JPH0333802A - 多孔質フィルムを有する光学干渉構造 - Google Patents
多孔質フィルムを有する光学干渉構造Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は可視スペクトルを比較的低い反射率のバンドに
よって区画された比較的高い反射率の１またはそれ以上
のバンドにフィルターをかけることができる光学的干渉
構造に関するもので、これによって白色光を照らすとき
着色された外観を示すことができるものに関するもので
ある。さらに詳しくは、本発明は多孔質誘電フィルムを
有する光学的干渉構造に関するものである。
よって区画された比較的高い反射率の１またはそれ以上
のバンドにフィルターをかけることができる光学的干渉
構造に関するもので、これによって白色光を照らすとき
着色された外観を示すことができるものに関するもので
ある。さらに詳しくは、本発明は多孔質誘電フィルムを
有する光学的干渉構造に関するものである。
種々の構造は上述したタイプの干渉色を生み出すことが
できることが知られている。この公知の光学的干渉構造
のひとつはフィルター効果を達成するためにマルチ透過
性または半透過性層を使用している。２種の基本的なデ
ザインがあり、全部が誘電スタック（高いおよび低い屈
折率のものが交互にある誘電材料のマルチ薄層）と金属
誘電体スタック（金属と誘電層とが交互にあり、金属層
のすべてが半透過性である）ものがあり、反射アノード
で使用するときの不透明な底層は除いである。
できることが知られている。この公知の光学的干渉構造
のひとつはフィルター効果を達成するためにマルチ透過
性または半透過性層を使用している。２種の基本的なデ
ザインがあり、全部が誘電スタック（高いおよび低い屈
折率のものが交互にある誘電材料のマルチ薄層）と金属
誘電体スタック（金属と誘電層とが交互にあり、金属層
のすべてが半透過性である）ものがあり、反射アノード
で使用するときの不透明な底層は除いである。
これらの構造において、種々の層からのマルチの反射は
異なった波長バンドにおける光の建設的または破壊的な
干渉によってフィルター作用に導かれる。これら２つの
フィルタータイプは電磁被膜のような種々の適用のため
に貴重な光学要素の基礎となっている。
異なった波長バンドにおける光の建設的または破壊的な
干渉によってフィルター作用に導かれる。これら２つの
フィルタータイプは電磁被膜のような種々の適用のため
に貴重な光学要素の基礎となっている。
これら従来の構造のひとつの限界は蒸着およびスパッタ
リングのような真空蒸着方法のようなコスト的に高い技
術によって製造されることである。
リングのような真空蒸着方法のようなコスト的に高い技
術によって製造されることである。
これによって精密光学または高価な被膜のための用途に
制限される。特に、可視領域のスペクトルにおけるこの
ような構造のフィルター作用によっておきるドラマチッ
クな色彩効果は通常消費者用途には利用されていない。
制限される。特に、可視領域のスペクトルにおけるこの
ような構造のフィルター作用によっておきるドラマチッ
クな色彩効果は通常消費者用途には利用されていない。
従来のマルチ層のスタックの第２の制限は水分吸収によ
る効果によってそれらの光学反応が不安定になることで
ある。これらは真空蒸着によって通常製造されるので、
その誘電層にボイド（空隙）が存在し、これらがそのフ
ィルム中に数週間たつとそのフィルム中に大気の水分を
透過させ、それによってそれらの設計された応答から狭
いバンドフィルターの特性をシフトさせることになる。
る効果によってそれらの光学反応が不安定になることで
ある。これらは真空蒸着によって通常製造されるので、
その誘電層にボイド（空隙）が存在し、これらがそのフ
ィルム中に数週間たつとそのフィルム中に大気の水分を
透過させ、それによってそれらの設計された応答から狭
いバンドフィルターの特性をシフトさせることになる。
この問題は光学的コーティング産業においては周知の事
項であり、このボイドフラクションを最小にし、かつ最
大のはいフィルムを得るための新しい蒸着技術の発見に
大きな要望がおかれている。現在の技術でもっては誘電
フィルムの密度は通常バルク値８０〜９０％の範囲にあ
り、しばしば９０％を越えるものである。
項であり、このボイドフラクションを最小にし、かつ最
大のはいフィルムを得るための新しい蒸着技術の発見に
大きな要望がおかれている。現在の技術でもっては誘電
フィルムの密度は通常バルク値８０〜９０％の範囲にあ
り、しばしば９０％を越えるものである。
これとは反対に、従来、我々は非常に多孔質なアノード
処理フィルムを有する構造において光学的干渉効果を形
成した。これはアノード処理されたアルミニウム製品の
表面を着色する必要から発展したものである。アノード
処理はアルミニウムまたはアルミニウム合金上に装飾的
かつ保護的な被膜を形成する技術としてよく知られてい
る（「“Ｔｈｅ ５ｕｒｆａｃｅ Ｔｒｅａｔａ＋ｅｎ
ｔ ａｎｄ Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ ｏｒ＾１ｕ＋ｍｉｎ
ｕｍ ａｎｄ Ｉｔｓ Ａ１１ｏｙｓ″Ｓ、 Ｗｅｒｎ
ｉｃｋ ａｎｄ Ｒ。
処理フィルムを有する構造において光学的干渉効果を形
成した。これはアノード処理されたアルミニウム製品の
表面を着色する必要から発展したものである。アノード
処理はアルミニウムまたはアルミニウム合金上に装飾的
かつ保護的な被膜を形成する技術としてよく知られてい
る（「“Ｔｈｅ ５ｕｒｆａｃｅ Ｔｒｅａｔａ＋ｅｎ
ｔ ａｎｄ Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ ｏｒ＾１ｕ＋ｍｉｎ
ｕｍ ａｎｄ Ｉｔｓ Ａ１１ｏｙｓ″Ｓ、 Ｗｅｒｎ
ｉｃｋ ａｎｄ Ｒ。
Ｐｉｎｎｅｒ著、 Ｒｏｂｅｒｔ Ｄｒａｐｅｒ Ｌｔ
ｄ、発行、 ＵＫ、 １９７２Ｊ参照）。選択された電
解質中におけるアルミニウムのアノード処理によって処
理される正面に垂直に指向する微小な細孔の濃い配列を
含む外層からなる酸化物フィルムを形成する。また下層
のアルミニウムから多孔質の層を分離するコンパクトな
酸化物の内側の非多孔質バリヤ層を形成する。このアノ
ード処理フィルムは通常フィルムの厚みに依存して透明
または不透明である。少なくとも数ミクロンの厚みであ
るフィルム（通常１０ミクロンまたはそれ以上）は硬質
で耐性を有し保護被膜として使用される。
ｄ、発行、 ＵＫ、 １９７２Ｊ参照）。選択された電
解質中におけるアルミニウムのアノード処理によって処
理される正面に垂直に指向する微小な細孔の濃い配列を
含む外層からなる酸化物フィルムを形成する。また下層
のアルミニウムから多孔質の層を分離するコンパクトな
酸化物の内側の非多孔質バリヤ層を形成する。このアノ
ード処理フィルムは通常フィルムの厚みに依存して透明
または不透明である。少なくとも数ミクロンの厚みであ
るフィルム（通常１０ミクロンまたはそれ以上）は硬質
で耐性を有し保護被膜として使用される。
装飾的適用においては、このようなフィルムは上述した
Ｗｅｒｎｉｃｋ ａｎｄ Ｐｉｎｎｅｒ、による文献に
記載のような細孔内への金属または金属化合物（無機顔
料）の電気的付着によって着色されてきた。このように
して得られる着色はかなり制限されており、細孔内への
顔料付着量が増加するにつれて茶色からブロンズシェー
ドを通して黒色の範囲にわたる。この着色効果は下層の
アルミニウム金属の表面から反射した光からアノード処
理フィルム内で付着物によって吸収または散乱すること
によるものである。
Ｗｅｒｎｉｃｋ ａｎｄ Ｐｉｎｎｅｒ、による文献に
記載のような細孔内への金属または金属化合物（無機顔
料）の電気的付着によって着色されてきた。このように
して得られる着色はかなり制限されており、細孔内への
顔料付着量が増加するにつれて茶色からブロンズシェー
ドを通して黒色の範囲にわたる。この着色効果は下層の
アルミニウム金属の表面から反射した光からアノード処
理フィルム内で付着物によって吸収または散乱すること
によるものである。
我々の英国特許明細書第１，５３２，２３５号（１９７
８年１１月１５日発行）では、電解着色によって得られ
る新しい範囲の色が記載されており、この着色は上述し
た吸収および散乱効果に付加して光学的干渉によるもの
である。この方法において、顔料の付着はもとの電解着
色方法よりも薄くなるように調整され、その付着物の高
さはそのフィルムの全体を通して均一となるように調整
される。
８年１１月１５日発行）では、電解着色によって得られ
る新しい範囲の色が記載されており、この着色は上述し
た吸収および散乱効果に付加して光学的干渉によるもの
である。この方法において、顔料の付着はもとの電解着
色方法よりも薄くなるように調整され、その付着物の高
さはそのフィルムの全体を通して均一となるように調整
される。
この発生した色彩は各付着のアルミニウム表面に対する
外部端における反射光とアルミニウム／アルミニウム酸
化物界面における反射光との間の干渉の結果である。形
成される色彩は２つの光反射面の分離を伴う（付着物の
上端と下層のアルミニウム表面の層）光学的光路におけ
る差異に依存している。そしてその付着物の高さを調整
することによって形成される色彩を選択することができ
る。
外部端における反射光とアルミニウム／アルミニウム酸
化物界面における反射光との間の干渉の結果である。形
成される色彩は２つの光反射面の分離を伴う（付着物の
上端と下層のアルミニウム表面の層）光学的光路におけ
る差異に依存している。そしてその付着物の高さを調整
することによって形成される色彩を選択することができ
る。
この色彩は付着物が薄いときはパステル状となる傾向が
あり、かつ付着物が厚いときは幾分どろ様の外観を有す
る傾向にある、それは多分散乱および吸収効果が増加す
ることに起因するものと思われる。また、干渉効果に寄
与するものと思われる。
あり、かつ付着物が厚いときは幾分どろ様の外観を有す
る傾向にある、それは多分散乱および吸収効果が増加す
ることに起因するものと思われる。また、干渉効果に寄
与するものと思われる。
この最初の発生における干渉構造によって達成すること
ができる着色効果はそれ故に幾分制限されるものである
。
ができる着色効果はそれ故に幾分制限されるものである
。
我々の次の米国特許明細書第４，３１０，５８６号（１
９８２年１月Ｌ２日発行）ｊこおいては、比較的浅い付
着物の下方に別の酸化物フィルムを成長させることによ
って十分にクリヤーでかつ光輝性のある色彩を得ること
ができることが説明されている。これらの色彩は上述し
た第１発生構造のような同一の２つの反射面から反射さ
れた光間における同一の干渉効果によるものである。こ
の場合、しかしながら、金属付着物の高さを変えること
によっそ色彩を選択することができない。また電着工程
後にその電着物の下方の酸化物を厚くするために連続し
てアノード処理することによっても選択かできない。付
着物の上端からの反射とアルミニウム表面からの反射光
との光路の差異は色彩とともに調整することができ、上
述の場合とは反対に付着物の上端に対してアルミニウム
の表面を移動させることによって行なうことができる。
９８２年１月Ｌ２日発行）ｊこおいては、比較的浅い付
着物の下方に別の酸化物フィルムを成長させることによ
って十分にクリヤーでかつ光輝性のある色彩を得ること
ができることが説明されている。これらの色彩は上述し
た第１発生構造のような同一の２つの反射面から反射さ
れた光間における同一の干渉効果によるものである。こ
の場合、しかしながら、金属付着物の高さを変えること
によっそ色彩を選択することができない。また電着工程
後にその電着物の下方の酸化物を厚くするために連続し
てアノード処理することによっても選択かできない。付
着物の上端からの反射とアルミニウム表面からの反射光
との光路の差異は色彩とともに調整することができ、上
述の場合とは反対に付着物の上端に対してアルミニウム
の表面を移動させることによって行なうことができる。
この第２発生干渉構造においては光輝性色彩のより広い
範囲が利用することができる。何故ならば２つの反射面
の分離が付着物の厚みを増加させることなく、従ってそ
れに伴う散乱および吸収効果を増加させることなく広い
範囲で変化させることができるからである。
範囲が利用することができる。何故ならば２つの反射面
の分離が付着物の厚みを増加させることなく、従ってそ
れに伴う散乱および吸収効果を増加させることなく広い
範囲で変化させることができるからである。
これら前述した着色されたアノード処理フィルム構造の
すべてにおいて、多孔質アノード処理フィルムの厚みは
３ミクロンを越えて、典型的には１０〜２０ミクロンで
ある。これらフィルムにおける干渉効果は金属付着物か
ら反射する光と下方のアルミニウム物体から反射する光
の間にある。この付着物の上方ｊこおける多孔質酸化物
は色彩の発生に全く関与しない。それは３ミクロンを越
える厚みを有し、従って光学的には厚いものであるから
である。また、付着物の上方の細孔はアノード処理フィ
ルムの化学的および機械的耐性を増強するために公知の
煮沸処理によって満たされかつシールされる（上記ｗｅ
ｒｎｉｃｋ ＆ Ｐｉｎｎｅｒの文献参照）。
すべてにおいて、多孔質アノード処理フィルムの厚みは
３ミクロンを越えて、典型的には１０〜２０ミクロンで
ある。これらフィルムにおける干渉効果は金属付着物か
ら反射する光と下方のアルミニウム物体から反射する光
の間にある。この付着物の上方ｊこおける多孔質酸化物
は色彩の発生に全く関与しない。それは３ミクロンを越
える厚みを有し、従って光学的には厚いものであるから
である。また、付着物の上方の細孔はアノード処理フィ
ルムの化学的および機械的耐性を増強するために公知の
煮沸処理によって満たされかつシールされる（上記ｗｅ
ｒｎｉｃｋ ＆ Ｐｉｎｎｅｒの文献参照）。
上記米国特許に開示された第２発生構造によって形成さ
れる色彩は改善されるけれども、新たな適用のための拡
大された可能性を有する光学的干渉構造が未だ要望され
ている。
れる色彩は改善されるけれども、新たな適用のための拡
大された可能性を有する光学的干渉構造が未だ要望され
ている。
従って、本発明の目的は次の利点を有する光学的干渉構
造を提供することにある。すなわち、利用可能な色彩の
範囲を広げることにあり、色彩の彩度を高めること、光
学的可能性を広げること、および安価な製造技術を提供
すること（伝統的なマルチ層スタックのために使用され
る真空蒸着技術と比較して）を提供することにある。
造を提供することにある。すなわち、利用可能な色彩の
範囲を広げることにあり、色彩の彩度を高めること、光
学的可能性を広げること、および安価な製造技術を提供
すること（伝統的なマルチ層スタックのために使用され
る真空蒸着技術と比較して）を提供することにある。
本発明は我々の以前に開発した多孔質構造において光学
的干渉色彩の範囲および彩度がかなり増強され、さらに
二色性のような付加的な効果が付着物上方のフィルムの
多孔質部分の厚みを光学的薄い領域、３ミクロン以下に
減少させることによって達成できることを見出して完成
されたものである。
的干渉色彩の範囲および彩度がかなり増強され、さらに
二色性のような付加的な効果が付着物上方のフィルムの
多孔質部分の厚みを光学的薄い領域、３ミクロン以下に
減少させることによって達成できることを見出して完成
されたものである。
これは、フィルムの外面からすなわちその表面に付する
ことかある半透明の付着物から反射する電磁輻射線が上
記付着物および／またはアルミニウム物体から反射する
光と干渉し、この表面反射によって散乱および吸収効果
が増加することなく全体として干渉効果に更に実質寄与
するからである。さらに、酸化物層の多孔質部分は色彩
発生構造の役割を担うものである。何故ならば干渉構造
に寄与する２つの表面の間にそれが（立置し、その構造
に有益な付加的特性を与えるように多孔質が与えられて
いるからである。
ことかある半透明の付着物から反射する電磁輻射線が上
記付着物および／またはアルミニウム物体から反射する
光と干渉し、この表面反射によって散乱および吸収効果
が増加することなく全体として干渉効果に更に実質寄与
するからである。さらに、酸化物層の多孔質部分は色彩
発生構造の役割を担うものである。何故ならば干渉構造
に寄与する２つの表面の間にそれが（立置し、その構造
に有益な付加的特性を与えるように多孔質が与えられて
いるからである。
このように本発明によれば、反射体と、該反射体上の、
該反射体に対向する外面を有する多孔質透明誘電フィル
ムと、該フィルムによって支持された少なくともｌっの
半透明反射層とからなり、この構造か上記誘電フィルム
の光学的に薄い多孔質層によって分離された少なくとも
２つの反射面を有し、その面の１つが上記フィルムの外
面に存することを特徴とする光学干渉構造を提供するも
のである。
該反射体に対向する外面を有する多孔質透明誘電フィル
ムと、該フィルムによって支持された少なくともｌっの
半透明反射層とからなり、この構造か上記誘電フィルム
の光学的に薄い多孔質層によって分離された少なくとも
２つの反射面を有し、その面の１つが上記フィルムの外
面に存することを特徴とする光学干渉構造を提供するも
のである。
本発明の他の観点によれば、反射体と、その反射体上の
多孔質透明誘電フィルムと、少なくとも２つの半透明反
射層であって上記細孔を有する多孔質誘電フィルムによ
って支持された層と、この少なくとも２つの半透明反射
層が上記誘電フィルムの光学的に薄い層によって互いに
分離され、かつ上記物体から分離されている光学的干渉
構造を提供するものである。本発明の構造の重要な特徴
は誘電フィルムの多孔質部分が少なくとも２つの反射面
の間に位置し、その反射面が全体として干渉効果にかな
り寄与しているものであり、これら少なくとも２つの面
の間に位置する誘電体の厚みが上記細孔によって拡大さ
れていることを特徴としている。
多孔質透明誘電フィルムと、少なくとも２つの半透明反
射層であって上記細孔を有する多孔質誘電フィルムによ
って支持された層と、この少なくとも２つの半透明反射
層が上記誘電フィルムの光学的に薄い層によって互いに
分離され、かつ上記物体から分離されている光学的干渉
構造を提供するものである。本発明の構造の重要な特徴
は誘電フィルムの多孔質部分が少なくとも２つの反射面
の間に位置し、その反射面が全体として干渉効果にかな
り寄与しているものであり、これら少なくとも２つの面
の間に位置する誘電体の厚みが上記細孔によって拡大さ
れていることを特徴としている。
本発明の好ましい形態においては、−フィルムの外面（
半透明金属層によって被覆されている場合もある）は干
渉効果に寄与するものであって、その誘電フィルムは３
ミクロン以下の厚みを有する光学的に薄いものである。
半透明金属層によって被覆されている場合もある）は干
渉効果に寄与するものであって、その誘電フィルムは３
ミクロン以下の厚みを有する光学的に薄いものである。
多孔質誘電フィルムは一般に少なくとも５容量％、ａ常
少なくとも１０容量％、好ましくは少なくとも１５容量
％の多孔質層（開放された細孔スペースの％）を一般に
有する。最大の多孔質層は正確に提示されないが、通常
６ｏ容量％以下（フィルムのその部分が不十分な接着強
度であって剥離する時点と決定される）であって、通常
は５ｏ容量％以下である。
少なくとも１０容量％、好ましくは少なくとも１５容量
％の多孔質層（開放された細孔スペースの％）を一般に
有する。最大の多孔質層は正確に提示されないが、通常
６ｏ容量％以下（フィルムのその部分が不十分な接着強
