JPH0334309A - X線マスクの転倒防止装置 - Google Patents

X線マスクの転倒防止装置

Info

Publication number
JPH0334309A
JPH0334309A JP1169314A JP16931489A JPH0334309A JP H0334309 A JPH0334309 A JP H0334309A JP 1169314 A JP1169314 A JP 1169314A JP 16931489 A JP16931489 A JP 16931489A JP H0334309 A JPH0334309 A JP H0334309A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray mask
fall prevention
ray
falling
suction plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1169314A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumasa Yamaguchi
勝正 山口
Takeo Sato
佐藤 健夫
Shinichiro Aoki
新一郎 青木
Masaki Yamamoto
正樹 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1169314A priority Critical patent/JPH0334309A/ja
Publication of JPH0334309A publication Critical patent/JPH0334309A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、シンクロトロン放射光等のように水平方向か
ら照射されるX線を利用したX#’Jソゲラフイーに用
いるX線マスクの転倒防止装置に関するものである。
従来の技術 シンクロトロン放射光はほぼ水平方向から放射される平
行光に近いX線であるため、X線マスクは縦形に装着す
る必要がある。
従来、X線マスクを吸着板に装着するには、第5図に示
す構成が知られている。第5図に示すようにX線マスク
5IはX線露光用パターンを有するX線マスク本体52
が補強基板53に取付けられている。一方、吸着板刺に
はX線マスク51における補強基板53の直角な二辺と
それぞれ係合した位置決めを行う1本、若しくは複数本
の位置決めビン55と56が突設されている。そして、
X線マスク51を縦形に向け、位置決めビン55.56
で2方向を概略位置に位置決めした後、吸着板間に吸着
させる。
この吸着には、通常、静電吸着法、若しくは真空吸着法
が用いられる。
発明が解決しようとする課題 しかし、上記従来例では、吸着が動作している場合には
、特に問題はないが、誤動作により吸着不能になった場
合には、X線マスク51が矢印A方向に転倒する恐れが
ある。この転倒を防止するには、X線マスク51をばね
等で位置決めビン55、若しくは56に押し付けること
が考えられる。しかし、X線リソグラフィーはサブミク
ロンオーダの露光を行う必要があるため、X線マスク5
1にばね力等の外力な加えると、パターン形状が歪んで
変形し、重ね合わせ露光を行うことができない事態を招
く。
本発明は、このような従来技術な解決するもので、X線
マスクが吸着板に吸着している状態ではX線マスクにお
けるX線リソグラフィー用パターンの形状を変化させな
いようにして重ね合わせ露光を行うことができ、X線マ
スクの吸着板に対する吸着が不能時にX線マスクの転倒
を防止して破損を防止することができるようにしたX線
マスクの転倒防止装置を提供することを目的とするもの
である。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するための本発明の技術的解決手段は、
X線リソグラフィー用のX線マスクを位置決めして吸着
させる吸着板に設けられ、上記X線マスクの転倒を防止
する鉤状に形成された転倒防止用爪と、上記X線マスク
の補強基板に形成され、上記吸着板に対する吸着状態で
上記転倒防止用爪において上記吸着板と対向する転倒防
止部をX線マスクの厚み方向で外方へほぼ突出しないよ
うに納め、上記転倒防止爪とにクリアランスを有する逃
げ部を備えたものである。
そして、上記逃げ部が段差部、傾斜部、溝のいずれかよ
り選ばれるのが好ましい。
作用 したがって、本発明によれば、転倒防止用爪において吸
着板と対向する転倒防止部をX線マスクの逃げ部に納め
、この状態で逃げ部と転倒防止用爪が直接当たらないよ
うに適当なりリアランスを与えているので、通常の吸着
状態ではX線マスクに力が加わらないようにすることが
できる。そして、X線マスクが吸着板に対して吸着不能
となり、X線マスクが転倒しようとしても、転倒防止用
爪に係合して転倒するのを防止することができる。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
まず、本発明の第1の実施例について説明する。
第1図および第2図は本発明の第1の実施例におけるX
線マスクの転倒防止装置を示し、第1図はX線マスクを
吸着板に吸着させる前の状態の斜視図、第2図はX線マ
スクを吸着板に吸着させた状態の要部の拡大側面図であ
る。
第1図に示すようにX線マスク1はX線露光パターンを
有するXlsマスク本体2が補強基板3に取付けられて
いる。一方、吸着板4にはX線マスク1における補強基
板3の直角方向の二辺をそれぞれ係合して位置決めを行
う1本、若しくは複数本の位置決めビン5と6が突設さ
れている。吸着板4には下側の位置決めビン6の両側方
において、一対の転倒防止用爪7が突設されている。各
転倒防止用爪7は鉤状に形成され、基部8が吸着板4と
一体に設けられ、基部8より立上がった転倒防止部9が
吸着板4とほぼ平行に対向されている。
X線マスク1の補強基板3における下部両側隅部には三
角形状に切欠かれた段差部からなる逃げ部10が形成さ
