JPH03276782A - パルス光源 - Google Patents
パルス光源Info
- Publication number
- JPH03276782A JPH03276782A JP2077853A JP7785390A JPH03276782A JP H03276782 A JPH03276782 A JP H03276782A JP 2077853 A JP2077853 A JP 2077853A JP 7785390 A JP7785390 A JP 7785390A JP H03276782 A JPH03276782 A JP H03276782A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- signal
- energy
- reference value
- sent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/70—Auxiliary operations or equipment
- B23K26/702—Auxiliary equipment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は産業用エキシマレーザの出力安定化に関するも
のである。
のである。
従来の技術
近年、産業用のパルス光源として紫外域で発振するレー
ザ装置が注目されている。中でもエキシマレーザは、レ
ーザ媒質であるクリプトン、キセノン、アルゴン等の希
ガスとふっ素、塩素等のハロゲンガスを組み合わせるこ
とにより、３５３ｎｍから１９３ｎｍの間のい（つかの
波長で発振線を得ることができる。特にぶつ化クリプト
ンエキシマレーザは波長２４８ｎｍで発振し、水銀のｇ
線（４３６ｎ ｍ ）あるいはｉ線（３６５ｎ ｍ ）
の場合と比べて、倍以上集積度の高い、いわゆる、超Ｌ
ＳＩ製造への道をひらくものとして期待されている。
ザ装置が注目されている。中でもエキシマレーザは、レ
ーザ媒質であるクリプトン、キセノン、アルゴン等の希
ガスとふっ素、塩素等のハロゲンガスを組み合わせるこ
とにより、３５３ｎｍから１９３ｎｍの間のい（つかの
波長で発振線を得ることができる。特にぶつ化クリプト
ンエキシマレーザは波長２４８ｎｍで発振し、水銀のｇ
線（４３６ｎ ｍ ）あるいはｉ線（３６５ｎ ｍ ）
の場合と比べて、倍以上集積度の高い、いわゆる、超Ｌ
ＳＩ製造への道をひらくものとして期待されている。
これらエキシマレーザは、コンデンサなとに蓄積した電
荷を短時間に放出することにより、レーザ媒質であるガ
スを放電励起して、レーザ光を得るパルスレーザの一種
である。レーザ光の持続時間は、一般に数１０ミリ秒で
あり、数ミリ秒から数１０ミリ秒の周期で繰り返し発振
させるのが普通である。
荷を短時間に放出することにより、レーザ媒質であるガ
スを放電励起して、レーザ光を得るパルスレーザの一種
である。レーザ光の持続時間は、一般に数１０ミリ秒で
あり、数ミリ秒から数１０ミリ秒の周期で繰り返し発振
させるのが普通である。
このようなパルス光源であるエキシマレーザを微細加工
に用いる場合、■パルス当たりのエネルギーはあまり大
きな値にせず、数１０パルスから数１００パルスを連続
的に照射して、加工の目的を達することが多い。これは
、照射するパルス数を制御して全照射エネルギーを微細
に制御するためである。たとえば、１００パルス前後の
レーザのレーザ光の照射によって加工する場合、パルス
数を変えることによって、全照射エネルギーを±１％の
精度で変化させることができる。特に超ＬＳＩ素子のパ
ターンなど、光源の波長に匹敵する０、５μｍ以下の線
幅をリソグラフィーの手法で加工するような場合、上述
のような全照射エネルギーの制御が不可欠となる。
に用いる場合、■パルス当たりのエネルギーはあまり大
きな値にせず、数１０パルスから数１００パルスを連続
的に照射して、加工の目的を達することが多い。これは
、照射するパルス数を制御して全照射エネルギーを微細
に制御するためである。たとえば、１００パルス前後の
レーザのレーザ光の照射によって加工する場合、パルス
数を変えることによって、全照射エネルギーを±１％の
精度で変化させることができる。特に超ＬＳＩ素子のパ
ターンなど、光源の波長に匹敵する０、５μｍ以下の線
幅をリソグラフィーの手法で加工するような場合、上述
のような全照射エネルギーの制御が不可欠となる。
このように照射エネルギーを精密に制御しようとする場
合、レーザの出力エネルギーを長期にわたって安定に保
つ必要がある。ところが、エキシマレーザはレーザ媒質
であるガスの劣化やそのほかの原因によって効率が比較
的短期間に低下するという特性があるので、設定したパ
ルス強度を一定に維持する機構が必要になる。
合、レーザの出力エネルギーを長期にわたって安定に保
つ必要がある。ところが、エキシマレーザはレーザ媒質
であるガスの劣化やそのほかの原因によって効率が比較
的短期間に低下するという特性があるので、設定したパ
ルス強度を一定に維持する機構が必要になる。
第４図は、従来のパルス光源の出カ一定化機構の構成を
説明するための概要図である。第４図において、発光部
１は電源部２から電気エネルギーの供給を受は間欠的に
発光する。発光部１の出力光の一部は半透過鏡３によっ
て取り出され、受光素子４に導入される。受光素子４は
入射した光のエネルギーに比例した電気信号を比較回路
５へ送る。比較回路５は、受光素子４から送られた信号
強度を基準値Ｖｒと比較し、その差に比例した偏差信号
ΔＶを加算回路６に送る。加算回路６は電圧制御信号Ｖ
を電源部２へ供給し、電源部２は電圧制御信号Ｖに比例
した出力電圧を発生する。