度であって剥離する時点と決定される）であって、通常
は５ｏ容量％以下である。
反射体は金属であるのが好ましい、好ましくは通常はア
ルミニウムまたはアノード処理可能なアルミニウム合金
である。しかしながら、アルミニウム以外の金属を使用
するときは、いわゆるタンタルのようなバルブ金属は通
常避けられる。何故ならばこれら金属は干渉および吸収
効果によって光学的に薄い透明な層で覆われるとこれら
金屑は強い色彩を示すからで、これら色彩は本発明の半
透明反射層によって形成されるものを支配されるもので
あるからである。この金属物体は所望の形状、サイズ、
厚みの物品であってよく、たとえば、プレート、シート
、薄い箔、たとえばガラスまたはプラスチック物体上に
スパッタリングまたは蒸着によりＡＱを付着させたフィ
ルムのような種々の製品であってよい。
ルミニウムまたはアノード処理可能なアルミニウム合金
である。しかしながら、アルミニウム以外の金属を使用
するときは、いわゆるタンタルのようなバルブ金属は通
常避けられる。何故ならばこれら金属は干渉および吸収
効果によって光学的に薄い透明な層で覆われるとこれら
金屑は強い色彩を示すからで、これら色彩は本発明の半
透明反射層によって形成されるものを支配されるもので
あるからである。この金属物体は所望の形状、サイズ、
厚みの物品であってよく、たとえば、プレート、シート
、薄い箔、たとえばガラスまたはプラスチック物体上に
スパッタリングまたは蒸着によりＡＱを付着させたフィ
ルムのような種々の製品であってよい。
各々の半透明反射層は通常多孔質の、すなわち非連続的
な金属層で、たとえ（ｆ無機顔料の電着、真空スパッタ
リングあるいは無電解または浸漬メッキ（以下に詳細に
説明する）によって形成される。
な金属層で、たとえ（ｆ無機顔料の電着、真空スパッタ
リングあるいは無電解または浸漬メッキ（以下に詳細に
説明する）によって形成される。
本明細書では種々の技術用語が使用されているが、これ
らは次のように簡単に説明される。
らは次のように簡単に説明される。
本明細書に使用される「光学的に薄い」とは２つの反射
面の間のスペースがこれらの表面から反射する光の間で
かなりの干渉（すなわち目で観察できる色彩変化）が起
こる程度薄いことを意味する。
面の間のスペースがこれらの表面から反射する光の間で
かなりの干渉（すなわち目で観察できる色彩変化）が起
こる程度薄いことを意味する。
反対に、「光学的に厚い」とはそのスペースが有意量の
干渉には大き過ぎることを意味する。光学的に薄い層は
３ミクロン以下の厚みを有し、一般にｏ、ｏｔ−ｔミク
ロンの範囲の厚みを有している。
干渉には大き過ぎることを意味する。光学的に薄い層は
３ミクロン以下の厚みを有し、一般にｏ、ｏｔ−ｔミク
ロンの範囲の厚みを有している。
無機顔料とは、たとえば上述した我々の英国特許に開示
されるような電気または無電解化学メッキ方法から得ら
れる金属または金属化合物を意味する。
されるような電気または無電解化学メッキ方法から得ら
れる金属または金属化合物を意味する。
「弱められた層」とは外面下方の多孔質アノード処理フ
ィルム中の帯域を意味し、一般にそれに対し平行であっ
て、またはその表面がフラットでないときは同様の外径
を有し、アノード処理フィルムの残りの部分よりもその
フィルムが調整可能にかつ信頼性をもってこの帯域で割
れたりまたは分離することができる程度弱くなっている
ことを意味する。
ィルム中の帯域を意味し、一般にそれに対し平行であっ
て、またはその表面がフラットでないときは同様の外径
を有し、アノード処理フィルムの残りの部分よりもその
フィルムが調整可能にかつ信頼性をもってこの帯域で割
れたりまたは分離することができる程度弱くなっている
ことを意味する。
「反射面」という語はそのような表面が付随する光のか
なりの部分を透過するときでさえも所望の干渉効果に対
しかなりの影響を与えるに十分な光を反射させる表面を
意味する。
なりの部分を透過するときでさえも所望の干渉効果に対
しかなりの影響を与えるに十分な光を反射させる表面を
意味する。
層に対し適用される「半透明」の用語は十分な光が知覚
できる干渉効果を生み出すために十分な強度の下方層か
らの反射を許すように層を通過できることを意味する。
できる干渉効果を生み出すために十分な強度の下方層か
らの反射を許すように層を通過できることを意味する。
二色ｊｔＪｄｉｃｈｒｏｉｓｍＪという語は、見る角度
において干渉色が異なることを意味する。
において干渉色が異なることを意味する。
アノード処理されたフィルムの下方の反射物体に適用さ
れるとき、その構造に適用される上方、下方、下方領域
のような用語が使用される。このような用語は記述の便
宜のために使用されるものであって、その装置が特定の
方向で使用されることを意味するものとして使用されて
いない。
れるとき、その構造に適用される上方、下方、下方領域
のような用語が使用される。このような用語は記述の便
宜のために使用されるものであって、その装置が特定の
方向で使用されることを意味するものとして使用されて
いない。
本発明の好ましい具体例を以下に、添付図面を参照しな
がら詳細に説明する。
がら詳細に説明する。
第１図は本発明にかかる好ましい第１実施例に基づく基
本構造を示す断面図で、第２図は第２実施例に基づく基
本構造を示す第１図と同様の断面図で、第３図は第３実
施例に基づく基本構造を第１図と同様の断面図で、第４
図は細孔が空気（Ｎ−１，０）、水（Ｎ＝１．３）また
はオイル（ｎ＝１．５）によって充填されているときの
誘電層の多孔質層（ｐ）に対する屈折率（ｎ）を示すグ
ラフである。第５図（ａ）〜（１）は本発明にかかる他
の構造を示す概略断面図である。第６図は本発明にかか
るダンネス・インジケータを支持するマイクロ波照射可
能な食品容器の斜視図である。第７図は二色性インキの
調整に用いる他の構造を示すもやである。第８図および
第１０図は実施例において製造された構造の断面を示す
粒子構造の走査電子顕微鏡写真である。第９図は実施例
において製造された構造の充満時に形成される反射層の
変化を示すグラフである。
本構造を示す断面図で、第２図は第２実施例に基づく基
本構造を示す第１図と同様の断面図で、第３図は第３実
施例に基づく基本構造を第１図と同様の断面図で、第４
図は細孔が空気（Ｎ−１，０）、水（Ｎ＝１．３）また
はオイル（ｎ＝１．５）によって充填されているときの
誘電層の多孔質層（ｐ）に対する屈折率（ｎ）を示すグ
ラフである。第５図（ａ）〜（１）は本発明にかかる他
の構造を示す概略断面図である。第６図は本発明にかか
るダンネス・インジケータを支持するマイクロ波照射可
能な食品容器の斜視図である。第７図は二色性インキの
調整に用いる他の構造を示すもやである。第８図および
第１０図は実施例において製造された構造の断面を示す
粒子構造の走査電子顕微鏡写真である。第９図は実施例
において製造された構造の充満時に形成される反射層の
変化を示すグラフである。
第１図、第２図および第３図は本発明の構造の基本的形
態を示し、第１図において、多孔質の透明な誘電フィル
ム１１が反射性金属物体上に形成されている。このフィ
ルム１＋は無機顔料（金属）付着物１２を細孔１３内に
有し、そのフィルムの全体厚み（ａ）は１ミクロンまた
はそれ以下が好ましい。この構造に付随する光はフィル
ムの外面１４から反射するもの（光線Ａ）、金属付着物
１２の外端から反射されるもの（光線Ｂ）、下層金属Ｉ
Ｏから反射するもの（光線Ｃ）がある。全体に多孔質の
フィルムの光学的な薄さによって反射面は干渉色を生み
出すために強く反射された光線のすべてが干渉するよう
な距離をもって互いに分離されている。特に、光線Ａお
よび光線Ｂの干渉によって上述した英国および米国特許
において述べた構造に対比する発色に十分に寄与するこ
とになる。さらに、金属付着物Ｉ２および外面１４の間
のフィルムの多孔質部分はこの色彩の発生に関与するも
ので、すなわちその厚みおよび屈折率がその発色に影響
を与え、それは以下の利点を与えることになる。第２図
においては、薄い金属付着物１２は細孔内に下方に広が
る場合もあるが、多孔質フィルムの表面１４上に実質的
に形成されている。また、付着物１２は半透明層を形成
する。この付着物１２によって形成された層は図示する
ように多孔質であってよく、細孔内部は表面から接近で
きるし、またその細孔の上方部分は下記する理由によっ
て付着物により封鎖されるこεもある（付着物は半透明
状態を維持する必要があるけれど）。
態を示し、第１図において、多孔質の透明な誘電フィル
ム１１が反射性金属物体上に形成されている。このフィ
ルム１＋は無機顔料（金属）付着物１２を細孔１３内に
有し、そのフィルムの全体厚み（ａ）は１ミクロンまた
はそれ以下が好ましい。この構造に付随する光はフィル
ムの外面１４から反射するもの（光線Ａ）、金属付着物
１２の外端から反射されるもの（光線Ｂ）、下層金属Ｉ
Ｏから反射するもの（光線Ｃ）がある。全体に多孔質の
フィルムの光学的な薄さによって反射面は干渉色を生み
出すために強く反射された光線のすべてが干渉するよう
な距離をもって互いに分離されている。特に、光線Ａお
よび光線Ｂの干渉によって上述した英国および米国特許
において述べた構造に対比する発色に十分に寄与するこ
とになる。さらに、金属付着物Ｉ２および外面１４の間
のフィルムの多孔質部分はこの色彩の発生に関与するも
ので、すなわちその厚みおよび屈折率がその発色に影響
を与え、それは以下の利点を与えることになる。第２図
においては、薄い金属付着物１２は細孔内に下方に広が
る場合もあるが、多孔質フィルムの表面１４上に実質的
に形成されている。また、付着物１２は半透明層を形成
する。この付着物１２によって形成された層は図示する
ように多孔質であってよく、細孔内部は表面から接近で
きるし、またその細孔の上方部分は下記する理由によっ
て付着物により封鎖されるこεもある（付着物は半透明
状態を維持する必要があるけれど）。
もし付着物１２によって形成される層が多孔質であるな
らば、不連続であるか（互いに付着物か分離された状態
にある）または連続的であるが細孔によって透過されて
いてもよい。この構造において、金属付着物の外面から
光が反射する（光線Ｂ）。
らば、不連続であるか（互いに付着物か分離された状態
にある）または連続的であるが細孔によって透過されて
いてもよい。この構造において、金属付着物の外面から
光が反射する（光線Ｂ）。
そして下方の金属物体からに光が反射する（光線Ｃ）、
これらの層の分離は光学的に薄い（その距離は１ミクロ
ンまたはそれ以下であるのが好ましい）であるから、そ
の光線は目視可能な色の発生を干渉する。第１図の具体
例において示すように、反射層間にあるフィルムの多孔
質部分は干渉色の発生に作用する。
これらの層の分離は光学的に薄い（その距離は１ミクロ
ンまたはそれ以下であるのが好ましい）であるから、そ
の光線は目視可能な色の発生を干渉する。第１図の具体
例において示すように、反射層間にあるフィルムの多孔
質部分は干渉色の発生に作用する。
第３図の具体例においては、付着物１２はフィルム２の
外面１４と細孔１３の底部との中間位置に位置している
。この場合、フィルムの外面Ｉ４から反射する光（光線
Ａ）、付着物１２上部から反射する光（光線Ｂ）および
金属物体ｌＯの表面から反射する光（光線Ｃ）間には干
渉が起こる。これら種々の反射面の分離は干渉には十分
なほど小さい。それはこの層の全体の厚み（ａ）が１ミ
クロンであるのが好ましいからである。このフィルム１
１の多孔質部分は各反射面間に位置し、そのためこれら
多孔質構造は干渉色の発生に寄与することになる。第１
図および第２図および第３図において、付着物１２は半
透明層を形成し、その差異は、第１図および第３図にお
いてはその構造か酸化物−金属一酸化物一金属（ＯＭ
ＯＭ）であるのに対し、第２図においては、その構造が
金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）である点である。
外面１４と細孔１３の底部との中間位置に位置している
。この場合、フィルムの外面Ｉ４から反射する光（光線
Ａ）、付着物１２上部から反射する光（光線Ｂ）および
金属物体ｌＯの表面から反射する光（光線Ｃ）間には干
渉が起こる。これら種々の反射面の分離は干渉には十分
なほど小さい。それはこの層の全体の厚み（ａ）が１ミ
クロンであるのが好ましいからである。このフィルム１
１の多孔質部分は各反射面間に位置し、そのためこれら
多孔質構造は干渉色の発生に寄与することになる。第１
図および第２図および第３図において、付着物１２は半
透明層を形成し、その差異は、第１図および第３図にお
いてはその構造か酸化物−金属一酸化物一金属（ＯＭ
ＯＭ）であるのに対し、第２図においては、その構造が
金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）である点である。
第１図〜第３図の基本的構造の各々に共通する特徴は、
（１） 干渉か光学的に薄い距離だけ分離された複数
の層から反射する光の間において起こり、その反射層の
１つがその構造の最も外側の面である。
の層から反射する光の間において起こり、その反射層の
１つがその構造の最も外側の面である。
（２）上記フィルムの多孔質部分が上記（１）で述べた
反射面の少なくとも２つの間に存在するということであ
る。このフィルムの多孔質度は次の理由によって重要で
ある。
反射面の少なくとも２つの間に存在するということであ
る。このフィルムの多孔質度は次の理由によって重要で
ある。
まず、光学被覆技術分野において周知であるように、誘
電フィルムにおけるいかなる多孔質もフィルムの有効反
射屈折率を減少させる。またマルチ層の光学スタックに
おいて二色性効果（すなわち見る角度によって色が変化
する）はスタック中の誘電層の平均屈折率の減少に伴っ
て増大する。強い二色性構造は下記する特定の適用にと
っては興味あるものである。第２に、本発明の光学フィ
ルムにおける誘電層が多孔質の酸化物からなるという事
実は、これらの層の有効屈折率がその細孔内の空気を他
の透明な材料におきかえることにより変化各増大させる
ことができるということである。
電フィルムにおけるいかなる多孔質もフィルムの有効反
射屈折率を減少させる。またマルチ層の光学スタックに
おいて二色性効果（すなわち見る角度によって色が変化
する）はスタック中の誘電層の平均屈折率の減少に伴っ
て増大する。強い二色性構造は下記する特定の適用にと
っては興味あるものである。第２に、本発明の光学フィ
ルムにおける誘電層が多孔質の酸化物からなるという事
実は、これらの層の有効屈折率がその細孔内の空気を他
の透明な材料におきかえることにより変化各増大させる
ことができるということである。
これによって色彩をシフトをさせる装置を製造すること
ができる、すなわちその装置はある材料が細孔内に導入
されるかあるいは除去されるときに色彩を変化させる装
置を製造することができる。
ができる、すなわちその装置はある材料が細孔内に導入
されるかあるいは除去されるときに色彩を変化させる装
置を製造することができる。
屈折率（ｎ）における変化は発生させる色彩に影響を与
える。何故ならば、隣接する層からの反射される光の間
における干渉は物理的スペース（ｄ）だけでなく光学的
スペース（ｎＸｄ）に依存するからである。
える。何故ならば、隣接する層からの反射される光の間
における干渉は物理的スペース（ｄ）だけでなく光学的
スペース（ｎＸｄ）に依存するからである。
この効果は第４図のグラフに示されており、そこでは有
効な屈折率（硬質、多孔質アノード処理フィルム（Ｎ＝
１．６）；濃いアルミニウム酸化物）が多孔質度に対し
てプロットされている。このフィルムの多孔質度が増加
し、より多くの空気が酸化物によっておきかわるものな
らば、屈折率は濃密酸化物のそれから空気の屈折率（Ｎ
＝１）に減少する。これは曲線Ａによって示されている
。この細孔内の空気が水によっておきかえられるならば
、最終屈折率は水（Ｎ＝１．３）に近づくので、より険
しくない曲線が得られることになる。このように、いず
れの多孔質層（たとえば４０％に対してもし水がその細
孔内で空気におきかわるならば、多孔質のアノード処理
のフィルムの有効屈折率はムｎによって変化することに
なり、これは、これによって波長を変化させその波長に
おいて建設的な強化が起こり、結果的に観測される色彩
を変えることになる。
効な屈折率（硬質、多孔質アノード処理フィルム（Ｎ＝
１．６）；濃いアルミニウム酸化物）が多孔質度に対し
てプロットされている。このフィルムの多孔質度が増加
し、より多くの空気が酸化物によっておきかわるものな
らば、屈折率は濃密酸化物のそれから空気の屈折率（Ｎ
＝１）に減少する。これは曲線Ａによって示されている
。この細孔内の空気が水によっておきかえられるならば
、最終屈折率は水（Ｎ＝１．３）に近づくので、より険
しくない曲線が得られることになる。このように、いず
れの多孔質層（たとえば４０％に対してもし水がその細
孔内で空気におきかわるならば、多孔質のアノード処理
のフィルムの有効屈折率はムｎによって変化することに
なり、これは、これによって波長を変化させその波長に
おいて建設的な強化が起こり、結果的に観測される色彩
を変えることになる。
第１図の構造は通常はとんどの場合アルミニウムまたは
アノード処理可能なアルミニウム合金から製造された金
属物体１０の多孔質アノード処理によって調製すること
ができる。これは所望の（光学的に薄い）厚みの多孔質
アノード処理フィルム１１を形成するに適当な時間、酸
（リン酸、硫酸、シュウ酸等）を含む電解質を使用する
ことにより行なわれる。適当に短い時間（１０〜２００
秒間）で電解付着を行なうことによって細孔の底部分に
金属顔料１２が付着することになる。この必要な技術は
上述した米国特許および英国特許に記載されである。細
孔内に付着した顔料はたとえばニッケルコバルトのよう
な電着可能遷移金属の１つであるのが好ましい（他の標
準的な電着可能な金属たとえば錫、銅、鉄、銀およびそ
の他のものも使用することができる）。
アノード処理可能なアルミニウム合金から製造された金
属物体１０の多孔質アノード処理によって調製すること
ができる。これは所望の（光学的に薄い）厚みの多孔質
アノード処理フィルム１１を形成するに適当な時間、酸
（リン酸、硫酸、シュウ酸等）を含む電解質を使用する
ことにより行なわれる。適当に短い時間（１０〜２００
秒間）で電解付着を行なうことによって細孔の底部分に
金属顔料１２が付着することになる。この必要な技術は
上述した米国特許および英国特許に記載されである。細
孔内に付着した顔料はたとえばニッケルコバルトのよう
な電着可能遷移金属の１つであるのが好ましい（他の標
準的な電着可能な金属たとえば錫、銅、鉄、銀およびそ
の他のものも使用することができる）。
第２図の構造は、たとえば物体ｌＯを多孔質アノード処
理し、つづいて得られる多孔質アノード処理フィルムＩ
Ｉ上に半透明な金属層１２をスパッタリングするか、さ
もなくば電着させることにより形成することができる。
理し、つづいて得られる多孔質アノード処理フィルムＩ
Ｉ上に半透明な金属層１２をスパッタリングするか、さ
もなくば電着させることにより形成することができる。
この金属層は次のように化学的に付着させることもでき
る。まず、物体ＩＯをフラッシュアノード処理して非導
電性の酸化物層を形威させ、この薄い層上に半透明な金
属層を無電解メッキによって付着させ、その後多孔質ア
ノード処理を行って半透明金属層の下層に多孔質フィル
ム層１１を所望の厚みに成長させることによって製造す
ることができる。半透明金属層が無電解メッキによって
形成された後、硬質アノード処理を行なうことができる
