図面であ
る。（ａ）図において、１は位置決めすべき対象物又は
試料台となる可動ブロック、２及び３は可動ブロックの
フレーム、４は可動ブロックを動かすためのマイクロメ
ータヘッド、１４は試料、１５はＳＴＭＴＭ１１６は探
針１５をＸ、Ｙ、Ｚ方向に変位させるためのチューブ型
圧電素子である。（ｂ）図において、５は可動ブロック
１を支持しかつ軸受となる支持回転軸、６及び７は軸受
、８は軸受７の軸受支持棒、９及び１０は可動ブロック
１を押圧するためのねじ、１１及び１２は可動ブロック
１を押圧するためのはね、１３は可動ブロック１とフレ
ーム２が接触している摺動面である。
本実施例は、ＳＴＭの試料と探針間距離を接近させるた
めの、くわしくは、試料と探針間にトンネル電流が流れ
る距１１ｉｆｆ（１ナノメートル程度）まで接近させる
ための微小位置決め装置である。従って、可動ブロック
ｌ上には、試料１４が搭載され、その上部には、探針１
５とそれを支持し、走査するためのチューブ型圧電素子
１６が設置されている。探針１５と試料１４間距離を、
あらかじめ、数１００ナノメートルの距離まで光学顕微
鏡等で観察しながら接近させである。
めの、くわしくは、試料と探針間にトンネル電流が流れ
る距１１ｉｆｆ（１ナノメートル程度）まで接近させる
ための微小位置決め装置である。従って、可動ブロック
ｌ上には、試料１４が搭載され、その上部には、探針１
５とそれを支持し、走査するためのチューブ型圧電素子
１６が設置されている。探針１５と試料１４間距離を、
あらかじめ、数１００ナノメートルの距離まで光学顕微
鏡等で観察しながら接近させである。
第１図（ａ）のマイクロメータヘッド４を回転させると
、回転軸５を中心として可動ブロック１は、上下動の変
位力を受ける。ここで、可動ブロック１は、厳密には回
転軸５を中心とする円弧運動を描くが、本実施例の目的
に関しては、１００ナノメートル以下の移動距離である
ため可動ブロック１は、上下方向の直線的運動を行なう
と考えることができる。
、回転軸５を中心として可動ブロック１は、上下動の変
位力を受ける。ここで、可動ブロック１は、厳密には回
転軸５を中心とする円弧運動を描くが、本実施例の目的
に関しては、１００ナノメートル以下の移動距離である
ため可動ブロック１は、上下方向の直線的運動を行なう
と考えることができる。
第２図および第３図は、第１図（ａ）のＡ−Ａ断面図及
びＢ−Ｂ断面図であり、これを参照して、さらに、詳細
に本発明の微動機構について説明を行なう。
びＢ−Ｂ断面図であり、これを参照して、さらに、詳細
に本発明の微動機構について説明を行なう。
第２図において可動ブロック１は、回転軸５によって支
持されている。回転軸５は、フレーム２に対し、ねじ１
７により、固定されている。可動ブロック１と回転軸５
は、軸受６によりガイドされ、回転軸５と可動ブロック
１間の摩擦を減少させかつ、可動ブロック１の回転をス
ムーズに行なわせるための構成をとっている。また、可
動ブロック１とフレーム２の接触力は軸受６を、押圧板
１８で押す力の強弱により調整自在である。可動ブロッ
ク１とフレーム２の摺動面１３は、第１図（ｂ）に示す
ように、可動ブロック１の回転＠ｂ５まわつとマイクロ
メータ４で押圧する位置に設けられており、他の部分は
、フレーム２と接触しないように逃げている。なお摺動
面の形状は、これに限定するものではない。これは、摩
擦を減らし回転をスムーズに行なわせるための手段であ
る。
持されている。回転軸５は、フレーム２に対し、ねじ１
７により、固定されている。可動ブロック１と回転軸５
は、軸受６によりガイドされ、回転軸５と可動ブロック
１間の摩擦を減少させかつ、可動ブロック１の回転をス
ムーズに行なわせるための構成をとっている。また、可
動ブロック１とフレーム２の接触力は軸受６を、押圧板
１８で押す力の強弱により調整自在である。可動ブロッ
ク１とフレーム２の摺動面１３は、第１図（ｂ）に示す
ように、可動ブロック１の回転＠ｂ５まわつとマイクロ
メータ４で押圧する位置に設けられており、他の部分は
、フレーム２と接触しないように逃げている。なお摺動
面の形状は、これに限定するものではない。これは、摩
擦を減らし回転をスムーズに行なわせるための手段であ
る。
尚、回転軸５まわり以外の摺動面と、対抗した位置に抑
圧はね１２が設・けられている。押圧力は、ねし９によ