説明するための概要図である。第４図において、発光部
１は電源部２から電気エネルギーの供給を受は間欠的に
発光する。発光部１の出力光の一部は半透過鏡３によっ
て取り出され、受光素子４に導入される。受光素子４は
入射した光のエネルギーに比例した電気信号を比較回路
５へ送る。比較回路５は、受光素子４から送られた信号
強度を基準値Ｖｒと比較し、その差に比例した偏差信号
ΔＶを加算回路６に送る。加算回路６は電圧制御信号Ｖ
を電源部２へ供給し、電源部２は電圧制御信号Ｖに比例
した出力電圧を発生する。
次に、第５図に従って従来のパルス光源の動作を説明す
る。最初、発光部１は第５図（ａ）に示すように、一定
の周期で発光している。時刻ｔ１から発光部１の効率低
下が顕著になり、発光のパルスエネルギーＰが低下し始
めたとする。このとき、受光素子４の出力が低下するの
で、比較回路５は、第５図（ｂ）に示すような偏差信号
ΔＶを出力する。比較回路５につながれた加算回路６は
、電圧制御信号Ｖに偏差信号ΔＶを加算して、次回の発
光のための新しい電圧制御信号Ｖ＋ΔＶを電源部２に供
給するので、第５図（Ｃ）に示す電源電圧Ｅは上昇し、
パルスエネルギーＰは平均的に一定に保たれる。
る。最初、発光部１は第５図（ａ）に示すように、一定
の周期で発光している。時刻ｔ１から発光部１の効率低
下が顕著になり、発光のパルスエネルギーＰが低下し始
めたとする。このとき、受光素子４の出力が低下するの
で、比較回路５は、第５図（ｂ）に示すような偏差信号
ΔＶを出力する。比較回路５につながれた加算回路６は
、電圧制御信号Ｖに偏差信号ΔＶを加算して、次回の発
光のための新しい電圧制御信号Ｖ＋ΔＶを電源部２に供
給するので、第５図（Ｃ）に示す電源電圧Ｅは上昇し、
パルスエネルギーＰは平均的に一定に保たれる。
発明が解決しようとする課題
しかし、この様な従来のパルス光源では、パルスエネル
ギーの基準値からのばらつき量を一定に保つ機構がない
ので、長時間動作時の経時変化、ガス交換等のダイナミ
ックなレーザ状態の変化によってパルスエネルギーの基
準値からのばらつき量が変化する。そのため、出力エネ
ルギーの安定性を長時間同一の状態にしておくことが困
難であるという課題があった。
ギーの基準値からのばらつき量を一定に保つ機構がない
ので、長時間動作時の経時変化、ガス交換等のダイナミ
ックなレーザ状態の変化によってパルスエネルギーの基
準値からのばらつき量が変化する。そのため、出力エネ
ルギーの安定性を長時間同一の状態にしておくことが困
難であるという課題があった。
本発明は、以上のような課題を解決するためになされた
もので、長時間動作時の経時変化、ガス交換等のダイナ
ミックなレーザ状態の変化においても極めて安定したエ
ネルギーを供給できるパルス光源を提供するものである
。
もので、長時間動作時の経時変化、ガス交換等のダイナ
ミックなレーザ状態の変化においても極めて安定したエ
ネルギーを供給できるパルス光源を提供するものである
。
課題を解決するための手段
この課題を解決するため本発明は、パルス的に発光する
光源部と、任意の信号によって出力電圧を制御できる電
源部と、前記の信号を記憶し、発光のエネルギー値と基
準値との差と前記信号と加算する手段と、発光のエネル
ギー値と基準値との差の比例定数を外部信号によって制
御する手段と、発光のエネルギー値と基準値との差とパ
ルスエネルギーのばらつき量の基準値を比較する手段と
を具備したものである。
光源部と、任意の信号によって出力電圧を制御できる電
源部と、前記の信号を記憶し、発光のエネルギー値と基
準値との差と前記信号と加算する手段と、発光のエネル
ギー値と基準値との差の比例定数を外部信号によって制
御する手段と、発光のエネルギー値と基準値との差とパ
ルスエネルギーのばらつき量の基準値を比較する手段と
を具備したものである。
作用
この構成により、長期間動作時の経時変化、ガス交換等
のダイナミックなレーザ状態の変化においても極めて安
定したエネルギーが得られることとなる。
のダイナミックなレーザ状態の変化においても極めて安
定したエネルギーが得られることとなる。
実施例
第１図は本発明の一実施例であるパルス光源の構成概要
図である。第１図において、発光部１は電源部２からエ
ネルギーを供給され、外部トリガ信号により間欠的に発
光する。出力光の一部は半透過鏡３によってサンプルさ
れ、受光素子４に導入される。受光素子４は入射した光
のエネルギーに比例した電気信号を比較回路５へ送る。
図である。第１図において、発光部１は電源部２からエ
ネルギーを供給され、外部トリガ信号により間欠的に発
光する。出力光の一部は半透過鏡３によってサンプルさ
れ、受光素子４に導入される。受光素子４は入射した光
のエネルギーに比例した電気信号を比較回路５へ送る。
比較回路５は受光素子４から送られた信号強度を基準値
Ｖｒと比較し、増幅回路９を通して、その差に比例した
偏差信号ΔＶを加算回路６に送る。加算回路は偏差信号
ΔＶと前回の電圧制御信号Ｖと足し合わし、電源部へ送
る。従って発光毎にその内容がＶからＶ＋ΔＶになるの
で、続く発光時には前回の発光エネルギーの偏差に応じ
て出力電圧Ｅが調整されていることになる。そして比較
回路７によって偏差信号ΔＶと基準偏差信号ΔＶｒと比
較し、その差に比例した信号ΔｖＯを積分回路８の送る
。積分回路８ではΔｖＯを積算して増幅回路９に送り、
増幅回路のゲインを変える。レーザ自身のパルスエネル
ギーのばらつきが大きいときは、増幅回路９のゲインは
小さくなり、ばらつきが小さいときは増幅回路９のゲイ
ンは大きくなる。従ってレーザの状態によりパルスエネ
ルギーのばらつき量が左右されない安定したパルスエネ
ルギーが得られる。