ことおよびこれによって金属層が幾分多孔質層の状態を
保持することが驚くべきことである。無電解メッキが電
位の適用なく行なわれて、金属付着が酸化物フィルムの
表面において種々の触媒位置において開始される。最初
の付着（金属粒子）はそれらが互いに溶は合うまで成長
する。このような溶は合いが起こったあとでさえも、金
属粒子は電着期間中、分離状態を維持するものと思われ
、分離された状態のギャップはアノード処理が起こるよ
うに思われるので、多孔質アノードフィルムは金属層の
下層に成長させることができる。この半透明層はこの方
法によって製造されるが、アノードフィルムの外面１４
に常に完全に制限されるものでない。何故ならば、最初
のフラッシュアノード処理はしばしば短い、すなわち初
期の細孔を形威し、そしてこれら短い穴とその外面に無
電解メッキ付着物を形成させるからである。この細孔は
さらにアノード処理することによって長くすることがで
きるが、金属付着物が細孔の上部に残っている。その初
期フラッシュアノード処理が非常に短い場合だけ、半透
明層はその外面に形成される。
る。まず、物体ＩＯをフラッシュアノード処理して非導
電性の酸化物層を形威させ、この薄い層上に半透明な金
属層を無電解メッキによって付着させ、その後多孔質ア
ノード処理を行って半透明金属層の下層に多孔質フィル
ム層１１を所望の厚みに成長させることによって製造す
ることができる。半透明金属層が無電解メッキによって
形成された後、硬質アノード処理を行なうことができる
ことおよびこれによって金属層が幾分多孔質層の状態を
保持することが驚くべきことである。無電解メッキが電
位の適用なく行なわれて、金属付着が酸化物フィルムの
表面において種々の触媒位置において開始される。最初
の付着（金属粒子）はそれらが互いに溶は合うまで成長
する。このような溶は合いが起こったあとでさえも、金
属粒子は電着期間中、分離状態を維持するものと思われ
、分離された状態のギャップはアノード処理が起こるよ
うに思われるので、多孔質アノードフィルムは金属層の
下層に成長させることができる。この半透明層はこの方
法によって製造されるが、アノードフィルムの外面１４
に常に完全に制限されるものでない。何故ならば、最初
のフラッシュアノード処理はしばしば短い、すなわち初
期の細孔を形威し、そしてこれら短い穴とその外面に無
電解メッキ付着物を形成させるからである。この細孔は
さらにアノード処理することによって長くすることがで
きるが、金属付着物が細孔の上部に残っている。その初
期フラッシュアノード処理が非常に短い場合だけ、半透
明層はその外面に形成される。
第３図の構造はほとんどの場合、通常まず、第１図に基
づくを構造を製造し、その後多孔質アノード処理を続け
、付着物１２の下方に多孔質フィルムを広げることによ
って形成することができる。
づくを構造を製造し、その後多孔質アノード処理を続け
、付着物１２の下方に多孔質フィルムを広げることによ
って形成することができる。
しかしながら、これは簡単な方法ではない。何故ならば
、通常電着された金属１２はさらなる多孔質アノード処
理に必要な強酸電解質中で溶解または分散する傾向があ
るからである。この問題は克服することができ、強いか
つ侵略的な電解質、たとえばリン酸中におけるアノード
処理は、もしあるとしても、実質的に電着金属層の溶解
および微小な分散を伴って行うことができる。これは下
記に詳述する３つの方法の１つを使用することによって
達成することができる。第１の方法は最初の構造の細孔
内に貴金属シードを電着させることを含む。貴金属（た
とえばパラジウム）は次の多孔質アノード処理に使用さ
れる酸電解質対し耐性を有するが、それらは電着が進む
につれて細孔の側面に広がる傾向にある。これは有利な
ことではない。
、通常電着された金属１２はさらなる多孔質アノード処
理に必要な強酸電解質中で溶解または分散する傾向があ
るからである。この問題は克服することができ、強いか
つ侵略的な電解質、たとえばリン酸中におけるアノード
処理は、もしあるとしても、実質的に電着金属層の溶解
および微小な分散を伴って行うことができる。これは下
記に詳述する３つの方法の１つを使用することによって
達成することができる。第１の方法は最初の構造の細孔
内に貴金属シードを電着させることを含む。貴金属（た
とえばパラジウム）は次の多孔質アノード処理に使用さ
れる酸電解質対し耐性を有するが、それらは電着が進む
につれて細孔の側面に広がる傾向にある。これは有利な
ことではない。
何故ならばその電着物は均一な反射を与えるためには均
一な高さおよびフラットな外面を有するのが望ましいか
らである。それ故に、電着は貴金属の少量の付着のため
に十分な時間だけ行なわれる細孔１３の長さを長くする
次のアノード処理の後、その構造は無電解メッキに付さ
れる。貴金属付着物はもう１つの金属の付着のシードと
して働き、それ故に十分な反射を生むに必要なサイズに
達するまで増大させる。
一な高さおよびフラットな外面を有するのが望ましいか
らである。それ故に、電着は貴金属の少量の付着のため
に十分な時間だけ行なわれる細孔１３の長さを長くする
次のアノード処理の後、その構造は無電解メッキに付さ
れる。貴金属付着物はもう１つの金属の付着のシードと
して働き、それ故に十分な反射を生むに必要なサイズに
達するまで増大させる。
第２の方法は細孔を長くするためのアノード処理前に無
電解メッキによって貴金属シードを大きくする以外は第
！の方法と同様である。この方法は可能である。何故な
らば無電解メッキによって付着した金属にッケル）は多
孔質アノード処理に必要な電解質中に使用される強酸に
対し耐性を有するからである。
電解メッキによって貴金属シードを大きくする以外は第
！の方法と同様である。この方法は可能である。何故な
らば無電解メッキによって付着した金属にッケル）は多
孔質アノード処理に必要な電解質中に使用される強酸に
対し耐性を有するからである。
第３の方法が最も好ましい。これは電着物１２のための
通常の金属（いわゆるＡＮＯＬＯＫ）を使用して第１図
に示すものと構造的に等価なものを含むものを製造する
ことを含む。この付着物はその後浸漬メッキ技術（Ｐｂ
ＣＩＬまたはＡｕＣ１２を溶液を使用してＰｂまたはＡ
ｕのような貴金属の酸耐性被膜を設けること）によって
保護される。この浸漬メッキは幾分無電解メッキと類似
しているが、−旦それを始めると不定期に連続すること
がなく、従って一旦そのホスト金属が表面位置のすべて
を占めるとメッキは終了する。その後さらに付着物１２
が実質的攻撃されることなく細孔１３の長さを長くする
ためにさらにアノード処理を行うことができる。この方
法は最も好ましいものである。
通常の金属（いわゆるＡＮＯＬＯＫ）を使用して第１図
に示すものと構造的に等価なものを含むものを製造する
ことを含む。この付着物はその後浸漬メッキ技術（Ｐｂ
ＣＩＬまたはＡｕＣ１２を溶液を使用してＰｂまたはＡ
ｕのような貴金属の酸耐性被膜を設けること）によって
保護される。この浸漬メッキは幾分無電解メッキと類似
しているが、−旦それを始めると不定期に連続すること
がなく、従って一旦そのホスト金属が表面位置のすべて
を占めるとメッキは終了する。その後さらに付着物１２
が実質的攻撃されることなく細孔１３の長さを長くする
ためにさらにアノード処理を行うことができる。この方
法は最も好ましいものである。
何故ならばこれは通常の電解発色金属の電着に依存して
おり、これによって非常に規Ｉｌｌ正しく均一な半透明
層がアノードフィルム内に形成されることになるからで
ある。
おり、これによって非常に規Ｉｌｌ正しく均一な半透明
層がアノードフィルム内に形成されることになるからで
ある。
第１図ないし第３図の基本的構造の形成のために述べた
製法の各工程において注意深く制御することによって所
望の厚みの、かつ細孔密度および透明性を有する層が形
成される。特に細孔の密度および直径がアノード処理工
程中に決定され、アノード処理ボルトおよび電解質の種
類および温度によって主として制御されることになる。
製法の各工程において注意深く制御することによって所
望の厚みの、かつ細孔密度および透明性を有する層が形
成される。特に細孔の密度および直径がアノード処理工
程中に決定され、アノード処理ボルトおよび電解質の種
類および温度によって主として制御されることになる。
たとえば、室温における硫酸は狭いが非常に近接した細
孔を製造する傾向にある一方、リン酸は比較的大きなか
つより広いスペースの細孔を生成する傾向にある。他の
酸または酸の混合物も適当な場合もある。これは当業者
にとって明らかであろう。
孔を製造する傾向にある一方、リン酸は比較的大きなか
つより広いスペースの細孔を生成する傾向にある。他の
酸または酸の混合物も適当な場合もある。これは当業者
にとって明らかであろう。
もし望むならば、アノード処理は多孔質フィルムが形成
され始め、その後条件が幅広い細孔の成長を促進するよ
うに変化するまで高い細孔密度を製造する条件において
開始することができる。この結果狭いトップ部分とボト
ム部分（以下ボトムネック細孔という）を有する細孔を
形成することにある。その後顔料は細孔の広いボトム部
分に付着し、より浅いより均一な付着物となる。このボ
トムネック細孔はたとえば硫酸を含む電解質中でアノー
ド処理を行い、その後リン酸を含む電解質に転換するこ
とによって製造することができる。
され始め、その後条件が幅広い細孔の成長を促進するよ
うに変化するまで高い細孔密度を製造する条件において
開始することができる。この結果狭いトップ部分とボト
ム部分（以下ボトムネック細孔という）を有する細孔を
形成することにある。その後顔料は細孔の広いボトム部
分に付着し、より浅いより均一な付着物となる。このボ
トムネック細孔はたとえば硫酸を含む電解質中でアノー
ド処理を行い、その後リン酸を含む電解質に転換するこ
とによって製造することができる。
これは潜在的に製造に有益なものである。何故ならば、
硫酸のアノード処理はリン酸のアノード処理の速度の約
１０倍において行われるからである。
硫酸のアノード処理はリン酸のアノード処理の速度の約
１０倍において行われるからである。
本発明の構造はほとんどの場合通常アルミニウムまたは
その合金の上述したアノード処理技術によって製造する
ことができる。多孔質アノードフィルムはたとえば第２
図の構造に適当であろうＴｉ及びＺｒのような他のアノ
ード処理可能な金属において実現される。これらは、し
かしながら好ましいものではない。何故ならば、このよ
うなアノード処理フィルムの屈折率は典型的に２．０に
近く、すなわち有意義な二色性効果にとっては高すぎて
、細孔がアノード処理フィルム厚みを広げる規則的な配
列を形成せず、非常に小さな分画の多孔質が顔料または
他の材料の取り入れに利用できるに過ぎないからである
。さらに、このようなフィルムはすでにこれら酸化物−
金属汚染物に特有な吸収および干渉効果によって強く着
色されており、この汚染物はここで開示する種類の付加
的な金属付着物から発生するいかなる干渉効果をも支配
するものである。
その合金の上述したアノード処理技術によって製造する
ことができる。多孔質アノードフィルムはたとえば第２
図の構造に適当であろうＴｉ及びＺｒのような他のアノ
ード処理可能な金属において実現される。これらは、し
かしながら好ましいものではない。何故ならば、このよ
うなアノード処理フィルムの屈折率は典型的に２．０に
近く、すなわち有意義な二色性効果にとっては高すぎて
、細孔がアノード処理フィルム厚みを広げる規則的な配
列を形成せず、非常に小さな分画の多孔質が顔料または
他の材料の取り入れに利用できるに過ぎないからである
。さらに、このようなフィルムはすでにこれら酸化物−
金属汚染物に特有な吸収および干渉効果によって強く着
色されており、この汚染物はここで開示する種類の付加
的な金属付着物から発生するいかなる干渉効果をも支配
するものである。
また、多孔質アノード処理されない金属物体を使用する
こともできる。たとえば、多孔質誘電層か物体上に、ゾ
ルゲル技術ｒ Ｐ ｏｒｏｕｇ Ｆ １ｕｏｒｉｄｅＡ
ｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ ＣｏａｔｉｎｇｓＪ
Ｅ 、Ｍ、 トー７ス著、Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃ
ｓ社発行２７．３３５６（１９８８）に記載の方法によ
って形成することができる。この技術はまず最初多孔質
の誘電層１１を形成し、その後この表面に半透明金属層
にスパッタリングすることによって、第２図の構造を製
造するために使用することができる他の技術も可能であ
る。たとえば第１図〜第３図の構造と等価であるが、非
多孔質層を有する装置を通常のスパッタリング技術によ
って製造することができ、その後この細孔はこの材料は
たとえばニュートロン・ボンバーメント（核反応器）ま
たは高電圧電気放電に付することによって上記層中に形
成することができる。本発明のいかなる構造においても
金属層１０は、もし望むな与ば非常に薄くてもよく、異
なった種類の材料またはプラスデック、セラミックまた
は金属材料上に支持されてもよい。その場合および構造
がアノード処理によって形成される場合は、アノード処
理によって形成されるとその後アルミニウム層ＩＯは所
望の厚みの酸化物層に変換させるに十分な厚みとする必
要がある。また、酸化物層１１の下方に反射面かを残こ
るような十分な厚みとする必要がある。ある適用に層ｉ
ｏはアルミニウムまたはアルミニウム合金の薄い箔で作
るのが特に望ましい場合もある。得られる装置はその後
フレキシブルなテープとして製造することができ、必要
ならば、表面被覆としてどのような製品にも取り付ける
ために接着層を設けることもできる。
こともできる。たとえば、多孔質誘電層か物体上に、ゾ
ルゲル技術ｒ Ｐ ｏｒｏｕｇ Ｆ １ｕｏｒｉｄｅＡ
ｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ ＣｏａｔｉｎｇｓＪ
Ｅ 、Ｍ、 トー７ス著、Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃ
ｓ社発行２７．３３５６（１９８８）に記載の方法によ
って形成することができる。この技術はまず最初多孔質
の誘電層１１を形成し、その後この表面に半透明金属層
にスパッタリングすることによって、第２図の構造を製
造するために使用することができる他の技術も可能であ
る。たとえば第１図〜第３図の構造と等価であるが、非
多孔質層を有する装置を通常のスパッタリング技術によ
って製造することができ、その後この細孔はこの材料は
たとえばニュートロン・ボンバーメント（核反応器）ま
たは高電圧電気放電に付することによって上記層中に形
成することができる。本発明のいかなる構造においても
金属層１０は、もし望むな与ば非常に薄くてもよく、異
なった種類の材料またはプラスデック、セラミックまた
は金属材料上に支持されてもよい。その場合および構造
がアノード処理によって形成される場合は、アノード処
理によって形成されるとその後アルミニウム層ＩＯは所
望の厚みの酸化物層に変換させるに十分な厚みとする必
要がある。また、酸化物層１１の下方に反射面かを残こ
るような十分な厚みとする必要がある。ある適用に層ｉ
ｏはアルミニウムまたはアルミニウム合金の薄い箔で作
るのが特に望ましい場合もある。得られる装置はその後
フレキシブルなテープとして製造することができ、必要
ならば、表面被覆としてどのような製品にも取り付ける
ために接着層を設けることもできる。
誘電フィルム１１を形成する前は層ＩＯの表面は望まし
い効果を製造するために処理することもできる。たとえ
ば、アルミニウム表面はエツチングされてもよく、また
は反対に反射面を調製するために光輝化処理されてもよ
い。第１図〜第３図に示す本発明の基本的構造は以下に
記載の種々の適用に非常に有益であるが、この基本的構
造に修正を加えて、よりバラエティに富んだ有益な装置
を製造することができる。たとえば、基本的構造のｌま
たはそれ以上の特徴が繰り返される修正を行うために、
構造の１つの特徴と他の特徴を結合することもできる。
い効果を製造するために処理することもできる。たとえ
ば、アルミニウム表面はエツチングされてもよく、また
は反対に反射面を調製するために光輝化処理されてもよ
い。第１図〜第３図に示す本発明の基本的構造は以下に
記載の種々の適用に非常に有益であるが、この基本的構
造に修正を加えて、よりバラエティに富んだ有益な装置
を製造することができる。たとえば、基本的構造のｌま
たはそれ以上の特徴が繰り返される修正を行うために、
構造の１つの特徴と他の特徴を結合することもできる。
たとえば第１図の底部細孔の付着物は第２図および第３
図の構造内に電着によって誘導することができ、これに
よってさらにもう１つの半透明金属層が形成されること
になる。同様に、第２図の金属表面被膜は第１図または
第３図にの構造上に形成することもできる。さらに他の
具体例として上記付着および細孔の延長化工程は第３図
の構造を形成するために行われ、これを繰り返すことに
よって（１〜数回）上記フィルム内に異なった高さのう
ずもれた半透明層が数種形成されることになる。さらに
また、本発明のいかなる構造も不可逆な色彩変化を能力
を与えることかできる。たとえばある１つの干渉色から
他のちのに、干渉色から下地物体の材料色に変換するこ
とができる。これは弱められた層を多孔質フィルム内Ｚ
こ組み入れることＩこよって行なわれ、そのフィルムの
一部または全部がこの層に沿って残りの構造から取り外
すことができるように構成される。
図の構造内に電着によって誘導することができ、これに
よってさらにもう１つの半透明金属層が形成されること
になる。同様に、第２図の金属表面被膜は第１図または
第３図にの構造上に形成することもできる。さらに他の
具体例として上記付着および細孔の延長化工程は第３図
の構造を形成するために行われ、これを繰り返すことに
よって（１〜数回）上記フィルム内に異なった高さのう
ずもれた半透明層が数種形成されることになる。さらに
また、本発明のいかなる構造も不可逆な色彩変化を能力
を与えることかできる。たとえばある１つの干渉色から
他のちのに、干渉色から下地物体の材料色に変換するこ
とができる。これは弱められた層を多孔質フィルム内Ｚ
こ組み入れることＩこよって行なわれ、そのフィルムの
一部または全部がこの層に沿って残りの構造から取り外
すことができるように構成される。
この層が適当に位置しているならば、その構造のよって
発生する干渉色はそのフィルムの上部か取り外されると
き形成され、変更されまたは破壊されることになる。
発生する干渉色はそのフィルムの上部か取り外されると
き形成され、変更されまたは破壊されることになる。
そのような弱められた層はフィルムの一部として細孔を
分岐する技術によって本発明の開示する多孔質フィルム
内に導入することができる。この細孔分岐技術はヨーロ
ッパ特許出願第０１７８゜８３１号（１９８６年４月２
３日発行）に開示された方法と同様であって、多孔質ア
ノード処理中連続または段階的な方法でアノード処理電
圧を変化させることを含む。これによって通常のアノー
ド処理工程中に形成される各細孔はそのテープにおいて
分岐し、集まってそのフィルムを弱める多数の比較的小
さな細孔を形成することになる。たとえば、アノード処
理電圧を通常のアノード処理電圧（典型的には３〜２０
０ボルト範囲にあるか、通常５〜１００ボルトである）
から０ボルト（０゜５ボルト増加内で）にまで減少させ
ることができる。我々のヨーロッパ特許において述べる
