JPH03293712A - 半導体ウェーハの処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 半導体ウェーハの処理装置、特に多品種少量生産の場合
のフォト工程の処理装置に関し、納期遅れの発生を抑え
且つ生産効率向上が可能な半導体ウェーハの処理装置を
提供することを目的とし、 ウェーハストッカと、レチクルストッカと、それぞれ複
数個のレチクルを収容可能なレチクルチェンジャを備え
た複数の露光装置と、システム制御装置と、を有し、該
システム制御装置は、少なくとも該ウェーハストッカ内
に格納中の総てのつニーム・ロフトの処理緊急性及びウ
ェーハ枚数と、個々のレチクルの所在と、個々の露光装
置の稼働状況と、個々のレチクルチェンジャの収容余裕
数と、を前記の各部と通信して常時把握し、予めプログ
ラムした手順に従って該ウェーハストッカ内に格納中の
ウェーハ・ロットの処理優先順を決定すると共にウェー
ハ・ロット毎に使用する露光装置を特定し、ウェーハ・
ロットを前記の処理優先順に従って前記の特定した露光
装置に搬送せしめると同時或いはそれ以前にレチクルを
前記の特定した露光装置のレチクルチェンジャに搬送せ
しめるように構成する。

〔産業上の利用分野］ 本発明は、半導体ウェーハの処理装置、特に多品種少量
生産の場合のフォト工程（レジストパターン形成工程）
の処理装置に関する。

近年、特定用途向けＩＣの需要が非常に多くなっている
が、このうちゲートアレイ等のセミカスタムＩＣでは極
端な多品種少量の生産となることが多く、しかも極端な
短納期を要求されることが多い。従ってこのような品種
を集中的に生産する処理装置では、特に処理期間を短縮
して納期遅れの発生を抑え、且つ生産効率を向上するこ
とが望まれている。

〔従来の技術〕

半導体ウェーハのリソグラフィ工程の内、フォト工程（
レジストパターンを形成する工程）は概ね次のように進
められる。レジスト塗布→プリベーキング→露光→現像
→ボストベーキング。このフォト工程の従来の処理装置
の構成を第３図により説明する。１はウェーハストッカ
であり、前工程からウェーハ・ロット単位でウェーハキ
ャリアに収納されて搬送されて来たウェーハを一旦これ
に格納する。２はレチクルストッカであり、この作業場
で使用する予定のあるレチクルを一旦これに格納する。

３はいずれも自動露光ラインであり、それぞれ１台の露
光装置４を核にし、上記のレジスｌ布からポストヘーキ
ングまでを連続して処理するインライン方式の自動化ラ
インである。露光装置４はいずれも縮小投影型であるが
、メーカ等の異なる複数の機種があり、各機種について
複数台数が設置されている。この機種が異なると通常レ
チクルの互換性がない。各露光装置４にはそれぞれレチ
クルチェンジャ５を備えており、ここに１５〜２０枚の
レチクルが収納出来る。ラニーハストラカニと各自動露
光ライン３、及びレチクルストッカ２と各レチクルチェ
ンジャ５の間には、それぞれウェーハ搬送路６及びレチ
クル搬送路７が敷設されている。

以上のように構成された従来の装置の運用手順を第４図
により説明する。成るウェーハ・ロットがウェーハスト
ッカ１に入庫されると、使用するレチクルを装着出来る
露光装置４の機種が何であるかをチエツクシートにより
検索し、その機種の内のどの露光装置（即ちどの自動露
光ライン）を使用するかを特定する。この際、使用する
レチクルが既にレチクルチェンジャ５に収容されておれ
ば（以前に使用してそのまま留置しである場合）その装
置に決定し、もしなければレチクルチェンジャ５の収容
余裕、自動露光ライン３全体の稼働状１５？、（正常な
稼働が可能な状態か否か等）をチエツクして装置を特定
する。後者の場合は、直ちにそのレチクルをレチクルス
トシカ２から特定した露光装置４のレチクルチェンジャ
５に搬送しておく。ウェーハ・ロットは、特定された自
動露光ライン３が空きの状態になれば原則として入庫順
にその自動露光ライン３に搬送する。但し特急処理を指
定されたウェーハ・ロットは入庫順に従わずに優先して
出庫する。自動露光ライン３内ではウェーハ枚葉で処理
する。最初の一枚が前処理を終えて露光装置４に到達す
るまでに所定のレチクルをレチクルチェンジャ５から露
光装置４にセットしておく。ウェーハを順次露光し、そ
のウェーハ・ロットの全ウェーハの露光が完了するとそ
のレチクルをレチクルチェンジャ５に収容し、更にレチ
クルストッカ２に戻すが、近々再使用の予定が明らかな
らばレチクルチェンジャ５に留置する。