Ｖｒと比較し、増幅回路９を通して、その差に比例した
偏差信号ΔＶを加算回路６に送る。加算回路は偏差信号
ΔＶと前回の電圧制御信号Ｖと足し合わし、電源部へ送
る。従って発光毎にその内容がＶからＶ＋ΔＶになるの
で、続く発光時には前回の発光エネルギーの偏差に応じ
て出力電圧Ｅが調整されていることになる。そして比較
回路７によって偏差信号ΔＶと基準偏差信号ΔＶｒと比
較し、その差に比例した信号ΔｖＯを積分回路８の送る
。積分回路８ではΔｖＯを積算して増幅回路９に送り、
増幅回路のゲインを変える。レーザ自身のパルスエネル
ギーのばらつきが大きいときは、増幅回路９のゲインは
小さくなり、ばらつきが小さいときは増幅回路９のゲイ
ンは大きくなる。従ってレーザの状態によりパルスエネ
ルギーのばらつき量が左右されない安定したパルスエネ
ルギーが得られる。
つぎに、第２図の波形図において本パルス光源の動作を
説明する。第２図（ａ）に出力パルスエネルギーを示す
。図中の波線は基準偏差信号ΔＶｒの下限と上限を示し
、その間が安定領域とする。また、ここでは偏差信号Δ
Ｖの絶対値を検出しているとする。前記の安定領域から
はずれると、比較回路の出力は第２図（ｂ）のようにな
る。第２図（Ｃ）は、比較回路の出力を積分した信号を
示す。第２図（ｄ）は増幅回路のゲインを表している。
説明する。第２図（ａ）に出力パルスエネルギーを示す
。図中の波線は基準偏差信号ΔＶｒの下限と上限を示し
、その間が安定領域とする。また、ここでは偏差信号Δ
Ｖの絶対値を検出しているとする。前記の安定領域から
はずれると、比較回路の出力は第２図（ｂ）のようにな
る。第２図（Ｃ）は、比較回路の出力を積分した信号を
示す。第２図（ｄ）は増幅回路のゲインを表している。
この様に、パルスのばらつきを安定させるように増幅回
路のゲインは調整され、長時間動作のガス等の経時変化
に左右されない。
路のゲインは調整され、長時間動作のガス等の経時変化
に左右されない。
第３図に本発明の第２の実施例を示す。第３図において
は第１図における積分回路が主にデジタル信号処理に用
いる計数回路１０に変わっている。これは比較したパル
スの強度よりもその頻度を重視した場合、または出力安
定機構をデジタル数値制御で行う場合等に用いる。また
、増幅回路は省略して比較回路にその機能を盛り込んで
いる。第３図においてパルスを一定にするための基本動
作は第１図の例と変わることはない。
は第１図における積分回路が主にデジタル信号処理に用
いる計数回路１０に変わっている。これは比較したパル
スの強度よりもその頻度を重視した場合、または出力安
定機構をデジタル数値制御で行う場合等に用いる。また
、増幅回路は省略して比較回路にその機能を盛り込んで
いる。第３図においてパルスを一定にするための基本動
作は第１図の例と変わることはない。
なお、加算回路は加算した結果を記憶する手段を有し、
その記憶した信号と入力信号との加算を行う。また、そ
の処理方法はアナログ信号処理。
その記憶した信号と入力信号との加算を行う。また、そ
の処理方法はアナログ信号処理。
デジタル信号処理、またはアナログ−デジタル信号のい
ずれであってもよい。
ずれであってもよい。
以上のような構成を有することにより、本発明実施例の
パルス光源は長時間動作時の経時変化。
パルス光源は長時間動作時の経時変化。
ガス交換等のダイナミックなレーザ状態の変化において
も極めて安定したエネルギーを供給できるパルス光源と
なる。
も極めて安定したエネルギーを供給できるパルス光源と
なる。
発明の詳細
な説明したように、本発明によれば、パルスエネルギー
のばらつき量をフィードバック制御することにより、パ
ルスエネルギーの安定性を飛躍的に高め、特に露光用光
源として用いた場合、露光量を精密に制御できるという
優れた効果を有するパルス光源が実現できる。
のばらつき量をフィードバック制御することにより、パ
ルスエネルギーの安定性を飛躍的に高め、特に露光用光
源として用いた場合、露光量を精密に制御できるという
優れた効果を有するパルス光源が実現できる。
第１図は本発明の一実施例であるパルス光源をの構成概
要図、第２図は本発明のパルス光源の動作を説明するた
めの波形図、第３図は本発明の第２の実施例の構成概要
図、第４図は従来のパルス光源の構成概要図、第５図は
その動作を示す波形図である。 １・・・・・・発光部、２・・・・・・電源部、３・・
・・・・半透過鏡、４・・・・・・受光素子、５・・・
・・・比較回路、６・・・・・・加算回路、７・・・・
・・比較回路、８・・・・・・積分回路、９・・・・・
・増幅回路、１０・・・・・・計数回路。
要図、第２図は本発明のパルス光源の動作を説明するた
めの波形図、第３図は本発明の第２の実施例の構成概要
図、第４図は従来のパルス光源の構成概要図、第５図は
その動作を示す波形図である。 １・・・・・・発光部、２・・・・・・電源部、３・・
・・・・半透過鏡、４・・・・・・受光素子、５・・・
・・・比較回路、６・・・・・・加算回路、７・・・・
・・比較回路、８・・・・・・積分回路、９・・・・・
・増幅回路、１０・・・・・・計数回路。
Claims (1)
- パルス的に発光する光源部と、任意の信号によって出力
電圧を制御できる電源部と、前記の信号を記憶し、発光
のエネルギー値と基準値との差と前記信号と加算する手
段と、発光のエネルギー値と基準値との差の比例定数を
外部信号によって制御する手段と、発光のエネルギー値
と基準値との差とパルスエネルギーのばらつき量の基準
値を比較する手段とを具備したことを特徴とするパルス