ように、細孔を分岐する技術はフィルム形成の最終工程
として行なわれ、その多孔質のフィルムは金属物体から
完全に取り外すことができるようになる。本発明におい
ては、通常の多孔質アノード処理を細孔の分岐工程後に
続いて行い、金属物体と外部フィルム面との間の多孔質
フィルム内に事実上いずれの所望位置においても弱めら
れた層を配置することができるように、通常の多孔質ア
ノード処理を続けることが見出された。これは物体から
早まって上記フィルムを分離させることなく行うことが
できる。これは驚くべきことである。何故ならば多孔質
アノード処理は酸性電解質によるフィルムの溶解とその
電解質によるフィルムの成長との間の競合反応であるか
らである。したがって、多数の微小細孔からなる弱めら
れた層か一旦形成されると、通常の電圧（５〜１００Ｖ
またはそれ以上）におけるさらに多孔質アノード処理が
弱められた層においてフィルムの分離を行わせるかまた
は弱められた層の構造内において逆の変化を起こさせる
ことが期待されるからである。また、これは起こらず、
弱められた地域を通して通過するフィルム表面と接続す
る細孔が弱められた層の下方にまでに成長を続けること
になる。
分岐する技術によって本発明の開示する多孔質フィルム
内に導入することができる。この細孔分岐技術はヨーロ
ッパ特許出願第０１７８゜８３１号（１９８６年４月２
３日発行）に開示された方法と同様であって、多孔質ア
ノード処理中連続または段階的な方法でアノード処理電
圧を変化させることを含む。これによって通常のアノー
ド処理工程中に形成される各細孔はそのテープにおいて
分岐し、集まってそのフィルムを弱める多数の比較的小
さな細孔を形成することになる。たとえば、アノード処
理電圧を通常のアノード処理電圧（典型的には３〜２０
０ボルト範囲にあるか、通常５〜１００ボルトである）
から０ボルト（０゜５ボルト増加内で）にまで減少させ
ることができる。我々のヨーロッパ特許において述べる
ように、細孔を分岐する技術はフィルム形成の最終工程
として行なわれ、その多孔質のフィルムは金属物体から
完全に取り外すことができるようになる。本発明におい
ては、通常の多孔質アノード処理を細孔の分岐工程後に
続いて行い、金属物体と外部フィルム面との間の多孔質
フィルム内に事実上いずれの所望位置においても弱めら
れた層を配置することができるように、通常の多孔質ア
ノード処理を続けることが見出された。これは物体から
早まって上記フィルムを分離させることなく行うことが
できる。これは驚くべきことである。何故ならば多孔質
アノード処理は酸性電解質によるフィルムの溶解とその
電解質によるフィルムの成長との間の競合反応であるか
らである。したがって、多数の微小細孔からなる弱めら
れた層か一旦形成されると、通常の電圧（５〜１００Ｖ
またはそれ以上）におけるさらに多孔質アノード処理が
弱められた層においてフィルムの分離を行わせるかまた
は弱められた層の構造内において逆の変化を起こさせる
ことが期待されるからである。また、これは起こらず、
弱められた地域を通して通過するフィルム表面と接続す
る細孔が弱められた層の下方にまでに成長を続けること
になる。
また、細孔の底部か弱められた層によってアノードフィ
ルムの表面から分離されるときでさえ細孔の底部におい
て付着物を位置させるにｉ着が依然使用されるというこ
とおよびそのような付着がフィルムの早まった分離の原
因とならないということを発見したことは驚くべきこと
である。最後にこのように弱められた層を中間レベルに
含む多孔質アノード処理は上述のようにしてまず最初に
形成することができ、その後細孔の底部に金属付着物を
位置させることができる。
ルムの表面から分離されるときでさえ細孔の底部におい
て付着物を位置させるにｉ着が依然使用されるというこ
とおよびそのような付着がフィルムの早まった分離の原
因とならないということを発見したことは驚くべきこと
である。最後にこのように弱められた層を中間レベルに
含む多孔質アノード処理は上述のようにしてまず最初に
形成することができ、その後細孔の底部に金属付着物を
位置させることができる。
最後に、上記弱められた層は第３図の構造を形成する方
法と関連して上述に述べられた第１図または第２図のア
ノード処理工程のいずれかの間に導入することができる
ことが発見されている。これは弱められた層が多孔質フ
ィルム１１内において第３図の金属付着物１２の上方ま
たは下方のいずれかにすることができることを意味して
いる。
法と関連して上述に述べられた第１図または第２図のア
ノード処理工程のいずれかの間に導入することができる
ことが発見されている。これは弱められた層が多孔質フ
ィルム１１内において第３図の金属付着物１２の上方ま
たは下方のいずれかにすることができることを意味して
いる。
上述した技術の異なった順序で組み合わせることによっ
て製造できる異なった構造の数は大きく、そのいくつか
の具体例は第５図に示されており、以下に説明される。
て製造できる異なった構造の数は大きく、そのいくつか
の具体例は第５図に示されており、以下に説明される。
第５図（ａ）においては、第１図および第２図の構造は
結合されると、表面付着物１２とさらにもう１つの付着
物１２ａとを細孔１３の底部に与え、金属−酸化物一金
属一酸化物一金属（ＭＯＭＯＭ）構造を形成する。この
付着物１２ｂには表面反射を増強し、付着物１２ａはも
う１つの反射面を与え、その結果干渉硬化は非常に強く
複雑なものとなる（二色性が反射層の数の増加によって
増強することができる）細孔１３を液体または固体によ
って充填することにより、フィルム１１の平均屈折率を
変化させ、それによって発生させる色彩に変化を与える
。この構造は第２図に示すような構造を調製し、その後
通常の方法によりその細孔の底部に金属１２Ａを電着さ
せることにより形成することができる。
結合されると、表面付着物１２とさらにもう１つの付着
物１２ａとを細孔１３の底部に与え、金属−酸化物一金
属一酸化物一金属（ＭＯＭＯＭ）構造を形成する。この
付着物１２ｂには表面反射を増強し、付着物１２ａはも
う１つの反射面を与え、その結果干渉硬化は非常に強く
複雑なものとなる（二色性が反射層の数の増加によって
増強することができる）細孔１３を液体または固体によ
って充填することにより、フィルム１１の平均屈折率を
変化させ、それによって発生させる色彩に変化を与える
。この構造は第２図に示すような構造を調製し、その後
通常の方法によりその細孔の底部に金属１２Ａを電着さ
せることにより形成することができる。
第５図の構造は第２図および第３図の特徴を組み合わせ
て金属−酸化物一金属一酸化物一金属（ＭＯＭＯＭ）の
構造を形成したものである。この構造は第３図の構造を
調製し、その表面に金属を付着させることによって形成
することができる。
て金属−酸化物一金属一酸化物一金属（ＭＯＭＯＭ）の
構造を形成したものである。この構造は第３図の構造を
調製し、その表面に金属を付着させることによって形成
することができる。
第５図（ｃ）の構造は第１図〜第３図の基本的構造のす
べての特徴を組み合わせて金属−酸化物金属一酸化物一
金属一酸化物一金属（ＭＯＭＯＭＯＭ）構造を形成した
ものである。これは第３図の構造を形成し、その細孔内
に金属を電着させ、その表面に金属を付着させることに
よって調製することができる。
べての特徴を組み合わせて金属−酸化物金属一酸化物一
金属一酸化物一金属（ＭＯＭＯＭＯＭ）構造を形成した
ものである。これは第３図の構造を形成し、その細孔内
に金属を電着させ、その表面に金属を付着させることに
よって調製することができる。
上記構造への弱められた層の導入によって第５図（ａ）
〜（１）に示すようにさらに変化を与えるようにできる
、第５図（ｂ）においては、弱められた層１５はそれ以
外は第１図と同一である構造に導入される。層１５に沿
ったフィルムの分離によって表面１４からの反射によっ
て引き起こされる干渉効果が除去することができ、残る
フィルムの新しい面からの反射から得られる新しい干渉
効果を導入することになる（弱められた層が付着物１２
と上部と一致していないならば）。このようにして発生
した色彩は虹のような変化が起きる。
〜（１）に示すようにさらに変化を与えるようにできる
、第５図（ｂ）においては、弱められた層１５はそれ以
外は第１図と同一である構造に導入される。層１５に沿
ったフィルムの分離によって表面１４からの反射によっ
て引き起こされる干渉効果が除去することができ、残る
フィルムの新しい面からの反射から得られる新しい干渉
効果を導入することになる（弱められた層が付着物１２
と上部と一致していないならば）。このようにして発生
した色彩は虹のような変化が起きる。
第５図（ｅ）の構造は多孔質フィルムの中間層において
または細孔の底部において弱められた層を有する第２図
の基本的構造である。
または細孔の底部において弱められた層を有する第２図
の基本的構造である。
第５図（ｆ）は細孔１３の底部に弱められた層１５を有
する第３図の基本的構造である。
する第３図の基本的構造である。
この弱められた層に沿ってフィルムを分離することによ
ってもとの色彩によって発生した色彩は完全に除去され
ることになり、残る構造は単に金属外観に有することに
なる。
ってもとの色彩によって発生した色彩は完全に除去され
ることになり、残る構造は単に金属外観に有することに
なる。
第５図（ｇ）弱められた層１５が金属付着物１２上方に
位置している以外は第５図（ｆ）と同一である。この層
■５に沿ってフィルム１１を分離する効果は第５図（ｄ
）のものと同様である。しかしながら、フィルム１１の
成長および細孔Ｉ３の成長は付着物１２の下方に起こる
と、反射層の異なった分離のために異なった干渉効果を
与えることになる。
位置している以外は第５図（ｆ）と同一である。この層
■５に沿ってフィルム１１を分離する効果は第５図（ｄ
）のものと同様である。しかしながら、フィルム１１の
成長および細孔Ｉ３の成長は付着物１２の下方に起こる
と、反射層の異なった分離のために異なった干渉効果を
与えることになる。
第５図（ｈ）においては細孔１３に２つの付着物１２ａ
と１２ｂが存在する。付着物１２ａは細孔の底部に位置
し、付着物１２ｂは中間位置に位置している。弱められ
た層１５は双方の付着物の上方に位置している。この層
に沿ってフィルムを分離する第５図（ｄ）の効果と同様
の効果を有し、１つの付着物にかえ、２つの付着物に有
することにより、より多くの反射面が提供され、このよ
うにして干渉効果はより複雑となる。
と１２ｂが存在する。付着物１２ａは細孔の底部に位置
し、付着物１２ｂは中間位置に位置している。弱められ
た層１５は双方の付着物の上方に位置している。この層
に沿ってフィルムを分離する第５図（ｄ）の効果と同様
の効果を有し、１つの付着物にかえ、２つの付着物に有
することにより、より多くの反射面が提供され、このよ
うにして干渉効果はより複雑となる。
第５図（ｉ）は弱められた層１５が２つの付着物の間に
位置する以外は第５図（ｈ）と同様である。
位置する以外は第５図（ｈ）と同様である。
この層に沿ってフィルムを分離することにより２つの反
射面を除去する（もとのフイルム１４および付着物１２
ｂの表面）、その結果干渉効果は急激に変化することに
なる。
射面を除去する（もとのフイルム１４および付着物１２
ｂの表面）、その結果干渉効果は急激に変化することに
なる。
第５図（Ｄの構造は弱められた層１５が細孔１３の底部
に付加的に設けられている以外は第５図（ｂ）のものと
同一であり、そのフィルムの分離により色彩の変化が生
ずる。
に付加的に設けられている以外は第５図（ｂ）のものと
同一であり、そのフィルムの分離により色彩の変化が生
ずる。
第５図（ｋ）は弱められた層が下方の付着物１２ａ上方
に位置する以外は第５図（ａ）と同一である。
に位置する以外は第５図（ａ）と同一である。
第５図（ｉ）の構造は弱められた層１５が２つの付着物
１２ａおよび１２ｂの間のフィルム内のレベルに位置す
る以外は第５図（ｂ）と同一である。このように示され
たものに付加してさらに組み合わせることも可能である
。
１２ａおよび１２ｂの間のフィルム内のレベルに位置す
る以外は第５図（ｂ）と同一である。このように示され
たものに付加してさらに組み合わせることも可能である
。
誘電フィルムがたとえば第５図（ｈ）または第５図（ｉ
）のように誘電フィルム内に埋もれた１つ以上の反射性
層を偶然に含むときはこれらの層の最も外側の！つから
の反射が誘電フィルムの外面からの反射におきかわり、
そのためこの最も外側の層状の誘電フィルムの層は望む
なら光学的に厚くすることができる。半透明反射層は互
いに分離され、誘電フィルムの光学的に薄い層によって
反射物体から分離されるのが好ましい。
）のように誘電フィルム内に埋もれた１つ以上の反射性
層を偶然に含むときはこれらの層の最も外側の！つから
の反射が誘電フィルムの外面からの反射におきかわり、
そのためこの最も外側の層状の誘電フィルムの層は望む
なら光学的に厚くすることができる。半透明反射層は互
いに分離され、誘電フィルムの光学的に薄い層によって
反射物体から分離されるのが好ましい。
本発明の範囲内にある種々の構造は基本的に３つのグル
ープに分けることのできる適用例に対し使用することが
できる。第１のグループはいかなる色彩シフトまたは色
彩変化を使用するものでなく、単に本発明の構造によっ
て発生させることができる強くかつ二色性の色彩に依存
するものである。第２のグループは特定の材料または状
態の存在を示す目的のために通常カラーシフトを表すた
めに開放された細孔を有する構造の能力を使用するもの
である。ＭＯＭおよび０Ｍ０Ｍの第２図および第３図の
構造の双方がこのタイプの適用に最も適するものである
（他の構造が望むならば変わりに使用することができる
けれども）。この適用例において、細孔は外側に対し開
放すべきであり少なくとも色彩シフトが望まれるときは
そうである。色彩シフトは次のようにして製造すること
ができる。
ープに分けることのできる適用例に対し使用することが
できる。第１のグループはいかなる色彩シフトまたは色
彩変化を使用するものでなく、単に本発明の構造によっ
て発生させることができる強くかつ二色性の色彩に依存
するものである。第２のグループは特定の材料または状
態の存在を示す目的のために通常カラーシフトを表すた
めに開放された細孔を有する構造の能力を使用するもの
である。ＭＯＭおよび０Ｍ０Ｍの第２図および第３図の
構造の双方がこのタイプの適用に最も適するものである
（他の構造が望むならば変わりに使用することができる
けれども）。この適用例において、細孔は外側に対し開
放すべきであり少なくとも色彩シフトが望まれるときは
そうである。色彩シフトは次のようにして製造すること
ができる。
（１） 色彩変化を生み出す外側から多孔質フィルム
内にある物質を侵入させる。
内にある物質を侵入させる。
（２）ある物質をその多孔質フィルム内に含浸させ、そ
れを揮発されるかまたはさもなくばある特定の条件下に
除去して色彩の変化を生じさせる。
れを揮発されるかまたはさもなくばある特定の条件下に
除去して色彩の変化を生じさせる。
（３）上記（１）と（２）を組み合わせることによって
最初の色彩を第２の色彩に変化させ、それから第１の色
彩に変化させるようにして行うことができる。
最初の色彩を第２の色彩に変化させ、それから第１の色
彩に変化させるようにして行うことができる。
上記（りに依存する装置の具体例としては、たとえば冷
凍食品が冷凍・解凍サイクルに付されたことを警告する
ための冷凍・解凍インジケータが挙げられる。このよう
なインジケータは安価なものである必要があり、かつ非
常に見易くかつ信頼性のあるものでなければならない。
凍食品が冷凍・解凍サイクルに付されたことを警告する
ための冷凍・解凍インジケータが挙げられる。このよう
なインジケータは安価なものである必要があり、かつ非
常に見易くかつ信頼性のあるものでなければならない。
これは本発明の構造によって達成することができる。氷
が存在する場合は細孔はフリーな状態にあり、その装置
のオリジナルな色彩が示される。もし氷が解けると水が
細孔内に侵入して色彩の変化が観測される。
が存在する場合は細孔はフリーな状態にあり、その装置
のオリジナルな色彩が示される。もし氷が解けると水が
細孔内に侵入して色彩の変化が観測される。
この第２の色彩は再び冷凍温度を下げても依然残ってい
る。何故ならば、細孔内の水はその場所で冷凍されてそ
の孔から容易に揮発しないからである。
る。何故ならば、細孔内の水はその場所で冷凍されてそ
の孔から容易に揮発しないからである。
上記（１）に依存する装置の他の例としてはインクの必
要のないフィンガープリント記憶装置である。
要のないフィンガープリント記憶装置である。
この場合、皮膚からの油が指で押さえると細孔内に侵入
して色彩の変化が観測される。しかしながら、この変化
は皮膚が接触した地域で皮膚の微小な盛り上がりによっ
て色彩を変化を発生させる一方、盛り上がりの間の微小
な凹部によっては色彩は変化しない。故に、フィンガー
プリント（指紋）が記憶されることになる。皮膚からの
オイルは容易に揮発するものではないので、その指紋は
ある時間目視できる状態にある。しかしながら、記録さ
れた指紋は一旦プリントされる後外表面上をプラスチッ
ク膜でシールされることにより長く保持することになる
。
して色彩の変化が観測される。しかしながら、この変化
は皮膚が接触した地域で皮膚の微小な盛り上がりによっ
て色彩を変化を発生させる一方、盛り上がりの間の微小
な凹部によっては色彩は変化しない。故に、フィンガー
プリント（指紋）が記憶されることになる。皮膚からの
オイルは容易に揮発するものではないので、その指紋は
ある時間目視できる状態にある。しかしながら、記録さ
れた指紋は一旦プリントされる後外表面上をプラスチッ
ク膜でシールされることにより長く保持することになる
。
上記（２）に依存する装置の具体例としては、時間−温
度インジケータがある。これら装置は細孔内にある物質
（液体または固体）を有し、それは室温では比較的揮発
しないが、ある温度領域を越えると揮発性が増加するも
のである。従って、その装置のもとの色彩はその物質が
徐々に細孔に蒸発するある域値以上の温度にその装置を
さらすと第２の色彩に徐々に変化することになる。より
高い温度では蒸発の速度がより速くなるので色彩の変化
は速められる。このようなセンサーは食品が十分に調理
されたときを示すものとして使用することができる。
度インジケータがある。これら装置は細孔内にある物質
（液体または固体）を有し、それは室温では比較的揮発
しないが、ある温度領域を越えると揮発性が増加するも
のである。従って、その装置のもとの色彩はその物質が
徐々に細孔に蒸発するある域値以上の温度にその装置を
さらすと第２の色彩に徐々に変化することになる。より
高い温度では蒸発の速度がより速くなるので色彩の変化
は速められる。このようなセンサーは食品が十分に調理
されたときを示すものとして使用することができる。
同一の目的すなわち食品が調理されたときを示す装置は
異なった原理に基づくものであるが、我々のヨーロッパ
特許出願第０２７２，０８９号（１９８８年６月２２日
発行）に開示されており、特にマイクロ波加熱される食
品容器との組み合わせの用途が記載されている。この公
報においてはいわゆる断熱インジケータがマイクロ波加
熱可能な金属食品容器の外面に装着され、その容器の寸
法およびインジケータの配置に適当に選ぶことによって
、マイクロ波エネルギーによるて温度上昇輻射からシー
ルドすることができる。この方法は、本発明の置換温度
インジケータがマイクロ波照射の食品容器の断熱インジ
