JPH0332023A - ウェット処理マシン - Google Patents
ウェット処理マシンInfo
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- JPH0332023A JPH0332023A JP16765589A JP16765589A JPH0332023A JP H0332023 A JPH0332023 A JP H0332023A JP 16765589 A JP16765589 A JP 16765589A JP 16765589 A JP16765589 A JP 16765589A JP H0332023 A JPH0332023 A JP H0332023A
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- processing
- transport
- processing tank
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ワーク例えばシリコンウェハ等の半導体基板
を加工・洗浄など種々の処理槽内に搬送して種々の処理
を行うウェット処理マシンに関する。
を加工・洗浄など種々の処理槽内に搬送して種々の処理
を行うウェット処理マシンに関する。
従来の技術
従来、この種のウェット処理マシンは種々の構造のもの
が知られている。例えば、クリーンルーム内において、
エツチング加工・洗浄などの各処理槽を一直線上に配置
し、上記処理槽に沿って搬送装置により基板を処理槽内
に浸漬して所定の処理を行ったのち、次の処理槽まで搬
送装置で搬送し当該処理装置内に浸漬して所定の処理を
行うように構成したものがある。上記搬送装置は、各処
理槽沿いに搬送する搬送台と、この搬送台に支持されか
つ基板を収納したケースを把持及び把持解除するチャッ
ク手段とを備える。このようなウェット処理マシンでは
、1つの搬送装置で所定数の処理槽間で基板を搬送した
のち、次の搬送装置でさらに上記基板を他の処理槽に搬
送する構成が取られている。すなわち、例えば、処理槽
が3個の場合、第1処理槽と第2処理槽との間では第1
搬送装置で基板を搬送し、第2処理槽と第3処理槽との
間では第2搬送装置で基板を搬送するようにしている。
が知られている。例えば、クリーンルーム内において、
エツチング加工・洗浄などの各処理槽を一直線上に配置
し、上記処理槽に沿って搬送装置により基板を処理槽内
に浸漬して所定の処理を行ったのち、次の処理槽まで搬
送装置で搬送し当該処理装置内に浸漬して所定の処理を
行うように構成したものがある。上記搬送装置は、各処
理槽沿いに搬送する搬送台と、この搬送台に支持されか
つ基板を収納したケースを把持及び把持解除するチャッ
ク手段とを備える。このようなウェット処理マシンでは
、1つの搬送装置で所定数の処理槽間で基板を搬送した
のち、次の搬送装置でさらに上記基板を他の処理槽に搬
送する構成が取られている。すなわち、例えば、処理槽
が3個の場合、第1処理槽と第2処理槽との間では第1
搬送装置で基板を搬送し、第2処理槽と第3処理槽との
間では第2搬送装置で基板を搬送するようにしている。
一方、各処理槽においては、複数の処理液を秤量槽で適
宜秤量したのち、所定の処理槽に供給するようにしてい
る。これは、各処理槽内で秤量することも可能であるが
、秤量誤差が生じやすくこの誤差により基板の処理に大
きな影響が生じるため、秤量槽を別に設け、この秤量槽
より処理槽に秤量された処理液を供給管を介して供給す
るようにしている。
宜秤量したのち、所定の処理槽に供給するようにしてい
る。これは、各処理槽内で秤量することも可能であるが
、秤量誤差が生じやすくこの誤差により基板の処理に大
きな影響が生じるため、秤量槽を別に設け、この秤量槽
より処理槽に秤量された処理液を供給管を介して供給す
るようにしている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記構造のものでは、上記秤量槽から処
理槽へ秤量した処理液を供給する上記供給管を、上記搬
送装置の移動を妨げることなくかつ必要以上に長くなら
ずに配置することが困難であるといった問題があった。
理槽へ秤量した処理液を供給する上記供給管を、上記搬
送装置の移動を妨げることなくかつ必要以上に長くなら
ずに配置することが困難であるといった問題があった。
すなわち、一般にクリーンルームは非常に高価なもので
あるため、全体的に可能な限り小さ(設計されており、
各処理槽の一方側にしか、搬送装置の移動スペース並び
に秤量槽の配置スペースが用意されていないことが多い
。従って、秤量槽を上記−吉例の上方に配置する一方、
その下方に上記搬送装置を配置すると、上記各秤量槽の
供給管は、それらをできるだけ短くするため、上記搬送
装置の搬送方向を横切るように配置することになり、搬
送装置の搬送経路を妨げることになる。
あるため、全体的に可能な限り小さ(設計されており、
各処理槽の一方側にしか、搬送装置の移動スペース並び
に秤量槽の配置スペースが用意されていないことが多い
。従って、秤量槽を上記−吉例の上方に配置する一方、
その下方に上記搬送装置を配置すると、上記各秤量槽の
供給管は、それらをできるだけ短くするため、上記搬送
装置の搬送方向を横切るように配置することになり、搬
送装置の搬送経路を妨げることになる。