れている。各逃げ部10は後述するようにX#Jマスク
1を吸着板4に位置決め状態で吸着させた際に、第2図
に示すように転倒防止用爪7の転倒防止部9をX線マス
ク1の厚み方向で外方へ突出しないように納め、X線マ
スク1の補強基板3が転倒防止用爪7の転倒防止部9と
クリアランスd1を有すると共に、基部8ともクリアラ
ンスd、を有するように設定されている。
以上の構成にいて、以下、X線マスク1の吸着板4に対
する吸着動作について説明する。
まず、第1図に示すようにX線マスク1を矢印B方向か
ら吸着板4に装着し、位置決めビン5.6でX線マスク
1の直角2方向を吸着板4に対して位置決めする。次に
X線マスク1を吸着板4に真空吸着法、若しくは静電吸
着法により吸着させる。このとき、第2図に示すように
X線マスク1の補強基板3は転倒防止用爪7とクリアラ
ンスd1、d2を有しているので、X線マスク1に外力
による変形を生じるおそれはなく、しかも、X線マスク
1と位置決めビン5.6との接触状態はそのまま保持さ
れるので、位置ずれを生じるおそれはなく、したがって
、重ね合わせ露光を行うことができる。
このとき、転倒防止部9をX線マスク1の補強基板3の
逃げ部10に納めてX線マスク1の厚み方向に突出しな
いようにしているので、近接露光の邪魔になら々いよう
にすることができる。そして、上記X線マスク1の吸着
板4に対する吸着が何らかの原因で作動しなくなり、X
線マスク1が第1図に示す矢印A・方向に転倒しようと
しても、X線マスク1の補強基板3の逃げ部10が転倒
防止用爪7の転倒防止部9の先端に係合すると共に、X
線マスク1の補強基板3の下端が吸着板4に係合するの
で、X線マスク1の転倒を防止することができ、したが
って、X線マスク1の落下による破損を防止することが
できる。
次に本発明の第2の実施例について説明する。
第3図は本発明の第2の実施例におけるX線マスクの転
倒防止装置を示し、第2図と同様の拡大側面図である。
本実施例においては、X線マスク1の補強基板3におけ
る下縁に全長に亘って傾斜面からなる逃げ部10を形成
し、転倒防止用爪7の転倒防止部9の先端部内側にも傾
斜面9aを形成したものであり、その他の構成は上記第
1の実施例と同様である。本実施例によれば、上記第1
の実施例のように逃げ部10を部分的に形成する必要が
ないので、製作が容易となる。
次に本発明の第3の実施例について説明する。
第4図は本発明の第3の実施例におけるX線マスクの転
倒防止装置を示し、第2図と同様の拡大側面図である。
本実施例においては、X線マスク1の補強基板3におけ
る下縁に全長に亘って溝からなる逃げ部10を形成した
ものであり、その他の構成は上記第1の実施例と同様で
ある。本実施例によれば、上記第1の実施例のように逃
げ部10を部分的に形成する必要がないので、製作が容
易となる。
々お、転倒防止用爪7と逃げ部10は上記各実施例以外
の箇所に配置することができる。本発明は、この外、そ
の基本的技術思想を逸脱しない範囲で種々設計変更する
ことができる。
発明の効果 以上述べたように本発明によれば、転倒防止用爪におい
て吸着板と対向する伝fj11防止部をX線マスクの逃
げ部に納め、この状態で逃げ部と転倒防止用爪が直接当
たらないように適当なりリアランスを与えているので、
通常の吸着状態ではX線マスクに力が加わらないように
することができる。
したがって、X線マスクにおけるパターン形状を変化さ
せkいようにして重ね合わせ露光を行うことができる。
そして、X線マスクが吸着板に対して吸着不能となり、
X線マスクが転倒しようとしても、転倒防止用爪に係合
して転倒するのを防止して破損を防止することができる
。。したがって、信頼性の高いX線リソグラフィーを行
うのに有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明の第1の実施例におけるX
線マスクの転倒防止装置を示し、第1図はX線マスクを
吸着板に吸着させる前の状態の斜視図、第2図はX線マ
スクを吸着板に吸着させた状態の要部の拡大側面図、第
3図は本発明の第2の実施例を示し、第2図と同様の拡
大側面図、第4図は本発明の第3の実施例を示し、第2
図と同様の拡大側面図、第5図は従来のX線マスクと吸
着板の吸着状態を示す斜視図である。 l・・・X線マスク、2・・・X線マスク本体、3・・
・補強基板、4・・・吸着板、5.6・・・位置決めビ
ン、7・・・転倒防止用爪、9・・・転倒防止部、10
・・・逃げ部。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)X線リソグラフィー用のX線マスクを位置決めし
    て吸着させる吸着板に設けられ、上記X線マスクの転倒
    を防止する鉤状に形成された転倒防止用爪と、上記X線
    マスクの補強基板に形成され、上記吸着板に対する吸着
    状態で上記転倒防止用爪において上記吸着板と対向する
    転倒防止部をX線マスクの厚み方向で外方へほぼ突出し
    ないように納め、上記転倒防止爪とにクリアランスを有
    する逃げ部を備えたX線マスクの転倒防止装置。
  2. (2)逃げ部が段差部、傾斜部、溝のいずれかより選ば
    れた請求項1記載のX線マスクの転倒防止装置。
JP1169314A 1989-06-29 1989-06-29 X線マスクの転倒防止装置 Pending JPH0334309A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1169314A JPH0334309A (ja) 1989-06-29 1989-06-29 X線マスクの転倒防止装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1169314A JPH0334309A (ja) 1989-06-29 1989-06-29 X線マスクの転倒防止装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0334309A true JPH0334309A (ja) 1991-02-14