ウェーハは自動露光ライン３内の残りの処理を完了した
後、再びウェーハキャリアに収容されて次工程に搬送さ
れる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところがこのような従来の処理装置によりｆ品種少量生
産を行う場合、■ウェーハ・ロットの処理順は特急ロッ
ト以外は入庫順に出庫されるため、処理の進捗が遅れて
いるウェーハ・ロットの遅れ回復が困難である、■使用
露光装置が特定され、且つレチクルチェンジャに一つで
も空きがあれば直ちにレチクルをレチクルチェンジャに
搬送するため、レチクルチェンジャに収容余裕がなくな
って特急ロフトの割り込みに支障を来すことがある、■
ウェーハ・ロット出庫時に搬送先の露光装置のレチクル
チェンジャに使用するレチクルがあることを確認する機
能がないため、ウェーハを露光する時点でそのレチクル
がレチクルチェンジャに収容されていなかったり、他の
露光装置のレチクルチェンジャに収容されていたりする
ことがあり、流れを停滞させることがある、■ウェーハ
・ロット毎の使用露光装置決定に際してそのロットのウ
ェーハ枚数を勘案する機能がないため、個々の露光装置
の負荷に差を生じ易い、等の理由で納期遅れを生じたり
生産効率を低下させる、という問題があった。

本発明は、このような問題を解決して、納期遅れの発生
を抑え且つ生産効率を向上させることが可能な半導体ウ
ェーハの処理装置を提供することことを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この目的は、本発明によれば、ウェーハストッカと、レ
チクルストッカと、それぞれ複数個のレチクルを収容可
能なレチクルチェンジャを備えた複数の露光装置と、シ
ステム制御装置と、を有し、該システム制御装置は、少
なくとも該ウェーハストッカ内に格納中の総てのウェー
ハ・ロットの処理緊２．性及びウェーハ枚数と、個々の
レチクルの所在と、個々の露光装置の稼働状況と、個々
のレチクルチェンジャの収容余裕数と、を前記の各部と
通信して常時把握し、予めプログラムした手順に従って
該ウェーハストッカ内に格納中のウェーハ・ロットの処
理優先順を決定すると共にウェーハ・ロット毎に使用す
る露光装置を特定し、ウェーハ・ロットを前記の処理優
先順に従って前記の特定した露光装置に搬送せしめると
同時或いはそれ以前にレチクルを前記の特定した露光装
置のレチクルチェンジャに搬送せしめるように構成され
ていることを特徴とする半導体ウェーハの処理装置とす
ることで、達成される。

〔作用］ ■システム制御装Ｗ８は、ウェーハストン力１内に格納
中の総てのウェーハ・ロットの処理緊急性及びウェーハ
枚数、個々のレチクルの所在、個々の自動露光ライン３
の稼働状況、個々のレチクルチェンジャ５の収容余裕数
、の情報を基にウェーハストッカｌ内に格納中のウェー
ハ・ロットの処理優先順を決定すると共にウェーハ・ロ
ット毎に使用する露光装置４（即ち自動露光ライン３）
を特定するため、特装、処理指定ロフトの他に進捗遅れ
ロフト等を優先させることが可能となると共に個々の自
動露光ラインの負荷をバランスさせることが可能となる
。

■システム制御装置８は、個々のレチクルチェンジャ５
の収容余裕数の情報を基に収容余裕を持たせて使用する
露光装置４を特定するため、特急ロットの割り込みが常
に可能となる。

■システム制御装置８は、ウェーハ・ロットの出庫指令
とレチクルの出庫指令を同時に行うため、ウェーハ露光
開始とレチクル装着のタイミングの同期化の確保が可能
となる。

以上の結果、工程の流れの停滞が抑えられ、多数のロッ
トの納期を同時に満足させることが可能となると共に、
生産効率が向上する。

〔実施例〕

本発明に基づく半導体ウェーハの処理装置の実施例を第
１図及び第２図により説明する。先ず第１図により本発
明の実施例の装置構成を説明する。

１はうェーハストツカであり、前工程からウェーハ・ロ
ット単位でウェーハキャリアに収納されて搬送されて来
たウェーハを一旦これに収容する。

２はレチクルストッカであり、この作業場で使用する予
定のあるレチクルを一旦これに収容する。

３はいずれも自動露光ラインであり、それぞれ１台の露
光装置４を核にし、上記のレジスト塗布からポストベー
キングまでを連続して処理するインライン方式の自動化
ラインである。露光装置４はいずれも縮小投影型である
が、メーカ等の異なる複数の機種があり、各機種につい
て複数台数が設置されている。この機種が異なると通常
レチクルの互換性がない。各露光装置４にはそれぞれレ
チクルチェンジャ５を備えており、ここに１５〜２０枚
のレチクルが収納出来る。ウェーハストッカ１と各自動
露光ライン３、及びレチクルストッカ２と各レチクルチ
ェンジャ５の間には、それぞれウェーハ搬送路６及びレ
チクル搬送路７が敷設されている。８は上記各部と通信
し上記各部を制御するシステム制御装置であり、コンピ
ュータを備えている。その機能は次の第２図により運用
手順と共に説明する。

第２図は本発明の実施例の装置運用手順である。

成るウェーハ・ロットがウェーハストッカ１に入庫され
ると、そのウェーハ・ロットのＩＤのバーコードをその
ウェーハストッカ１が有するバーコードリーダ（図示は
省略）が読み取ってシステム制御装置８に通知され、こ
の時点からこのウェーハ・ロットはこのシステム制御装
置８に管理される。システム制御装置８は先ずそのウェ
ーハ・ロットの処理の緊急性（特急処理を指定されてい
るか、工程の進捗が遅れているか、納期遅れが許容され
るか、等）を、既にウェーハストッカ１に格納されてい
る他のウェーハ・ロットのそれと比較して、処理優先順
を算定する。次に使用するレチクルのＩＤと、そのレチ
クルが使用出来る露光装置４の機種を検索し、更にその
機種の内のどの露光装置（即ちどの自動露光ライン）を
使用するかを特定する。この際、使用するレチクルが既
にレチクルチェンジャ５に収容されておれば（以前に使
用してそのまま留置しである場合）その装置に決定し、
もしなければレチクルチェンジャ５の収容余裕、自動露
光ライン３全体の稼働状況（正常な稼働が可能な状態か
否か等）をチエツクした上、各ウェーハ・ロットのウェ
ーハ枚数と処理優先順を勘案して装置を特定する。但し
、レチクルチェンジャ５には所定の収容余裕（例えば３
個）を確保する。このようにして露光装置別のスケジュ
ーリングを行うが、これは新規のウェーハ・ロットがウ
ェーハストッカ１に入庫する都度、更新する。

特定した自動露光ライン３が空き次第、使用するレチク
ルの所在を確認した上、先に算定した最新の処理優先順
に従ってウェーハ・ロットの出庫を指令し、特定した自
動露光ライン３へ搬送させる。

一方、成るレチクルがレチクルストッカ２に入庫される
と、そのレチクルのＩＤのバーコードをそのレチクルス
トッカ１が有するバーコードリーダ（図示は省略）が読
み取ってシステム制御装置８に通知され、この時点から
このレチクルはこのシステム制御装置８に管理される。