ケータとして使用されるとき細孔内の揮発性物質の直接
加熱による誤った表示を避けるために適用するのが好ま
しいものであス 第６図および第７図に適当な装置を示す。第６図はマイ
クロ波加熱可能な容器３５を示し、この容器は底部３４
および側壁３６を有する固い金属たとえばアルミニウム
のホイルベース部材３２を含み、その底部３４および側
壁３６は協働して上方開口された質を形成している。こ
の質は内部に食品の物体３１を配置するものである。
異なった原理に基づくものであるが、我々のヨーロッパ
特許出願第０２７２，０８９号（１９８８年６月２２日
発行）に開示されており、特にマイクロ波加熱される食
品容器との組み合わせの用途が記載されている。この公
報においてはいわゆる断熱インジケータがマイクロ波加
熱可能な金属食品容器の外面に装着され、その容器の寸
法およびインジケータの配置に適当に選ぶことによって
、マイクロ波エネルギーによるて温度上昇輻射からシー
ルドすることができる。この方法は、本発明の置換温度
インジケータがマイクロ波照射の食品容器の断熱インジ
ケータとして使用されるとき細孔内の揮発性物質の直接
加熱による誤った表示を避けるために適用するのが好ま
しいものであス 第６図および第７図に適当な装置を示す。第６図はマイ
クロ波加熱可能な容器３５を示し、この容器は底部３４
および側壁３６を有する固い金属たとえばアルミニウム
のホイルベース部材３２を含み、その底部３４および側
壁３６は協働して上方開口された質を形成している。こ
の質は内部に食品の物体３１を配置するものである。
紙またはプラスチックのようなマイクロ波透過性の誘電
材料の蓋３８を有し、上記質の上部を閉鎖している。こ
のようなコンテナは冷凍食品等の使捨てパッケージとし
て提供されてもよい。
材料の蓋３８を有し、上記質の上部を閉鎖している。こ
のようなコンテナは冷凍食品等の使捨てパッケージとし
て提供されてもよい。
上記コンテナの蓋は食品の収納された本体からおよび本
体に向かってそれぞれ指向する上方および下方の主要面
３８ａ、３８Ｂを有し、その下方蓋面３８ｂは食品の表
面上方にギャップ４０によって間隔をあけられ、複数の
間隔をおいた金属、たとえばアルミニウムホイールの島
部分４２が上方蓋面３８に結合している。この金属島部
分４２とギャップ４０との配列は協働してマイクロ波エ
ネルギーがコンテナ内部に侵入するのを増強し、すなわ
ち食品を保持する容器をマイクロ波オーブン内に配置し
、食品を加熱するためにマイクロ波エネルギーによって
その内部を照射するときにはマイクロ波エネルギー内部
へのカップリングが増強される。金属島部分２２の各々
は第１図および第２図の対向した拡大された表面すなわ
ち反対の主要面４２ａおよび４２ｂを電導性金属部材（
薄いホイール）である。その表面４２ｂは食品に向かっ
て下方を向いており、蓋面３８ｂに結合しているが、表
面４２ａはマイクロ波オーブンの窓を通して見ることが
できるように上方を指向している。島部分４２の１つ（
そのような島部分は４２°で示されている）はその上面
に本発明にかかるダンネス（ｄ。
体に向かってそれぞれ指向する上方および下方の主要面
３８ａ、３８Ｂを有し、その下方蓋面３８ｂは食品の表
面上方にギャップ４０によって間隔をあけられ、複数の
間隔をおいた金属、たとえばアルミニウムホイールの島
部分４２が上方蓋面３８に結合している。この金属島部
分４２とギャップ４０との配列は協働してマイクロ波エ
ネルギーがコンテナ内部に侵入するのを増強し、すなわ
ち食品を保持する容器をマイクロ波オーブン内に配置し
、食品を加熱するためにマイクロ波エネルギーによって
その内部を照射するときにはマイクロ波エネルギー内部
へのカップリングが増強される。金属島部分２２の各々
は第１図および第２図の対向した拡大された表面すなわ
ち反対の主要面４２ａおよび４２ｂを電導性金属部材（
薄いホイール）である。その表面４２ｂは食品に向かっ
て下方を向いており、蓋面３８ｂに結合しているが、表
面４２ａはマイクロ波オーブンの窓を通して見ることが
できるように上方を指向している。島部分４２の１つ（
そのような島部分は４２°で示されている）はその上面
に本発明にかかるダンネス（ｄ。
ｎｅｎｅｓｓ）インジケータ４４を支持している。これ
は物質によって呈示された細孔１３を有する第１図に基
づく構造であるのが好ましい。この物質は（Ａ）食品に
匹敵するものであること、（Ｂ）適当な温度たとえば５
００〜３００℃および適当な時間後（たとえば所定の温
度において数分後蒸発しなければならないこと、（Ｃ）
マイクロ波からシールドされなければならないことを必
要とする。長鎖オレフィン類がこの目的に適当なもので
ある。
は物質によって呈示された細孔１３を有する第１図に基
づく構造であるのが好ましい。この物質は（Ａ）食品に
匹敵するものであること、（Ｂ）適当な温度たとえば５
００〜３００℃および適当な時間後（たとえば所定の温
度において数分後蒸発しなければならないこと、（Ｃ）
マイクロ波からシールドされなければならないことを必
要とする。長鎖オレフィン類がこの目的に適当なもので
ある。
このインジケータ４４は金属島部分４２°に接着されて
もよくまたは金属島部分４２′が第１図〜第３図の構造
の金属物体ｌＯを形成してもよい。
もよくまたは金属島部分４２′が第１図〜第３図の構造
の金属物体ｌＯを形成してもよい。
この装置においてはインジケータ４４はコンテナ３０の
外側におかれるけれど我々のヨーロッパ特許出願第０１
６１７３９号に説明される理由のためにマイクロ波エネ
ルギーからシールドされる。
外側におかれるけれど我々のヨーロッパ特許出願第０１
６１７３９号に説明される理由のためにマイクロ波エネ
ルギーからシールドされる。
このインジケータは伝導または複写によって物体３１か
ら熱を受けるので（マイクロ波によって物体が摩滅され
ると）、食品がある温度に一定時間で達すると上記物質
のすべては細孔から蒸発してインジケータ４４は色彩を
変化させ調理が完了したことを示す。
ら熱を受けるので（マイクロ波によって物体が摩滅され
ると）、食品がある温度に一定時間で達すると上記物質
のすべては細孔から蒸発してインジケータ４４は色彩を
変化させ調理が完了したことを示す。
揮発性の異なった物質を装置の異なった細孔に組み込む
と、より複雑な温度センサーがマイクロ波容器または他
の目的のために製造することができる。たとえば、１０
０℃以上の温度で揮発する物質がある地域に含浸され２
００℃で揮発する物質が他の地域に含浸させることがで
きる。最初の地域のおける色彩の変化で第２の地域にお
ける色彩変化でない場合はその装置が１００℃から２０
０℃の温度にある長さの特定の長さの時間されされたこ
とを示すことになる。地域および異なった物質の数を増
やすことによって不可逆なサーモメータが所定の時間さ
らされた最大の温度を示すように形成することができる
。
と、より複雑な温度センサーがマイクロ波容器または他
の目的のために製造することができる。たとえば、１０
０℃以上の温度で揮発する物質がある地域に含浸され２
００℃で揮発する物質が他の地域に含浸させることがで
きる。最初の地域のおける色彩の変化で第２の地域にお
ける色彩変化でない場合はその装置が１００℃から２０
０℃の温度にある長さの特定の長さの時間されされたこ
とを示すことになる。地域および異なった物質の数を増
やすことによって不可逆なサーモメータが所定の時間さ
らされた最大の温度を示すように形成することができる
。
上記（３）に依存する装置の例として可逆性水分センサ
ーが挙げられる。このような装置はプラントがかんがい
される必要があるときおよび他の多くの目的のために空
気中の湿度を示すために使用することができる。水が細
孔内に侵入すると色彩の変化によって直接水分の存在が
示される。もしその条件がその後適当に乾燥すると水は
均等に細孔から蒸発し最初の色に戻ることになる。本発
明によれば潜像または非潜像のメツセージまたはパター
ンは色彩シフト構造に組み込むことができる。
ーが挙げられる。このような装置はプラントがかんがい
される必要があるときおよび他の多くの目的のために空
気中の湿度を示すために使用することができる。水が細
孔内に侵入すると色彩の変化によって直接水分の存在が
示される。もしその条件がその後適当に乾燥すると水は
均等に細孔から蒸発し最初の色に戻ることになる。本発
明によれば潜像または非潜像のメツセージまたはパター
ンは色彩シフト構造に組み込むことができる。
すなわち、適用の第２グループに適する構造が次のよう
にして組み込まれることになる。フィルムの特定の領域
における細孔は非揮発性または固着可能な材料（たとえ
ばラッカー）によって満たすことができる。この材料の
これらの領域における細孔内への侵入によって永久的な
色彩変化が起こる。
にして組み込まれることになる。フィルムの特定の領域
における細孔は非揮発性または固着可能な材料（たとえ
ばラッカー）によって満たすことができる。この材料の
これらの領域における細孔内への侵入によって永久的な
色彩変化が起こる。
他の領域の細孔は空の状態であってもよく、この場合充
填された領域の色彩と充填されない色彩とは対比される
ことになる。あるいは上記細孔は揮発性材料によって一
時的に充満されてもよい。揮発性材料および非揮発性材
料か同一の屈折率を有するならばこの装置はすべての細
孔が満たされる場合は均一な色彩を有することになり、
メツセージ、パターンまたはランダムなデザインは見る
ことはできないであろう。この装置を揮発性材料の蒸発
を促進する条件におくと、揮発性材料によって充満され
た地域には色彩の変化が起こり、フィルムの非揮発性物
質が充填された地域と対照をなすことなる。故に、メツ
セージ、パターンまたはランダムなデザインは潜像であ
って、すなわち最初は見えないが一定の条件下で顕像化
される。たとえばこの方法が時間−温度センナの製造中
に使用されるとその装置が適当な温度に適当な時間さら
されされると隠されたメツセージが表れる構造内に組み
込むことができることになる。このように調理済みなど
の言葉はマイクロ波加熱可能な食品容器に使用されると
き現出するようにすることもできる。上述した適用の第
３グループのための装置は多孔質フィルム内の弱められ
た層の存在に依存する色彩変化装置であって、上記フィ
ルム上方部分は取り外すことかでき、それによって実質
的に永久的な色彩変化が生み出されることになる。
填された領域の色彩と充填されない色彩とは対比される
ことになる。あるいは上記細孔は揮発性材料によって一
時的に充満されてもよい。揮発性材料および非揮発性材
料か同一の屈折率を有するならばこの装置はすべての細
孔が満たされる場合は均一な色彩を有することになり、
メツセージ、パターンまたはランダムなデザインは見る
ことはできないであろう。この装置を揮発性材料の蒸発
を促進する条件におくと、揮発性材料によって充満され
た地域には色彩の変化が起こり、フィルムの非揮発性物
質が充填された地域と対照をなすことなる。故に、メツ
セージ、パターンまたはランダムなデザインは潜像であ
って、すなわち最初は見えないが一定の条件下で顕像化
される。たとえばこの方法が時間−温度センナの製造中
に使用されるとその装置が適当な温度に適当な時間さら
されされると隠されたメツセージが表れる構造内に組み
込むことができることになる。このように調理済みなど
の言葉はマイクロ波加熱可能な食品容器に使用されると
き現出するようにすることもできる。上述した適用の第
３グループのための装置は多孔質フィルム内の弱められ
た層の存在に依存する色彩変化装置であって、上記フィ
ルム上方部分は取り外すことかでき、それによって実質
的に永久的な色彩変化が生み出されることになる。
このような装置は特に色彩変化が改変されたことを示す
安全性を示す用途に有用である。
安全性を示す用途に有用である。
前述したように、第１図〜第３図および第５図（ａ）お
よび第５図（ｂ）あるいは第５図（ｃ）の基本的構造の
いずれからも製造することができ、その多孔質フィルム
に弱められた層を適当に配置することにより、そのフィ
ルムが分離されるとある色彩から他の色彩に変化するか
あるいは分離が起こると最初の干渉色が完全に破壊され
るようにすることができる。さらに選択は多孔質フィル
ムが多孔質フィルムを有する構造から開始するべきでそ
の多孔質フィルムは外面からの反射はフィルム内からの
反射と他の反射をフィルム内からの他の干渉しないよう
に十分に厚くするが、そのフィルムを分離した後桟る構
造が本発明にかかるものであって強い干渉色が発生する
ように弱められた層を配置することができる色彩変化装
置として使用することができる構造の具体例は第５図（
ｄ）〜第５図（１）に示されている。
よび第５図（ｂ）あるいは第５図（ｃ）の基本的構造の
いずれからも製造することができ、その多孔質フィルム
に弱められた層を適当に配置することにより、そのフィ
ルムが分離されるとある色彩から他の色彩に変化するか
あるいは分離が起こると最初の干渉色が完全に破壊され
るようにすることができる。さらに選択は多孔質フィル
ムが多孔質フィルムを有する構造から開始するべきでそ
の多孔質フィルムは外面からの反射はフィルム内からの
反射と他の反射をフィルム内からの他の干渉しないよう
に十分に厚くするが、そのフィルムを分離した後桟る構
造が本発明にかかるものであって強い干渉色が発生する
ように弱められた層を配置することができる色彩変化装
置として使用することができる構造の具体例は第５図（
ｄ）〜第５図（１）に示されている。
第５図（ｄ）に示される構造の場合、たとえば３つの色
彩変化の場合はアノード処理フィルムが好ましくは次の
条件を満足するようにすることによって理論的に表現す
ることができる。
彩変化の場合はアノード処理フィルムが好ましくは次の
条件を満足するようにすることによって理論的に表現す
ることができる。
（１） Ｘ≦ｄのときは０≦Ｙ≦（Ｘ−ムｄ）であっ
て、（２）Ｘ＞ｄのときは０くＹ≦ｄとなる。ここでＸ
は付着物の上面上の完全なアノード処理の厚みであり、 ｙは付着物の上面上の残留アノード処理フィルムの厚み
である。
て、（２）Ｘ＞ｄのときは０くＹ≦ｄとなる。ここでＸ
は付着物の上面上の完全なアノード処理の厚みであり、 ｙは付着物の上面上の残留アノード処理フィルムの厚み
である。
ｄは付着物の上面から反射された光とアノード処理フィ
ルムの上面から反射された間の干渉によってあくできる
色彩を示すことができる付着物の上面上のアノード処理
フィルムの最大厚みである。
ルムの上面から反射された間の干渉によってあくできる
色彩を示すことができる付着物の上面上のアノード処理
フィルムの最大厚みである。
ムｄはＸ＜Ｄのとき、知覚できる色彩変化を示すことの
できるアノード処理フィルムの厚みの最小変化である。
できるアノード処理フィルムの厚みの最小変化である。
上述したように、ｄの値は約通常約１ミクロンで約３ミ
クロンを越えることはない。
クロンを越えることはない。
そして光学的に薄いという領域と光学的に厚いフィルム
の間の領域を表す。上記ムｄの値は色の発生に依存し、
たとえば青色のときは４０オダストロング、グリーンの
場合は２００オグストロングであってよく、異なる色彩
範囲における目の異なる感度によるものである。この種
の色彩変化装置において、その弱められた層は上部フィ
ルムの一部の取り外しが手によって行うことができるよ
うに多孔質フィルムを弱めるのが好ましい（より強い機
械のみによって取り外し可能なフィルムも可能であるカ
リ。最も簡単な場合、その構造の上面を引っ掻きまたは
摩擦することによって取り外すことができ、上部フィル
ム部分のフレイク化を引き起こすことができる。しかし
ながら、上部フィルム部分がより容易にかつ確実に取り
除くことを望むときは、多孔質フィルムに透明なソート
を張り付け、そのシートを取り外すことにより上部フィ
ルムを同時に取り外すようにすることができる。
の間の領域を表す。上記ムｄの値は色の発生に依存し、
たとえば青色のときは４０オダストロング、グリーンの
場合は２００オグストロングであってよく、異なる色彩
範囲における目の異なる感度によるものである。この種
の色彩変化装置において、その弱められた層は上部フィ
ルムの一部の取り外しが手によって行うことができるよ
うに多孔質フィルムを弱めるのが好ましい（より強い機
械のみによって取り外し可能なフィルムも可能であるカ
リ。最も簡単な場合、その構造の上面を引っ掻きまたは
摩擦することによって取り外すことができ、上部フィル
ム部分のフレイク化を引き起こすことができる。しかし
ながら、上部フィルム部分がより容易にかつ確実に取り
除くことを望むときは、多孔質フィルムに透明なソート
を張り付け、そのシートを取り外すことにより上部フィ
ルムを同時に取り外すようにすることができる。
もし便利ならば、そのシートの一部を端部近くにおいて
接着せず、把持可能な端部を形成し残りの構造からシー
トおよび上部フィルム部分の容易にすることをできる。
接着せず、把持可能な端部を形成し残りの構造からシー
トおよび上部フィルム部分の容易にすることをできる。
この種類の構造は特に開閉照明シール（下方の構造から
シートを取り外すことなくある種の容器を開封すること
ができなくする）に使用するのが特に好ましいものであ
る。取り外しが起こると、装置が開けられかつ装置が開
けられたことを示す色彩変化が起こり、再びその層をも
とに接着させようとしても簡単にもとの色に戻ることが
ない。何故ならば、弱められた層の破壊が親密接着の復
帰を不可能にし、介在する空気または接着剤分子がオリ
ジナルな干渉状態が 発生することのないようにして
いるからである。この種の穿孔またはカット構造での試
みによって貫通された部分の中間領域において上方フィ
ルム部分の取り外しが行なわれ、このようにして影響を
受けた部分が明るく輝く色彩変化を形成することになる
。潜在または非潜在メツセージまたはパターンが弱めら
れた層を有する構造内に組み込むことができる。これは
装置のある領域にある細孔を強化する一方性の領域にお
ける細孔を変化させないでそのままにしておくことによ
って行うことができる。その結果として、上方フィルム
部分は非強化領域における部分のみが取り外すことがで
きる。剥離の結果その構造は色彩が対照される異なった
領域を有することになり、これら対照される領域はメツ
セージまたはパターンとして形状づけることができる。
シートを取り外すことなくある種の容器を開封すること
ができなくする）に使用するのが特に好ましいものであ
る。取り外しが起こると、装置が開けられかつ装置が開
けられたことを示す色彩変化が起こり、再びその層をも
とに接着させようとしても簡単にもとの色に戻ることが
ない。何故ならば、弱められた層の破壊が親密接着の復
帰を不可能にし、介在する空気または接着剤分子がオリ
ジナルな干渉状態が 発生することのないようにして
いるからである。この種の穿孔またはカット構造での試
みによって貫通された部分の中間領域において上方フィ
ルム部分の取り外しが行なわれ、このようにして影響を
受けた部分が明るく輝く色彩変化を形成することになる
。潜在または非潜在メツセージまたはパターンが弱めら
れた層を有する構造内に組み込むことができる。これは
装置のある領域にある細孔を強化する一方性の領域にお
ける細孔を変化させないでそのままにしておくことによ
って行うことができる。その結果として、上方フィルム
部分は非強化領域における部分のみが取り外すことがで
きる。剥離の結果その構造は色彩が対照される異なった
領域を有することになり、これら対照される領域はメツ
セージまたはパターンとして形状づけることができる。
所望の強化はある物質をフィルムの特定の領域における