り調整自在である。軸受７は、可動ブロック１の運動方
向を拘束しないように設けられたものであり、なんら軸
受に限定するものではない。例えば、金属ボールでもよ
い。
圧はね１２が設・けられている。押圧力は、ねし９によ
り調整自在である。軸受７は、可動ブロック１の運動方
向を拘束しないように設けられたものであり、なんら軸
受に限定するものではない。例えば、金属ボールでもよ
い。
第３図において、マイクロメータヘッド４と可動ブロッ
ク１をはさんだ対向位置に押圧ばね１１と押圧調整ねじ
１０が設けられている。ばね１１の、ばね弾性力は、摺
動面面積と、接触力から計算される可動ブロックｌとフ
レーム２間の摩擦力よりも犬ぎく設定される。
ク１をはさんだ対向位置に押圧ばね１１と押圧調整ねじ
１０が設けられている。ばね１１の、ばね弾性力は、摺
動面面積と、接触力から計算される可動ブロックｌとフ
レーム２間の摩擦力よりも犬ぎく設定される。
回転＠５とマイクロメータヘッド４による押圧位置まで
の距１１ｔＩｔと、可動ブロック１の中心から回転軸５
までの距１ｌｉｌ！Ｓの比により、縮小又は拡大率の割
合が、自由に設定できる。Ｉ＞Ｓならば、縮小機構とな
り、ｕ＜Ｓならば、拡大機構となる。ただし、回転軸５
の半径は！、Ｓのいずれよりも小さくなければならない
。本実施例では、縮小機構の構成をとっている。以上の
機構をもつ微小位置決め装置をＳＴＭに用いたところ、
試料と探針間距離をトンネル電流が流れる距離まで接近
し、その位置で保持できた。また、ＳＴＭの位置決めに
おいては、試料１４／探針１５間距離が数ナノメートル
と接近するため、初期接近時及び機械的援和が終了する
まで、あるいは探針で試料上を２次元走査する際には、
試料１４と探針１５間距離を一定に保つための電気的フ
ィードバックを与えることが必要である。第４図に、本
実施例の位置決め装置に電気的ブロック図を付加したも
のを示す。同図において、４１は試料１４にバイアス電
圧を印加するためのバイアス電圧、４２は試料１４と探
針１５が数ナノメートルの距離まで近づいた時に流れる
トンネル電流を検出するためのトンネル電流検出回路、
４３はトンネル電流検出回路４２からの情報を元にして
試料１４と探針１５間の距離が所望即動になるように圧
電素子１６にフィードバックを与えるための試料／探針
間距離制御回路である。このように、電気的フィードバ
ックを与えることにより、初期接近時における試料と探
針の接触を回避し、機械的緩和によるドリフトや２次元
操作を行なった場合の試料と探針との接触も回避で計る
。又、探針で試料上を２次元走査する時、圧電素子に制
御回路４２が与える制御信号を不図示のモニタ手段でモ
ニタする事により試料１４の２次元像が得られ凹凸の検
出等かできる。位置決めの為のマイクロメータヘッドの
回転は、手動でも、また、ステッピングモーター等を用
いて機械的に回転力を与えることも可能である。
の距１１ｔＩｔと、可動ブロック１の中心から回転軸５
までの距１ｌｉｌ！Ｓの比により、縮小又は拡大率の割
合が、自由に設定できる。Ｉ＞Ｓならば、縮小機構とな
り、ｕ＜Ｓならば、拡大機構となる。ただし、回転軸５
の半径は！、Ｓのいずれよりも小さくなければならない
。本実施例では、縮小機構の構成をとっている。以上の
機構をもつ微小位置決め装置をＳＴＭに用いたところ、
試料と探針間距離をトンネル電流が流れる距離まで接近
し、その位置で保持できた。また、ＳＴＭの位置決めに
おいては、試料１４／探針１５間距離が数ナノメートル
と接近するため、初期接近時及び機械的援和が終了する
まで、あるいは探針で試料上を２次元走査する際には、
試料１４と探針１５間距離を一定に保つための電気的フ
ィードバックを与えることが必要である。第４図に、本
実施例の位置決め装置に電気的ブロック図を付加したも
のを示す。同図において、４１は試料１４にバイアス電
圧を印加するためのバイアス電圧、４２は試料１４と探
針１５が数ナノメートルの距離まで近づいた時に流れる
トンネル電流を検出するためのトンネル電流検出回路、
４３はトンネル電流検出回路４２からの情報を元にして
試料１４と探針１５間の距離が所望即動になるように圧
電素子１６にフィードバックを与えるための試料／探針
間距離制御回路である。このように、電気的フィードバ
ックを与えることにより、初期接近時における試料と探
針の接触を回避し、機械的緩和によるドリフトや２次元
