JPH0336263A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH0336263A JPH0336263A JP16848889A JP16848889A JPH0336263A JP H0336263 A JPH0336263 A JP H0336263A JP 16848889 A JP16848889 A JP 16848889A JP 16848889 A JP16848889 A JP 16848889A JP H0336263 A JPH0336263 A JP H0336263A
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- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 abstract description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010014357 Electric shock Diseases 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はアークイオンブレーティング等の真空蒸着技術
において、インライン方式の装置とするため、被コーテ
イング物の基板を真空チャンバ内で往復移動させつつこ
れにバイアス電圧を給電する機構の改良に関する。
において、インライン方式の装置とするため、被コーテ
イング物の基板を真空チャンバ内で往復移動させつつこ
れにバイアス電圧を給電する機構の改良に関する。
(従来の技術)
アークイオンブレーティング法はスパッタリング法とと
もに、有利に実施できる真空蒸着による被膜形成技術で
あって、例えば特公昭52−14690号、特公昭58
−3033号等により公知である。
もに、有利に実施できる真空蒸着による被膜形成技術で
あって、例えば特公昭52−14690号、特公昭58
−3033号等により公知である。
第4図はアークイオンブレーティング装置の概要を示し
、Ti、 Zr等の被膜形成金属の蒸発源(カソード)
(a)および被コーテイング物の基板(b)を収容した
真空チャンバ(C)内を排気口(d)から真空ポンプに
より排気し、N2、CH4等のプロセスガスを導入口(
e)から少量導入しその真空圧下でアーク電源(f)に
より真空アーク放電させて被膜形成金属の粒子を発生さ
せ、基板(b)にはバイアス電源(樽によりマイナスの
バイアス電圧を印加して基板上に被着堆積させてコーテ
ィングする。この真空蒸着装置はバッチ方式であるが、
膜厚、膜質の均一化を図るためには基板(b)を回転テ
ーブル(ロ)上に載せて旋回させる。この場合、基板(
b)へのバイアス電圧の印加はバイアス電源(掲を一方
向回転の回転テーブル(h)に接続することにより基板
の広い載置面を通じて良好な電気接続のもとに行われる
。しかしバッチ方式では1バッチ操作毎に冷却後に真空
チャンバを開いて基板を交換するので、再び真空化し新
基板を予備加熱してコーティングを再開する必要があり
、その段取りおよび予備工程に時間がかかる。
、Ti、 Zr等の被膜形成金属の蒸発源(カソード)
(a)および被コーテイング物の基板(b)を収容した
真空チャンバ(C)内を排気口(d)から真空ポンプに
より排気し、N2、CH4等のプロセスガスを導入口(
e)から少量導入しその真空圧下でアーク電源(f)に
より真空アーク放電させて被膜形成金属の粒子を発生さ
せ、基板(b)にはバイアス電源(樽によりマイナスの
バイアス電圧を印加して基板上に被着堆積させてコーテ
ィングする。この真空蒸着装置はバッチ方式であるが、
膜厚、膜質の均一化を図るためには基板(b)を回転テ
ーブル(ロ)上に載せて旋回させる。この場合、基板(
b)へのバイアス電圧の印加はバイアス電源(掲を一方
向回転の回転テーブル(h)に接続することにより基板
の広い載置面を通じて良好な電気接続のもとに行われる
。しかしバッチ方式では1バッチ操作毎に冷却後に真空
チャンバを開いて基板を交換するので、再び真空化し新
基板を予備加熱してコーティングを再開する必要があり
、その段取りおよび予備工程に時間がかかる。
アークイオンブレーティングをインライン方式で連続化
し能率良〈実施しようとする場合、膜厚、膜質の均一化
を図るためには、第5図に示すように、真空チャンバー
内で列設ローラ(i)上に基板(ロ)を載せてその正逆
回転駆動によりライン方向に往復移動させることが必要
になる。
し能率良〈実施しようとする場合、膜厚、膜質の均一化
を図るためには、第5図に示すように、真空チャンバー
内で列設ローラ(i)上に基板(ロ)を載せてその正逆
回転駆動によりライン方向に往復移動させることが必要
になる。
この場合、バイアス電圧の印加は、インライン方式のス