細孔内に入れることによって達成することができる。こ
の材料は弱められた層のレベルに対し、細孔内を通過す
るために十分に流れるようにすべきであり、接着または
固化効果を与えるべきである。多くの糊または接着剤ま
たはラッカーが十分な強化剤を形成し、たとえば感圧接
着剤、ＵＶおよび加熱硬化ラッカー、エポキシレジンお
よび硬化剤を形成する所望のデザインを製造するために
、シルクスクリーンまたはフレキソグラフ印刷技術がた
とえば透明なシートを被覆するまえに取り外しが要求さ
れないフィルムのこれらの領域を被覆するために使用す
ることができる。そのデザインが使用前に検知できない
場合には、そのフィルムに適用された強化材料の層は非
常に薄くすべきであるかまたは十分な材料がその細孔が
通過した後は表面からすべての残留物を除去する必要が
あるかそれ以外の部分は目視可能な領域を形成すること
ができる。以下本発明を次の実施例を用いて詳細に説明
するが、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、
実施例は発明を提示するためのものと理解すべきである
。
細孔内に入れることによって達成することができる。こ
の材料は弱められた層のレベルに対し、細孔内を通過す
るために十分に流れるようにすべきであり、接着または
固化効果を与えるべきである。多くの糊または接着剤ま
たはラッカーが十分な強化剤を形成し、たとえば感圧接
着剤、ＵＶおよび加熱硬化ラッカー、エポキシレジンお
よび硬化剤を形成する所望のデザインを製造するために
、シルクスクリーンまたはフレキソグラフ印刷技術がた
とえば透明なシートを被覆するまえに取り外しが要求さ
れないフィルムのこれらの領域を被覆するために使用す
ることができる。そのデザインが使用前に検知できない
場合には、そのフィルムに適用された強化材料の層は非
常に薄くすべきであるかまたは十分な材料がその細孔が
通過した後は表面からすべての残留物を除去する必要が
あるかそれ以外の部分は目視可能な領域を形成すること
ができる。以下本発明を次の実施例を用いて詳細に説明
するが、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、
実施例は発明を提示するためのものと理解すべきである
。
色彩変化ホイル
実施例１および２よれば光学的に薄い多孔質酸化物がア
ルミニウム状に形成されてなる構造が調製される。
ルミニウム状に形成されてなる構造が調製される。
これら酸化物はその細孔の最も下方領域において透明な
ニッケル層を含み、そのニッケル上方および外部酸化物
面の下方には構造的に弱い部分が存在している（第５図
（Ｄ）参照）。数種の剥離可能な着色された仕上げがア
ルミニウムホイル上に形成される。これら色彩は上部を
覆う酸化物フィルムをポリマートップラミネートと共に
剥離すると完全に異なった色に変化した。以下の記載は
それらがどのように形成されたかを示すものである。
ニッケル層を含み、そのニッケル上方および外部酸化物
面の下方には構造的に弱い部分が存在している（第５図
（Ｄ）参照）。数種の剥離可能な着色された仕上げがア
ルミニウムホイル上に形成される。これら色彩は上部を
覆う酸化物フィルムをポリマートップラミネートと共に
剥離すると完全に異なった色に変化した。以下の記載は
それらがどのように形成されたかを示すものである。
実施例１
７０ミクロンゲージのアルミニウム合金ＡＡ３００３ホ
イールをＩ ６ｃｘＸ １２．５ｃｉのシートに切り出
し、これらシートを短時間冷却した苛性ソーダエツチン
グに付し、次いで洗浄してきれいにする。各シートを１
５ボルトＤＣで用い、！６５９／ＱＨ２ＳＯ，中で２２
℃のもと指定時間Ｔ（りアノード処理し、その後水洗す
る。この材料を続いて１２０９／ｌ２Ｈｔｐｏ、中で３
０℃で再浸漬する。
イールをＩ ６ｃｘＸ １２．５ｃｉのシートに切り出
し、これらシートを短時間冷却した苛性ソーダエツチン
グに付し、次いで洗浄してきれいにする。各シートを１
５ボルトＤＣで用い、！６５９／ＱＨ２ＳＯ，中で２２
℃のもと指定時間Ｔ（りアノード処理し、その後水洗す
る。この材料を続いて１２０９／ｌ２Ｈｔｐｏ、中で３
０℃で再浸漬する。
１５Ｖ ＤＣの電圧を５秒間適用し、その後１４゜５
ｖまで降下させる。その電圧を保持し、電圧０゜５ｖに
到達するまで降下を繰り返す。ここでは電圧は指定され
たＴ（２）時間だけ保持される。
ｖまで降下させる。その電圧を保持し、電圧０゜５ｖに
到達するまで降下を繰り返す。ここでは電圧は指定され
たＴ（２）時間だけ保持される。
続い
て等しい保持時間のだけの間ＯＶに保持される。
次に、Ｈ，ＰＯ，中に物質を残し、電圧を１５秒にわた
りｌ ５０ＤＣに至るまで流し、Ｔ（３）時間保持する
。これによりアノード処理／細孔弱化が完了し、アノー
ド処理段階を続ける。金属電着は標準のニッケルＡＮＯ
ＬＯＫ（商標）電解液及び方法を使用して行なう。ピー
クＡＣ電圧は２０ボルトで、ピーク電圧時間は２０秒で
ある。
りｌ ５０ＤＣに至るまで流し、Ｔ（３）時間保持する
。これによりアノード処理／細孔弱化が完了し、アノー
ド処理段階を続ける。金属電着は標準のニッケルＡＮＯ
ＬＯＫ（商標）電解液及び方法を使用して行なう。ピー
クＡＣ電圧は２０ボルトで、ピーク電圧時間は２０秒で
ある。
物質のオリジナル色を注意し、透明非多孔質テープを適
用し、はがして残留色を現し、その色を注意する。下記
第１表は水洗により得られる一連の結果を示す。
用し、はがして残留色を現し、その色を注意する。下記
第１表は水洗により得られる一連の結果を示す。
第１表
（ｓｅｃ） （ｓｅｃ） （ｓｅｅ）
５ ２０ ２０ タ゛−リフ゛ルー
ライト７′ルー２０ ２０ ２０
イエトク゛り一ン ライト７゛ルー
２５ ２０ ２０ へ〇−７４ル
ライト７′ルー３０ ２Ｏ２ＯＡ’イ
ｔし１ト ライト７゛ルー５０ ２Ｏ
２０Ｌメラルト′ ライト７゛ルー＋
０ ４ １ＱＯイエローク゛リーン
し７ドオレンゾ゛２５ ３ １００
バー７１ へ〇−７９ルレッド３０
３ １００ へ′イオレアト
オレンノ゛レフト３５ ３ １００
エメラルビ オレンジ゛し７
ド３０ ４ ９０ へ゛イオレ７ト
オレンジ゛イエａ−第８図は物体ＩＯ１
付着物＋２および多孔質誘電フィルム１１をを示す上記
テープ剥離後に残る構造の断面を示す顕微鏡写真である
。
ライト７′ルー２０ ２０ ２０
イエトク゛り一ン ライト７゛ルー
２５ ２０ ２０ へ〇−７４ル
ライト７′ルー３０ ２Ｏ２ＯＡ’イ
ｔし１ト ライト７゛ルー５０ ２Ｏ
２０Ｌメラルト′ ライト７゛ルー＋
０ ４ １ＱＯイエローク゛リーン
し７ドオレンゾ゛２５ ３ １００
バー７１ へ〇−７９ルレッド３０
３ １００ へ′イオレアト
オレンノ゛レフト３５ ３ １００
エメラルビ オレンジ゛し７
ド３０ ４ ９０ へ゛イオレ７ト
オレンジ゛イエａ−第８図は物体ＩＯ１
付着物＋２および多孔質誘電フィルム１１をを示す上記
テープ剥離後に残る構造の断面を示す顕微鏡写真である
。
実施例２
次の各ケースにおいて、物体材料は合金ＡＡ３００３の
７０μアルミホイルである。アノード処理はやや撹拌し
ながら３０℃で１２０９７（ｌリン酸中で行なつた。処
理後、２回水洗し、４０秒間標準ニッケルＡ Ｎ Ｏｖ
Ｌ ｏ Ｋ液中で電着を行なう。風乾後、ホイルをヒー
トシールにてポリエチレン裏打ちのポリエステルシート
にラミネートさせる。
７０μアルミホイルである。アノード処理はやや撹拌し
ながら３０℃で１２０９７（ｌリン酸中で行なつた。処
理後、２回水洗し、４０秒間標準ニッケルＡ Ｎ Ｏｖ
Ｌ ｏ Ｋ液中で電着を行なう。風乾後、ホイルをヒー
トシールにてポリエチレン裏打ちのポリエステルシート
にラミネートさせる。
その後、プラスチックシートをはがすと下記する色度を
表す。
表す。
Ｔ（１）は１５０Ｖｄ−ｃのアノード処理時間をいい、
最終電圧で５秒毎０，５Ｖ降下の電圧降下処理が続く。
最終電圧で５秒毎０，５Ｖ降下の電圧降下処理が続く。
Ｔ（２）ＯＶは最少電圧到達時における電解液中の浸漬
時間をいい、最後に、Ｔ（３）は浸漬時間に続＜１５Ｖ
ｄ−ｃにおける二次アノード処理工程時間をいう。
時間をいい、最後に、Ｔ（３）は浸漬時間に続＜１５Ｖ
ｄ−ｃにおける二次アノード処理工程時間をいう。
１ ６０ ０Ｖ
３０ ６０ ＤＶ
１ ２０ ＧＶ
１２０ ０ ＧＶ
１０２．５Ｖ
１１０ へ゛イＩし７ト
１１０ ７”ルー
ｔｇｏ リ゛リーン
１８０ ハ゛イオレ７ト
４３〇 へ′イオｈ）
イエロー
イエａ−
７４ル一
り゛リーン
ク゛リーン
潜在メツセージを伴う急変ホイル
実施例３および４によれば、実施例１および２と同様、
アルミホイル上の光学的に薄い多孔質酸化物フィルムか
らなる装置が製造される。これらフィルムは第５図（ｄ
）に示す金属付着物および共面の弱化層を含む。フィル
ムの限定領域は再強化され、デラミネーシジンが起こる
と、これら領域は密着を維持するようになる。このよう
に、ある領域では色度が起こるが、他では起こらない。
アルミホイル上の光学的に薄い多孔質酸化物フィルムか
らなる装置が製造される。これらフィルムは第５図（ｄ
）に示す金属付着物および共面の弱化層を含む。フィル
ムの限定領域は再強化され、デラミネーシジンが起こる
と、これら領域は密着を維持するようになる。このよう
に、ある領域では色度が起こるが、他では起こらない。
この装置は次のように調製される。
実施例３
合金ＡＡ３００３のアルミホイルで、７０μのものを１
２０９／ｐＨ，ＰＯ，（３０℃維持）中１０Ｖｄ−ｃで
３０秒間アノード処理する。電圧は５秒間隔で０．５Ｖ
毎降下させ、Ｏｖに達すると、そこで９０秒間浸漬させ
る。その後、すぐに１５Ｖｄ−ｃまでに上昇させ、４０
秒間維持し、その後遮断してＯＶとなる。このホイルは
よく水洗し、標準コバルトＡＮＯＬＯＫ ＴＭ溶液中
に浸漬し、３０秒１６．５Ｖピ一りｄｃ電着処理に付す
る。その後、ボイルを水洗して乾燥させる。ｒｖｏｉｄ
Ｊのような語のメツセージがエポキシ樹脂を使用して着
色表面にラバースタンプされ、その後このホイルを非多
孔質グラスチックフィルムでヒートシールによりラミネ
ートする。
２０９／ｐＨ，ＰＯ，（３０℃維持）中１０Ｖｄ−ｃで
３０秒間アノード処理する。電圧は５秒間隔で０．５Ｖ
毎降下させ、Ｏｖに達すると、そこで９０秒間浸漬させ
る。その後、すぐに１５Ｖｄ−ｃまでに上昇させ、４０
秒間維持し、その後遮断してＯＶとなる。このホイルは
よく水洗し、標準コバルトＡＮＯＬＯＫ ＴＭ溶液中
に浸漬し、３０秒１６．５Ｖピ一りｄｃ電着処理に付す
る。その後、ボイルを水洗して乾燥させる。ｒｖｏｉｄ
Ｊのような語のメツセージがエポキシ樹脂を使用して着
色表面にラバースタンプされ、その後このホイルを非多
孔質グラスチックフィルムでヒートシールによりラミネ
ートする。
結果は剥離してラミネートを取ると、明ブルー青色にバ
イオレット色メツセージを現す隠れたメツセージを有す
るバイオレットラミネートとなる。
イオレット色メツセージを現す隠れたメツセージを有す
るバイオレットラミネートとなる。
実施例４
合金ＡＡ３００３アルミホイル（ゲージ７０μ）を３０
℃維持の１２０９／（！ＨｓＰＯ４中、１５ＶｄＣで６
０秒間アノード処理する。この電圧を５秒間隔で０，５
ｖ毎降下させ、ＩＶになると、そこでホイルを５秒間浸
漬（ｓｏｏｋ）させる。その後すぐに、＋５Ｖに上げて
１９０秒間保持する。その後遮断してＯｖとする。この
ホイルをよく水洗し、１ 、５９／ ｇＡ ｇＮ ｏ
ａ、３ ｘ４／（ｌ Ｈｔ Ｓ Ｏ−を含む液に浸漬し
、２０秒１２．５Ｖピークのａ−ｃ電着処理に付し、細
孔の底にＡｇを付着させる。このホイルを水洗し、乾燥
させる。メツセージはエポキシ樹脂を使用して着色面に
ゴムスタンプし、このホイルをヒートシールして非多孔
質プラスチックフィルムでラミネートする。
℃維持の１２０９／（！ＨｓＰＯ４中、１５ＶｄＣで６
０秒間アノード処理する。この電圧を５秒間隔で０，５
ｖ毎降下させ、ＩＶになると、そこでホイルを５秒間浸
漬（ｓｏｏｋ）させる。その後すぐに、＋５Ｖに上げて
１９０秒間保持する。その後遮断してＯｖとする。この
ホイルをよく水洗し、１ 、５９／ ｇＡ ｇＮ ｏ
ａ、３ ｘ４／（ｌ Ｈｔ Ｓ Ｏ−を含む液に浸漬し
、２０秒１２．５Ｖピークのａ−ｃ電着処理に付し、細
孔の底にＡｇを付着させる。このホイルを水洗し、乾燥
させる。メツセージはエポキシ樹脂を使用して着色面に
ゴムスタンプし、このホイルをヒートシールして非多孔
質プラスチックフィルムでラミネートする。
得られるものは、剥離するとエメラルドグリーン青色に
ブルーメツセージが現れる深いブルーラミネートである
。
ブルーメツセージが現れる深いブルーラミネートである
。
実施例５（装飾的アルミ製品）
本例では、着色光学干渉構造は、２つの金属層、即ちニ
ッケルおよびアルミニウムからなり、第２図のように多
孔質アノード処理アルミナの光学的ら薄い層によって分
離されている。着色面は透明保護ラッカーで被覆され、
イソドア用途に適当な着色（パープル）押出品であり、
次のような製造される。
ッケルおよびアルミニウムからなり、第２図のように多
孔質アノード処理アルミナの光学的ら薄い層によって分
離されている。着色面は透明保護ラッカーで被覆され、
イソドア用途に適当な着色（パープル）押出品であり、
次のような製造される。
アルミ押出品（ＡＡ６４６３）を１５０１長に切断し、
７０℃の５％ＮａＯＨ溶液中でエッチチングし、水洗す
る。次いで、１Ｍリン酸（３１’Ｃ）中で４５秒間２５
Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。
７０℃の５％ＮａＯＨ溶液中でエッチチングし、水洗す
る。次いで、１Ｍリン酸（３１’Ｃ）中で４５秒間２５
Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。
水洗後、塩化第１スズの希釈酸性溶液中に１５秒浸漬し
、水洗する。次いで、塩化パラジウムの希釈酸性溶液中
にさらに１５秒間浸漬する。水洗時、パネルには市販溶
液中で短時間無電解ニッケルメッキを行なう。その後、
再アノード処理（１０５秒）し、水洗乾燥させる。透明
ラッカーをスプレー塗布し、風乾する。
、水洗する。次いで、塩化パラジウムの希釈酸性溶液中
にさらに１５秒間浸漬する。水洗時、パネルには市販溶
液中で短時間無電解ニッケルメッキを行なう。その後、
再アノード処理（１０５秒）し、水洗乾燥させる。透明
ラッカーをスプレー塗布し、風乾する。
実施例６（潜在メツセージを有する色度ラベル）本例で
は、光学構造は 即ちニッケルおよびアルミニウムか
らなり第２図に示すように多孔質のアノード処理された
アルミニウムの光学的に薄い層によって分離されている
。第５図（ｅ）に示すような酸化物内にある共通の弱め
られた帯域は上記２つの金属層の分離を行なうため、密
着構造によって発生する干渉色（青）の不可逆な破壊を
行なうことになる。この層の分離はヒートシールされる
ポリエチレン／ポリエステルのトップコートラミネート
によって行なうことができ、このラミネートは容易につ
かんでかつ破ることなく引っ張ることができる。会社の
ロゴの形態で潜像が上記トップコートをはがすときに多
孔質酸化物が強化されモしてＵｖ降下ラッカーと親密に
接触している地域に現れる。フレキソ印刷技術がこのラ
ッカーの適用に使用される。この構造は次のようにした
製造できる。
は、光学構造は 即ちニッケルおよびアルミニウムか
らなり第２図に示すように多孔質のアノード処理された
アルミニウムの光学的に薄い層によって分離されている
。第５図（ｅ）に示すような酸化物内にある共通の弱め
られた帯域は上記２つの金属層の分離を行なうため、密
着構造によって発生する干渉色（青）の不可逆な破壊を
行なうことになる。この層の分離はヒートシールされる
ポリエチレン／ポリエステルのトップコートラミネート
によって行なうことができ、このラミネートは容易につ
かんでかつ破ることなく引っ張ることができる。会社の
ロゴの形態で潜像が上記トップコートをはがすときに多
孔質酸化物が強化されモしてＵｖ降下ラッカーと親密に
接触している地域に現れる。フレキソ印刷技術がこのラ
ッカーの適用に使用される。この構造は次のようにした
製造できる。
７０対アルミホイル（合金ＡＡ３００３）を１ＯＸ１５
ｃｚ７切断し、前洗浄してかつ水洗する。このパネルを
１モルリン酸中（３１’Ｃ）３０秒間にわたり１５Ｖｄ
−ｃ中でアノード処理する。水洗後、このパネルを５秒
間第１塩化スズで希釈酸性溶液中で浸漬し、その後、さ
らに５秒間塩化パラジウムの希釈酸性溶液にっけ、水洗
後に、このパネルに市販溶液中で短時間の無電解ニッケ
ルメッキ処理を与える。そして、このパネルを上述のよ
うにして１１５秒間再アノード処理を行なう。そこでは
、電圧は６秒毎に０．５Ｖずつ降下させる。その後、パ
ネルを０．５Ｖにおいて８０秒間浸透させる。水洗およ
び乾燥時に、透明なＵＶＦｆ！化ラッカーをフレキソ印
刷技術によりいま着色された表面にわたってメツセージ
のフォーマットをプリントする。加熱することによって
揮発分は除去され、ラッカーはＵ■いこうのらとに硬化
することになる。この着色された表面は１２５ミクロン
ポリエチレン／ポリエステルトップコートを使用してヒ
ートシールによるラミネートさせる。
ｃｚ７切断し、前洗浄してかつ水洗する。このパネルを
１モルリン酸中（３１’Ｃ）３０秒間にわたり１５Ｖｄ
−ｃ中でアノード処理する。水洗後、このパネルを５秒
間第１塩化スズで希釈酸性溶液中で浸漬し、その後、さ
らに５秒間塩化パラジウムの希釈酸性溶液にっけ、水洗
後に、このパネルに市販溶液中で短時間の無電解ニッケ
ルメッキ処理を与える。そして、このパネルを上述のよ
うにして１１５秒間再アノード処理を行なう。そこでは
、電圧は６秒毎に０．５Ｖずつ降下させる。その後、パ
ネルを０．５Ｖにおいて８０秒間浸透させる。水洗およ
び乾燥時に、透明なＵＶＦｆ！化ラッカーをフレキソ印
刷技術によりいま着色された表面にわたってメツセージ
のフォーマットをプリントする。加熱することによって
揮発分は除去され、ラッカーはＵ■いこうのらとに硬化
することになる。この着色された表面は１２５ミクロン
ポリエチレン／ポリエステルトップコートを使用してヒ
ートシールによるラミネートさせる。
実施例７（二色性バーコード移送ラベル）本例によれば
、光学構造は２つの金属層、すなわちニッケルおよびア
ルミニウムからなり、第２図に示す多孔質のアノード処
理アルミナの光学的に薄い層によって分離されている。
、光学構造は２つの金属層、すなわちニッケルおよびア
ルミニウムからなり、第２図に示す多孔質のアノード処
理アルミナの光学的に薄い層によって分離されている。
このフィルムは透明ラッカーによるバーコードのそれに
対しネガチブなアバ−でシルク印刷に付される。即ちバ
ーコード線を除いてすべての地域にシルクスクリーンに
より印刷される。その結果、黄緑の青色に対して対照さ
れる深いブルーのバーコードが現れる。このバーコード
の色彩は見る角度を通常の角度から４５度そして７０度
に調節すると、赤から黄色に変化する。この表面を薄い
感圧トップコートによって保護し、移送接着剤のボトム
コートにより商品のラベル化を容易にする。この構造は
次のように製造される。
対しネガチブなアバ−でシルク印刷に付される。即ちバ
ーコード線を除いてすべての地域にシルクスクリーンに
より印刷される。その結果、黄緑の青色に対して対照さ
れる深いブルーのバーコードが現れる。このバーコード
の色彩は見る角度を通常の角度から４５度そして７０度
に調節すると、赤から黄色に変化する。この表面を薄い
感圧トップコートによって保護し、移送接着剤のボトム
コートにより商品のラベル化を容易にする。この構造は