操作を行なった場合の試料と探針との接触も回避で計る
。又、探針で試料上を２次元走査する時、圧電素子に制
御回路４２が与える制御信号を不図示のモニタ手段でモ
ニタする事により試料１４の２次元像が得られ凹凸の検
出等かできる。位置決めの為のマイクロメータヘッドの
回転は、手動でも、また、ステッピングモーター等を用
いて機械的に回転力を与えることも可能である。
次に本発明の他の実施例について説明する。
第３図に示すマイクロメータヘッド４とはね１１を用い
た押圧機構以外の方法について第４図を用いて説明する
。
た押圧機構以外の方法について第４図を用いて説明する
。
本実施例は、数マイクロオーダーの微小位置決めを行う
際に使用した。積層型圧電ＰＺＴ４２と４３に正と負の
重圧を同時に印加すると、可動ブロック１は、変位力を
受ける。また、積層型圧電ＰＺＴ４３と４２に前記電圧
極性と逆に、つまり負と正に電圧を同時に印加すると、
可動ブロックは前記変位方向と逆の変位力を受ける。
際に使用した。積層型圧電ＰＺＴ４２と４３に正と負の
重圧を同時に印加すると、可動ブロック１は、変位力を
受ける。また、積層型圧電ＰＺＴ４３と４２に前記電圧
極性と逆に、つまり負と正に電圧を同時に印加すると、
可動ブロックは前記変位方向と逆の変位力を受ける。
上記積層型ＰＺＴを使用した結果、数マイクロオーダー
の微小位置決めを精度良く行なうことか可能であった。
の微小位置決めを精度良く行なうことか可能であった。
なお本明細書内におけるｒ感度を下げる」は出力を減少
させる意味であり、光電子増倍管の光電子増幅率を下げ
る等して受光光量に対する出力の割合を減少させること
、光電子増倍管の受光部のｍｌに減光手段（例えばフィ
ルター）を挿入する等して受光光を減少させるあるいは
遮光すること、あるいはレチクルに入射する光そのもの
を減光あるいは遮光することが含まれるものである。
させる意味であり、光電子増倍管の光電子増幅率を下げ
る等して受光光量に対する出力の割合を減少させること
、光電子増倍管の受光部のｍｌに減光手段（例えばフィ
ルター）を挿入する等して受光光を減少させるあるいは
遮光すること、あるいはレチクルに入射する光そのもの
を減光あるいは遮光することが含まれるものである。
［発明の効果］
以上の機構をもつ微小位置決め装置により、外部振動に
十分耐える剛性の高い装置が達成される。それに伴い数
１０〜数１００ナノメートルの微小位置決めを精度よく
行うことができ、装置の信頼性の向上に大ぎな効果があ
る。本発明では、摩擦ロックを採用しているため、機械
的緩和が終了した時点で静止状態を保つことが可能であ
り、その際に振動を与えにくく探針と試料との接触を防
ぐ装置の操作性もよく、また、複雑なロック機構を必要
としない、高性能・高剛性な装置が実現できる。
十分耐える剛性の高い装置が達成される。それに伴い数
１０〜数１００ナノメートルの微小位置決めを精度よく
行うことができ、装置の信頼性の向上に大ぎな効果があ
る。本発明では、摩擦ロックを採用しているため、機械
的緩和が終了した時点で静止状態を保つことが可能であ
り、その際に振動を与えにくく探針と試料との接触を防
ぐ装置の操作性もよく、また、複雑なロック機構を必要
としない、高性能・高剛性な装置が実現できる。
第１図（ａ）及び（ｂ）は、各々本発明を実施した微小
位置決め装置の組立状態の斜視図及び、分解斜視図、第
２図は、第１図（ａ）のＡ−Ａ断面図、第３図は、第１
図（ｂ）のＢ−Ｂ断面図、第４図は、本発明の他の実施
例の構成図、第５図は従来の微小位置決め装置の構成図
である。 １；可動ブロック、 ２．３：フレーム、 ４；マイクロメータヘッド、 ５；軸、 ６．７；軸受、 ８：＠受支持棒、 ｑ、ｔｏ ；ねじ、 １１．１２．ばね、 １３；摺動面、 １４；試料、 １５：探針、 １６：チューブ型圧電素子、 ４２．４３：圧１ｊＰＺＴ。 （Ａ−Ａ前面口） 第 図 第 図 手続補正書（自発） 平成元年１１月１６日
位置決め装置の組立状態の斜視図及び、分解斜視図、第
２図は、第１図（ａ）のＡ−Ａ断面図、第３図は、第１
図（ｂ）のＢ−Ｂ断面図、第４図は、本発明の他の実施
例の構成図、第５図は従来の微小位置決め装置の構成図
である。 １；可動ブロック、 ２．３：フレーム、 ４；マイクロメータヘッド、 ５；軸、 ６．７；軸受、 ８：＠受支持棒、 ｑ、ｔｏ ；ねじ、 １１．１２．ばね、 １３；摺動面、 １４；試料、 １５：探針、 １６：チューブ型圧電素子、 ４２．４３：圧１ｊＰＺＴ。 （Ａ−Ａ前面口） 第 図 第 図 手続補正書（自発） 平成元年１１月１６日