そこで、搬送装置の搬送経路の下方に上記供給管を配置
して、搬送装置の搬送を妨げないようにすることが考え
られる。しかしながら、搬送装置の搬送の際の発生する
ゴミが上記処理槽内に落下するという不具合が生じる。
して、搬送装置の搬送を妨げないようにすることが考え
られる。しかしながら、搬送装置の搬送の際の発生する
ゴミが上記処理槽内に落下するという不具合が生じる。
よって、上記搬送装置は下方に配置する一方、秤量槽か
らの上記供給管は、上記搬送装置の搬送経路の上方に配
置して大きく迂回させなければならず、供給管が必要以
上に長尺なものとなるとともに、液溜まりが生じやすく
なるといった問題があった。
らの上記供給管は、上記搬送装置の搬送経路の上方に配
置して大きく迂回させなければならず、供給管が必要以
上に長尺なものとなるとともに、液溜まりが生じやすく
なるといった問題があった。
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあ
って、秤量された処理液を秤量槽から処理槽に供給する
上記供給管を必要最小限に短くすることができて、液溜
まりを少なくすることができるウェット処理マシンを提
供することにある。
って、秤量された処理液を秤量槽から処理槽に供給する
上記供給管を必要最小限に短くすることができて、液溜
まりを少なくすることができるウェット処理マシンを提
供することにある。
課題を ゛するための
上記目的を達成するために、本発明は、複数の処理槽に
沿って配置された複数の搬送装置の搬送経路において、
隣接する搬送装置がワークの受は渡しを行う部分におい
て、上記搬送台に対して上記チャック手段を支持する支
持部の配置を工夫して、隣接する搬送装置の両支持部の
停止位置間にいずれの支持部にも接触しない空間を形成
し、該空間に上記秤量槽からの供給管を配置するように
構成した。すなわち、少なくとも3個の処理槽を大略一
直線上に配置し、上記処理槽のうち所望の処理槽に対し
て秤量槽より秤量された処理液を供給管を介して供給す
る一方、少なくとも2つの搬送装置を上記中なくとも3
個の処理槽の一側に配置して各搬送装置が上記処理槽の
うち少なくとも隣接する2つの処理槽間でワークを把持
し各処理槽に対して搬入及び搬出を行い、上記中なくと
も3個の処理槽のうち少なくとも1つの処理槽に対して
上記複数の搬送装置のうち隣接する搬送装置が共に上記
1つの処理槽のワーク搬入搬出位置で停止して上記ワー
クを上記1つの処理槽内に搬入及び搬出を行うようにし
たウェット処理マシンにして、上記搬送装置は、上記中
なくとも3個の処理槽の一側を上記中なくとも隣接する
2つの処理槽間で走行する搬送台と、該搬送台の上方に
配置されたチャック手段支持部と、該支持部にアームを
介して支持されかつ上記ワークを把持して上記処理槽内
に上記ワークを搬入及び搬出するチャック手段とを備え
、上記隣接する搬送装置において、各支持部は、各搬送
台に対してその搬送経路方向の中心位置より上記隣接す
る搬送装置とは反対側の位置に互いに偏らせて配置し、
上記搬入搬出位置において上記隣接する搬送装置のうち
上記一方の搬送装置の支持部と他方の搬送装置の支持部
との間に、いずれの支持部とも接触せずかつ上記搬送装
置の搬送方向を横切る空間を形成し、この空間内に上記
供給管を配置するように構成した。
沿って配置された複数の搬送装置の搬送経路において、
隣接する搬送装置がワークの受は渡しを行う部分におい
て、上記搬送台に対して上記チャック手段を支持する支
持部の配置を工夫して、隣接する搬送装置の両支持部の
停止位置間にいずれの支持部にも接触しない空間を形成
し、該空間に上記秤量槽からの供給管を配置するように
構成した。すなわち、少なくとも3個の処理槽を大略一
直線上に配置し、上記処理槽のうち所望の処理槽に対し
て秤量槽より秤量された処理液を供給管を介して供給す
る一方、少なくとも2つの搬送装置を上記中なくとも3
個の処理槽の一側に配置して各搬送装置が上記処理槽の
うち少なくとも隣接する2つの処理槽間でワークを把持
し各処理槽に対して搬入及び搬出を行い、上記中なくと
も3個の処理槽のうち少なくとも1つの処理槽に対して
上記複数の搬送装置のうち隣接する搬送装置が共に上記
1つの処理槽のワーク搬入搬出位置で停止して上記ワー
クを上記1つの処理槽内に搬入及び搬出を行うようにし
たウェット処理マシンにして、上記搬送装置は、上記中
なくとも3個の処理槽の一側を上記中なくとも隣接する
2つの処理槽間で走行する搬送台と、該搬送台の上方に
配置されたチャック手段支持部と、該支持部にアームを
介して支持されかつ上記ワークを把持して上記処理槽内
に上記ワークを搬入及び搬出するチャック手段とを備え
、上記隣接する搬送装置において、各支持部は、各搬送
台に対してその搬送経路方向の中心位置より上記隣接す
る搬送装置とは反対側の位置に互いに偏らせて配置し、
上記搬入搬出位置において上記隣接する搬送装置のうち
上記一方の搬送装置の支持部と他方の搬送装置の支持部
との間に、いずれの支持部とも接触せずかつ上記搬送装
置の搬送方向を横切る空間を形成し、この空間内に上記
供給管を配置するように構成した。
また、上記構成においては、上記各搬送装置の上記支持
部と上記アームと上記チャック手段が昇降して上記ワー
クを各処理槽に対して搬入及び搬出を行うように構成す
ることもできる。
部と上記アームと上記チャック手段が昇降して上記ワー