光源。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2077853A JPH03276782A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | パルス光源 |
| EP90117953A EP0448776B1 (en) | 1990-03-27 | 1990-09-18 | Control of output energy of pulsed light source |
| CA002025579A CA2025579C (en) | 1990-03-27 | 1990-09-18 | Control of output energy of pulsed light source |
| US07/583,940 US5134273A (en) | 1990-03-27 | 1990-09-18 | Control of output energy of a pulsed light source comprising a gas discharge laser |
| DE69016641T DE69016641T2 (de) | 1990-03-27 | 1990-09-18 | Regelungssystem für die Ausgangsenergie einer Pulslichtquelle. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2077853A JPH03276782A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | パルス光源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03276782A true JPH03276782A (ja) | 1991-12-06 |
Family
ID=13645622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2077853A Pending JPH03276782A (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | パルス光源 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5134273A (ja) |
| EP (1) | EP0448776B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03276782A (ja) |
| CA (1) | CA2025579C (ja) |
| DE (1) | DE69016641T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11214782A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-06 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置 |
| JP2008047897A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、放射源、放射源コントローラおよび制御方法 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5250797A (en) * | 1990-10-05 | 1993-10-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure method and apparatus for controlling light pulse emission using determined exposure quantities and control parameters |
| JPH07151701A (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-16 | Hajime Sangyo Kk | ストロボスコープの光量補正機能を有する検査装置 |
| US5523543A (en) * | 1994-09-09 | 1996-06-04 | Litel Instruments | Laser ablation control system and method |
| US5497001A (en) * | 1994-09-15 | 1996-03-05 | Dittler Brothers Incorporated | Flash tube devices |
| US5455837A (en) * | 1994-09-22 | 1995-10-03 | Coherent, Inc. | Flashlamp energy control circuit |
| US5609780A (en) * | 1994-11-14 | 1997-03-11 | International Business Machines, Corporation | Laser system |
| US5834750A (en) * | 1995-02-28 | 1998-11-10 | Psc, Inc. | Bar code scanning system for automatically maintaining constant the amplitude of light reflected from a bar code |