Claims (6)
- （１）基準面を有する固定部材と、該基準面に接触する
摺動面を有し且つ位置決めすべき試料が搭載される可動
部材と、該可動部材を固定部材に対し回転可能に支承す
る前記基準面に垂直な回転軸と、前記可動部材の摺動面
を固定部材の基準面側に押圧する押圧手段と、前記可動
部材を前記軸回りに回転移動させるための駆動手段とを
備えたことを特徴とする微小位置決め装置。 - （２）前記駆動手段は前記可動部材の前記摺動面に垂直
な外周面のうち少なくとも一面を押圧し、前記試料は該
可動部材の外周面の別の面に搭載されたことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の微小位置決め装置。 - （３）前記駆動手段はマイクロメータヘッドからなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の微小位置決
め装置。 - （４）前記駆動手段は圧電素子からなることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の微小位置決め装置。 - （５）固定部材の基準面と接する摺動面を有する試料が
固定可能な可動部材と、該可動部材と該固定部材とを、
前記基準面に直交する方向に回転支持する軸と、該軸上
に該可動部材摺動面を基準面に押圧する機構と、該可動
部を基準面に沿って回転移動させる押圧機構とを備えた
微小位置決め装置。 - （６）基準面を有する固定部材と、該基準面に接触する
摺動面を有し且つ位置決めすべき試料が搭載される可動
部材と、該可動部材に搭載された試料に対向し且つ試料
との間にトンネル電流を流す事が可能な位置に配置され
る探針と、前記可動部材に搭載された試料と前記探針と
の間のトンネル電流を検出する手段と、前記可動部材の
摺動面を固定部材の基準面側に押圧する押圧手段と、固
定部材に対し可動部材を移動させるための駆動手段とを
備えた事を特徴とする微小位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13574889A JPH032604A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 徴小位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13574889A JPH032604A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 徴小位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH032604A true JPH032604A (ja) | 1991-01-09 |
Family
ID=15158949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13574889A Pending JPH032604A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 徴小位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH032604A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002522900A (ja) * | 1998-08-04 | 2002-07-23 | マイクリオン コーポレーション | 被加工物制振装置 |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP13574889A patent/JPH032604A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002522900A (ja) * | 1998-08-04 | 2002-07-23 | マイクリオン コーポレーション | 被加工物制振装置 |
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