クを各処理槽に対して搬入及び搬出を行うように構成す
ることもできる。
また、上記構成においては、上記1つの処理槽のワーク
搬入搬出位置では、隣接する上記搬送装置の上記チャッ
ク手段が同一位置に位置して上記ワークの搬入及び搬出
を行うように構成することもできる。
搬入搬出位置では、隣接する上記搬送装置の上記チャッ
ク手段が同一位置に位置して上記ワークの搬入及び搬出
を行うように構成することもできる。
発明の作用・効果
上記構成によれば、上記隣接する搬送装置において、各
搬送装置の搬送台に対して隣接する搬送装置とは反対側
に上記支持部を配置するようにして、上記中なくとも3
個の処理槽のうち少なくとも1つの処理槽に対して上記
隣接する搬送装置が共にワーク搬入搬出位置で停止する
とき、いずれの搬送装置の支持部にも接触することがな
くかつ上記搬送装置の搬送方向を横切る空間を形成する
ことができるようにし、この空間内に上記供給管を配置
したので、各供給管が上記搬送装置に接触することなく
、すなわち搬送装置の搬送を全く妨げることなく上記供
給管を配置することができる。
搬送装置の搬送台に対して隣接する搬送装置とは反対側
に上記支持部を配置するようにして、上記中なくとも3
個の処理槽のうち少なくとも1つの処理槽に対して上記
隣接する搬送装置が共にワーク搬入搬出位置で停止する
とき、いずれの搬送装置の支持部にも接触することがな
くかつ上記搬送装置の搬送方向を横切る空間を形成する
ことができるようにし、この空間内に上記供給管を配置
したので、各供給管が上記搬送装置に接触することなく
、すなわち搬送装置の搬送を全く妨げることなく上記供
給管を配置することができる。
よって、秤量槽から秤量された処理液を所望の処理槽内
に供給管を介して供給することができ、供給管を必要最
小限に短かくすることができて、液溜まりを少なくする
ことができる。また、上記構成によれば、上記中なくと
も3個の処理槽のうち少なくとも1つの処理槽に対して
上記複数の搬送装置のうち隣接する搬送装置が共にワー
ク搬入搬出位置で停止して上記ワークを上記処理槽内に
搬入及び搬出を行うようにしたので、隣接する搬送装置
を上記処理槽に対して異なる位置で夫々停止させて上記
ワークに対する搬入搬出作用を行わせるものと比較して
、上記処理槽での搬送装置の搬入搬出位置を1つにして
スペース的に節約することができるとともに、上記搬送
装置を上記搬入搬出位置で停止させるための機構、例え
ば、位置センサなどの個数を減らすことができる。
に供給管を介して供給することができ、供給管を必要最
小限に短かくすることができて、液溜まりを少なくする
ことができる。また、上記構成によれば、上記中なくと
も3個の処理槽のうち少なくとも1つの処理槽に対して
上記複数の搬送装置のうち隣接する搬送装置が共にワー
ク搬入搬出位置で停止して上記ワークを上記処理槽内に
搬入及び搬出を行うようにしたので、隣接する搬送装置
を上記処理槽に対して異なる位置で夫々停止させて上記
ワークに対する搬入搬出作用を行わせるものと比較して
、上記処理槽での搬送装置の搬入搬出位置を1つにして
スペース的に節約することができるとともに、上記搬送
装置を上記搬入搬出位置で停止させるための機構、例え
ば、位置センサなどの個数を減らすことができる。
寒皇鯉
以下に、本発明にかかる実施例を第■〜3図に基づいて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
本実施例にかかるウェット処理マシンは、第1図に示す
ように、ワークとしてのシリコンウェハ等半導体基板を
エツチング処理及び洗浄処理等行うためのものである。
ように、ワークとしてのシリコンウェハ等半導体基板を
エツチング処理及び洗浄処理等行うためのものである。
すなわち、上記マシンは、5個の処理槽、すなわち第1
.第2.第3.第4.第5処理槽1,2,3,4.5を
大略一直線上に配置し、上記処理槽1,2,3,4.5
のうち所望の処理槽、例えば第2処理2と第4処理槽4
に対して秤量槽8,9,10;11,12より秤量され
た処理液を例えば、自然落下(自重)またはポンプによ
り夫々供給管15.・・・、[5を介して上記処理槽2
.4に供給する一方、2つの搬送装置6,7を上記処理
槽1.2,3,4.5の一側に配置して各搬送装置6゜
7が複数の上記半導体基板を収納したキャリア14を把
持して各処理槽!、2,3,4.5に対して該キャリア
14を搬入または搬出して所望の処理を行うようにして
いる。
.第2.第3.第4.第5処理槽1,2,3,4.5を
大略一直線上に配置し、上記処理槽1,2,3,4.5
のうち所望の処理槽、例えば第2処理2と第4処理槽4
に対して秤量槽8,9,10;11,12より秤量され
た処理液を例えば、自然落下(自重)またはポンプによ
り夫々供給管15.・・・、[5を介して上記処理槽2
.4に供給する一方、2つの搬送装置6,7を上記処理
槽1.2,3,4.5の一側に配置して各搬送装置6゜
7が複数の上記半導体基板を収納したキャリア14を把
持して各処理槽!、2,3,4.5に対して該キャリア
14を搬入または搬出して所望の処理を行うようにして
いる。
上記各処理槽1,2,3.4.5は隣接する処理槽とは
互いに分離壁16に隔離されている。
互いに分離壁16に隔離されている。
上記2つの搬送装置6.7は、上記第1.第2゜第3処
理槽1.2.3間で搬送する第1搬送装置6と、第3.