| DE19537467C1 (de) * | 1995-10-07 | 1997-02-27 | Pkl Verpackungssysteme Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen wiederkehrender Muster in kontinuierlich bewegtem Flachmaterial durch Schneiden, Perforieren oder Beschriften mittels Laserbestrahlung |
| JPH10243171A (ja) * | 1997-02-25 | 1998-09-11 | Brother Ind Ltd | 画像読取装置 |
| JPH10263859A (ja) * | 1997-03-19 | 1998-10-06 | Miyachi Technos Corp | レーザモニタ装置及びレーザ装置 |
| DE19906769A1 (de) * | 1998-02-19 | 1999-12-16 | Leica Microsystems | Überlastschutz zur Vermeidung einer Beschädigung optischer Komponenten |
| DE19823096C2 (de) * | 1998-05-22 | 2002-10-10 | Atmel Germany Gmbh | Verfahren zur Regelung einer Regelgröße und Schaltungsanordnung zur Durchführung des Verfahrens |
| US6208370B1 (en) | 1998-12-22 | 2001-03-27 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for determining the starting position and the power of a scanning light beam to be used in writing on a media |
| US6817998B2 (en) * | 1999-07-23 | 2004-11-16 | Lahaye Leon C. | Method and apparatus for monitoring laser surgery |
| TWI225190B (en) * | 2003-03-26 | 2004-12-11 | Media Tek Inc | Automatic power controller |
| CN100428103C (zh) * | 2003-04-08 | 2008-10-22 | 联发科技股份有限公司 | 自动功率控制器 |
| US20070201013A1 (en) * | 2006-02-28 | 2007-08-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and energy sensor |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4611270A (en) * | 1983-09-16 | 1986-09-09 | Questek Incorporated | Method and means of controlling the output of a pulsed laser |
| JPH0821173B2 (ja) * | 1984-07-27 | 1996-03-04 | 松下電器産業株式会社 | 半導体レ−ザ駆動回路 |
| JPS6190540A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | Olympus Optical Co Ltd | 光出力安定化装置 |
| JPS6269577A (ja) * | 1985-09-21 | 1987-03-30 | Ushio Inc | パルス放電型レ−ザの出力制御装置 |
| US4837787A (en) * | 1986-06-04 | 1989-06-06 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Semiconductor laser device with light emission inhibiting means |
| JPH0621878B2 (ja) * | 1986-07-21 | 1994-03-23 | 株式会社日立製作所 | 異物検査方法 |
| JP2548930B2 (ja) * | 1987-02-16 | 1996-10-30 | 旭光学工業株式会社 | 半導体レ−ザの光出力制御装置 |
| JPH0618422B2 (ja) * | 1987-10-20 | 1994-03-09 | 富士写真フイルム株式会社 | レーザ記録装置 |
| JPH01135082A (ja) * | 1987-11-20 | 1989-05-26 | Ricoh Co Ltd | 半導体レーザ制御装置 |
| US5026978A (en) * | 1989-01-25 | 1991-06-25 | Omron Corporation | Photoelectric switch having pulse driver circuitry |
| JPH0399484A (ja) * | 1989-09-12 | 1991-04-24 | Brother Ind Ltd | 半導体レーザ駆動回路 |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP2077853A patent/JPH03276782A/ja active Pending