次のように製造される。
５２ミクロン厚アルミニウム／糸リすステルラミネート
を９Ｘ１５ｃｚパネルに切断し、前洗浄して水洗する。
を９Ｘ１５ｃｚパネルに切断し、前洗浄して水洗する。
このパネルを１モルリン酸中（３０℃）で６０秒間１０
Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。水洗後、このパ
ネルを第１塩化スズを付着酸性溶液中に６０秒間浸漬し
、水洗し、次いでさらに３０秒間塩化パラジウムの希釈
酸性溶液中につける。水洗中、パネルに減少された作動
温度において洗浄浴中で短時間無電解ニッケルメッキを
行なう。このパネルを上述のようにして２５秒間再アノ
ード処理し、そこでは電圧を２５秒毎に０．５Ｖずつ降
下させるが、４．５Ｖに達するとアノード処理酸化物の
多孔質を増加させる。このパネルを取り出し、水洗し、
かつ乾燥させる。透明なＵＶ硬化性ラッカーをいま着色
した表面上にシルクスクリーン印刷してバーコードのそ
れに対しネガチプなパターンで印刷を施す。ＵＶ光のも
との硬化工程に続き、１２ミクロンの感圧のトップコー
トを上面に適用し、ペーパを裏打ちした移送接着剤を背
面に適用する。
Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。水洗後、このパ
ネルを第１塩化スズを付着酸性溶液中に６０秒間浸漬し
、水洗し、次いでさらに３０秒間塩化パラジウムの希釈
酸性溶液中につける。水洗中、パネルに減少された作動
温度において洗浄浴中で短時間無電解ニッケルメッキを
行なう。このパネルを上述のようにして２５秒間再アノ
ード処理し、そこでは電圧を２５秒毎に０．５Ｖずつ降
下させるが、４．５Ｖに達するとアノード処理酸化物の
多孔質を増加させる。このパネルを取り出し、水洗し、
かつ乾燥させる。透明なＵＶ硬化性ラッカーをいま着色
した表面上にシルクスクリーン印刷してバーコードのそ
れに対しネガチプなパターンで印刷を施す。ＵＶ光のも
との硬化工程に続き、１２ミクロンの感圧のトップコー
トを上面に適用し、ペーパを裏打ちした移送接着剤を背
面に適用する。
実施例８（二色性ホイル）
本例では、光学構造では２つの金属層、即ちタンタルお
よびアルミニウムを第２図に示す多孔質のアノード処理
アルミナを光学的薄い層によって分離して製造される。
よびアルミニウムを第２図に示す多孔質のアノード処理
アルミナを光学的薄い層によって分離して製造される。
この構造の色彩はバイオレット（通常の角度から見ると
）から４５度の角度でみると赤色に変化する。この構造
は次ぎのようにして製造される。
）から４５度の角度でみると赤色に変化する。この構造
は次ぎのようにして製造される。
５０ミクロンの厚みのアルミニウム／ポリエステルラミ
ネートを９Ｘ１５ｃｍパネルに切断し、前洗浄して水洗
する。その後、０．４モルシュウ酸中（２３℃）で２４
０秒間２５Ｖ Ａ−Ｃｒａｇｓを使用してアノード処
理を行なう。水洗および乾燥後１００オンダストロング
のタンタルをアノード処理されたアルミニウム面にスパ
ッタリングして被覆する。
ネートを９Ｘ１５ｃｍパネルに切断し、前洗浄して水洗
する。その後、０．４モルシュウ酸中（２３℃）で２４
０秒間２５Ｖ Ａ−Ｃｒａｇｓを使用してアノード処
理を行なう。水洗および乾燥後１００オンダストロング
のタンタルをアノード処理されたアルミニウム面にスパ
ッタリングして被覆する。
実施例９（センサー）
この実施例では、光学構造は２つの金属層、２つのアル
ミニウム層を第２図に示す多孔質アノードアルミナの光
学的に薄い層によって分離して製造される。この金属表
面は水分を吸収すると、黄色から深いバイオレットに変
化する。この構造は次のようにして製造される。
ミニウム層を第２図に示す多孔質アノードアルミナの光
学的に薄い層によって分離して製造される。この金属表
面は水分を吸収すると、黄色から深いバイオレットに変
化する。この構造は次のようにして製造される。
５０ミクロンの厚みのアルミニウム／ポリエステルラミ
ネートを９ＸＩ５ｃｘのパネルに切断し、前洗浄して水
洗いする。このパネルを１モルリン酸（３１℃）中で２
７０秒間１０Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。水
洗および乾燥後、アルミニウム１５０オンダストロング
をアノード処理されたアルミニウム側にスパッタリング
被覆する。
ネートを９ＸＩ５ｃｘのパネルに切断し、前洗浄して水
洗いする。このパネルを１モルリン酸（３１℃）中で２
７０秒間１０Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。水
洗および乾燥後、アルミニウム１５０オンダストロング
をアノード処理されたアルミニウム側にスパッタリング
被覆する。
実施例１０（温度／時間インジケータ）この実施例では
、光学構造は２つのアルミニウム層を第２図に示すよう
な多孔質のアノード処理アルミナの光学的に薄い層によ
って分離して製造される。この多孔質酸化物中にグリセ
ロールを含浸させると、そのグリセロールはインジケー
タがある温度にさらされるとその温度によって決定され
る速度で表面から蒸発する。グリセロールが蒸発すると
、装置の色彩は深い緑色から黄色に変化する（その構造
の波長に対する反射性をグラフにプロットした第９図か
ら分かるように）。この構造は次のように製造される。
、光学構造は２つのアルミニウム層を第２図に示すよう
な多孔質のアノード処理アルミナの光学的に薄い層によ
って分離して製造される。この多孔質酸化物中にグリセ
ロールを含浸させると、そのグリセロールはインジケー
タがある温度にさらされるとその温度によって決定され
る速度で表面から蒸発する。グリセロールが蒸発すると
、装置の色彩は深い緑色から黄色に変化する（その構造
の波長に対する反射性をグラフにプロットした第９図か
ら分かるように）。この構造は次のように製造される。
５０ミクロンの厚みのアルミニウム／ポリエステルラミ
ネートを９Ｘ１５ｃ１１パネルに切断し、前洗浄して水
洗する。このパネル１モルリン酸（３１℃）中で２７０
秒間１０Ｖｄ−Ｃを使用してアノード処理する。水洗お
よび乾燥後、このパネルにアルミニウム１５０オンダス
トロングをアノード処理されたアルミニウム面側にスパ
ッタリング被覆する。この表面にローラ被覆によりグリ
セロールの薄い被膜（３ｇ／ｚ’）を含浸させる。これ
を１２５℃にオープン内に配置すると、色彩は深いバイ
オレットから４分後黄色に変化する。第１Ｏ図はこの得
られる構造の断面図を示す顕微鏡写真である。物体ＩＯ
１多孔質誘電フィルム１１および表面金属付着物はこの
写真中に明らかに示されている。
ネートを９Ｘ１５ｃ１１パネルに切断し、前洗浄して水
洗する。このパネル１モルリン酸（３１℃）中で２７０
秒間１０Ｖｄ−Ｃを使用してアノード処理する。水洗お
よび乾燥後、このパネルにアルミニウム１５０オンダス
トロングをアノード処理されたアルミニウム面側にスパ
ッタリング被覆する。この表面にローラ被覆によりグリ
セロールの薄い被膜（３ｇ／ｚ’）を含浸させる。これ
を１２５℃にオープン内に配置すると、色彩は深いバイ
オレットから４分後黄色に変化する。第１Ｏ図はこの得
られる構造の断面図を示す顕微鏡写真である。物体ＩＯ
１多孔質誘電フィルム１１および表面金属付着物はこの
写真中に明らかに示されている。
実施例１１
５０ミクロン厚のアルミニウムホイル／ポリエステルラ
ミネートのカソード処理で清浄化し、次いで２７０秒間
１５Ｖｄ−ｃを使用して＋２０９／（リン酸（３０℃維
持）中でアノード処理する。水洗後、少量のパラジウム
を細孔の底部にパラジウムニトロザルフェート溶液中に
懸濁した物質に２０秒のｌ０Ｖａ−ｃ ｒｍｓ処理を
適用することによって電着させる。水洗後、このパネル
をある専用の無電解ニッケル容器中に７３℃で２０秒間
浸漬する。水洗の後、このパネルを上述したと同様に９
０秒間再アノード処理する。ここでは、電圧は０゜６秒
毎に０．５Ｖづつ規則正しく降下させる。ＯＶに達する
とパネルを４５秒間浸透させ、水洗し、かつ乾燥する。
ミネートのカソード処理で清浄化し、次いで２７０秒間
１５Ｖｄ−ｃを使用して＋２０９／（リン酸（３０℃維
持）中でアノード処理する。水洗後、少量のパラジウム
を細孔の底部にパラジウムニトロザルフェート溶液中に
懸濁した物質に２０秒のｌ０Ｖａ−ｃ ｒｍｓ処理を
適用することによって電着させる。水洗後、このパネル
をある専用の無電解ニッケル容器中に７３℃で２０秒間
浸漬する。水洗の後、このパネルを上述したと同様に９
０秒間再アノード処理する。ここでは、電圧は０゜６秒
毎に０．５Ｖづつ規則正しく降下させる。ＯＶに達する
とパネルを４５秒間浸透させ、水洗し、かつ乾燥する。
処理されたままのパネルの色はパープルである。水分ま
たは他の物質が細孔内に凝縮または浸透すると、色は明
確にグリーンに転する。
たは他の物質が細孔内に凝縮または浸透すると、色は明
確にグリーンに転する。
ヒートシールラミネートを行なうと、パネルはグリーン
を現す。そして、この色彩はラミネートを剥離すると不
可逆的に破壊されることになる。
を現す。そして、この色彩はラミネートを剥離すると不
可逆的に破壊されることになる。
実施例１２
７０ミクロンの厚みのアルミホイル（合金ＡＡ３００３
）は室温で３０秒間、１６５９／ｆ２でリン酸電解液中
でｌ５Ｖａ−ｃを使用してアノード処理される。水洗の
後、このパネルを１００ｇ／Ｑリン酸Ｃ３０℃維持）中
で１５Ｖｄ−ｃを使用してさらに３０秒間再アノード処
理する。この処理によって約０．２５ ミクロンの非対
称な細孔からなるアノード処理フィルムが形成されるこ
とになる。３０秒のパラジウム電着処理を、１５ＶＡ−
ａｃを電圧をグラファイトの対向電着を横切って適用し
て行う。このパネルは続いて水洗し、上述の条件を使用
してリン酸電解液中で５秒間再アノード処理を行なう。
）は室温で３０秒間、１６５９／ｆ２でリン酸電解液中
でｌ５Ｖａ−ｃを使用してアノード処理される。水洗の
後、このパネルを１００ｇ／Ｑリン酸Ｃ３０℃維持）中
で１５Ｖｄ−ｃを使用してさらに３０秒間再アノード処
理する。この処理によって約０．２５ ミクロンの非対
称な細孔からなるアノード処理フィルムが形成されるこ
とになる。３０秒のパラジウム電着処理を、１５ＶＡ−
ａｃを電圧をグラファイトの対向電着を横切って適用し
て行う。このパネルは続いて水洗し、上述の条件を使用
してリン酸電解液中で５秒間再アノード処理を行なう。
ここで、電圧はさらに５秒毎に０．５Ｖづつ降下させる
。電圧がＯＶに達すると、３０秒間浸透させる。水洗後
、洗浄の無電解ニッケル溶液（８０℃に維持）中に２５
秒間浸漬する。
。電圧がＯＶに達すると、３０秒間浸透させる。水洗後
、洗浄の無電解ニッケル溶液（８０℃に維持）中に２５
秒間浸漬する。
このパネルの深いマローン色は剥離される透明ポリマー
によって表面がラミネートされると破壊される。
によって表面がラミネートされると破壊される。
実施例１３
５０ミクロンのアルミホイル／ポリエステルラミネート
を電着処理して清浄化し、続いて２７０秒間１５Ｖｄ−
ｃを用い、１２０９／Ｑリン酸（３０℃に維持）中でア
ノード処理を行なう。水洗後、少量のニッケルをリン酸
ニッケル／ホウ酸溶液中に懸濁した物質に４０秒の１０
Ｖａ−ａｒｍｓを適用することにより細孔の底部内に電
着させる。水洗後、パネルを２分間希釈したパラジウム
ニトロサルフェート溶液中に浸漬する（この期間中にニ
ッケル付着物は化学的にパラジウムにおきかえられた）
。水洗後、パネルを上述のようにして９０秒間再アノー
ド処理する。ここでは、電圧は規則的に０．６秒毎に０
．０５Ｖ毎に降下させる。ＯＶに達すると、このパネル
を４５秒間浸透させ、水洗後、乾燥させる。
を電着処理して清浄化し、続いて２７０秒間１５Ｖｄ−
ｃを用い、１２０９／Ｑリン酸（３０℃に維持）中でア
ノード処理を行なう。水洗後、少量のニッケルをリン酸
ニッケル／ホウ酸溶液中に懸濁した物質に４０秒の１０
Ｖａ−ａｒｍｓを適用することにより細孔の底部内に電
着させる。水洗後、パネルを２分間希釈したパラジウム
ニトロサルフェート溶液中に浸漬する（この期間中にニ
ッケル付着物は化学的にパラジウムにおきかえられた）
。水洗後、パネルを上述のようにして９０秒間再アノー
ド処理する。ここでは、電圧は規則的に０．６秒毎に０
．０５Ｖ毎に降下させる。ＯＶに達すると、このパネル
を４５秒間浸透させ、水洗後、乾燥させる。
処理されたままのパネルの色彩はパープルである。水分
または他の物質が凝集または細孔内に浸透すると色彩は
明確なグリーンに転する。ヒートシールラミネートを行
なうと、パネルはグリーンを現し、この色はトップコー
トラミネートが剥離されると不可逆的に破壊されること
になる。
または他の物質が凝集または細孔内に浸透すると色彩は
明確なグリーンに転する。ヒートシールラミネートを行
なうと、パネルはグリーンを現し、この色はトップコー
トラミネートが剥離されると不可逆的に破壊されること
になる。
実施例１４（二色性ホイル）
この実施例では、光学構造は３つの金属層、即ちニョブ
、コバルトおよびアルミホイルから形成されている（第
５図（ａ）参照）。このニョブおよびコバルト層は多孔
質のアノード処理アルミナの光学的に薄い層によって分
離されている。アルミホイル（物体）は非多孔質のアノ
ード処理アルミナの光学的薄い層によってコバルト層か
ら分離されている。この装置の色は垂直から４５℃にか
えるとバイオレットからイエローに転する。この構造は
次のようにして製造される。７０ミクロンのアルミホイ
ル（合金ＡＡ３００３）をｌＯ１０Ｘ１５のパネルに切
断し、前洗浄して水洗する。このパネルを１．６モルリ
ン酸（２２℃）中７５秒間１５ＶａＣビークを使用して
アノード処理を行なう。水洗後、このパネルを電解液に
浸漬する。電解液は硫酸コバルト、硫酸マグネシウム、
酒石酸およびホウ酸を含む。グラファイト対向電極を用
い、ａ−ｅ電圧を１５ピークまで流し、３０秒間維持す
る。
、コバルトおよびアルミホイルから形成されている（第
５図（ａ）参照）。このニョブおよびコバルト層は多孔
質のアノード処理アルミナの光学的に薄い層によって分
離されている。アルミホイル（物体）は非多孔質のアノ
ード処理アルミナの光学的薄い層によってコバルト層か
ら分離されている。この装置の色は垂直から４５℃にか
えるとバイオレットからイエローに転する。この構造は
次のようにして製造される。７０ミクロンのアルミホイ
ル（合金ＡＡ３００３）をｌＯ１０Ｘ１５のパネルに切
断し、前洗浄して水洗する。このパネルを１．６モルリ
ン酸（２２℃）中７５秒間１５ＶａＣビークを使用して
アノード処理を行なう。水洗後、このパネルを電解液に
浸漬する。電解液は硫酸コバルト、硫酸マグネシウム、
酒石酸およびホウ酸を含む。グラファイト対向電極を用
い、ａ−ｅ電圧を１５ピークまで流し、３０秒間維持す
る。
水沈後乾燥し、このパネルにニオブを１００人スパッタ
リングして被覆する。
リングして被覆する。
実施例１５（潜在メツセージを有する色彩変化ラベル）
この実施例では、光学構造は３つの金属層、即ちニッケ
ルおよびアルミニウムからなっている（第５図（ａ）参
照）この２つのニッケル層は多孔質のアノード処理アル
ミナの光学的に薄い層に分離されている。アルミニウム
（物体）は非多孔質の光学的に薄い層によって中間のニ
ッケル層から分離されている。第５図（ｋ）のように多
孔質アノード処理酸化物内には共通面の弱められた帯域
を有し、これがオリジナルなグリーンからブロンズの干
渉色に転する不可逆な色彩変化を起こす付着金属層の分
離を行なう。この層の分離はヒートシールされたボリヱ
チレン／ポリエステルのトップコートラミネートによっ
て行なわれ、このラミネートは容易につかんでかつ破れ
ることなく引っ張ることができる。潜在イメージはこの
トップコートをはがすと多孔質の酸化物が浄化されて、
従ってＵＶ硬化型ラッカーと親密に接している地域にお
いて表れている。このラッカーの適用にはフレキソ印刷
技術が使用される。この構造は次のように製造される。
ルおよびアルミニウムからなっている（第５図（ａ）参
照）この２つのニッケル層は多孔質のアノード処理アル
ミナの光学的に薄い層に分離されている。アルミニウム
（物体）は非多孔質の光学的に薄い層によって中間のニ
ッケル層から分離されている。第５図（ｋ）のように多
孔質アノード処理酸化物内には共通面の弱められた帯域
を有し、これがオリジナルなグリーンからブロンズの干
渉色に転する不可逆な色彩変化を起こす付着金属層の分
離を行なう。この層の分離はヒートシールされたボリヱ
チレン／ポリエステルのトップコートラミネートによっ
て行なわれ、このラミネートは容易につかんでかつ破れ
ることなく引っ張ることができる。潜在イメージはこの
トップコートをはがすと多孔質の酸化物が浄化されて、
従ってＵＶ硬化型ラッカーと親密に接している地域にお
いて表れている。このラッカーの適用にはフレキソ印刷
技術が使用される。この構造は次のように製造される。
５０ミクロンのアルミホイル（合金ＡＡｌｌｏｏ）を７
Ｘ １０Ｃｘｉ＜ネルに切断し、前洗浄して水洗する
。このパネルを７モルリン酸（３０℃）で３０秒間１５
Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。水洗後、このパ
ネルを９０秒間第１塩化スズの付着酸性溶液に浸漬し、
水洗後、さらに４０秒間塩化パラジウムに付着酸性溶液
につける。水洗後、このパネルを短時間減少された作業
温度における洗浄浴中で無電解ニッケル処理を行なう。
Ｘ １０Ｃｘｉ＜ネルに切断し、前洗浄して水洗する
。このパネルを７モルリン酸（３０℃）で３０秒間１５
Ｖｄ−ｃを使用してアノード処理する。水洗後、このパ
ネルを９０秒間第１塩化スズの付着酸性溶液に浸漬し、
水洗後、さらに４０秒間塩化パラジウムに付着酸性溶液
につける。水洗後、このパネルを短時間減少された作業
温度における洗浄浴中で無電解ニッケル処理を行なう。
このパネルをさらに２０秒間再アノード処理し、６秒毎
にＯ，ＳＶ電圧を降下させる。Ｏｖにおける２０秒の浸
透が完了すると、電圧１５Ｖに戻し、９０秒間維持する
。水洗後、パネルを電解液に浸漬する。この電解液は硫
酸ニッケル、硫酸マグネシウム、酒石酸およびホウ酸を
含む。そして、グラファイト対向電極を用い、ａ−ｃ電
圧を１５ビークに流し、２０秒間維持して細孔の底部に
ニッケルを電着させる。水洗かつ乾燥後、透明なＵＶ硬
化型ラッカーをフレキソ印刷技術を用いて、いま着色し
ている表面にメツセージフォーマットをもって付着させ
る。加熱して揮発物を除去し、このラッカーをＵＶ光の
もとに硬化させる。着色された表面は１２５ミクロンの
ポリエチレン／ポリエステルトップコートによってヒー
トシールによりラミネート化される。
にＯ，ＳＶ電圧を降下させる。Ｏｖにおける２０秒の浸
透が完了すると、電圧１５Ｖに戻し、９０秒間維持する
。水洗後、パネルを電解液に浸漬する。この電解液は硫
酸ニッケル、硫酸マグネシウム、酒石酸およびホウ酸を
含む。そして、グラファイト対向電極を用い、ａ−ｃ電
圧を１５ビークに流し、２０秒間維持して細孔の底部に
ニッケルを電着させる。水洗かつ乾燥後、透明なＵＶ硬
化型ラッカーをフレキソ印刷技術を用いて、いま着色し
ている表面にメツセージフォーマットをもって付着させ
る。加熱して揮発物を除去し、このラッカーをＵＶ光の
もとに硬化させる。着色された表面は１２５ミクロンの
ポリエチレン／ポリエステルトップコートによってヒー
トシールによりラミネート化される。
色彩変化およびインジケータ・ホイル
実施例１３．１４および！５においては、着色された構
造はアルミニウム上の光学的に薄い多孔質酸化物からな
