JPH0335107A - 相対位置検出用回折格子 - Google Patents

相対位置検出用回折格子

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JPH0335107A
JPH0335107A JP1169678A JP16967889A JPH0335107A JP H0335107 A JPH0335107 A JP H0335107A JP 1169678 A JP1169678 A JP 1169678A JP 16967889 A JP16967889 A JP 16967889A JP H0335107 A JPH0335107 A JP H0335107A
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JP
Japan
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diffraction grating
multiple reflections
position detection
relative position
reflection type
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Pending
Application number
JP1169678A
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English (en)
Inventor
Kyoji Yamashita
恭司 山下
Yoriyuki Ishibashi
石橋 頼幸
Ryoichi Hirano
亮一 平野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0335107A publication Critical patent/JPH0335107A/ja
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、相対位置検出用回折格子に関する。
(従来の技術) 周知のように、超LSIにおける回路パターンの形成は
露光装置を使って行われている。すなわち、マスクに予
め回路パターンを形成しておき、これをたとえばX線を
使ってウエノ\上に転写するようにしている。
ところで、このような回路パターンをウエノ\上の所望
とするに領域に転写するには、転写に先立ってマスクと
ウェハとの相対位置を高精度に設定しておく必要がある
。マースフとウエノ\との相対位置、たとえば対向面に
沿った方向の位置合せを行う代表的な方法として、二重
回折格子法が知られている。この方法では、たとえばマ
スクに透過型の回折格子を設けるとともにウエノ\に反
射型の回折格子を設けておき、マスクの上から単色光、
すなわちレーザ光を照射する。そして、このレーザ光が
マスクの回折格子〜ウニ/Xの回折格子〜マスクの回折
格子の順に回折して得られる回折光のうちの特定の次数
の回折光強度を検出し、この検出値に基いて対向面に沿
った方向の位置合せを行うようにしている。
第7図にはこの方法を採用してマスクとウエノ1との間
の位置合せを行う位置合せ装置の概略構成が示されてい
る。
同図において、1はxy方向に移動可能に配置されたウ
ェハテーブルを示し、2はウェハテーブル1上に固定さ
れたウェハを示している。ウニ、ハ2の上方には、ウェ
ハ2と対向する関係にマスク3が配置されている。この
マスク3はホルダ4.2方向位置調整用のアクチュエー
タ5を介して静止部に支持されている。
マスク3の所定位置には透過型の回折格子6.7がそれ
ぞれ設けられている。また、ウェハ2上で回折格子6に
対向する位置には反射型の回折格子8が、さらに回折格
子7に対向する位置にも反射型の回折格子9がそれぞれ
設けられている。これら回折格子は、回折格子6と8と
が1つの組をなして二重回折格子を構成し、また回折格
子7と9とが別の組をなして二重回折格子を構成してい
る。
マスク3の上方には、上述した2組の二重回折格子を使
用してマスク3とウェハ2との間の位置合せを行う位置
合せ装置11が設けられている。
この位置合せ装置11は次のように構成されている。す
なわち、レーザ光源12から出力された波長λのレーザ
光13を振動ミラー14、偏向素子15a、15bを介
して回折格子6.7に交互に、かつ垂直に照射する。な
お、振動ミラー14は、発振器16の出力によって駆動