パッタリング装置等で行われているように、通常は第6
図に示すように、列設基ローラ0)と一体の回転軸(j
)が真空チャンバ壁(C゛)に取付けた絶縁材(ト)に
設けた真空シール(I!、)を貫通し、外部の架台(ホ
)に絶縁材(n)を介し取付けた軸受箱(0)中の軸受
(p)にまり片持状に支持され、軸imのプーリ(q)
に絶縁性のタイミングベルト(r)を掛合わせて正逆転
回転駆動される。基板(b)から伝わる熱に対して真空
シール(f)を保全するため回転柚(j)内をジ・ヤケ
ット構造とする場合には、回転軸(j)に連接する冷却
水系(S)も絶縁する。こうして基板に対するバイアス
電圧の開力■は、バイアス電源(f)を軸受箱(O)に
接続して、以上のように絶縁されている軸受箱(0)、
軸受(p)、回転軸(j)、それと一体のローラ(D、
基板(1))間の接触を介して通電することによりなさ
れる。この構造を複数の列設口・−ラのそれぞれについ
て構成する必要がある。
パッタリング装置等で行われているように、通常は第6
図に示すように、列設基ローラ0)と一体の回転軸(j
)が真空チャンバ壁(C゛)に取付けた絶縁材(ト)に
設けた真空シール(I!、)を貫通し、外部の架台(ホ
)に絶縁材(n)を介し取付けた軸受箱(0)中の軸受
(p)にまり片持状に支持され、軸imのプーリ(q)
に絶縁性のタイミングベルト(r)を掛合わせて正逆転
回転駆動される。基板(b)から伝わる熱に対して真空
シール(f)を保全するため回転柚(j)内をジ・ヤケ
ット構造とする場合には、回転軸(j)に連接する冷却
水系(S)も絶縁する。こうして基板に対するバイアス
電圧の開力■は、バイアス電源(f)を軸受箱(O)に
接続して、以上のように絶縁されている軸受箱(0)、
軸受(p)、回転軸(j)、それと一体のローラ(D、
基板(1))間の接触を介して通電することによりなさ
れる。この構造を複数の列設口・−ラのそれぞれについ
て構成する必要がある。
(発明が解決しようとする問題点)
アークイオンブレーティング装置では、そのバイアス電
圧を−1000V程度に大きくすることが必要な場合が
あり、感電、漏電の危険があるので、その絶縁は厳重に
行・うことか必要である。
圧を−1000V程度に大きくすることが必要な場合が
あり、感電、漏電の危険があるので、その絶縁は厳重に
行・うことか必要である。
ところが、第6図のインライン機に対する従来技術と同
等の構造では、ローラの駆動機構とバイアス電圧印加機
構が回転軸のまわりで重なり合っているため、この部分
に軸受箱、回転軸端プーリに対する絶縁、回転軸端ある
いは軸受箱へのバイアス電圧の通電接続、さらに真空シ
ール、回転軸水冷機構等の多くの機能部分を集中して組
込むことが必要で、これら部分の安全対策を含めて複雑
な構造となり、高価で保守困難で故障機会が多くなる等
の問題がある。
等の構造では、ローラの駆動機構とバイアス電圧印加機
構が回転軸のまわりで重なり合っているため、この部分
に軸受箱、回転軸端プーリに対する絶縁、回転軸端ある
いは軸受箱へのバイアス電圧の通電接続、さらに真空シ
ール、回転軸水冷機構等の多くの機能部分を集中して組
込むことが必要で、これら部分の安全対策を含めて複雑
な構造となり、高価で保守困難で故障機会が多くなる等
の問題がある。
(問題点を解決するための手段)
従来技術の前記問題点は、本発明においては、基板往復
移動のための列設ローラは、それぞれ、絶縁を施して回
転軸端に取付け、この回転軸は外部からのローラ回転駆
動だけの機能を有するものとし、ローラ上の基板へのバ
イアス電圧の印加については、ローラの駆動側と反対側
に受電板を取付けて、この側の真空チャンバ側壁に絶縁
および封止を施して固定取付けしたバイアス電源接続金
具の内端に可撓性接続されかっばね進出傾向を付与され
た先端給電板を受電板に対し面接触で圧接させるように
することにより解決される。先端給電板はバイアス電源
接続金具の内端に可撓性ケーブルで直接電気接続するこ
とができる。
移動のための列設ローラは、それぞれ、絶縁を施して回
転軸端に取付け、この回転軸は外部からのローラ回転駆
動だけの機能を有するものとし、ローラ上の基板へのバ
イアス電圧の印加については、ローラの駆動側と反対側
に受電板を取付けて、この側の真空チャンバ側壁に絶縁
および封止を施して固定取付けしたバイアス電源接続金
具の内端に可撓性接続されかっばね進出傾向を付与され
た先端給電板を受電板に対し面接触で圧接させるように
することにより解決される。先端給電板はバイアス電源
接続金具の内端に可撓性ケーブルで直接電気接続するこ
とができる。
これらの各手段を総合して、本発明の真空蒸着装置のバ
イアス電圧給電装置は、全体的構成としては、真空蒸着
により基板上に被膜を形成するための真空チャンバ内に
回転ローラを列設して載置した基板を移動させるように
した真空蒸着装置において、1 (j!]の真空チャン
