JPH03267603A - 低温蒸気加熱装置 - Google Patents
低温蒸気加熱装置Info
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- JPH03267603A JPH03267603A JP6597590A JP6597590A JPH03267603A JP H03267603 A JPH03267603 A JP H03267603A JP 6597590 A JP6597590 A JP 6597590A JP 6597590 A JP6597590 A JP 6597590A JP H03267603 A JPH03267603 A JP H03267603A
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- JP
- Japan
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- refrigerant
- heating
- pump
- pressure reducing
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- Prior art date
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- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 1
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- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は被加熱物を１００℃以下程度の比較的低温度で
加熱処理するための加熱装置に関し、特に冷媒蒸気によ
る低温蒸気加熱装置に関する。
加熱処理するための加熱装置に関し、特に冷媒蒸気によ
る低温蒸気加熱装置に関する。
各種製造工場においては加熱処理が広く一般に行なわれ
ているが、こうした加熱処理は被加熱物を１００℃以上
の高温で加熱することが多く、ボイラーからの蒸気を直
接利用した加圧系の加熱装置を用いて行なわれている。
ているが、こうした加熱処理は被加熱物を１００℃以上
の高温で加熱することが多く、ボイラーからの蒸気を直
接利用した加圧系の加熱装置を用いて行なわれている。
一方化学工場や食品工場においては、製品の品質や作業
の安全の関係で、被加熱物を１００℃以下の比較的低温
で加熱しなければならない場合が多々ある。
の安全の関係で、被加熱物を１００℃以下の比較的低温
で加熱しなければならない場合が多々ある。
〈従来技術〉
従来は、例えば特開昭６０−６４１０８号公報に示され
ているような技術が用いられてきた。これは間接加熱容
器を介在して逆負荷をかけられた減圧弁とスチームトラ
ップが接続され、スチームトラップにはその一次側と二
次側に絶えず連通するバイパスを備えており、減圧弁の
一次側に供給された蒸気をスチームトラップの二次側に
接続された減圧ポンプで誘導することにより、間接加熱
容器内の圧力を所望の減圧系に保ち、減圧蒸気すなわち
低温蒸気で被加熱物を加熱するものでおる。
ているような技術が用いられてきた。これは間接加熱容
器を介在して逆負荷をかけられた減圧弁とスチームトラ
ップが接続され、スチームトラップにはその一次側と二
次側に絶えず連通するバイパスを備えており、減圧弁の
一次側に供給された蒸気をスチームトラップの二次側に
接続された減圧ポンプで誘導することにより、間接加熱
容器内の圧力を所望の減圧系に保ち、減圧蒸気すなわち
低温蒸気で被加熱物を加熱するものでおる。
〈発明が解決しようとする課題〉
上記装置においては所望の減圧状態を維持するために減
圧ポンプと逆負荷をかけられた減圧弁が必要である。減
圧ポンプと逆負荷をかけられた減圧弁は特殊なものとな
り高価で装置そのものも高価なものとなってしまう問題
があった。
圧ポンプと逆負荷をかけられた減圧弁が必要である。減
圧ポンプと逆負荷をかけられた減圧弁は特殊なものとな
り高価で装置そのものも高価なものとなってしまう問題
があった。
また上記装置においては、減圧ポンプは自己の最高の能
力で運転されるために間接加熱容器内の圧力は所望以上
の真空度になる。これを抑えるためにスチームトラップ
に備えたバイパスの流量を調節することにより、スチー
ムトラップの一次側つまり間接加熱容器内の真空度を所
望値に保つものである。従って、常に蒸気がバイパスを
通って排気され、そして減圧ポンプから系外へ排除され
るので蒸気損失が非常に大きくなる問題があった。
力で運転されるために間接加熱容器内の圧力は所望以上
の真空度になる。これを抑えるためにスチームトラップ
に備えたバイパスの流量を調節することにより、スチー
ムトラップの一次側つまり間接加熱容器内の真空度を所
望値に保つものである。従って、常に蒸気がバイパスを
