JPH03266393A - 複合発光体薄膜及び薄膜el素子 - Google Patents

複合発光体薄膜及び薄膜el素子

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JPH03266393A
JPH03266393A JP2063152A JP6315290A JPH03266393A JP H03266393 A JPH03266393 A JP H03266393A JP 2063152 A JP2063152 A JP 2063152A JP 6315290 A JP6315290 A JP 6315290A JP H03266393 A JPH03266393 A JP H03266393A
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thin film
layer
zns
phosphor layer
layers
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Michio Okajima
道生 岡嶋
Takao Toda
任田 隆夫
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本願発明(友 発光効率が高く、青色もしくは紫外の波
長域で明るく発光する発光体薄膜及びそれを用いたEL
素子に関するものであム 従来の技術 近鍛 コンピュータ一端末などに用いるフラットデイス
プレィとして、薄膜EL素子が盛んに研究されている。
黄橙色発光のマンガン添加硫化亜鉛からなる蛍光体薄膜
を用いたモノクロ薄膜ELデイスプレィは既に実用化さ
れていも デイスプレィとして広汎な用途に対応するた
めにはフルカラー化が不可欠であり、赤色 緑色 青色
の3原色に発光するEL用蛍光体の開発に多大な力が注
がれていも この中で青色発光蛍光体として(友ZnS
:  Trn’P、  SrS:  Ce、  赤色蛍
光体として(L  ZnS:  Sm、CaS:  E
u、緑色蛍光体としてはZnS:  Tb、CaS: 
 Ceなどが盛んに研究されていも −X  発光ダイオードにおいてL 同様にフルカラー
化をめざして、短波長化の研究が盛んに行われていム 
5iCS GaN5 ZnS、Zn5e等 広いバンド
ギャップの半導体材料を用いたPN接合、MIS接合の
形成により、青色LEDの高輝度化が試みられていも 発明が解決しようとする課題 上記の電界発光用蛍光体薄膜は 赤色及び緑色に関して
は発光輝嵐 効率に問題があり、青色に関しては色純度
に問題があり、現在 実用的なレベルのカラーELパネ
ルは形成されていなしも−4LEDに関して(よ 赤色
については十分高輝度の発光素子が得られ実用化されて
いるカミ緑包 青色について?!  実用化レベルとし
ては不十分であム ざらζへ より短波長の紫外に発光波長域を有する固体
発光素子はいまだ実現するに至っていな(X。
本発明(よ 発光輝度、効率の高1.X、青色もしくは
紫外発光素子を実現することを目的とすム課題を解決す
るための手段 厚さか50nm以下、 lnm以上へ 硫化亜鉛もしく
は少なくとも硫化亜鉛と他のIIbVI族化合物半導体
との混晶を主成分とする蛍光体層を、該蛍光体層のエネ
ルギーギャップより大きなエネルギーギャップへ 少な
くとも硫化マグネシウムと他のアルカリ土類金属の硫化
物との混晶を主成分とする障壁層で挟持した構成単位を
、一単位もしくは複数単位繰り返して設けた複合発光体
薄膜を形成する。
作用 上記構成の複合発光体薄膜を形成することによって、蛍
光体層に青から紫外の波長域で発光しつる広いバンドギ
ャップを持った材料を用いてL更に十分広いエネルギー
ギャップを持った材料を障壁層に使用したた敢 高電界
により発生もしくは注入された電子、正孔が十分前記蛍
光体層に閉じ込められ それらが直接もしくは再結合中
心を介して効率よく再結合し その結果 発光輝尻効率
の高(\ 青色もしくは紫外発光素子が実現できたと考
えられも 実施例 第1図に本発明の薄膜EL素子の一実施例として、その
素子構造を示す。低抵抗Siの基板1上に分子ビームエ
ピタキシャル蒸着法により厚さ150 nmのCaF2
薄膜からなる絶縁層2をエピタキシャル成長させ九 そ
の上E、  Ca S、  M g Sを入れたにセル
を用いて、厚さ50nmのCas、eMgm、aSから
成る障壁層3を同じくエピタキシャル成長させ九 更に
その上版 厚さ20nmのZnSからなる蛍光体層4を
エピタキシャル成長させ九 同様にして、その上+; 
 Ca s、@Mg 1.4 Sから成る障壁層とZn
Sからなる蛍光体層を交互に順次エピタキシャル成長さ
せ、合計10周肌層厚700 nmの複合発光体層5を
完成した その上番へ  酸素を10%含むアルゴン雰
囲気中で、室温で、BaTaaOsよりな4 厚さ20
0nmの絶縁層6を形成した 最後に厚さ200 nm
のITOからなる透明電極7を電子ビーム蒸着法により
形成し 薄膜EL素子を完成し九 本実施例でii si基板1と複合発光体層5の間と、
複合発光体層5と透明電極7の間にそれぞれ絶縁層2と
絶縁層6を形成したカミ これらはいずれか一方だけで
あってもよ鶏 本発明のEL素子(よ パルス幅30μ5eC11kH
z、 150Vの交流電圧を基板1と透明電極7との間
に印加することによって、波長350nm〜380 n
mの強い紫外発光を得た本発明の要点は 紫外域にも及
ぶ短波長発光が可能な広いバンドギャップの半導体材料
であるZnS、もしくはZnSと他のIIbVI族化合
物半導体との混晶を主成分とする半導体材料を蛍光体層
に用いることができた点にある。なぜ、本発明において
初めてそれが可能となったかを以下に述べる。
それ(表 第1の実施例に代表される薄膜EL素子の構
成において、高効率の短波長発光素子を実現するため圏
 障壁層材料として、以下の2つの条件を満たす、硫化
マグネシウムと他のアルカリ土類金属の硫化物との混晶
を主成分とする材料を採用したことによム まず第1番
ミ これらのアルカリ土類金属の硫化物のバンドギャッ
プはいずれL  MgSの5.4eVを筆頭に3.8〜
5.4eVと、蛍光体層として採用したZnSの3.5
eVと比べて十分広いた取 キャリヤを効率よく蛍光体
層に閉じ込めることができた 第2点(上 本発明の材料構成を用いることで、各層材
料間での格子整合が可能となる点であム高発光効率を維
持するためにζよ キャリヤの非発光中心の一因である
格子欠陥をできるだけ減らすことが肝要であも 本発明
の材料構成を採用することにより、基板 障壁層 蛍光
体層 および第1の実施例に示したように絶縁層2を設
ける場合は絶縁層2も含めて、これらの材料の間で格子
整合が可能となり、非発光中心濃度を低減することがで
きた 第1の実施例でlt、、Znsを蛍光体層に用い
たた数 基板材料 絶縁層2にi;LZnSと格子定数
の近いSiとCaF2をそれぞれ採用し1、  また障
壁層材料も格子整合させるため&ミ MgSとCaSの
混晶を用い九 Si基板と格子整合させた場合の障壁層
のバンドギャップ(よ 約4.8eVと十分広く、電子
、正孔とも十分蛍光体層に閉じ込められ 高効率の紫外
発光を得ることができたと考えられる。
第1の実施例では基板材料としてSiを採用したカミ 
例えば格子定数の近いGaPを用いても同様の効果が得
られ九 また 同じく障壁層の材料としてCaSとMg
Sの混晶を用いたカミ その代わり4二M g SとS
rSもしくはMgSとBaSとの混晶を用いてL 格子
整合する組成比の膜であれば同様の効果を有すム 同様?Q  蛍光体層の材料を、所定の組成比のZnS
と他のIIbVI族化合物半導体との混晶を主成分とす
る半導体材料にする場合L 障壁層材料に上記のアルカ
リ土類金属硫化物の格子整合した混晶を用いることで第
1の実施例同様 蛍光体層のバンドギャップに応じた所
望の波長の高効率の短波長薄膜EL素子を得ることがで
きた 発明の効果 本発明により、青色から紫外の短波長で発光する複合発
光体薄膜を得ることができな また この複合発光体薄
膜を用いて薄膜EL素子を形成した場合L 高効取 高
輝度の短波長薄膜EL素子を実現することができk 本
発明を、青色発光素子、紫外発光素子、もしくはフルカ
ラーEL素子等に応用する暇 特に実用的価値が太き(
−
【図面の簡単な説明】
第1図(友 本発明の薄膜EL素子の一実施例の素子の
断面図であ4 ■・・・・基板、 2、6・・・・絶縁層 3・・・・
障壁層4・・・・蛍光体層 5・・・・複合発光体F#
7・・・・透明電極