システム制御装置８はそのレチクルを使用するウェーハ
・ロットの出庫を指令する際に、そのレチクルに対して
もレチクルストッカ２からの出庫を指令し、特定した露
光装置４のレチクルチェンジャ５へ搬送させる。レチク
ルは移動の都度、その所在がシステム制御装置８に通知
される。

自動露光ライン３内ではウェーハ枚葉で処理され、最初
の一枚が前処理を終えて露光装置４に到達した時点でシ
ステム制御装置８は所定のレチクルをレチクル・チェン
ジャ５から露光装置４にセットさせ、露光を開始させる
。そのウェーハ・ロットの全ウェーハの露光が完了する
とそのレチクルをレチクルチェンジャ５に収容させる。

ここでそのし・チクルの使用予定をチエツクし、再使用
の予定があればそのまま留置し、予定がなければレチク
ルストッカ２に戻させる。一方、自動露光ライン３内の
残りの処理を完了したウェーハを、再びウェーハキャリ
アに収容して次工程に搬送させる。

以上のようにシステム制御装置８は、ウェーハストッカ
ｌ内に格納されている総てのウェーハ・ロットの処理緊
急性及びウェーハ枚数、個々のレチクルの所在、個々の
自動露光ライン３の稼働状況、個々のレチクルチェンジ
ャ５の収容余裕数、等を前記の各部と通信して常時把握
し、ウェーハストッカ１内に格納されているウェーハ・
ロットの処理優先順を決定すると共にウェーハ・ロット
毎に使用する露光装置４（即ち自動露光ライン３）を特
定し、ウェーハ・ロットを前記の処理優先順に従って前
記の特定した露光装置４に搬送せしめると同時或いはそ
れ以前にレチクルを前記の特定した露光装置４のレチク
ルチェンジャ５に搬送せしめる、等の機能を有すると他
、自動露光ライン３内の各装置に対して処理開始の指令
や、処理条件の指示等を行う機能も有している。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、多品種少量生産
の場合の半導体装置のフォト工程において、納期遅れを
抑え且つ生産効率を向上させることが可能な半導体ウェ
ーへの処理装置を提供することが出来、短納期の実現と
コストの低減に寄与するところが大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の概略装置構成図、第２図は本
発明の実施例の装置運用手順、第３図は従来の装置の概
略構成図、 第４図は従来の装置の運用手順、である。 図中、１はウェーハストッカ、 ２はレチクルストッカ、 ３は自動露光ライン、 ４は露光装置、 ５はレチクルチェンジャ、 ８はシステム制御装置、である。 本発明の実施例の装置概略端戊凶 第 図 ウェーへ口、ト レチクル 本発明の藁児例の装ｙＬ１用千順 第 圓 ィ疋未の装置の１用千ノ恢

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　レチクルのパターンを半導体ウェーハ上に露光する装
   置であって、 ウェーハストッカ（１）と、レチクルストッカ（２）と
   、それぞれ複数個のレチクルを収容可能なレチクルチェ
   ンジャ（５）を備えた複数の露光装置（４）と、システ
   ム制御装置（８）と、を有し、 該システム制御装置（８）は、少なくとも該ウェーハス
   トッカ（１）内に格納中の総てのウェーハ・ロットの処
   理緊急性及びウェーハ枚数と、個々のレチクルの所在と
   、個々の露光装置（４）の稼働状況と、個々のレチクル
   チェンジャ（５）の収容余裕数と、を前記の各部と通信
   して常時把握し、予めプログラムした手順に従って該ウ
   ェーハストッカ（１）内に格納中のウェーハ・ロットの
   処理優先順を決定すると共にウェーハ・ロット毎に使用
   する露光装置（４）を特定し、 ウェーハ・ロットを前記の処理優先順に従って前記の特
   定した露光装置（４）に搬送せしめると同時或いはそれ
   以前にレチクルを前記の特定した露光装置（４）のレチ
   クルチェンジャ（５）に搬送せしめるように構成されて
   いること、を特徴とする半導体ウェーハの処理装置。