第4.第5処理槽3,4.5間で搬送する第2搬送装置
7とよりなる。各搬送装置6.7は、上記所定の処理槽
1,2,3.3.4.5の一側の搬送床13上を搬送方
向に前後動する搬送台6a、7aと、該搬送台6 a、
7 aより上方に延びた昇降軸6b、7bと、該昇降
軸6 b、 7 bの上部に固定されたチャッキング駆
動部6cと、該チャッキング駆動部6cより上記処理槽
側に延びたアーム6dと、該アーム6dの先端に配置さ
れたチャック6eとを備える。
理槽1.2.3間で搬送する第1搬送装置6と、第3.
第4.第5処理槽3,4.5間で搬送する第2搬送装置
7とよりなる。各搬送装置6.7は、上記所定の処理槽
1,2,3.3.4.5の一側の搬送床13上を搬送方
向に前後動する搬送台6a、7aと、該搬送台6 a、
7 aより上方に延びた昇降軸6b、7bと、該昇降
軸6 b、 7 bの上部に固定されたチャッキング駆
動部6cと、該チャッキング駆動部6cより上記処理槽
側に延びたアーム6dと、該アーム6dの先端に配置さ
れたチャック6eとを備える。
上記昇降軸6 b、 7 bと上記チャッキング駆動部
6cとで支持部を構成する。上記第1搬送装置6の上記
昇降軸6bは、上記搬送台6aの搬送方向中心部に対し
て上記第2搬送装置7より遠ざかる側に、すなわち第2
図では右側に偏心させて配置する。
6cとで支持部を構成する。上記第1搬送装置6の上記
昇降軸6bは、上記搬送台6aの搬送方向中心部に対し
て上記第2搬送装置7より遠ざかる側に、すなわち第2
図では右側に偏心させて配置する。
一方、上記第2搬送装置7の上記昇降軸7bは、上記搬
送台7aの搬送方向中心部に対して上記第1搬送装置6
より遠ざかる側に、すなわち第2図では左側に偏心させ
て配置する。この場合、いずれのチャッキング駆動部6
c、7cも上記搬送台6a。
送台7aの搬送方向中心部に対して上記第1搬送装置6
より遠ざかる側に、すなわち第2図では左側に偏心させ
て配置する。この場合、いずれのチャッキング駆動部6
c、7cも上記搬送台6a。
7aの上記搬送方向中心部に配置して、上記昇降軸6
b、 7 bのみが搬送台6 g、 7 a及びチャッ
キング駆動部6c、7cなどの他の部材に対して偏心さ
せるようにする。ここで、第2図に、第1搬送装置6が
第3処理槽3の搬入搬出位置に位置したとき、その昇降
軸6aを実線で示し、第2搬送装置7が第3処理槽3の
搬入搬出位置に位置したとき、その昇降軸7aを一点鎖
線で示す。従って、この搬入搬出位置では、上記第1搬
送装置6と上記第2搬送装置7の両昇降軸6 b、 ?
b間に一定間隔でかつ上記搬送方向を横切る空間20
が形成される。
b、 7 bのみが搬送台6 g、 7 a及びチャッ
キング駆動部6c、7cなどの他の部材に対して偏心さ
せるようにする。ここで、第2図に、第1搬送装置6が
第3処理槽3の搬入搬出位置に位置したとき、その昇降
軸6aを実線で示し、第2搬送装置7が第3処理槽3の
搬入搬出位置に位置したとき、その昇降軸7aを一点鎖
線で示す。従って、この搬入搬出位置では、上記第1搬
送装置6と上記第2搬送装置7の両昇降軸6 b、 ?
b間に一定間隔でかつ上記搬送方向を横切る空間20
が形成される。
この空間20内には、上記秤量槽8,9,10,11.