される。一方、マスク3の上方位置には、上記レーザ光
13の照射によって、回折格子6、回折格子8、回折格
子6の順に回折して得られた回折光中の特定の次数の回
折光強度11および回折格子7、回折格子9、回折格子
7の順に回折して得られた回折光中の特定の次数の回折
光強度■2を直接あるいは反射ミラーを介して共通に受
光するセンサ17が配置されている。センサ17の出力
は増幅器18で増幅された後、発振器16の出力を参照
信号として駆動される同期検波器19に導入され、ここ
で11、!2に分離される。そして、2つの信号は信号
処理回路20に導入される。この信号処理回路20は、
Δl−11−I2の演算を行い、ΔIを0にする方向の
信号をモータ駆動回路21を介してウェハテーブル位置
制御用のモータ22に与える。
モータ22は印加電圧に応じて動作し、ΔI−0の状態
にウェハテーブル1を位置決めする。
このような方法で位置合せを行うために、マスク3およ
びウェハ2に組を成して設けられる回折格子6.8およ
び回折格子7.9は、通常、第8図に示すように形成さ
れている。すなわち、回折格子6(7)は、マスク3の
下面にレジストで所定ピッチに形成された、北とえばス
トライブ状パターンを不透明部分31とし、この不透明
部分31と透明のマスク構成材との組合わせで透過型に
形成されている。また、回折格子7(8)は、ウェハ2
の上面にレジストで所定ピッチに形成された、たとえば
ストライプ状パターンを突条32とし、この突条32と
ウェハ構成材との組合わせで反射型に形成されている。
しかし?jがら、上述した構成の二重回折格子を用いた
場合には、通常、マスクとウェハとの間、つまり組をな
す回折格子間で多重反射が起こる。
すなわち、第8図中に2点鎖線で示すように、レーザ光
13が照射されると、このレーザ光13は回折格子8(
9)で反射され、その一部は不透明部分31の下面に向
けて進む。不透明部分31の下面に入射した光は、この
下面によって回折格子8(9)側へと反射される。第8
図に示す構成の回折格子6(7)では不透明部分31か
ら回折格子8(9)側へ反射する。この反射回折格子の
反射率のn次のフーリエ係数f、と次数nとの間に、n
が1以上の領域でf = 1s1n(1/2)nπ) 
/ (nπ)なる関係が成立する。これを図で示すと、
第9図のようになり、0次でfo−+0.5、±1次で
fよ、 −+ 0.318となる。このような反射回折
光は、回折格子8(9)で再び反射され、一部が回折格
子6(7)を透過回折してセンサ17へと入射する。こ
のため、検出回折光に多重反射回折光成分、特に低次の
回折光成分が重畳され、これが原因してΔIがゼロクロ
スする点を正確に検出することが極めて困難で、この結
果、高精度な位置合せを行うことが困難であった。
(発明が解決しようとする課題) 上述の如く、従来の構造の回折格子を用い、二重回折格
子法で2つの物体の相対位置を検出しようとしても、回
折格子間で起こる多重反射による影響を受け、高精度な
位置検出を行えない問題があった。
そこで本発明は、回折格子自身が多重反射を抑制する機
能を備えた相対位置検出用回折格子を提供することを目
的としている。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記課題を解決するために本発明の一実施例では、第1
の物体と第2の物体との相対位置を二重回折格子法で検
出するために、上記各物体に対向関係に設けられる透過
型回折格子および反射型回折格子からなる相対位置検出
用回折格子において、前記透過型回折格子の不透明部分
で、かつ前記反射型回折格子に対向する面に多重反射防
止用反射型回折格子を設けている。
多重反射防止用反射型回折格子は、具体的には、相対位
置検出時に照射される単色光の波長をλとし、mを任意
の整数としたとき、ほぼ(1m+1)λ/4の段差で区
画された2種類の反射面を持ち、かつ一方の反射面の幅
が前記不透明部分の幅のほぼ1/2である段付き反射面
構造に形成されている。
また、本発明の他の実施例では、前記反射型回折格子の
前記透過型回折格子に対向する面に多重反射防止用反射
型回折格子を設けている。
この例における多重反射防止用反射型回折格子は、相対
位置検出時に照射される単色光の波長をλとし、mを任
意の整数としたとき、ほぼ(2m+1)λ/4の段差で
区画された2種類の段付き反射面構造に形成されている
(作 用) 1つの例では透過型回折格子の不透明部分に上記構造の
多重反射防止用反射型回折格子を設けているので、この