Family

ID=15884240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1169314A Pending JPH0334309A (ja) 1989-06-29 1989-06-29 X線マスクの転倒防止装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0334309A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07307285A (ja) * 1994-03-15 1995-11-21 Canon Inc マスク、マスク支持方法、マスク支持機構、並びにこれを用いた露光装置やデバイス製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07307285A (ja) * 1994-03-15 1995-11-21 Canon Inc マスク、マスク支持方法、マスク支持機構、並びにこれを用いた露光装置やデバイス製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0769807B1 (en) Substrate container with corner holding
JPH0334309A (ja) X線マスクの転倒防止装置
JP3862131B2 (ja) 近接露光装置
US5367192A (en) Package for integrated devices
US6897453B2 (en) Storage phosphor panel for storing image information and x-ray cassette
GB2162576A (en) Synthetic resin hinge for connecting two plates together in a pivotable manner
JP2520051Y2 (ja) Ledホルダ装置
JP2545974Y2 (ja) クリーム半田印刷用版枠
JPH0265035A (ja) シヤドウマスク形カラー受像管
JPH07210960A (ja) カセットホルダ装置
JP2807893B2 (ja) マスク保持機構
JPH06107332A (ja) 真空チャック装置による平板状被吸着体の吸着方法
JPH0722556A (ja) リード整形方法及びリード整形装置
JP3129329B2 (ja) 照明器具
JPH04319277A (ja) Icソケット
JPS6159733A (ja) 半導体製造装置
JPH082338Y2 (ja) ドアストライカ取付治具
KR950014985B1 (ko) 센터링용 범용척
TWM665506U (zh) 電子元件定位放置裝置
JPH02207599A (ja) 電子部品規正装置
JPH05190742A (ja) Icパッケージ
JPH0533808B2 (ja)
JPH04134107U (ja) 回路遮断器のインタロツク装置
JPS6326055Y2 (ja)
KR960000807Y1 (ko) 음극선관의 프레임고정장치