バ側壁を軸シールを保って貫通する回転駆動軸の内端部
上にそれぞれの回転ローラを絶縁材製リングを介して取
付け、その内端面に受電板を設けるとともに、回転駆動
軸側と反対側の真空チャンバ側壁に絶縁およびシールを
保って設けたバイアス電源接続金具に前記受電板に圧接
する先端給電板を可撓性接続具および圧接手段を介して
接続したことを特徴とする。
イアス電圧給電装置は、全体的構成としては、真空蒸着
により基板上に被膜を形成するための真空チャンバ内に
回転ローラを列設して載置した基板を移動させるように
した真空蒸着装置において、1 (j!]の真空チャン
バ側壁を軸シールを保って貫通する回転駆動軸の内端部
上にそれぞれの回転ローラを絶縁材製リングを介して取
付け、その内端面に受電板を設けるとともに、回転駆動
軸側と反対側の真空チャンバ側壁に絶縁およびシールを
保って設けたバイアス電源接続金具に前記受電板に圧接
する先端給電板を可撓性接続具および圧接手段を介して
接続したことを特徴とする。
(作用)
本発明によると、基板を支持する列設ローラがその回転
駆動軸と絶縁材製リングを介して絶縁されているので、
回転駆動軸は絶縁を考慮する必要なく駆動機能を有する
だけでよく、真空チャンバ側壁貫通部の真空軸シールの
保持が容易となる。また回転駆動軸にジャケット水冷機
構を組込むことも絶縁を考慮する必要がないので容易と
なる。
駆動軸と絶縁材製リングを介して絶縁されているので、
回転駆動軸は絶縁を考慮する必要なく駆動機能を有する
だけでよく、真空チャンバ側壁貫通部の真空軸シールの
保持が容易となる。また回転駆動軸にジャケット水冷機
構を組込むことも絶縁を考慮する必要がないので容易と
なる。
モして列設ローラへのバイアス電圧の供給は受電板と給
電板との直接押付けによる面接触を通じて直接的に行う
ことができるので、大電流の通電が可能となり、真空蒸
着装置の大形化が容易に可能となる。また通電部、駆動
部とも構造が簡単化されそれだけ故障が少なくなり、イ
ンライン方式の真空蒸着装置で最も重視すべき信頼性を
向上させることができる。
電板との直接押付けによる面接触を通じて直接的に行う
ことができるので、大電流の通電が可能となり、真空蒸
着装置の大形化が容易に可能となる。また通電部、駆動
部とも構造が簡単化されそれだけ故障が少なくなり、イ
ンライン方式の真空蒸着装置で最も重視すべき信頼性を
向上させることができる。
(実施例)
以下、本発明の真空蒸着装置のバイアス電圧給電装置を
実施例により一層具体的に説明する。
実施例により一層具体的に説明する。
第1図は本発明の第1実施側の装置を列設口・−ラの1
つの部分の縦断側面図により代表させて示す。
つの部分の縦断側面図により代表させて示す。
第1図において、真空蒸着により基板上に被膜を形成す
るための真空蒸着装置は、真空チャンバ(()内に基板
(2)を載置して移動させるため回転ローラ(3)が紙
面直角方向に少なくとも2組以上列設状態に組込まれる
。
るための真空蒸着装置は、真空チャンバ(()内に基板
(2)を載置して移動させるため回転ローラ(3)が紙
面直角方向に少なくとも2組以上列設状態に組込まれる
。
各ローラを駆動する回転駆動軸(4)は真空チャンバ(
1)の1方の側壁(1a)を軸シール(5)を貫通して
チャンバー内に挿入され、図示しない外部の駆動機に接
続され正転、逆転する。回転駆動軸(4)には軸内に外
側から冷却用ジャケッI−(6)が形成され外部の冷却
水系(図示せず)から冷却水を循環させて水冷するよう
になっている。
1)の1方の側壁(1a)を軸シール(5)を貫通して
チャンバー内に挿入され、図示しない外部の駆動機に接
続され正転、逆転する。回転駆動軸(4)には軸内に外
側から冷却用ジャケッI−(6)が形成され外部の冷却
水系(図示せず)から冷却水を循環させて水冷するよう
になっている。
回転駆動軸(4)内端には取付フランジ(7)、さらに
絶縁材製リング(8)を介して前記回転ローラ(3)が
回転駆動軸(4)とは絶縁状態に取付られており、回転
ローラ(3)の外周面は基板(2)の載置に適するタイ
ヤ(9) 00)が形成されている。2以上の列設回転
ローラ(3)上にまたがって載置された基板(2)は回
転駆動軸(4)の同時正転、逆転により紙面直角方向に
往復移動する。
絶縁材製リング(8)を介して前記回転ローラ(3)が
回転駆動軸(4)とは絶縁状態に取付られており、回転
ローラ(3)の外周面は基板(2)の載置に適するタイ
ヤ(9) 00)が形成されている。2以上の列設回転
ローラ(3)上にまたがって載置された基板(2)は回
転駆動軸(4)の同時正転、逆転により紙面直角方向に
往復移動する。
回転ローラ(3)上の基板(2)へのバイアス電圧の給
電のため、回転ローラ(3)の回転駆動軸と反対側の内
端面には受電板(12)を設ける。そしてその側の真空