多重反射防止用反射型回折格子の存在によって透過型回
折格子の不透明部分と反射型回折格子との間で起こり易
い多重反射が抑制される。
また、他の例においても、多重反射防止用反射型回折格
子の存在によって透過型回折格子の不透明部分と反射型
回折格子との間で起こり易い多重反射が抑制される。
(実施例) 以下、図面を参照しながら実施例を説明する。
第1図には本発明の一実施例に係る相対位置検出用回折
格子が示されている。なお、この図では第8図と同一部
分が同一符号で示されている。したがって、重複する部
分の詳−しい説明は省略する。
この実施例に係る相対位置検出用回折格子が従来のもの
と異なる点は、マスク3に設けられる透過型回折格子6
a (7g)の構造にある。
すなわち、透過型回折格子6a (7a)は、不透明部
分31aの反射型回折格子8(9)に対向する面に多重
反射防止用反射型回折格子41を備えたものとなってい
る。
多重反射防止用反射型回折格子41は、第2図に拡大し
て示すように、不透明部分31aの図中下面中央部に、
深さがレーザ光13の波長λのほぼ1/4で、かつ幅が
不透明部分の幅pのほぼ1/2に形成された溝42の底
面を一方の反射面43とし、溝42のいわゆる側壁端面
を他方の反射面44とし、この両度射面43.44の組
合わせによって構成されている。すなわち、多重反射防
止用反射型回折格子41は、相対位置検出時に照射され
る単色光の波長をλとし、mを任意の整数としたとき、
ほぼ(2m+1)λ/4の段差で区画された2種類の反
射面43.44を持ち、かつ一方の反射面43(44)
の幅が不透明部分31aの幅のほぼl/2である段付き
反射面構造に形成されている。
このような構造の透過型回折格子6a(7a)と反射型
回折格子8(9)との組合わせであると、不透明部分3
1aからの反射回折格子の反射率のn次のフーリエ係数
f、と次数nとの間には次の(1)式で示す関係が成立
することが判明した。
f 、 −[5inl(1/2)n yr l−2sl
n((1/4)n yr l]/、(nπ〉    ・
・・(1) これを図で示すと、第3図のようになる。この図から判
るように、0次ではfo”0、±1次ではf 、、 −
−0,132となる。この特性を第8図に示す従来のも
のの特性と比較すると、0次および±1次において大幅
に小さい値となっている。ただし、2次以上では逆に大
きくなっている。しかし、センサ17で回折光を検出し
て相対位置を検出する場合、検出回折光に影響を与える
反射回折光は0次および±1次の回折光で、2次、3次
等の高次の反射回折光はほとんど影響を与えない。した
がって、上記のように0次ではfo−0、±1次ではf
よ、−一0.132の特性であると、検出回折光に重畳
される反射回折光成分を極めて小さくでき、その結果と
して相対位置合せ精度を向上させることが可能となる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではない。
すなわち、上記実施例では、溝42の断面形状を角溝構
成としているが、第4図に示すように楕円柱を半分にし
た断面形状の溝42aとしたり、あるいは第5図に示す
ように一方の側壁をなくした半溝構成の溝42bとして
も前述した条件を満たしていれば前記実施例と同様の効
果を得ることかできる。
第6図には本発明のさらに異なる実施例に係る相対位置
検出用回折格子の要部が示されている。
この実施例に係る相対位置検出用回折格子では、ウェハ
2側に設けられる回折格子8a (9g)に多重反射防
止用反射型回折格子41cを設けている。この多重反射
防止用反射型回折格子41cは、回折格子8a (9a
)に形成されている突条32aとウェハ構成材との組合
せによって構成されている。
すなわち、同図に示されるように、突条32aとウェハ
2の構成材の平坦部33との段差を先の実施例と同様に
、レーザ光13の波長のほぼ1/4、つまり相対位置検
出時に照射される単色光の波長をλとし、mを任意の整
数としたとき、ほぼ(21◆l)λ/2の段差とし、こ
の段差で区画された2種類の反射面(突条32aと平坦
部33)で多重反射防止用反射型回折格子41cを構成
している。
このような構成によっても、ウェハ2側の回折格子8a
 (9a)の反射率のn次のフーリエ係数f、の0次を
零、すなわちfo”Oとすることができ、先の実施例と
同様の作用、効果が得られる。
また、この実施例の場合には、従来と同様のピッチの回
折格子8a (9a)を用いることができ、段差だけ上