12から第2処理槽2及び第4処理槽4に向かう供給管
15.・・・、15が配置されており、各供給管15は
上記各搬送装置6,7の昇降軸6b、7bとは全く接触
することがなく、搬送装置6.7の搬送を妨げないよう
になっている。一方、上記チャッキング駆動部6cとア
ーム6dとチャック6eは一体的に上記昇降軸6 b、
7 bの昇降駆動により上下動し、この上下動により
、上記チャック6eで把持されたキャリア14を各処理
槽内に搬入する一方、処理後、各処理槽内のキャリア1
4を上記チャック6eで把持して該処理槽外でかつ上記
分離壁16より上方まで上記キャリア14を吊り上げて
、次の処理槽または処理工程に搬出するようにしている
。なお、上記昇降軸などの最下端位置を第2.3図に実
線で示しており、最上端位置を第3図に一点鎖線で示す
。
12から第2処理槽2及び第4処理槽4に向かう供給管
15.・・・、15が配置されており、各供給管15は
上記各搬送装置6,7の昇降軸6b、7bとは全く接触
することがなく、搬送装置6.7の搬送を妨げないよう
になっている。一方、上記チャッキング駆動部6cとア
ーム6dとチャック6eは一体的に上記昇降軸6 b、
7 bの昇降駆動により上下動し、この上下動により
、上記チャック6eで把持されたキャリア14を各処理
槽内に搬入する一方、処理後、各処理槽内のキャリア1
4を上記チャック6eで把持して該処理槽外でかつ上記
分離壁16より上方まで上記キャリア14を吊り上げて
、次の処理槽または処理工程に搬出するようにしている
。なお、上記昇降軸などの最下端位置を第2.3図に実
線で示しており、最上端位置を第3図に一点鎖線で示す
。
上記秤量槽8,9.10は、薬液A、薬液B、薬液Cを
夫々収容して、所定の比率で各秤量槽内で秤量するよう
になっており、秤量後、秤量された処理液を各供給管1
5を介して上記第2処理槽2内に自然落下によりまたは
ポンプにより供給する。
夫々収容して、所定の比率で各秤量槽内で秤量するよう
になっており、秤量後、秤量された処理液を各供給管1
5を介して上記第2処理槽2内に自然落下によりまたは
ポンプにより供給する。
また、上記秤量槽11.12は、薬液D1薬液Eを夫々
収容して、所定の比率で各秤量槽内で秤量するようにな
っており、秤量後、秤量された処理液を各供給管15を
介して上記第4処理槽4内に自然落下によりまたはポン
プにより供給する。
収容して、所定の比率で各秤量槽内で秤量するようにな
っており、秤量後、秤量された処理液を各供給管15を
介して上記第4処理槽4内に自然落下によりまたはポン
プにより供給する。
上記構成によれば、第1搬送装置6のチャック6eで複
数の半導体基板か収納されたキャリア14を把持したの
ち、上記第1搬送装置6の搬送方向への移動により分離
壁16を越えさせる。そして、上記第1搬送装置6が第
1処理槽lの搬入搬出位置で停止したのち、上記キャリ
ア14を第1処理槽!内に搬入して、該処理槽内で所定
の処理を行う。
数の半導体基板か収納されたキャリア14を把持したの
ち、上記第1搬送装置6の搬送方向への移動により分離
壁16を越えさせる。そして、上記第1搬送装置6が第
1処理槽lの搬入搬出位置で停止したのち、上記キャリ
ア14を第1処理槽!内に搬入して、該処理槽内で所定
の処理を行う。
次いで、第1処理槽i内のキャリア14を上記チャック
6eで把持したのち、第1搬送装置6の移動により、分
離壁16を越えさせる。そして、上記第1搬送装置6が
第2処理槽2の搬入搬出位置で停止したのち、上記キャ
リア14を第2処理槽2内に搬入して、該処理槽内で所
定の処理を行う。
6eで把持したのち、第1搬送装置6の移動により、分
離壁16を越えさせる。そして、上記第1搬送装置6が
第2処理槽2の搬入搬出位置で停止したのち、上記キャ
リア14を第2処理槽2内に搬入して、該処理槽内で所
定の処理を行う。
次いで、第2処理槽2内のキャリア14を上記チャック
6eで把持したのち、第1搬送装置6の移動により、分
離壁16を越えさせる。そして、上記第1搬送装置6が
第3処理槽3の搬入搬出位置で停止したのち、上記キャ