チャンバ側壁(1b)には絶縁材03)を介し真空シー
ル04)を施して回転ローラ(3)に向かって突出する
バイアス電源接続金具0つを設け、外部でバイアス電源
(図示せず)に接続する。
電のため、回転ローラ(3)の回転駆動軸と反対側の内
端面には受電板(12)を設ける。そしてその側の真空
チャンバ側壁(1b)には絶縁材03)を介し真空シー
ル04)を施して回転ローラ(3)に向かって突出する
バイアス電源接続金具0つを設け、外部でバイアス電源
(図示せず)に接続する。
バイアス電源接続金具05)の内端側では後で第2図と
ともに詳述するように、中心孔にコイルばねQ6)を組
込み、この例では可撓性接続具としてユニバーサルジヨ
イント型式の可撓性接続具の基部を挿入し、可撓性継手
07)の先端に取付けた先端給電板QB)を前記受電板
02)に押付けるようにする。
ともに詳述するように、中心孔にコイルばねQ6)を組
込み、この例では可撓性接続具としてユニバーサルジヨ
イント型式の可撓性接続具の基部を挿入し、可撓性継手
07)の先端に取付けた先端給電板QB)を前記受電板
02)に押付けるようにする。
こうして、バイアス電流は、バイアス電源接続金具05
)から可撓性継手O′7)、先端給電板08)、受電板
02)、回転ローラ(3)を介して基板(2)に給電さ
れる。可撓性継手Q7)の各部は金属固体接触を通じて
導電性であるが、バイアス電源接続金具051と先端給
電板QB)とを可撓性電気ケーブル09)で直接接続し
て可撓性継手07)をバイパスするのが給電のため得策
である。そして受電板02)、先端給電板08)の接触
面は、銀、カーボン等で構成し電気的導通の向上を図る
とともに、真空中での固体摩擦によるかじり付き等の機
械的トラブルの発生を避けるようにする。
)から可撓性継手O′7)、先端給電板08)、受電板
02)、回転ローラ(3)を介して基板(2)に給電さ
れる。可撓性継手Q7)の各部は金属固体接触を通じて
導電性であるが、バイアス電源接続金具051と先端給
電板QB)とを可撓性電気ケーブル09)で直接接続し
て可撓性継手07)をバイパスするのが給電のため得策
である。そして受電板02)、先端給電板08)の接触
面は、銀、カーボン等で構成し電気的導通の向上を図る
とともに、真空中での固体摩擦によるかじり付き等の機
械的トラブルの発生を避けるようにする。
この可撓性継手0′7)の給電系統の詳細については、
第2図に示すように、バイアス電源接続金具0つの中心
孔にコイルばね0fi)を組込み、可撓性継手0′7)
の外ヨーク12[Dの基部を挿入しその長孔にビン(2
1)を挿込んで回り止を施し外ヨークC!0に矢印(A
)方向の追従性を与える。外ヨークQ(Il内にはビン
(22)で中ヨーク(23)を組込み矢印(B)方向の
追従性を与える。中ヨーク(23)にば内ヨーク(24
)を固定し、内ヨーク(24)にはビン(25)で先端
給電板08)を糺込み、矢印(C)方向の追従性を与え
る。
第2図に示すように、バイアス電源接続金具0つの中心
孔にコイルばね0fi)を組込み、可撓性継手0′7)
の外ヨーク12[Dの基部を挿入しその長孔にビン(2
1)を挿込んで回り止を施し外ヨークC!0に矢印(A
)方向の追従性を与える。外ヨークQ(Il内にはビン
(22)で中ヨーク(23)を組込み矢印(B)方向の
追従性を与える。中ヨーク(23)にば内ヨーク(24
)を固定し、内ヨーク(24)にはビン(25)で先端
給電板08)を糺込み、矢印(C)方向の追従性を与え
る。
このユニバーサルジヨイント型式の可撓性継手07)は
、先端給電板OIを回転する受電板02)に押し当てた
際、その動きに対して良好な追従性を保って接触するの
で、所定の給電面積を確保し、同時に加工精度や組立精
度の関係から生ずる片当りによるかじりつき、偏摩耗等
を防止するのに有効である。
、先端給電板OIを回転する受電板02)に押し当てた
際、その動きに対して良好な追従性を保って接触するの
で、所定の給電面積を確保し、同時に加工精度や組立精
度の関係から生ずる片当りによるかじりつき、偏摩耗等
を防止するのに有効である。
第3図はユニバーサルジヨイント型式の可撓性継手に代
えて球面接触を利用する本発明の他の実施例を示す。前
実施例と均等の各部は同一符号で示し説明の重複を省略
する。
えて球面接触を利用する本発明の他の実施例を示す。前
実施例と均等の各部は同一符号で示し説明の重複を省略
する。
この実施例では受電板(12^)は凹球面に形成され先
端給電板(18A)は凸球面で形成される。
端給電板(18A)は凸球面で形成される。
先端給電板(18A)はバイアス電源接続金具(15A
)に挿入され、挿入間隙を利用するだけの可撓性接続で
比較的良好な接触面間の追従接触がなされる。
)に挿入され、挿入間隙を利用するだけの可撓性接続で
比較的良好な接触面間の追従接触がなされる。