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)厚さが50nm以下1nm以上の硫 化亜鉛もしくは少なくとも硫化亜鉛と他のIIbVI族
    化合物半導体との混晶を主成分とする蛍光体層を、該蛍
    光体層のエネルギーギャップより大きなエネルギーギャ
    ップの、少なくとも硫化マグネシウムと他のアルカリ土
    類金属の硫化物との混晶を主成分とする障壁層で挟持し
    た構成単位を、一単位もしくは複数単位繰り返して設け
    たことを特徴とする複合発光体薄膜。
  2. (2)請求項1に記載の複合発光体薄膜と、前記複合発
    光体薄膜の外側から電圧を印加する手段とを備えたこと
    を特徴とする薄膜EL素子。
  3. (3)複合発光体薄膜の少なくとも一方の面に誘電体薄
    膜が形成され、更にその外側から電圧を印加する手段が
    配設されていることを特徴とする請求項2に記載の薄膜
    EL素子。
  4. (4)蛍光体層と障壁層の格子定数の違いが5%以内で
    あることを特徴とする請求項1に記載の複合発光体薄膜
    。
JP6315290A 1990-03-14 1990-03-14 複合発光体薄膜及び薄膜el素子 Expired - Lifetime JP2715620B2 (ja)

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EP91103189A EP0446746B1 (en) 1990-03-14 1991-03-04 Light-emitting thin film and thin film EL device
DE69117781T DE69117781T2 (de) 1990-03-14 1991-03-04 Licht-emittierender Dünnfilm und elektrolumineszente Dünnfilmvorrichtung
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008060595A (ja) * 1996-06-26 2008-03-13 Siemens Ag 半導体素子
US7538483B2 (en) 2002-08-07 2009-05-26 Sanyo Electric Co., Ltd. Inorganic electroluminescent device and method of fabricating the same

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008060595A (ja) * 1996-06-26 2008-03-13 Siemens Ag 半導体素子
US9196800B2 (en) 1996-06-26 2015-11-24 Osram Gmbh Light-radiating semiconductor component with a luminescence conversion element
US7538483B2 (en) 2002-08-07 2009-05-26 Sanyo Electric Co., Ltd. Inorganic electroluminescent device and method of fabricating the same

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