- 1990-09-18 US US07/583,940 patent/US5134273A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-18 EP EP90117953A patent/EP0448776B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-18 CA CA002025579A patent/CA2025579C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-18 DE DE69016641T patent/DE69016641T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11214782A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-06 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置 |
| JP2008047897A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、放射源、放射源コントローラおよび制御方法 |
| US7868999B2 (en) | 2006-08-10 | 2011-01-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, source, source controller and control method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2025579C (en) | 1994-04-12 |
| DE69016641D1 (de) | 1995-03-16 |
| DE69016641T2 (de) | 1995-05-24 |
| CA2025579A1 (en) | 1991-09-28 |
| US5134273A (en) | 1992-07-28 |
| EP0448776A2 (en) | 1991-10-02 |
| EP0448776A3 (en) | 1992-05-06 |
| EP0448776B1 (en) | 1995-02-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6067306A (en) | Laser-illuminated stepper or scanner with energy sensor feedback | |
| US5134273A (en) | Control of output energy of a pulsed light source comprising a gas discharge laser | |
| JP2000004057A (ja) | 高信頼性、モジュラ、プロダクションクオリティ狭帯域化ＫｒＦエキシマレ―ザ | |
| US20180375283A1 (en) | Laser apparatus and extreme ultraviolet light generating system | |
| JP2022153531A (ja) | リソグラフィシステム帯域幅制御 | |
| JP3830591B2 (ja) | レーザ装置 | |
| KR20200051818A (ko) | 레이저 챔버에서 전극 수명을 연장시키기 위한 장치 및 방법 | |
| TWI773023B (zh) | 用於深紫外線（ｄｕｖ）光學微影之系統及方法、控制光學源裝置之方法、及用於光學源裝置之控制模組 | |
| US5369655A (en) | Output control method for laser system | |
| CN115210970B (zh) | 用于光源的控制系统 | |
| TWI856281B (zh) | 光學系統、控制系統、及用於光學系統之操作方法 | |
| JP7648994B2 (ja) | レーザ装置、レーザ発振方法及び電子デバイスの製造方法 | |
| KR20200037401A (ko) | 포토리소그래피를 위한 디더 프리 적응형 로버스트 선량 제어 방법 | |
| Ariga et al. | Development of a 5-kHz ultra-line-narrowed F2 laser for dioptric projection systems | |
| CN117441274A (zh) | 用于产生脉冲输出光束的脉冲的磁开关网络的电子模块 | |
| JPH0316287A (ja) | パルス光源 | |
| JPS61154128A (ja) | 露光装置 | |
| JP3428966B2 (ja) | 露光量制御装置 | |
| JPS60162258A (ja) | 露光装置 | |
| JPS62162379A (ja) | パルスレ−ザ | |
| Ariga et al. | Ultra-Line-Narrowed High Power F2 Laser System for Microlithography | |
| TW202414101A (zh) | 脈衝雷射及操作方法 | |
| JP2001320118A (ja) | レーザ装置 | |
| JPH11214782A (ja) | エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置 | |
| JPH0738191A (ja) | パルスガスレーザ発振装置 |