通って排気され、そして減圧ポンプから系外へ排除され
るので蒸気損失が非常に大きくなる問題があった。
従って本発明の技術的課題は、蒸気損失が無く、減圧ポ
ンプや特殊な減圧弁を必要としない低温蒸気加熱装置を
得ることである。
ンプや特殊な減圧弁を必要としない低温蒸気加熱装置を
得ることである。
く課題を解決する為の手段〉
上記課題を解決するために講じた本発明の技術的手段は
、加熱手段と間接加熱容器とポンプ手段を順次接続−し
、ポンプ手段の吐出側と加熱手段の入口側を接続して閉
ループを形成し、咳閉ループ内に低沸点の冷媒を配し、
上記加熱手段で冷媒を加熱して蒸気化するものである。
、加熱手段と間接加熱容器とポンプ手段を順次接続−し
、ポンプ手段の吐出側と加熱手段の入口側を接続して閉
ループを形成し、咳閉ループ内に低沸点の冷媒を配し、
上記加熱手段で冷媒を加熱して蒸気化するものである。
く作用〉
上記の技術的手段の作用は下記の通りでおる。
閉ループ内の冷媒は加熱手段により加熱され、正圧で１
００℃以下程度の比較的低温の蒸気となり間接加熱容器
に至り被加熱物を加熱する。被加熱物に熱を奪われドレ
ン化した冷媒はポンプ手段に吸引されて吐出口より上記
加熱手段に至る。加熱手段での加熱量を適宜調節するこ
とにより、冷媒の蒸気温度をコントロールすることもで
きる。
００℃以下程度の比較的低温の蒸気となり間接加熱容器
に至り被加熱物を加熱する。被加熱物に熱を奪われドレ
ン化した冷媒はポンプ手段に吸引されて吐出口より上記
加熱手段に至る。加熱手段での加熱量を適宜調節するこ
とにより、冷媒の蒸気温度をコントロールすることもで
きる。
〈発明の効果〉
閉ループ内で冷媒による７１０熱を行なうために、ポン
プ手段は減圧ポンプである必要はなく、冷媒を循環させ
るだめの循環ポンプでよく、且つ、逆負荷をかけられた
減圧弁も不要であり、装置を安価なものとすることがで
きると共に系外に蒸気が排出されることがなく、蒸気損
失の無い低温蒸気加熱装置を得ることができる。
プ手段は減圧ポンプである必要はなく、冷媒を循環させ
るだめの循環ポンプでよく、且つ、逆負荷をかけられた
減圧弁も不要であり、装置を安価なものとすることがで
きると共に系外に蒸気が排出されることがなく、蒸気損
失の無い低温蒸気加熱装置を得ることができる。
〈実施例〉
上記の技術的手段の興体例を示す実施例を説明する。（
第１図参照） ｈ０熱手段１と間接加熱容器２を管路３で接続すると共
に、間接加熱容器２とポンプ手段４を同じく管路５で接
続する。間接加熱容器２には、被加熱物を供給するため
の被加熱物供給管２２と、被加熱物取出し管２３を接続
する。ポンプ手段４は、渦巻きポンプ６と、ノズル７と
吸込み至８とデイフユーザ部９とから成るエゼクタ１０
と、タンク１１とをそれぞれ連通して形成する。タンク
１１内には冷媒２０を配する。冷媒２０は、加熱温度に
応じてアンモニアやフロン等を適宜選定する。
第１図参照） ｈ０熱手段１と間接加熱容器２を管路３で接続すると共
に、間接加熱容器２とポンプ手段４を同じく管路５で接
続する。間接加熱容器２には、被加熱物を供給するため
の被加熱物供給管２２と、被加熱物取出し管２３を接続
する。ポンプ手段４は、渦巻きポンプ６と、ノズル７と
吸込み至８とデイフユーザ部９とから成るエゼクタ１０
と、タンク１１とをそれぞれ連通して形成する。タンク
１１内には冷媒２０を配する。冷媒２０は、加熱温度に
応じてアンモニアやフロン等を適宜選定する。
ポンプ手段４の吐出管１２を分岐して管路１３で加熱手
段１の入口側１４と接続する。加熱手段１と間接加熱容
器２とポンプ手段４とで閉ループを形成する。加熱手段
１を、管路３内の冷媒蒸気圧力もしくは温度を検出する
ためのセンサー１５と、センサー１５の検出値と設定圧
力もしくは温度と比較して設定値になるように加熱量を
制御するための制御部１６と接続する。参照番号１７．
１８は制御部１６からの信号を加熱手段１へ伝えるため
の信号線である。加熱手段１は制御部１６からの信号に
より、電源（図示せず）から電気の供給を受けて電気的
に冷媒を加熱する。
段１の入口側１４と接続する。加熱手段１と間接加熱容
器２とポンプ手段４とで閉ループを形成する。加熱手段
１を、管路３内の冷媒蒸気圧力もしくは温度を検出する
ためのセンサー１５と、センサー１５の検出値と設定圧
力もしくは温度と比較して設定値になるように加熱量を
制御するための制御部１６と接続する。参照番号１７．
１８は制御部１６からの信号を加熱手段１へ伝えるため
の信号線である。加熱手段１は制御部１６からの信号に
より、電源（図示せず）から電気の供給を受けて電気的
に冷媒を加熱する。
タンク１１内の冷媒２０は、渦巻きポンプ６により一部
がエゼクタ１０に供給されると共に、管路１３から加熱
手段１へ供給される。加熱手段１で冷媒は加熱され蒸気
化して間接加熱容器２へ供給される。この場合、冷媒蒸
気の圧力もしくは温度はセンサー１５でフィードバック
され、加熱量が制御されることにより所定値に維持され
る。間接加熱容器２で被加熱物と熱交換を行いトレン化
した冷媒は、Ｔセクタ１０の吸込み作用により吸込み至
８へ吸引され、タンク１１に至り、閉ループを循環する
。
がエゼクタ１０に供給されると共に、管路１３から加熱
手段１へ供給される。加熱手段１で冷媒は加熱され蒸気
化して間接加熱容器２へ供給される。この場合、冷媒蒸
気の圧力もしくは温度はセンサー１５でフィードバック
され、加熱量が制御されることにより所定値に維持され
る。間接加熱容器２で被加熱物と熱交換を行いトレン化
した冷媒は、Ｔセクタ１０の吸込み作用により吸込み至
８へ吸引され、タンク１１に至り、閉ループを循環する
。
上記の通り本発明の低温蒸気加熱装置によれば、減圧ポ
ンプや特殊な減圧弁は不要となり、装置を安価なものと
することができる。また、閉ループでの循環であり系外
への蒸気損失の無いものとすることができる。
ンプや特殊な減圧弁は不要となり、装置を安価なものと
することができる。また、閉ループでの循環であり系外
への蒸気損失の無いものとすることができる。
本実施例においては、エゼクタ１ｏと渦巻きポンプ６を
組合せたポンプ手段４を示したが、通常用いられている
循環ポンプであってもよい。
組合せたポンプ手段４を示したが、通常用いられている
循環ポンプであってもよい。
第１図は本発明の低温蒸気加熱装置の具体例を示す実施
例の構成図でめる。 １：加熱手段 ２：間接加熱容器４：ポンプ手段
６：渦巻きポンプ８：吸込み至 １０：エゼ
クタ １１：タンク １２：吐出管 １５：センサー ２０：冷媒
例の構成図でめる。 １：加熱手段 ２：間接加熱容器４：ポンプ手段
６：渦巻きポンプ８：吸込み至 １０：エゼ
クタ １１：タンク １２：吐出管 １５：センサー ２０：冷媒
Claims (1)
- １、加熱手段と間接加熱容器とポンプ手段を順次接続し
、ポンプ手段の吐出側と加熱手段の入口側を接続して閉
ループを形成し、該閉ループ内に低沸点の冷媒を配し、
上記加熱手段で冷媒を加熱して蒸気化することを特徴と
した低温蒸気発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6597590A JPH03267603A (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 低温蒸気加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6597590A JPH03267603A (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 低温蒸気加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03267603A true JPH03267603A (ja) | 1991-11-28 |
Family
ID=13302512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6597590A Pending JPH03267603A (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 低温蒸気加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03267603A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05322606A (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-07 | Tlv Co Ltd | 蒸気流量計 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6025639A (ja) * | 1983-07-19 | 1985-02-08 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ジルコニア磁器 |
-
1990
- 1990-03-15 JP JP6597590A patent/JPH03267603A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6025639A (ja) * | 1983-07-19 | 1985-02-08 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ジルコニア磁器 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05322606A (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-07 | Tlv Co Ltd | 蒸気流量計 |
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