り、これら酸化物が第３図に示す酸化物フィルムの多孔
質領域内にうずもれた透明な金属層を含むように調製さ
れ、構造的に弱められた帯域が第５図（ｆ）に示すよう
にこの金属層の下方の酸化物内に挿入される。この結果
アルミホイル上に剥離可能な着色製品が形成されること
になる。
造はアルミニウム上の光学的に薄い多孔質酸化物からな
り、これら酸化物が第３図に示す酸化物フィルムの多孔
質領域内にうずもれた透明な金属層を含むように調製さ
れ、構造的に弱められた帯域が第５図（ｆ）に示すよう
にこの金属層の下方の酸化物内に挿入される。この結果
アルミホイル上に剥離可能な着色製品が形成されること
になる。
第１図は本発明にかかる好ましい第１実施例に基づく基
本構造を示す断面図で、第２図は第２実施例に基づく基
本構造を示す第１図と同様の断面図で、第３図は第３実
施例に基づく基本構造の第１図と同様の断面図で、第４
図は細孔が空気（Ｎ−１，０）、水（Ｎ＝１．３）また
はオイル（ｎ＝１．５）によって充填されているときの
誘電層の多孔質度（ｐ）に対する屈折率（ｎ）を示すグ
ラフである。第５ａ図へｚ５ｔｍは本発明にかかる他の
構造を示す概略断面図である。第６図は本発明にかかる
ダンネス・インジケータを支持するマイクロ波照射可能
な食品容器の斜視図である。第７図は二色性インキの調
整に用いる他の構造を示すものである。第８図および第
１０図は実施例において製造された構造の断面を示す粒
子構造の走査電子顕微鏡写真である。第９図は実施例に
おいて製造された構造の充満時に形成される反射層の変
化を示すグラフである。 ＩＯ・・・物体（下地金属）、■ト・・誘電フィルム、
１２・・・付着物、 １３・・・細孔、 １４・・・外面
本構造を示す断面図で、第２図は第２実施例に基づく基
本構造を示す第１図と同様の断面図で、第３図は第３実
施例に基づく基本構造の第１図と同様の断面図で、第４
図は細孔が空気（Ｎ−１，０）、水（Ｎ＝１．３）また
はオイル（ｎ＝１．５）によって充填されているときの
誘電層の多孔質度（ｐ）に対する屈折率（ｎ）を示すグ
ラフである。第５ａ図へｚ５ｔｍは本発明にかかる他の
構造を示す概略断面図である。第６図は本発明にかかる
ダンネス・インジケータを支持するマイクロ波照射可能
な食品容器の斜視図である。第７図は二色性インキの調
整に用いる他の構造を示すものである。第８図および第
１０図は実施例において製造された構造の断面を示す粒
子構造の走査電子顕微鏡写真である。第９図は実施例に
おいて製造された構造の充満時に形成される反射層の変
化を示すグラフである。 ＩＯ・・・物体（下地金属）、■ト・・誘電フィルム、
１２・・・付着物、 １３・・・細孔、 １４・・・外面
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、反射体と、該反射体上の、該反射体に反対の外面を
有する多孔質透明誘電フィルムと、該多孔質誘電フィル
ムによって支持された少なくとも１つの半透明反射層と
からなり、この構造が上記誘電フィルムの光学的に薄い
多孔質層によって分離された少なくとも２つの反射面を
有し、その面の１つが上記フィルムの外面に存すること
を特徴とする光学干渉構造。 ２、上記透明誘電フィルムが光学的に薄いものである請
求項１記載の構造。 ３、上記透明誘電フィルムが多孔質アノード処理フィル
ムである請求項１記載の構造。 ４、上記透明誘電フィルムがアルミナの多孔質アノード
処理フィルムである請求項１〜３のいずれかに記載の構
造。 ５、上記反射体が金属である請求項１〜３のいずれかに
記載の構造。 ６、上記反射体がアノード処理可能な金属である請求項
１〜３のいずれかに記載の構造。 ７、上記反射体がアルミニウムおよびアノード処理可能
なアルミニウム合金からなる群から選ばれる請求項１〜
３のいずれかに記載の構造。 ８、上記半透明反射層またはその１つが上記多孔質誘電
フィルムの上記外面に支持されている請求項１〜３のい
ずれかに記載の構造。 ９、上記半透明反射層またはその１つが上記外面と上記
反射体の間の上記多孔質誘電フィルムによって支持され
ている請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 １０、上記半透明反射層が上記誘電フィルムの細孔の内
部端の付着物からなる請求項１〜３のいずれかに記載の
構造。 １１、上記半透明反射層が上記誘電フィルム内の細孔内
における付着物からなり、上記細孔の内部端から分離さ
れている請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 １２、少なくとも２つの半透明反射層があり、その１つ
が上記フィルムの外面上に支持され、その他の少なくと
も１つが上記外面と上記反射体の間のフィルムによって
支持されている請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 １３、少なくとも２つの半透明反射層があり、その全て
が上記外面と上記反射体の間のフィルムによって支持さ
れている請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 １４、上記少なくとも１つの半透明反射層が金属からな
る請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 １５、上記少なくとも１つの半透明反射層が電着金属か
らなる請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 １６、上記少なくとも１つの半透明反射層が無電解メッ
キによって付着させた金属からなる請求項１〜３のいず
れかに記載の構造。 １７、上記少なくとも１つの半透明反射層が浸漬メッキ
によって形成された外部層を有する金属からなる請求項
１〜３のいずれかに記載の構造。 １８、上記少なくとも１つの半透明反射層が多孔質金属
層である請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 １９、上記半透明反射層またはその１つが上記多孔質誘
電フィルムの外面によって支持され、そのように支持さ
れた上記層が多孔質である請求項１〜３のいずれかに記
載の構造。 ２０、上記半透明反射層またはその１つが上記多孔質誘
電フィルムの外表面によって支持され、その支持された
上記層が非多孔質である請求項１〜３のいずれかに記載
の構造。 ２１、ただ１つの半透明多孔質層を有し、上記半透明多
孔質層が上記フィルムの外面に支持されている請求項１
記載の構造。 ２２、ただ１つの半透明多孔質層を有し、該層が上記外
面と上記反射体の間のフィルムによって支持される請求
項１記載の構造。 ２３、２つの半透明反射層を有し、その１つが上記フィ
ルムの外面によって支持され、他のものが上記フィルム
内に支持されている請求項１記載の構造。 ２４、２つの半透明反射層を有し、その双方が上記外面
と上記反射体間のフィルム内に支持されている請求項１
記載の構造。 ２５、３つの半透明反射層を有し、その１つが上記フィ
ルムの外面によって支持されている請求項１〜３のいず
れかに記載の構造。 ２６、３つの半透明反射層を有し、その全てが上記外面
と上記反射体の間に支持されている請求項１〜３のいず
れかに記載の構造。 ２７、上記外面と上記反射体の間の多孔質フィルム内に
弱められた層を有する請求項１〜３のいずれかに記載の
構造。 ２８、上記外面および反射体の間の多孔質フィルム内に
弱められた層を有し、その層の位置がその層に沿って上
記フィルムを分離すると色彩の変化が観察されるように
なっている請求項１〜３のいずれかに記載の構造。 ２９、上記外面と上記反射体の間の上記フィルムがアノ
ード処理フィルムの形成中の少なくとも１つの電圧降下
工程によって形成された弱められた層を有する請求項３
記載の構造。 ３０、上記外面と上記反射体の間の間に上記フィルムが
弱められた層を有する請求項２１記載の構造。 ３１、上記フィルムが上記半透明多孔質層と上記層との
間に弱められた層を有する請求項２２記載の構造。 ３２、上記フィルムが上記半透明多孔質層および上記反
射体の間の弱められた層を有する請求項２２記載の構造
。 ３３、上記フィルムが上記フィルム内に支持された半透
明多孔質層と上記外面との間に弱められた層を有する請
求項２３記載の構造。 ３４、上記フィルムが上記フィルム内に支持された半透
明反射層と上記反射体との間に弱められた層を有する請
求項２３記載の構造。 ３５、上記フィルムが上記半透明反射層の最も外側の１
つと上記外面との間に弱められた層を有する請求項２４
記載の構造。 ３６、上記フィルムが上記半透明反射層の最も外側の１
つと上記半透明反射層の最も内側の１つとの間に弱めら
れた層を有する請求項２４記載の構造。 ３７、上記フィルムが上記半透明反射層の最も内側の１
つと上記反射体との間に弱められた層を有する請求項２
４記載の構造。 ３８、反射体と、 該反射体上の多孔質透明誘電フィルムと、 上記細孔内の多孔質誘電フィルムによって支持された少
なくとも２つの半透明反射層と、 光学的に薄い誘電フィルム層によって上記反射体からま
た互いに分離された少なくとも２つの半透明反射層から
なる光学干渉構造。 ３９、反射体と、 光学的に薄い多孔質の上記反射体上の透明誘電フィルム
と、 上記誘電フィルムによって支持された少なくとも１つの
半透明反射層からなる光学干渉構造。 ４０、上記誘電フィルムが少なくとも５容量％の多孔度
を有する請求項１または３８あるいは３９記載の構造。 ４１、反射体と、該反射体上の光学的に厚い多孔質透明
誘電フィルムであって、このフィルムが上記反射体と反
対の外面を有し、さらに上記多孔質誘電フィルムによっ
て支持された少なくとも１つの半透明反射層と、 上記外面と上記少なくとも１つの半透明反射層との間の
上記フィルム内の弱められた層とからなり、 上記弱められた層と上記少なくとも１つの半透明反射層
とが上記フィルム内に上記弱められた層に沿って上記フ
ィルムを分離するとそれによって上記請求項１〜３のい
ずれかに記載の残存構造が形成されるように配置されて
いる光学的干渉構造に変換可能な構造。 ４２、光学的干渉構造を製造するにあたり、反射体上に
多孔質透明誘電フィルムを形成し、そのフィルム上また
はフィルム内に少なくとも１つの半透明反射層を支持さ
せ、 上記フィルムの厚さおよび／または少なくとも１つの半
透明反射層の位置決めをその得られる構造が光学的薄い
多孔質層の上記誘電フィルムによって分離された少なく
とも２つの反射面を有し、その１つが上記フィルムの上
記外面に存在するように調整することを特徴とする光学
的干渉構造の製造方法。 ４３、上記多孔質透明誘電フィルムがその得られるフィ
ルムが光学的に薄いものであるように形成される請求項
４２記載の方法。 ４４、上記反射体が多孔質アノード処理可能な金属であ
って、上記多孔質透明誘電フィルムがその反射体の多孔
質アノード処理によって形成される請求項４２記載の方
法。 ４５、上記反射体がアルミニウムおよびアノード処理可
能なアルミニウム合金からなる群から選ばれる金属であ
る請求項４２記載の方法。 ４６、上記半透明反射層が上記フィルムの細孔内での顔
料電着により上記フィルム上に支持される請求項４２記
載の方法。 ４７、半透明反射層が無電解メッキおよび真空蒸着から
なる群から選ばれる技術によって上記フィルムを金属に
より被覆することによって上記フィルム上に支持される
請求項４２記載の方法。 ４８、上記誘電フィルムがまず短時間のアノード工程に
よって薄い層として形成され、その薄い層上に上記半透
明反射層が形成され、さらに多孔質アノード処理が行な
われ、上記半透明反射層の下方の多孔質フィルムの厚み
を増加させる請求項４４記載の方法。 ４９、上記半透明反射層を多孔質誘電フィルム内におい
て該フィルムの細孔内の位置に配置するに、細孔内でそ
の最も内部および外部端の間に上記半透明反射層を配置
するにあたり、顔料を上記フィルムの細孔の最も内部端
に付着させてその顔料を多孔質アノード処理に使用され
る電解質による攻撃に対し保護し、その得られる構造を
さらに多孔質アノード処理に付し、上記顔料と上記反射
体との間の多孔質フィルムの厚みを増加させる請求項４
４記載の方法。 ５０、上記顔料が多孔質アノード処理に使用される電解
液により攻撃されやすい金属の電着により付着され、該
顔料を上記金属の貴金属による浸漬メッキによって上記
電解液による攻撃から保護する請求項４９記載の方法。 ５１、上記顔料の付着を、次の無電解メッキのシードと
して機能するに十分な量を上記細孔内に貴金属を電着さ
せ、該シードを無電解メッキによって大きくし、得られ
る構造をさらに多孔質アノード処理にする請求項４９記
載の方法。 ５２、上記顔料の付着を、貴金属を上記細孔内に次の無
電解メッキのためのシードとして機能するに十分な量を
電着させ、この得られる構造をさらに多孔質アノード処
理に付し、その後上記シードを無電解メッキによって大
きく増大させる請求項４９記載の方法。、 ５３、上記付着させた顔料と反射体との間に第２の顔料
層を電着させることにより上記フィルム内にさらにもう
１つの半透明反射層を付着させる請求項４９記載の方法
。 ５４、上記第２顔料付着物を、もし必要ならば多孔質ア
ノード処理に使用する電解液による攻撃から保護し、次
の多孔質アノード処理工程を行ない、上記第２付着物と
上記物体との間の多孔質フィルムの厚みを増大させる請
求項５３記載の方法。 ５５、上記第２顔料層と上記物体との間に第３の顔料層
を電着させることによって上記フィルム内にさらにもう
１つの半透明反射層を形成する請求項５４記載の方法。 ５６、半透明反射層が上記多孔質誘電フィルムの外面に
形成される請求項４９〜５５のいずれかに記載の方法。 ５７、上記多孔質誘電フィルム内に弱められた層を形成
して上記フィルムを実質的にこの弱められた層に沿って
分離することができるようにする請求項４２記載の方法
。 ５８、上記物体の多孔質アノード処理工程中に電圧を降
下させることにより上記多孔質誘電フィルム内に弱めら
れた層を形成する請求項４４〜５７のいずれかに記載の
方法。 ５９、上記物体の電圧降下工程における電圧降下によっ
て上記多孔質誘電フィルム内に弱められた層を形成し、
この電圧降下工程を、その弱められた層が得られる構造
内に位置し、上記フィルムをこの弱められた層に沿って
分離剥離するとき色彩の変化がおこるように工程中にあ
る時間、行う請求項４４〜５７のいずれかに記載の方法
。 ６０、上記多孔質誘電フィルムがそのフィルム内の細孔
がそれらの外部端より物体に隣接する端部のほうがより
広くなるように形成するに、この細孔を狭い密接した間
隔の細孔を形成する電解質内で多孔質アノード処理をは
じめ、次いで広い細孔を形成する電解質内で上記アノー
ド処理を続けることによって形成する請求項４４記載の
方法。 ６１、上記多孔質誘電フィルム内にある弱められた層を
形成して上記フィルムがこの弱められた層に沿って分離
されるようにし、ある強化材料が上記限られた範囲にお
いて上記分離を避けるように上記フィルムの限られた範
囲の細孔内に導入される請求項４２記載の方法。 ６２、上記請求項１または３８あるいは３９に記載の光
学干渉構造を有する光学干渉装置。 ６３、上記物体が上記誘電フィルムと反対側に接着層を
有する薄いフィルムである請求項６２記載の装置。 ６４、上記物体がさらにもう１つの物体上に支持された
薄い層である請求項６２記載の装置。 ６５、上記多孔質誘電フィルムの細孔が上記フィルムの
外面において封鎖されている請求項６２記載の装置。 ６６、細孔が半透明反射層によって閉じられている請求
項６５記載の装置。 ６７、上記細孔が透明材料層によって閉じられている請
求項６５記載の装置。 ６８、上記構造が上記装置によって発生する干渉色が二
色性であるようになっている請求項６２記載の装置。 ６９、オリジナルなものとしてドキュメントを同一化す
る装置であって、この装置が請求項１、３８または３９
に記載の構造からなり、上記装置を上記ドキュメントに
取り付ける手段を有し、上記誘電フィルムにおける細孔
が上記フィルムの外面において閉じられており、上記構
造が二色性干渉色を発生させるようになっていることを
特徴とする装置。 ７０、請求項１または３８あるいは３９に記載の構造を
有し、上記多孔質誘電フィルムにおける細孔が上記フィ
ルムの外面において開放され、上記構造が上記細孔内に
導入された物質により知覚可能な色彩変化を生み出すよ
うになっている色彩シフト装置。 ７１、上記請求項１または３８あるいは３９に記載の構
造を有し、その誘電フィルムにおける細孔が上記フィル
ムの外面において開放され、上記細孔の少なくとも幾つ
かに揮発可能な材料が存在して揮発によって知覚可能な
色彩変化を生み出すようになっていることを特徴とする
色彩シフト装置。 ７２、潜像メッセージまたはパターンを有する装置であ
って、該装置が請求項１または３８あるいは３９に記載
の構造を有し、その誘電フィルムにおける細孔がそのフ
ィルム外面において開放され、上記フィルムのある部分
における上記細孔が揮発可能な材料によって充填されて
いる一方、上記フィルムの他の部分における細孔が非揮
発性材料によって充填され、上記揮発性および非揮発性
材料が実質的に同一の屈折率を有することを特徴とする
色彩シフト装置。 ７３、請求項１または３８あるいは３９に記載の構造を
有し、そのフィルムの外面およびその物体の間に多孔質
の誘電フィルムにおいて弱められた層を備える色彩変化
装置。 ７４、上記弱められた層に沿って上記フィルムを取り外
し容易にするために上記構造に透明層を接着した請求項
７３記載の装置。 ７５、上記透明層が把持可能な端部を形成するために装
置の端部に隣接した部分において非接着部分を有する請
求項７４記載の色彩変化装置。 ７６、上記フィルムの限られた範囲内に上記弱められた
層に沿ってそのフィルムを取り外しできないようにその
限られた範囲の細孔内に強性材料によって形成された潜
在潜像、潜像メッセージまたはパターンを有する請求項
７３記載の色彩変化装置。 ７７、電磁調理可能な食品容器のためのダンネス・イン
ジケータであって、そのインジケータが請求項１または
３８あるいは３９に記載の構造を有し、その誘電フィル
ムにおける細孔がそのフィルム外面において開放され、
その細孔の少なくとも幾つかに物質を有し、その物質が
コンテナ内の食品を調理することを示すに十分な時間の
間所定の温度に上記インジケータを付するとき上記細孔
から揮発可能な材料であることを特徴とするインジケー
タ。 ７８、上記物質が使用中のマイクロ波によって直接上記
所定温度によって上昇しないようにマイクロ波に対し十
分に透過性である請求項７７記載のダンネス・インジケ
ータ。 ７９、上記物質が長鎖オレフィン類およびヒドロキシ化
長鎖オレフィン類から選ばれる請求項７８記載のインジ
ケータ。 ８０、マイクロ波調理可能な食品容器であって該容器を
マイクロ波照射に付するときその容器の回りに低マイク
ロ波強度の地域をつくるようにマイクロ波反射性材料の
地域とマイクロ波透過性材料の地域とを配置してなり、
ダンネス・インジケータがその容器の外側に取り付けら
れ、そこはマイクロ波強度が低いところであって、この
インジケータが請求項１記載の構造を有し、その誘電フ
ィルムにおける細孔がそのフィルム外面において開放さ
れ、その細孔の少なくとも幾つかに材料を有し、その材
料が上記インジケータを所定の温度に上記食品内食品が
調理されるに十分な時間付されるとき上記細孔から揮発
可能であることを特徴とするマイクロ波調理用食品容器
。
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