リア14を第3処理?113内に搬入して、該処理槽内
で所定の処理を行う。
6eで把持したのち、第1搬送装置6の移動により、分
離壁16を越えさせる。そして、上記第1搬送装置6が
第3処理槽3の搬入搬出位置で停止したのち、上記キャ
リア14を第3処理?113内に搬入して、該処理槽内
で所定の処理を行う。
次いで、今度は第2搬送装置7のチャック6eで第3処
理漕3内のキャリア14を把持したのち、第2搬送装置
7の移動により、分離壁■6を越えさせる。そして、上
記第2搬送装置7が第4処理槽4の搬入搬出位置で停止
したのち、上記キャリア14を第4処理!114内に搬
入して、該処理槽内で所定の処理を行う。なお、第2図
では、上記昇降軸など6b、6c、6d、6e、7b、
7cの最下端位置を示し、これよれ下方には昇降軸など
6b、6c、6d、 6 e、 7 b、 7 cは下
降しないので、上記供給管15、−、15に上記昇降軸
など6 b、 6 c、 6 d、 6 e、 7b、
7cが接触することもない。
理漕3内のキャリア14を把持したのち、第2搬送装置
7の移動により、分離壁■6を越えさせる。そして、上
記第2搬送装置7が第4処理槽4の搬入搬出位置で停止
したのち、上記キャリア14を第4処理!114内に搬
入して、該処理槽内で所定の処理を行う。なお、第2図
では、上記昇降軸など6b、6c、6d、6e、7b、
7cの最下端位置を示し、これよれ下方には昇降軸など
6b、6c、6d、 6 e、 7 b、 7 cは下
降しないので、上記供給管15、−、15に上記昇降軸
など6 b、 6 c、 6 d、 6 e、 7b、
7cが接触することもない。
次いで、第4処理槽4内のキャリア14を上記第2搬送
装置7の上記チャック6eで把持したのち、第2搬送装
置7の移動により、分離壁16を越えさせる。そして、
上記第2搬送装置7が第5処理槽5の搬入搬出位置で停
止したのち、上記キャリア!4を第5処理槽5内に搬入
して、該処理槽内で所定の処理を行う。次いで、第2搬
送装置7のチャック6eで第5処理槽5内のキャリア1
4を把持したのち、第2搬送装置7の移動により、分離
壁16を越えさせ、次の処理工程に搬出する。
装置7の上記チャック6eで把持したのち、第2搬送装
置7の移動により、分離壁16を越えさせる。そして、
上記第2搬送装置7が第5処理槽5の搬入搬出位置で停
止したのち、上記キャリア!4を第5処理槽5内に搬入
して、該処理槽内で所定の処理を行う。次いで、第2搬
送装置7のチャック6eで第5処理槽5内のキャリア1
4を把持したのち、第2搬送装置7の移動により、分離
壁16を越えさせ、次の処理工程に搬出する。
上記実施例によれば、上記隣接する第1.第2搬送装置
6.7において、各搬送装置6,7の搬送台6 a、
7 aに対して、上記昇降軸6 b、 7 bを、隣接
する搬送装置7.6とは反対側にすなわち遠ざかるよう
に配置して、上記第3処理槽3に対して上記隣接する第
1.第2搬送装置6.7が共に上記搬入搬出位置で停止
するとき、いずれの搬送装置6゜7の昇降軸6 b、
7 bにも接触することがなくかつ上記搬送装置6.7
の搬送方向を横切る空間20を形成することができるよ
うにし、この空間20内に上記供給管】5.・・・、1
5を配置したので、各供給管I5が上記搬送装置6.7
に接触することなく、すなわち搬送装置6.7の搬送作
業を全く妨げることなく上記供給管15.・・・、15
を配置することができる。よって、秤量槽8,9,10
,11.12から秤量された処理液の自重またはポンプ
により該処理液を所望の処理槽2.4内に供給管15.
・・・、15を介して供給することができ、各供給管1
5を必要最小限に短くすることができて、液溜まりを少
なくすることができる。よって、上記秤量された処理液
を、ポンプなどを設けることなく、単にその自重でもっ
て処理槽に供給する場合でも、液溜まりを気にすること
なく、円滑に供給させることができる。また、上記構成
によれば、上記処理槽1,2,3,4.5のうち少なく
とも1つの処理槽3Iこ対して上記隣接する搬送装置6
,7が共に上記搬入搬出位置で停止して上記キャリア!