(発明の効果〉
以上のように本発明によると真空蒸着装置の真空チャン
バ内で基板を支承して往復移動させる列設ローラに対す
る正逆回転駆動機構および■ バイアス電圧給電機構が分離され、それぞれの構造が簡
単化され高機能化され、信頼性の高いインライン方式の
大型真空蒸着装置を得ることができる効果がある。
バ内で基板を支承して往復移動させる列設ローラに対す
る正逆回転駆動機構および■ バイアス電圧給電機構が分離され、それぞれの構造が簡
単化され高機能化され、信頼性の高いインライン方式の
大型真空蒸着装置を得ることができる効果がある。
第1図は本発明の1実施側の真空蒸着装置のバイアス電
源給電装置を示すその1回転ローラ部分での縦断正面図
、第2図はその可撓性継手を含む給電機構部分の分解斜
視図、第3図は本発明の他の実施側の縦断正面図、第4
図は従来技術のアークイオンブレーティング装置の縦断
略示図、第5図はそのインライン機の基板移動部を示す
斜視図、第6図はその軸受部の構造を示す縦断正面図で
ある。 (1)・・・真空チャンバ、(la) (lb)・・・
真空チャンバ側壁、(2)・・・基板、(3)・・・回
転ローラ、(4)・・・回転駆動軸、(5)・・・軸シ
ール、(6)・・・冷却用ジャケット、(7)・・・取
付フランジ、(8)・・・絶縁材製リング、(9) Q
O)・・・タイヤ、Q2)(12A)・・・受電板、0
3)・・・絶縁材、04)・・・真空シール、051(
15A)・・・バイアス電源接続金具、06)・・・コ
イルばね、07)・・・可撓性継手、θ■(18A)・
・・先端給電板、(+9)・・・可撓性電気ケーブル、
12m・・・外ヨーク、(21) (22) (25)
・・・ビン、(23)・・・中ヨーク、(24)・・・
内ヨーク、(八)(B) (C)・・・追従方向、(a
)・・・蒸発源、(′b)・・・基板、(C)・・・真
空チャンバ、(C゛)・・・真空チャンバ壁、(d)・
・・排気口、(e)・・・導入口、(f)・・・アーク
電源、(g)・・・バイアス電源、(ロ)・・・回転テ
ーブル、(i)・・・列設ローラ、(j)・・・回転軸
、(ト)・・・絶縁材、(1)・・・真空シール、(m
)・・・架台、(n)・・・絶縁材、(0)・・・軸受
箱、(p)・・・軸受、(q)・・・プーリ、(r)・
・・タイミングベルト、(S)・・・冷却水系。 #世 /−β−)楓 β−−ゝ\ ト雲 N′ □5 ぐ\ ト
源給電装置を示すその1回転ローラ部分での縦断正面図
、第2図はその可撓性継手を含む給電機構部分の分解斜
視図、第3図は本発明の他の実施側の縦断正面図、第4
図は従来技術のアークイオンブレーティング装置の縦断
略示図、第5図はそのインライン機の基板移動部を示す
斜視図、第6図はその軸受部の構造を示す縦断正面図で
ある。 (1)・・・真空チャンバ、(la) (lb)・・・
真空チャンバ側壁、(2)・・・基板、(3)・・・回
転ローラ、(4)・・・回転駆動軸、(5)・・・軸シ
ール、(6)・・・冷却用ジャケット、(7)・・・取
付フランジ、(8)・・・絶縁材製リング、(9) Q
O)・・・タイヤ、Q2)(12A)・・・受電板、0
3)・・・絶縁材、04)・・・真空シール、051(
15A)・・・バイアス電源接続金具、06)・・・コ
イルばね、07)・・・可撓性継手、θ■(18A)・
・・先端給電板、(+9)・・・可撓性電気ケーブル、
12m・・・外ヨーク、(21) (22) (25)
・・・ビン、(23)・・・中ヨーク、(24)・・・
内ヨーク、(八)(B) (C)・・・追従方向、(a
)・・・蒸発源、(′b)・・・基板、(C)・・・真
空チャンバ、(C゛)・・・真空チャンバ壁、(d)・
・・排気口、(e)・・・導入口、(f)・・・アーク
電源、(g)・・・バイアス電源、(ロ)・・・回転テ
ーブル、(i)・・・列設ローラ、(j)・・・回転軸
、(ト)・・・絶縁材、(1)・・・真空シール、(m
)・・・架台、(n)・・・絶縁材、(0)・・・軸受
箱、(p)・・・軸受、(q)・・・プーリ、(r)・
・・タイミングベルト、(S)・・・冷却水系。 #世 /−β−)楓 β−−ゝ\ ト雲 N′ □5 ぐ\ ト
Claims (1)
- 真空蒸着により基板上に被膜を形成するため真空チャン
バ内に回転ローラを列設して載置した基板を移動させる
ようにした真空蒸着装置において、1側の真空チャンバ
側壁を軸シールを保って貫通する回転駆動軸の内端部上
にそれぞれの回転ローラを絶縁材製リングを介して取付
け、その内端面に受電板を設けるとともに、回転駆動軸
側と反対側の真空チャンバ側壁に絶縁およびシールを保
って設けたバイアス電源接続金具に前記受電板に圧接す
る先端給電板を可撓性接続具および圧接手段を介して接
続したことを特徴とする真空蒸着装置のバイアス電圧給