記値に設定すればよいので、回折格子の形成を容易化で
きる。
なお、本発明に係る回折格子はマスクとウェハとの対向
面に沿った方向の位置検出に限らず、マスクとウェハと
の間の間隙検出にも使用できる。
また、マスクとウェハとの間の相対位置検出だけにその
使用を限定されるものではなく、各種の相対位置検出に
も使用できる。さらに、両回折格子のパターン形状もス
トライブ状に限られるものではない。
C発明の効果〕 以上のように、本発明によれば、回折格子自身に多重反
射を抑制する機能を持たせているので、二重回折格子法
で相対位置を検出するときに多重反射の影響を低減でき
、高精度な位置検出に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る相対位置検出用回折格
子の断面図、第2図は同回折格子における透過型回折格
子を局部的に取り出して示す断面図、第3図は同透過型
回折格子の反射特性を説明するための図、第4図および
第5図は透過型回折格子の変形例をそれぞれ局部的に取
り出して示す断面図、第6図は本発明の別の実施例に係
る相対位置検出用回折格子における反射型回折格子を局
部的に取り出して示す断面図、第7図は二重回折格子法
で位置合せを行う位置合せ装置の一例を示す構成図、・
第8図は従来用いられている位置検出用回折格子の断面
図、第9図は同回折格子における透過型回折格子の反射
特性を示す図である。 2・・・ウェハ、3・・・マスク、6 a s 7 a
・・・透過型回折格子、8.8a、9,9a・・・反射
型回折格子、11・・・位置合せ装置、31a・・・不
透明部分、32.32 a =−突条、41.41a−
41bs41c・・・多重反射防止用反射型回折格子、
42、 al b・・・溝、 43. 44・・・反射面。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1の物体と第2の物体との相対位置を二重回折
    格子法で検出するために、上記各物体に対向関係に設け
    られる透過型回折格子および反射型回折格子からなる相
    対位置検出用回折格子において、前記透過型回折格子は
    、その不透明部分で、かつ前記反射型回折格子に対向す
    る面に多重反射防止用反射型回折格子を備えていること
    を特徴とする相対位置検出用回折格子。
  2. (2)前記多重反射防止用反射型回折格子は、相対位置
    検出時に照射される単色光の波長をλとし、mを任意の
    整数としたとき、ほぼ(2m+1)λ/4の段差で区画
    された2種類の反射面を持ち、かつ一方の反射面の幅が
    前記不透明部分の幅のほぼ1/2である段付き反射面構
    造に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の
    相対位置検出用回折格子。
  3. (3)第1の物体と第2の物体との相対位置を二重回折
    格子法で検出するために、上記各物体に対向関係に設け
    られる透過型回折格子および反射型回折格子からなる相
    対位置検出用回折格子において、前記反射型回折格子は
    、前記透過型回折格子に対向する面に多重反射防止用反
    射型回折格子を備えていることを特徴とする相対位置検
    出用回折格子。
  4. (4)前記多重反射防止用反射型回折格子は、相対位置
    検出時に照射される単色光の波長をλとし、mを任意の
    整数としたとき、ほぼ(2m+1)λ/4の段差で区画
    された2種類の段付き反射面構造に形成されていること
    を特徴とする請求項3に記載の相対位置検出用回折格子
JP1169678A 1989-06-30 1989-06-30 相対位置検出用回折格子 Pending JPH0335107A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012094915A (ja) * 2002-09-20 2012-05-17 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012094915A (ja) * 2002-09-20 2012-05-17 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法

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