4を上記処理槽内に搬入または搬出を行うようにしたの
で、上記処理槽3での搬送装置6.7の搬入搬出位置を
1つにしてスペース的に節約することができるとともに
、上記搬送装置67を上記搬入搬出位置で停止させるた
めの機構、例えば、位置センサなどの個数を減らすこと
ができる。すなわち、上記処理槽3を搬送方向沿いの寸
法を大きくして隣接する搬送装置6,7を上記処理槽3
に対して異なる位置で夫々停止させて上記キャリア14
に対する搬入搬出作用を行わせるものでは、各搬送装置
6.7の停止位置が増加した分だけ上記処理槽3のスペ
ースが大きくなり、かつ、各搬送装置に対する位置決め
機構、例えば、位置センサの個数が増加するといった欠
点があるが、上記実施例のものでは、このような不具合
は全くない。
6.7において、各搬送装置6,7の搬送台6 a、
7 aに対して、上記昇降軸6 b、 7 bを、隣接
する搬送装置7.6とは反対側にすなわち遠ざかるよう
に配置して、上記第3処理槽3に対して上記隣接する第
1.第2搬送装置6.7が共に上記搬入搬出位置で停止
するとき、いずれの搬送装置6゜7の昇降軸6 b、
7 bにも接触することがなくかつ上記搬送装置6.7
の搬送方向を横切る空間20を形成することができるよ
うにし、この空間20内に上記供給管】5.・・・、1
5を配置したので、各供給管I5が上記搬送装置6.7
に接触することなく、すなわち搬送装置6.7の搬送作
業を全く妨げることなく上記供給管15.・・・、15
を配置することができる。よって、秤量槽8,9,10
,11.12から秤量された処理液の自重またはポンプ
により該処理液を所望の処理槽2.4内に供給管15.
・・・、15を介して供給することができ、各供給管1
5を必要最小限に短くすることができて、液溜まりを少
なくすることができる。よって、上記秤量された処理液
を、ポンプなどを設けることなく、単にその自重でもっ
て処理槽に供給する場合でも、液溜まりを気にすること
なく、円滑に供給させることができる。また、上記構成
によれば、上記処理槽1,2,3,4.5のうち少なく
とも1つの処理槽3Iこ対して上記隣接する搬送装置6
,7が共に上記搬入搬出位置で停止して上記キャリア!
4を上記処理槽内に搬入または搬出を行うようにしたの
で、上記処理槽3での搬送装置6.7の搬入搬出位置を
1つにしてスペース的に節約することができるとともに
、上記搬送装置67を上記搬入搬出位置で停止させるた
めの機構、例えば、位置センサなどの個数を減らすこと
ができる。すなわち、上記処理槽3を搬送方向沿いの寸
法を大きくして隣接する搬送装置6,7を上記処理槽3
に対して異なる位置で夫々停止させて上記キャリア14
に対する搬入搬出作用を行わせるものでは、各搬送装置
6.7の停止位置が増加した分だけ上記処理槽3のスペ
ースが大きくなり、かつ、各搬送装置に対する位置決め
機構、例えば、位置センサの個数が増加するといった欠
点があるが、上記実施例のものでは、このような不具合
は全くない。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
その他種々の態様で実施できる。例えば、上記処理槽1
,2 3,4.5に対して3台の搬送装置を配置して、
第1搬送装置は第1.第2処理槽1.2間で、第2搬送
装置は第2.第3.第4処理槽2,3.4間で、第3搬
送装置は第4.第5処理槽4.5間で夫々キャリア14
の搬入搬出作業が行えるようにして、第2処理槽2と第
4処理槽4に夫々上記空間20を夫々形成して、各空間
20に上記供給管15を配置するようにしてもよい。
その他種々の態様で実施できる。例えば、上記処理槽1
,2 3,4.5に対して3台の搬送装置を配置して、
第1搬送装置は第1.第2処理槽1.2間で、第2搬送
装置は第2.第3.第4処理槽2,3.4間で、第3搬
送装置は第4.第5処理槽4.5間で夫々キャリア14
の搬入搬出作業が行えるようにして、第2処理槽2と第
4処理槽4に夫々上記空間20を夫々形成して、各空間
20に上記供給管15を配置するようにしてもよい。
また、上記各搬送装置の各部材の形状、構造などは上記
実施例に限定されるものではなく、任意の形状、構造等
を採用することができる。例えば、上記キャリア14を
上下動させる駆動方法としては、チャックを昇降させる
ため、チャックを支持するアーム6d、チャッキング駆
動部6c、昇降軸6bを昇降させるものに限定されず、
これらの部材を昇降駆動することなく、回転巻上げ機構
などによりチャックを昇降させるなど、要はアームに対
してチャックを昇降させる機構ならば、どのようなもの
でもよい。処理槽、秤量槽、供給管、搬送装置の個数に
ついては任意であることは言うまでもない。
実施例に限定されるものではなく、任意の形状、構造等
を採用することができる。例えば、上記キャリア14を
上下動させる駆動方法としては、チャックを昇降させる
ため、チャックを支持するアーム6d、チャッキング駆
動部6c、昇降軸6bを昇降させるものに限定されず、
これらの部材を昇降駆動することなく、回転巻上げ機構
などによりチャックを昇降させるなど、要はアームに対
してチャックを昇降させる機構ならば、どのようなもの
でもよい。処理槽、秤量槽、供給管、搬送装置の個数に
ついては任意であることは言うまでもない。
第1.2.3図は夫々本発明の一実施例にかかるウェッ
ト処理マシンの平面図、正面図及び一部所面側面図であ
る。 1.2,3,4.5・・・処理槽、6.7・・・搬送装
置、6 a、 7 a・・−搬送台、6 b、 7 b
−・・昇降軸、6 c、 7 c−=チャッキング駆動
部、6d・・・アーム、6e・・・チャック、8,9,
10.11.12・・秤量槽、13・・・搬送床、15
・・・供給管、16・・・分離壁、20・・・空間。
ト処理マシンの平面図、正面図及び一部所面側面図であ
る。 1.2,3,4.5・・・処理槽、6.7・・・搬送装
置、6 a、 7 a・・−搬送台、6 b、 7 b
−・・昇降軸、6 c、 7 c−=チャッキング駆動
部、6d・・・アーム、6e・・・チャック、8,9,
10.11.12・・秤量槽、13・・・搬送床、15
・・・供給管、16・・・分離壁、20・・・空間。
Claims (3)
- (1)少なくとも3個の処理槽(1、2、3、4、5)
を大略一直線上に配置し、上記処理槽(1、2、3、4
、5)のうち所望の処理槽(2、4)に対して秤量槽(
8、9、10、11、12)より秤量された処理液を供
給管(15)を介して供給する一方、少なくとも2つの