電装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16848889A JP2664483B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP16848889A JP2664483B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0336263A true JPH0336263A (ja) | 1991-02-15 |
| JP2664483B2 JP2664483B2 (ja) | 1997-10-15 |
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ID=15869020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16848889A Expired - Fee Related JP2664483B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2664483B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5730847A (en) * | 1993-03-15 | 1998-03-24 | Kabushiki Kaisha Kobeseikosho | Arc ion plating device and arc ion plating system |
| JP2002293387A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 高気密性カード状振り出し容器 |
| JP2006089794A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | イオン加工装置 |
| JP2011126604A (ja) * | 2011-02-25 | 2011-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 気密性カード状振り出し容器 |
| JP2011131939A (ja) * | 2011-02-25 | 2011-07-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 気密性カード状振り出し容器 |
| JP2011140354A (ja) * | 2011-02-25 | 2011-07-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 気密性カード状振り出し容器 |
| CN110857466A (zh) * | 2018-08-24 | 2020-03-03 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 | 一种真空镀膜设备的产品装夹装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4646066B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2011-03-09 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空処理装置 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP16848889A patent/JP2664483B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| US5730847A (en) * | 1993-03-15 | 1998-03-24 | Kabushiki Kaisha Kobeseikosho | Arc ion plating device and arc ion plating system |
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| JP2006089794A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | イオン加工装置 |
| JP2011126604A (ja) * | 2011-02-25 | 2011-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 気密性カード状振り出し容器 |
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|---|---|
| JP2664483B2 (ja) | 1997-10-15 |
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