JPH03268242A - 光ピックアップのビームスポット作成方法 - Google Patents
光ピックアップのビームスポット作成方法Info
- Publication number
- JPH03268242A JPH03268242A JP2067513A JP6751390A JPH03268242A JP H03268242 A JPH03268242 A JP H03268242A JP 2067513 A JP2067513 A JP 2067513A JP 6751390 A JP6751390 A JP 6751390A JP H03268242 A JPH03268242 A JP H03268242A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- light
- diameter
- spot
- optical pickup
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスクの記録再生に用いられる光ピック
アップのビームスポット作成方法に関する。
アップのビームスポット作成方法に関する。
（従来の技術〕
従来、光ディスクの記録再生に用いられている光ピック
アップの光学系の往路部分の一例を第２図（ａｌに示す
。
アップの光学系の往路部分の一例を第２図（ａｌに示す
。
図に於いて、半導体レーザ１より出射した光ビーム１０
は、コリメートレンズ２により平行な光ビームとなる。
は、コリメートレンズ２により平行な光ビームとなる。
一般に半導体レーザ１は、接合部と平行な方向と、垂直
な方向とでは光ビームの放射角が異なっているため、こ
の光ビームの進行方向と垂直な面に照射するビームスボ
ンドは第２図（ｂｌに示すように楕円状になる。図では
楕円の長径に相当する側の光ビームを１１とし、短径に
相当する側の光ビームを１２としている。この短径側の
光ビームの幅を長径側のビーム幅と同じくするために、
ビーム整形プリズム３が用いられ、第２図（Ｃ１に示す
ようなほぼ円形の光ビーム断面に整形された後、対物レ
ンズ４によりディスク５上の点Ｐに微小スポットが形成
される。
な方向とでは光ビームの放射角が異なっているため、こ
の光ビームの進行方向と垂直な面に照射するビームスボ
ンドは第２図（ｂｌに示すように楕円状になる。図では
楕円の長径に相当する側の光ビームを１１とし、短径に
相当する側の光ビームを１２としている。この短径側の
光ビームの幅を長径側のビーム幅と同じくするために、
ビーム整形プリズム３が用いられ、第２図（Ｃ１に示す
ようなほぼ円形の光ビーム断面に整形された後、対物レ
ンズ４によりディスク５上の点Ｐに微小スポットが形成
される。
通常は以上により記録再生用のスポットを得ているが、
この例では更にビームスポットを小さくする手段を講じ
ている。即ち光ビーム中に遮光帯６を挿入し、第２図（
ｄ）に示すようにビームの内側部分を遮ることによりビ
ーム径を小さくすることが出来るという原理を用いてい
る。（例えば Ａ。
この例では更にビームスポットを小さくする手段を講じ
ている。即ち光ビーム中に遮光帯６を挿入し、第２図（
ｄ）に示すようにビームの内側部分を遮ることによりビ
ーム径を小さくすることが出来るという原理を用いてい
る。（例えば Ａ。
ＰＡＰＯＶＬＴＳ 著、 ”ＳＹＳＴＥＭＳ
ＡＮＤ ＴＲＡＮＳＦＯＲＭＳ ＷＩＴＨＡＰＰＬ
ＩＣＡＴＩＯＮＳ ＩＮ ０ＰＴＩＣＳ″、 ｐ３３７
，１９６８． ＭｃＧＲＡＷ−ＨＴＬＬ ＢＯＯＫ Ｃ
ＯＭＰＡＮＹ）この方法によりビームスポットは２割程
度小さくすることが出来る。
ＡＮＤ ＴＲＡＮＳＦＯＲＭＳ ＷＩＴＨＡＰＰＬ
ＩＣＡＴＩＯＮＳ ＩＮ ０ＰＴＩＣＳ″、 ｐ３３７
，１９６８． ＭｃＧＲＡＷ−ＨＴＬＬ ＢＯＯＫ Ｃ
ＯＭＰＡＮＹ）この方法によりビームスポットは２割程
度小さくすることが出来る。
しかしながら、この従来例ではビーム整形を要するため
光軸が直線とならないうえ、遮光帯でビーム強度の強い
中心部を遮るため光量ロスが出る欠点があった。
光軸が直線とならないうえ、遮光帯でビーム強度の強い
中心部を遮るため光量ロスが出る欠点があった。
本発明はこの欠点を無くすものであり、プリズムにより
平行レーザビームの狭い側の内周部と外周部を入れ換え
ると同時にビーム径を拡大させた後に対物レンズにより
ビームを収束させるものである。
平行レーザビームの狭い側の内周部と外周部を入れ換え
ると同時にビーム径を拡大させた後に対物レンズにより
ビームを収束させるものである。
光ビーム径の狭い側の光ビーム内周部と外周部とを六角
柱プリズムによって入れ換えると同時に光ビーム径を拡
大するので、見かけ上、前述の遮光板を用いた場合と同
様に光ビームの収束スポット径を小さくすることができ
る。また遮光板を用いていないので光量ロスを少なくす
ることができる。
柱プリズムによって入れ換えると同時に光ビーム径を拡
大するので、見かけ上、前述の遮光板を用いた場合と同
様に光ビームの収束スポット径を小さくすることができ
る。また遮光板を用いていないので光量ロスを少なくす
ることができる。
第１図（ａ）に本発明の一実施例の概略構成図を示す。