搬送装置(6、7)を上記少なくとも3個の処理槽(1
、2、3、4、5)の一側に配置して各搬送装置(6、
7)が上記処理槽(1、2、3、4、5)のうち少なく
とも隣接する2つの処理槽間でワーク(14)を把持し
各処理槽(1、2、3、4、5)に対して搬入及び搬出
を行い、上記少なくとも3個の処理槽(1、2、3、4
、5)のうち少なくとも1つの処理槽(3)に対して上
記複数の搬送装置(6、7)のうち隣接する搬送装置(
6、7)が共に上記1つの処理槽(3)のワーク搬入搬
出位置で停止して上記ワーク(14)を上記1つの処理
槽(3)内に搬入及び搬出を行うようにしたウェット処
理マシンにして、 上記搬送装置(6、7)は、上記少なくとも3個の処理
槽(1、2、3、4、5)の一側を上記少なくとも隣接
する2つの処理槽間で走行する搬送台(6a、7a)と
、該搬送台(6a、7a)の上方に配置されたチャック
手段支持部(6b、6c、7b、7c)と、該支持部(
6b、6c、7b、7c)にアーム(6d)を介して支
持されかつ上記ワーク(14)を把持して上記処理槽内
に上記ワーク(14)を搬入及び搬出するチャック手段
(6e)とを備え、上記隣接する搬送装置(6、7)に
おいて、各支持部(6b、6c、7b、7c)は、各搬
送台(6a、7a)に対してその搬送経路方向の中心位
置より上記隣接する搬送装置(7、6)とは反対側の位
置に互いに偏らせて配置し、上記搬入搬出位置において
上記隣接する搬送装置(6、7)のうち上記一方の搬送
装置(6)の支持部(6b、6c)と他方の搬送装置(
7)の支持部(7b、7c)との間に、いずれの支持部
(6b、6c、7b、7c)とも接触せずかつ上記搬送
装置(6、7)の搬送方向を横切る空間(20)を形成
し、この空間(20)内に上記供給管(15)を配置す
るようにしたことを特徴とするウェット処理マシン。 - (2)上記各搬送装置(6、7)の上記支持部(6b、
6c、7b、7c)と上記アーム(6d)と上記チャッ
ク手段(6e)が昇降して上記ワーク(14)を各処理
槽に対して搬入及び搬出を行うようにした請求項1に記
載のウェット処理マシン。 - (3)上記1つの処理槽(3)のワーク搬入搬出位置で
は、隣接する上記搬送装置(6、7)の上記チャック手
段(6e)が同一位置に位置して上記ワーク(14)の
搬入及び搬出を行うようにした請求項1または2記載の
ウェット処理マシン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1167655A JPH0626210B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | ウェット処理マシン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1167655A JPH0626210B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | ウェット処理マシン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0332023A true JPH0332023A (ja) | 1991-02-12 |
| JPH0626210B2 JPH0626210B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=15853784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1167655A Expired - Fee Related JPH0626210B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | ウェット処理マシン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0626210B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05264412A (ja) * | 1992-01-30 | 1993-10-12 | Boehringer Mannheim Gmbh | 分析液体の供給装置 |
| DE4332857A1 (de) * | 1992-09-25 | 1994-04-21 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleiterreinigungsvorrichtung |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61171244U (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-24 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP1167655A patent/JPH0626210B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61171244U (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-24 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05264412A (ja) * | 1992-01-30 | 1993-10-12 | Boehringer Mannheim Gmbh | 分析液体の供給装置 |
| DE4332857A1 (de) * | 1992-09-25 | 1994-04-21 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleiterreinigungsvorrichtung |
| DE4332857C2 (de) * | 1992-09-25 | 1999-05-06 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleiterreinigungsvorrichtung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0626210B2 (ja) | 1994-04-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |