JPH03276405A - Production of magnetic head - Google Patents

Production of magnetic head

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JPH03276405A
JPH03276405A JP7854390A JP7854390A JPH03276405A JP H03276405 A JPH03276405 A JP H03276405A JP 7854390 A JP7854390 A JP 7854390A JP 7854390 A JP7854390 A JP 7854390A JP H03276405 A JPH03276405 A JP H03276405A
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JP
Japan
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head
grooves
cutting
magnetic
chips
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JP7854390A
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Japanese (ja)
Inventor
Kozo Ishihara
宏三 石原
Yoshiaki Shimizu
良昭 清水
Hiroyuki Okuda
裕之 奥田
Takao Yamano
山野 孝雄
Kazuo Ino
伊野 一夫
Tsukasa Shimizu
司 清水
Takashi Ogura
隆 小倉
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PURPOSE:To freshly obtain a surface layer part where internal stresses are not generated and to restore the magnetic characteristics of head chips by cutting a head block to obtain the chips, then subjecting the region inclusive of at least the cutting surface of the chips to etching of a nearly uniform depth to relieve the work strains generated with the cutting. CONSTITUTION:After the surface 10 of a ferrite wafer 11 is polished to a specu lar surface, a ferromagnetic thin film 2 consisting of 'SENDUST(R)', etc., is deposited thereon and is bored with plural grooves 21 by ion beam etching, by which the thin films 2 are formed as projecting patterns. Track width regulat ing grooves 11 are hollowed in the positions overlapping on the grooves 21 and further, coil grooves 12 and glass grooves 13 are hollowed in the direction intersecting therewith. A laminate 56 obtd. in such a manner and another lami nate 57 are superposed on each other via a gap spacer 3 and low melting glass 4 is packed into the grooves 13. Both laminates are fixed to each other to form a joint body 5. The block 51 consisting of a pair of half bodies 55 inter posed with spacers 3 is formed by machining to form a curved surface 52 to serve as a tape connecting surface thereon.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、VTRの回転ヘッドシリンダー等に装備され
る磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head installed in a rotating head cylinder of a VTR or the like.

(従来の技術) 近年、高密度の信号記録が可能なメタルテープ等の高抗
磁力を有する記録媒体が普及しており、かかる記録媒体
への信号記録に好適であり、然も狭トラツク化も可能な
磁気ヘッドとして、第11図に示す様に、強磁性酸化物
からなる一対の磁気コア部(8)(81)の突合せ部に
、磁気ギャップ部(80)を挟んで一対の強磁性金属薄
膜(82)(83)を形成した複合型磁気ヘッドが知ら
れている。
(Prior art) In recent years, recording media with high coercive force, such as metal tapes, which are capable of recording high-density signals, have become widespread.They are suitable for recording signals on such recording media, and are also suitable for narrowing tracks. As a possible magnetic head, as shown in FIG. 11, a pair of ferromagnetic metal cores (8) and (81) made of ferromagnetic oxide are placed at the abutting part with a magnetic gap part (80) in between. A composite magnetic head in which thin films (82) and (83) are formed is known.

上記磁気ヘッドの製造においては、第7図に示す如くギ
ャップスペーサ(3)を挟んで両側にフェライト等の磁
性資材からなる一対のブロック半体(55)(55)を
配備したヘッドブロック(51)を作製した後、該ヘッ
ドブロック(51)を切断して、第11図の如くテープ
対接面(86)に磁気ギャップ部(80)が露出したヘ
ッドチップ(53)が作製される。尚、前記一対のヘッ
ドブロック半体(55)(55)は低融点ガラス(4)
によって互いに接合固定されている。
In manufacturing the above magnetic head, as shown in FIG. 7, a head block (51) is provided with a pair of block halves (55) (55) made of a magnetic material such as ferrite on both sides with a gap spacer (3) in between. After manufacturing, the head block (51) is cut to manufacture a head chip (53) in which the magnetic gap portion (80) is exposed on the tape contacting surface (86) as shown in FIG. The pair of head block halves (55) (55) are made of low melting point glass (4).
are fixed to each other by.

その後、第11図のヘッドチップ(53)に、前記低融
点ガラスの軟化点よりも低い温度(300℃乃至400
℃程度)の熱処理を施し、ヘッドブロック(51)を切
断した際に主にガラス部に生じた加工歪を緩和すること
が行なわれる。
Thereafter, the head chip (53) in FIG.
A heat treatment is applied to the head block (51) at a temperature of about 10.degree.

(解決しようとする課題) ところが、ヘッドブロック(51)の切断に伴ってフェ
ライト部分にも大きな加工歪が生じており、該加工歪に
起因して、第11図の磁気コア部(8)(81)の透磁
率が低下し、ヘッド出力の低下を招く問題があった。
(Problem to be Solved) However, with the cutting of the head block (51), a large processing strain is also generated in the ferrite portion, and due to this processing strain, the magnetic core portion (8) ( There was a problem in that the magnetic permeability of 81) decreased, leading to a decrease in head output.

フェライト部分の加工歪の除去には、400 ’C以上
、例えば600℃程度の高温での熱処理温度が必要であ
る。
Removal of processing strain in the ferrite portion requires heat treatment at a high temperature of 400'C or higher, for example about 600C.

しかしながら、複合型磁気ヘッドの強磁性金属薄膜の資
材であるセンダストやアモルファス合金は、その温度を
600℃程度に上げると磁気特性が劣化するため、従来
の複合型磁気ヘッドの製造工程においては、コア半体ど
うしの接合用ガラスとして、前述の如く軟化点の低いも
のを用いざるを得なかったのである。従って、加工歪緩
和のための熱処理温度は接合用ガラスの軟化点く400
“℃程度)以上に上げることが出来ず、特にフェライト
部分の加工歪が十分に除去出来ない問題があった。
However, the magnetic properties of sendust and amorphous alloys, which are the materials for the ferromagnetic metal thin film of composite magnetic heads, deteriorate when the temperature is raised to about 600°C. As mentioned above, a glass with a low softening point had to be used for joining the halves together. Therefore, the heat treatment temperature for alleviating processing strain is 400°C, which is the softening point of the bonding glass.
There was a problem in that it was not possible to raise the temperature above 30°F (about 30°F), and it was not possible to sufficiently remove machining strain, especially in the ferrite part.

本発明の目的は、従来の如き熱処理によらずに十分な加
工歪除去が可能な磁気ヘッドの製造方法を提供すること
である。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic head that can sufficiently remove processing strain without using conventional heat treatment.

(課題を解決する為の手段) 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法では、ヘッドブロッ
ク(51)を切断してヘッドチップ(53)を作製した
後、ヘッドチップ(53)の少なくとも前記切断面Aを
含む領域に、略一様な深さのエツチングを施して、切断
に伴って生じた加工歪を除去することを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) In the method for manufacturing a magnetic head according to the present invention, after a head block (51) is cut to produce a head chip (53), at least the cut surface A of the head chip (53) is It is characterized by etching the area including the area to a substantially uniform depth to remove processing distortion caused by cutting.

尚、前記エツチングには、ヘッドチップ(53)をリン
酸溶液等に浸漬する化学エツチングの他、イオンビーム
エツチングを用いることが出来る。
In addition to chemical etching in which the head chip (53) is immersed in a phosphoric acid solution, ion beam etching can be used for the etching.

(作用及び効果) ヘッドブロック(51)を切断した際に発生する加工歪
は、切断面の極く表層部(例えば数μm程度の深さ)に
生じている内部歪であるから、エツチングによって該表
層部を削除することによって、内部応力の発生していな
い表層部が新たに生成され、ヘッドチップ(53)の磁
気特性は回復する。
(Functions and Effects) The processing strain that occurs when cutting the head block (51) is an internal strain that occurs at the very surface layer of the cut surface (for example, at a depth of several μm), so it can be removed by etching. By removing the surface layer, a new surface layer in which no internal stress is generated is generated, and the magnetic properties of the head chip (53) are restored.

従って、従来の如き熱処理による加工歪除去工程を経る
ことなく、良好な磁気特性の磁気ヘッドが得られる。
Therefore, a magnetic head with good magnetic properties can be obtained without going through the process of removing machining strain by heat treatment as in the prior art.

(実施例) 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。
(Examples) Examples are provided to explain the present invention, and should not be construed as limiting the invention described in the claims or reducing its scope.

第1図乃至第11図に沿って、本発明を複合型磁気ヘッ
ドの製造方法に実施した一例について説明する。
An example in which the present invention is implemented in a method for manufacturing a composite magnetic head will be described with reference to FIGS. 1 to 11.

先ず第1図の如くフェライトウェハ(1)の表面(10
)を境面研磨した後、該表面に第2図の如く強磁性金属
薄膜(2)を形成する。尚、該強磁性金属薄膜(2)は
、ウェハ表面(10)に厚さ50オングストロームの5
in2膜を形成し、その表面に厚さ5μmのセンダスト
薄膜を形成し、更にその表面に厚さ0.27μmのSi
O2膜を形成した積層構造(図示省略)を有している。
First, as shown in Figure 1, the surface (10
), a ferromagnetic metal thin film (2) is formed on the surface as shown in FIG. The ferromagnetic metal thin film (2) has a thickness of 50 angstroms on the wafer surface (10).
In2 film is formed, a sendust thin film with a thickness of 5 μm is formed on the surface, and a Si film with a thickness of 0.27 μm is further formed on the surface.
It has a laminated structure (not shown) in which an O2 film is formed.

第3図の如く、前記強磁性金属薄膜(2)にイオンビー
ムエツチングによる溝加工(21)を施して、所定のト
ラック幅Tw(例えば27μll1)の突条パターンを
形成する。
As shown in FIG. 3, the ferromagnetic metal thin film (2) is grooved (21) by ion beam etching to form a protrusion pattern with a predetermined track width Tw (for example, 27 μll1).

次に第4図の如くウェハ(1)に対して、前記溝加工部
(21)と重なる位置にトラック幅規制溝(11)を凹
設し、更に第5図の如く前記トラック幅規制溝(11)
と交差する方向に、コイル溝(12)及びガラス溝(1
3)(13)を凹設する。
Next, as shown in FIG. 4, a track width regulating groove (11) is formed in the wafer (1) at a position overlapping with the grooved portion (21), and further, as shown in FIG. 11)
Coil groove (12) and glass groove (1
3) (13) is recessed.

第1図乃至第4図の工程を経て得られた積層体(56)
と第5図の積層体(57)とを第6図の如くギャップス
ペーサ(3)を介して重ねた状態で、前記ガラス溝(1
3)に低融点ガラス(4)を充填して、両積層体を互い
に固定し、接合体(5)を作製する。この過程で、トラ
ック幅規制溝(11)にもガラス(4)が充填されるこ
とになる。
Laminated body (56) obtained through the steps shown in Figures 1 to 4
and the laminate (57) shown in FIG. 5 are stacked together with the gap spacer (3) in between as shown in FIG.
3) is filled with low melting point glass (4) and both laminates are fixed to each other to produce a bonded body (5). In this process, the track width regulating groove (11) is also filled with glass (4).

その後、前記接合体(5)に機械加工を施して、第7図
の如くギャップスペーサ(3)が介在する一対のヘッド
ブロック半体(55)(55)からなるヘラ−ドブロッ
ク(51)を作製する。該ヘッドブロック(51)には
、最終的に磁気テープとの対接面となる曲面(52)が
形成される。
Thereafter, the joined body (5) is machined to form a herald block (51) consisting of a pair of head block halves (55) (55) with a gap spacer (3) interposed therebetween as shown in FIG. Create. The head block (51) is formed with a curved surface (52) that will eventually come into contact with the magnetic tape.

第8図に示す様に、ヘッドブロック(51)の前記曲面
(52)に、SiO2からなる厚さ略1μmのコーテイ
ング膜(6)を周知の薄膜形成技術によって形成した後
、該ヘッドブロック(51)を前記トラック幅規制溝(
11)のガラス部に沿って切断し、第9図に示す複数の
ヘッドチップ(53)を得る。この際、コーテイング膜
(6)は透明であるから、切断位置が不明となることは
ない。尚、コーテイング膜(6)が形成された曲面には
、必要に応じて、図示の如くテープ対接面の幅を規定す
るための溝(54)(54)が加工される。
As shown in FIG. 8, a coating film (6) made of SiO2 with a thickness of about 1 μm is formed on the curved surface (52) of the head block (51) by a well-known thin film forming technique. ) to the track width regulating groove (
11) along the glass portion to obtain a plurality of head chips (53) shown in FIG. At this time, since the coating film (6) is transparent, the cutting position will not be unclear. Incidentally, grooves (54) (54) for defining the width of the tape-contacting surface are machined on the curved surface on which the coating film (6) is formed, if necessary, as shown in the figure.

上記工程を経て得られた複数のヘッドチップ(53)を
第10図の如くコイル溝(12)に通したワイヤー(7
2)によって保持し、これらのへ・ソドチ・ツブ(53
)をリン酸溶液槽(71)に浸漬して、各へ・ラドチッ
プ(53)の外表面にリン酸溶液(7)による工・ソチ
ングを施す。リン酸溶液(7)は、濃度が80パ一セン
ト程度、温度が40℃程度であって、浸漬時間は10分
乃至30分に設定される。これによって、コーテイング
膜(6)を形成した領域を除くヘッドチップ(53)の
表層部がリン酸溶液(7)と反応して溶出し、略1乃至
5μmの深さで除去されることになる。
A plurality of head chips (53) obtained through the above steps are passed through a wire (7) through a coil groove (12) as shown in Figure 10.
2), and to these Sodochi Tsubu (53
) is immersed in a phosphoric acid solution tank (71), and the outer surface of each RAD tip (53) is treated with the phosphoric acid solution (7). The phosphoric acid solution (7) has a concentration of about 80%, a temperature of about 40° C., and an immersion time of 10 to 30 minutes. As a result, the surface layer of the head chip (53) excluding the area where the coating film (6) is formed reacts with the phosphoric acid solution (7) and is eluted, and is removed at a depth of about 1 to 5 μm. .

エツチングによって新たに生成されたべ・ラドチップ(
53)の表面には、機械加工の如き加工歪は生じない。
Newly generated be-rad chips by etching (
53), no machining distortion occurs on the surface as in machining.

尚、コーテイング膜(6)を形成するのは、リン酸溶液
(7)によって、ヘッドチップ(53)のテープ対接面
(86)に現れるガラス部及び強磁性金属薄膜が腐食す
るのを防止するためである。従って、磁性コアがフェラ
イトのみからなる単体型の磁気ヘッド等では必ずしもコ
ーテイング膜の形成は不要である。
The coating film (6) is formed to prevent the glass portion and ferromagnetic metal thin film appearing on the tape contacting surface (86) of the head chip (53) from being corroded by the phosphoric acid solution (7). It's for a reason. Therefore, it is not necessarily necessary to form a coating film in a single-type magnetic head or the like in which the magnetic core is only made of ferrite.

上記エツチングの後、ヘッドチップ(53)を十分に水
洗する。
After the above etching, the head chip (53) is thoroughly washed with water.

最後に、前記コーテイング膜(6)の形成面にラッピン
グテープ等による研磨を施して、第11図の如くコーテ
イング膜(6)を除去すると共に、所定の曲率を有する
テープ対接面(86)を形成する。
Finally, the surface on which the coating film (6) is formed is polished with a lapping tape or the like to remove the coating film (6) as shown in FIG. Form.

この結果、所期の磁気特性を有する複合型磁気ヘッドが
完成する。
As a result, a composite magnetic head having desired magnetic properties is completed.

エツチング液としては、リン酸溶液の他、塩酸等の種々
の酸を用いることが出来る。又、化学エツチングのみな
らず、イオンビームエツチングも採用可能である。
As the etching solution, various acids such as hydrochloric acid can be used in addition to phosphoric acid solution. Furthermore, not only chemical etching but also ion beam etching can be employed.

第12図は、従来の製造方法による複合型磁気ヘッドと
、本発明に係る製造方法による複合型磁気ヘッドの記録
再生出力の周波数特性を比較したものであり、本発明に
よって得られた特性曲線(9)は、5 MHz以上の高
域で従来の特性曲線(91)よりも1dB前後向上して
いる。
FIG. 12 compares the frequency characteristics of recording and reproducing outputs of a composite magnetic head manufactured by a conventional manufacturing method and a composite magnetic head manufactured by a manufacturing method according to the present invention, and shows the characteristic curve ( 9) is approximately 1 dB better than the conventional characteristic curve (91) in the high frequency range of 5 MHz or higher.

本発明に係る製造方法による効果が得られる複合型磁気
ヘッドとしては、第11図に示すもの、或いは第16図
の如く強磁性金属薄膜(82)(83)が磁気コア部(
8)(81)の厚さ方向の全幅に亘って形成されている
ものの他、第13図の如く強磁性金属薄膜(82)が磁
気ギャップ部(80)の片側にのみ形成されたもの、第
14図の如く強磁性金属薄膜(82) (83)と磁気
コア部(8)(81)の境界線が磁気ギャップ部(80
)に対して傾斜しているもの、更には第15図の如く磁
気コア部(8)(81)の両側面をも強磁性金属薄膜(
82)(83)によって覆ったもの等が挙げられる。
A composite magnetic head that can obtain the effects of the manufacturing method according to the present invention is shown in FIG. 11, or as shown in FIG.
8) In addition to the one in which the ferromagnetic metal thin film (82) is formed over the entire width in the thickness direction of the magnetic gap part (81), the one in which the ferromagnetic metal thin film (82) is formed only on one side of the magnetic gap part (80) as shown in FIG. As shown in Figure 14, the boundary line between the ferromagnetic metal thin film (82) (83) and the magnetic core portion (8) (81) forms the magnetic gap portion (80).
), as well as both sides of the magnetic core parts (8) and (81) as shown in Fig. 15.
82) and covered by (83).

上記実施例の説明は、本発明を説明するためのものであ
って、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲
を減縮する様に解すべきではない。
The above description of the embodiments is for illustrating the present invention, and should not be construed to limit or reduce the scope of the invention described in the claims.

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。
Further, it goes without saying that the configuration of each part of the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various modifications can be made within the technical scope of the claims.

例えば、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、複合型
磁気ヘッドのみならず、フェライトコアのみからなる単
体型磁気ヘッドの製造にも効果があり、又、加工歪の除
去に際して上記エツチングと従来の熱処理を併用するこ
とも可能である。
For example, the method for manufacturing a magnetic head according to the present invention is effective not only for manufacturing a composite magnetic head but also for manufacturing a single magnetic head consisting only of a ferrite core. It is also possible to use heat treatment in combination.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図乃至第11図は磁気ヘッドの製造方法を示す一連
の工程を示し、第1図乃至第7図はヘッドブロックの一
連の製造工程図、第8図はコーテイング膜の形成工程図
、第9図はヘッドブロックをヘッドチップに切断する工
程図、第10図はエツチング工程図、第11図はテープ
対接面の形成工程図、第12図はヘッド出力の特性曲線
を示すグラフ、第13図乃至第16図は種々の複合型磁
気ヘッドの要部を示す拡大平面図である。 (51)・・・ヘッドブロック (6)・・・コーテイング膜 (53)・・・ヘッドチップ (7)・・・リン酸溶液 (86)・・・テープ対接面 (80)・・・磁気ギャップ部 (82) (83)・・・強磁性金属薄膜(8) (8
0)・・・磁気コア部
1 to 11 show a series of steps for manufacturing a magnetic head, FIGS. 1 to 7 are a series of steps for manufacturing a head block, and FIG. 8 is a diagram for forming a coating film. Fig. 9 is a process diagram for cutting the head block into head chips, Fig. 10 is an etching process diagram, Fig. 11 is a process diagram for forming the tape contact surface, Fig. 12 is a graph showing the head output characteristic curve, and Fig. 13 is a diagram showing the process of forming the tape contact surface. 1 to 16 are enlarged plan views showing essential parts of various composite magnetic heads. (51)...Head block (6)...Coating film (53)...Head chip (7)...Phosphoric acid solution (86)...Tape contact surface (80)...Magnetic Gap part (82) (83)...Ferromagnetic metal thin film (8) (8
0)...Magnetic core part

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] [1]磁性資材からなる一対のヘッドブロック半体(5
5)(55)を、非磁性のギャップスペーサ(3)を挟
んで互いに接合固定してヘッドブロック(51)を作製
した後、前記ギャップスペーサ(3)を含む面に対して
直角或いは所定角度傾斜した切断面Aに沿って前記ヘッ
ドブロック(51)を切断して、記録媒体との対接面(
86)及び磁気ギャップ部(80)を具えたヘッドチッ
プ(53)を作製する磁気ヘッドの製造方法において、
前記ヘッドチップ(53)の少なくとも前記切断面Aを
含む領域に、略一様な深さのエッチングを施して、前記
ヘッドチップ(53)の切断に伴って生じた加工歪を除
去することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
[1] A pair of head block halves (5
5) After producing a head block (51) by bonding and fixing (55) to each other with a non-magnetic gap spacer (3) in between, The head block (51) is cut along the cut plane A, and the surface facing the recording medium (
86) and a magnetic head manufacturing method for manufacturing a head chip (53) having a magnetic gap portion (80),
A region including at least the cut surface A of the head chip (53) is etched to a substantially uniform depth to remove processing distortion caused by cutting the head chip (53). A method of manufacturing a magnetic head.
JP7854390A 1990-03-26 1990-03-26 Production of magnetic head Pending JPH03276405A (en)

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