図に於いて、半導体レーザ１より出射した光ビーム１０
はコリメートレンズ２により平行光とされ、平行光のう
ち狭い側の光ビーム１２は六角柱プリズム７により光ビ
ームの内外周部分を反転させる。そして、対物レンズ４
を通過後ディスク５上にビームスボッＩ−Ｐを照射する
。この六角柱プリズム７の光軸方向の寸法を適宜選べば
、狭い側のビーム幅をコントロールすることが出来る。
はコリメートレンズ２により平行光とされ、平行光のう
ち狭い側の光ビーム１２は六角柱プリズム７により光ビ
ームの内外周部分を反転させる。そして、対物レンズ４
を通過後ディスク５上にビームスボッＩ−Ｐを照射する
。この六角柱プリズム７の光軸方向の寸法を適宜選べば
、狭い側のビーム幅をコントロールすることが出来る。
すなわち、六角柱プリズム７を通過する光路長を長くす
ればビーム幅が広がり短くすれば狭くなる。そのため第
１図（ｂｌに示す楕円形のビームスポットを第１図ｔｅ
ｌに示すようなビームスポット形状に換えることができ
、遮光帯６で遮った場合と同様のビーム形状でしかも光
量の損失がほとんど無い状態を得て光ビームのスポット
径を小さくすることができる。
ればビーム幅が広がり短くすれば狭くなる。そのため第
１図（ｂｌに示す楕円形のビームスポットを第１図ｔｅ
ｌに示すようなビームスポット形状に換えることができ
、遮光帯６で遮った場合と同様のビーム形状でしかも光
量の損失がほとんど無い状態を得て光ビームのスポット
径を小さくすることができる。
以上本発明によれば、光ピックアップ用の微小スポット
を僅かな光量損失により容易に得ることが出来る。
を僅かな光量損失により容易に得ることが出来る。
第１図（ａｌは本発明の一実施例を示す概略構成図、第
１図（ｂ） （Ｃ）は光路中のビームスポット形状を示
す断面図、第２図（ａ）は従来例を示す概略構成図、第
２図（ｂ） （Ｃ） （ｄ）は光路中のビームスポット
形状を示す断面図である。 １・・・半導体レーザ ２．４・・・コリメートレンズ ７・・・六角柱プリズム
１図（ｂ） （Ｃ）は光路中のビームスポット形状を示
す断面図、第２図（ａ）は従来例を示す概略構成図、第
２図（ｂ） （Ｃ） （ｄ）は光路中のビームスポット
形状を示す断面図である。 １・・・半導体レーザ ２．４・・・コリメートレンズ ７・・・六角柱プリズム
Claims (1)
- 半導体レーザより出射した光ビームをコリメートレンズ
により平行ビームとし、対物レンズによってビームスポ
ットに収束させる光ピックアップにおいて、前記平行ビ
ームの進行方向に垂直な断面でのビーム強度分布が狭い
方向の平行ビームをプリズムを用いて内周部と外周部を
入れ換え、且つビーム径を拡大し、しかる後対物レンズ
により収束させることを特徴とする光ピックアップのビ
ームスポット作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2067513A JPH03268242A (ja) | 1990-03-17 | 1990-03-17 | 光ピックアップのビームスポット作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2067513A JPH03268242A (ja) | 1990-03-17 | 1990-03-17 | 光ピックアップのビームスポット作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03268242A true JPH03268242A (ja) | 1991-11-28 |
Family
ID=13347139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2067513A Pending JPH03268242A (ja) | 1990-03-17 | 1990-03-17 | 光ピックアップのビームスポット作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03268242A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613928A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-10 | Duskin Franchise Co | Method of deodorizing in case of cleaning |
-
1990
- 1990-03-17 JP JP2067513A patent/JPH03268242A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613928A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-10 | Duskin Franchise Co | Method of deodorizing in case of cleaning |
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